CN117460308A - 显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及显示装置，显示面板包括包显示区和非显示区，显示面板包括衬底，衬底包括牺牲层，牺牲层为含有氢元素的无机层，牺牲层设有位于非显示区的隔断部。通过上述方案能够降低屏体边缘出现黑框的概率，提升显示面板的可靠性。
Description
技术领域
本申请涉及显示领域，特别是涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)以及基于发光二极管(Light Emitting Diode，LED)等技术的平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、笔记本电脑、台式电脑等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
但目前的OLED显示产品的可靠性有待提升。
发明内容
本申请主要解决的技术问题是提供一种显示面板及显示装置，能够降低屏体边缘出现黑框的概率。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种显示面板，包括显示区和非显示区，所述显示面板包括衬底，所述衬底包括牺牲层，所述牺牲层为含有氢元素的无机层，所述牺牲层上设有位于所述非显示区的隔断部。
优选地，所述隔断部为包围所述显示区的环形槽；或者，所述隔断部的数量为多个，多个所述隔断部沿着所述显示区的周向间隔设置。
优选地，所述隔断部贯穿所述牺牲层。
优选地，所述隔断部为槽体结构，所述隔断部内填充有绝缘材料。
优选地，所述绝缘材料为有机材料。
优选地，所述显示面板还包括功能层，所述功能层设置在所述衬底一侧，所述隔断部自所述牺牲层延伸至所述功能层中，且与所述功能层中的目标子层连通，其中，所述隔断部内填充的绝缘材料与所述目标子层的材料相同。
优选地，所述绝缘材料为有机材料。
优选地，所述功能层包括阵列层，所述目标子层是所述阵列层中的平坦化子层。
优选地，所述显示面板还包括缓冲层，位于所述功能层与所述衬底之间，其中，所述隔断部自所述牺牲层穿过所述缓冲层而延伸至所述功能层中。
优选地，所述缓冲层至少包括第一缓冲子层以及第二缓冲子层，所述第一缓冲子层、所述第二缓冲子层在背离所述衬底的方向上依次设置，其中，所述第一缓冲子层、所述第二缓冲子层的材料不同。
优选地，所述第一缓冲子层的材料包括氮化硅。
优选地，所述第二缓冲子层的材料包括氧化硅。
优选地，所述衬底包括阻挡层和支撑层，所述阻挡层位于所述牺牲层朝向所述功能层一侧；所述支撑层位于所述牺牲层背离所述功能层一侧；其中，所述隔断部贯穿所述阻挡层，同时延伸至所述支撑层中。
优选地，所述支撑层包括第一子支撑层、子阻挡层以及第二子支撑层，所述第一子支撑层、所述子阻挡层以及所述第二子支撑层在靠近所述牺牲层的方向上依次层叠设置，其中，所述隔断部贯穿所述第二子支撑层。
优选地，所述第一子支撑层、所述第二子支撑层的材料相同。
优选地，所述子阻挡层、所述阻挡层的材料相同。
优选地，所述牺牲层的材料包括非晶硅、碳化硅和氮化镓中的任意一种。
为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种显示装置，包括任一实施例中的显示面板。
本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请提供的显示面板以及显示装置的衬底具有牺牲层，该牺牲层保证了衬底在正常状态下的粘结力的同时，有利于降低衬底在激光剥离工艺中的粘结力，改善剥离效果。本申请在牺牲层上设置了隔断部，由于静电电荷无法跨越隔断部，使得静电电荷被隔断阻止，使其无法在牺牲层中扩散，同时，由于隔断部位于非显示区，使得静电电荷在非显示区被阻断进入显示区，从而降低了静电电荷由显示面板外界经牺牲层进入显示屏体内部的概率，进而降低了显示屏体边缘出现黑框的概率。
附图说明
图1是本申请的显示面板一实施方式的结构示意图；
图2是本申请的显示面板的牺牲层一实施方式的结构示意图；
图3是本申请的显示面板的牺牲层另一实施方式的结构示意图；
图4是本申请的显示面板的牺牲层另一实施方式的结构示意图；
图5是本申请的显示面板另一实施方式的结构示意图；
图6是本申请的显示面板的牺牲层另一实施方式的结构示意图；
图7是本申请的显示面板的牺牲层另一实施方式的结构示意图；
