CN117460299A - 显示装置 - Google Patents

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尹大相
金完政
文孝英
朴镛昇
严艺苏
李昭玲
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Abstract

提供了显示装置。显示装置包括第一衬底和设置在第一衬底上的显示构件。第一衬底包括与显示构件重叠的第1‑1部分和与显示构件重叠并且与第1‑1部分间隔开的第1‑2部分。

Description

显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2022年7月26日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2022-0092643号的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
一个或多个实施方式涉及显示装置和制造显示装置的方法。
背景技术
移动电子装置已经被广泛地使用。作为移动电子装置，平板个人计算机(PC)以及诸如移动电话的微型电子装置近来被广泛地使用。
为了支持各种功能，例如，为用户提供视觉信息(诸如图像)，移动电子装置包括显示装置。近来，随着驱动显示装置的部件已经小型化，电子装置中的显示装置的比例已经逐渐增加，并且可以弯曲以相对于平坦状态形成特定角的结构也在开发中。
发明内容
显示装置可以具有其中各种层堆叠在包括玻璃的衬底上的结构。由于衬底具有相对高的刚性，所以显示装置可能不容易弯曲。
一个或多个实施方式包括能够提高在包括可弯曲成各种形状的玻璃衬底的显示装置的弯曲操作中的可靠性的显示装置。
然而，本公开的实施方式不限于本文中阐述的那些实施方式。通过参考下面给出的本公开的详细描述，以上和其他实施方式对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加明显。
根据一个或多个实施方式，显示装置可以包括第一衬底和设置在第一衬底上的显示构件，