图8是本申请的显示面板另一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本申请进一步详细说明。显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。
参阅图1，图1是本申请的显示面板一实施方式的结构示意图。图2是本申请的显示面板的牺牲层一实施方式的结构示意图。该显示面板100包括显示区AA和非显示区NA，具体地，如图2所示，显示区AA和非显示区NA通过虚线分隔，非显示区NA围绕在显示区AA外侧，位于显示面板100的边框区。该显示面板100还包括衬底10，衬底10之上用于制备各功能膜层，其中，衬底10包括牺牲层12，牺牲层12为含有氢元素的无机层，牺牲层12设有位于非显示区NA的隔断部121。
本申请的衬底10具有牺牲层12，该牺牲层12能够保证衬底10的粘附力，使得衬底10在正常状态下不易发生剥离的同时，由于牺牲层12为含有氢元素的无机层，能够吸收激光剥离中附带的能量，使得氢元素转化为氢气，形成小气泡，这些小气泡有利于降低衬底10的粘附力，改善激光剥离制程中的剥离效果。发明人发现，由于衬底10内设有牺牲层12，而显示面板100外界的电荷容易经牺牲层12进入显示面板100的显示区AA内，导致静电电荷在显示面板100内积累，导致位于显示区AA边缘的发光器件无法正常发光，从而在显示区AA边缘出现黑框。本申请在牺牲层12上设置了隔断部121，由于静电电荷在牺牲层12中传递时无法跨越隔断部121，使得隔断部121具有阻止静电电荷在牺牲层12中扩散的作用，同时，由于隔断部121位于非显示区NA，静电电荷在非显示区NA就被阻断使其难以进入显示区AA内，从而降低了静电电荷由显示面板100外界经牺牲层12进入显示区AA的概率，进而降低了显示器件出现发光故障从而导致显示面板边缘出现黑框的概率。
具体地，牺牲层12的材料可以包括非晶硅、碳化硅和氮化镓中的任意一种，上述材料厚度小，且能够保证牺牲层12两侧膜层之间的粘附性，降低衬底10多个膜层间剥离的概率，但牺牲层12也更容易聚集静电电荷导致显示器件出现发光故障的问题，通过隔断部121将至少部分牺牲层12在显示区AA和非显示区NA之间间隔设置，阻止静电电荷经牺牲层12进入并聚集在显示区AA，从而降低了显示器件发生故障的概率。
在衬底10中形成牺牲层12后，可以通过激光刻蚀等方式根据显示区AA的位置在牺牲层12上形成隔断部121。本申请对隔断部121的延伸形状不做具体限定，例如，在如图2所示的实施例中，隔断部121的延伸性状呈U字形，即三边围绕在显示区AA之外。
可选地，在其他实施例中，为了提升隔断部121阻断电荷传递的能力，隔断部121的延伸形状也可以为其他形状，例如参阅图3，图3是本申请的显示面板的牺牲层另一实施方式的结构示意图。在本实施例中，隔断槽121的数量为多个，多个隔断部121沿着显示区AA的周向间隔设置。由于多个隔断部121围绕显示区AA设置，使得显示区AA周围各方向均能够阻挡静电电荷进入显示区AA内。多个隔断部121可以沿周向均匀分布，在其他实施例中，任意相邻两个隔断部121的间距可以不同，另外，隔断部121的数量及相邻两个隔断部121的间隔距离本申请不做限制。
又例如参阅图4，图4是本申请的显示面板的牺牲层另一实施方式的结构示意图。隔断部121为包围显示区AA的环形槽，环形槽在周向上完全阻挡了静电电荷进入显示区AA内，能够阻挡周向上各方向电荷的传递。
本申请对环形槽的横截面形状也不做具体限定，可以为矩形槽、梯形槽等。另外隔断部121可以为在深度方向(图1中Z方向)不贯穿牺牲层12的盲槽，也可以如图1所示，为沿深度方向贯穿牺牲层12的通槽。由于通槽在深度方向完全贯穿牺牲层12，在深度方向上上完全阻挡了静电电荷进入显示区AA内，进一步阻止静电电荷经牺牲层12进入显示区AA内。
另外，本申请对隔断部121合围形状也不做具体限定，可以为图2-图4的矩形，也可以为圆形、椭圆形等。
可选地，隔断部121为槽体结构，隔断部121内填充有绝缘材料。通过在隔断部121中填充绝缘材料提升隔断部121的绝缘性能，进一步提升阻断静电电荷进入显示区AA的概率。具体地，绝缘材料可以为有机材料，例如光刻胶等，在其他实施例中，绝缘材料也可以为无机材料。
可选地，参阅图5，图5是本申请的显示面板另一实施方式的结构示意图。显示面板100还包括功能层30，功能层30设置在衬底10一侧，隔断部121自牺牲层12延伸至功能层30中，且与功能层30中的目标子层连通，其中，隔断部121内填充的绝缘材料与目标子层的材料相同。具体地，绝缘材料为有机材料；功能层30包括阵列层31，目标子层是阵列层31中的平坦化子层311。
具体地，功能层30包括阵列层31和发光层32，还可以包括触控层、封装层(图未示)等，阵列层31中包括多个薄膜晶体管313，薄膜晶体管313中具有源漏极3131，阵列层31包括平坦化子层311，平坦化子层311位于源漏极3131背离衬底10的一侧，平坦化子层311可以为有机材料制成。在本实施例中，由于平坦化子层311中的有机材料作为绝缘材料通过隔断部121延伸至牺牲层12中，且隔断部121连通了平坦化子层311和牺牲层12，一方面增加了隔断部121的深度，使其延伸至与平坦化子层311连通，进一步增加了隔断部121的隔断性能，使得静电电荷难以越过隔断部121进入显示区AA；另一方面隔断部121内的有机材料能够吸收显示面板100在变形时产生的应力，且隔断部121从阵列层31延伸至衬底10内，最大可能地增加有机材料在显示面板100厚度方向(Z方向)所占比例，从而降低了显示面板100在弯折时产生裂纹等损坏的概率，提升显示面板100的柔性变形能力。在其他实施例中，隔断部121内的绝缘材料也可以与平坦化子层311的材料不同。
可选地，继续参阅图5，显示面板100还包括缓冲层20，位于功能层30与衬底10之间，其中，隔断部121自牺牲层穿过缓冲层20而延伸至功能层30中。具体地，缓冲层20至少包括第一缓冲子层21以及第二缓冲子层22，第一缓冲子层21、第二缓冲子层22在背离衬底10的方向上依次设置，其中，第一缓冲子层21、第二缓冲子层22的材料不同。具体地，第一缓冲子层21的材料包括氮化硅，第二缓冲子层22的材料包括氧化硅。在本实施例中，可以在形成平坦化子层311之前，在阵列层31的非显示区NA中通过激光刻蚀等方式形成穿过缓冲层20直至衬底10中的牺牲层12的隔断部121，然后在形成平坦化子层311的同时填充隔断部121，制备效率高。
可选地，衬底10包括阻挡层13和支撑层11，阻挡层13位于牺牲层12朝向功能层30一侧；支撑层11位于牺牲层12背离功能层30一侧；其中，隔断部121贯穿阻挡层13，同时延伸至支撑层11中。具体地，支撑层11包括第一子支撑层111、子阻挡层112以及第二子支撑层113，第一子支撑层111、子阻挡层112以及第二子支撑层113在靠近牺牲层12的方向上依次层叠设置。牺牲层12用于保证阻挡层13和支撑层11在正常状态下的粘附性能，提高二者在激光剥离制程中的剥离效果，其中，牺牲层12两侧分别与阻挡层13和第二子支撑层113贴合，阻挡层13的材料可以为氧化硅，第二子支撑层113的材料可以为聚酰亚胺，可选地，第一子支撑层111和第二子支撑层113的材料相同，均可以为聚酰亚胺；子阻挡层112和阻挡层13的材料相同，均可以为氧化硅或氮化硅。由于隔断部121中的绝缘材料和第二子支撑层113的材料均可以为有机材料，二者贴合度较高，不易产生剥离问题。
在一些实施例中，隔断部121可以仅贯穿衬底10中的阻挡层13和牺牲层12，使隔断部121中的绝缘材料能够穿过阻挡层13和牺牲层12后与第二子支撑层113靠近牺牲层12一侧的表面接触。在另一些实施例中，隔断部121还可以继续贯穿第二子支撑层113，使隔断部121中的绝缘材料能够穿过阻挡层13、牺牲层12和第二子支撑层113后与子阻挡层112靠近牺牲层12一侧的表面接触。
在其他实施例中，可以先在第二子支撑层113之后形成具有隔断部121的牺牲层12，然后在形成隔断部121后可以在隔断部121中填充与第二子支撑层113相同的材料作用绝缘材料，绝缘材料上表面可以与牺牲层12上表面齐平，然后再在牺牲层12之上形成其他膜层。
可选地，参阅图6，图6是本申请的显示面板的牺牲层另一实施方式的结构示意图。在本实施例中，隔断部121的数量为两个，两个隔断部121为内外套设的环形槽，并均设置在牺牲层12的非显示区NA中。由于牺牲层12上设有两层隔断部121，进一步提升了隔断部121阻断静电电荷进入显示区AA的概率。在其他实施例中，内外套设的隔断部121的数量可以为三个等更多；另外，每个隔断部121的延伸形状均可以分别为环形槽、沿显示区AA周向间隔设置或半包围结构等。例如，参阅图7，图7是本申请的显示面板的牺牲层另一实施方式的结构示意图。在本实施例中，隔断部121包括内外套设的第一隔断部1211和第二隔断部1212，其中，第一隔断部1211设置在第二隔断部1212靠近显示区AA的一侧，第一隔断部1211和第二隔断部1212的数量均为多个，且包围在显示区AA外，沿着显示区AA的周向，第一隔断部1211和第二隔断部1212交替设置，第一隔断部1211在第二隔断部1212上的正投影与第二隔断部1212贴合或重合。即便设置了多个隔断部121，本实施例的牺牲层12仍能保持一体化结构，一方面保证了衬底10的强度，另一方面保证了衬底10在正常状态下的粘合度，不易产生裂纹或剥离现象。同时，由于在周向上第一隔断部1211和第二隔断部1212首尾相接或具有重叠部分，进一步降低了静电电荷从各个方向进入显示区AA的概率，确保了显示器件发光的可靠性。
多个隔断部121也可以均向功能层30中延伸，参阅图8，图8是本申请的显示面板另一实施方式的结构示意图。隔断部121共有两个，两个隔断部121由平坦化子层311向衬底10的支撑层11延伸，依次贯穿平坦化子层311面向衬底10的部分阵列层31、缓冲层20和阻挡层13和牺牲层12，两个隔断部121中均填充有绝缘材料。
本申请还提供了一种显示装置，包括任意实施例中的显示面板。该显示装置可以为手机、平板电脑和可穿戴智能设备等。
以上仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种显示面板，包括显示区和非显示区，其特征在于，
所述显示面板包括衬底，所述衬底包括牺牲层，所述牺牲层为含有氢元素的无机层，所述牺牲层上设有位于所述非显示区的隔断部。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述隔断部为包围所述显示区的环形槽；或者，
所述隔断部的数量为多个，多个所述隔断部沿着所述显示区的周向间隔设置。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述隔断部贯穿所述牺牲层。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述隔断部为槽体结构，所述隔断部内填充有绝缘材料；
优选地，所述绝缘材料为有机材料。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述显示面板还包括功能层，所述功能层设置在所述衬底一侧，所述隔断部自所述牺牲层延伸至所述功能层中，且与所述功能层中的目标子层连通，其中，所述隔断部内填充的绝缘材料与所述目标子层的材料相同；
优选地，所述绝缘材料为有机材料；
优选地，所述功能层包括阵列层，所述目标子层是所述阵列层中的平坦化子层。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
缓冲层，位于所述功能层与所述衬底之间，其中，所述隔断部自所述牺牲层穿过所述缓冲层而延伸至所述功能层中；
优选地，所述缓冲层至少包括第一缓冲子层以及第二缓冲子层，所述第一缓冲子层、所述第二缓冲子层在背离所述衬底的方向上依次设置，其中，所述第一缓冲子层、所述第二缓冲子层的材料不同；
优选地，所述第一缓冲子层的材料包括氮化硅；
优选地，所述第二缓冲子层的材料包括氧化硅。
7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述衬底包括：
阻挡层，位于所述牺牲层朝向所述功能层一侧；
支撑层，位于所述牺牲层背离所述功能层一侧；
其中，所述隔断部贯穿所述阻挡层，同时延伸至所述支撑层中。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，
所述支撑层包括第一子支撑层、子阻挡层以及第二子支撑层，所述第一子支撑层、所述子阻挡层以及所述第二子支撑层在靠近所述牺牲层的方向上依次层叠设置，其中，所述隔断部贯穿所述第二子支撑层；
优选地，所述第一子支撑层、所述第二子支撑层的材料相同；
优选地，所述子阻挡层、所述阻挡层的材料相同。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述牺牲层的材料包括非晶硅、碳化硅和氮化镓中的任意一种。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的显示面板。
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| CN (1) | CN117460308A (zh) |
-
2023
- 2023-09-27 CN CN202311266436.0A patent/CN117460308A/zh active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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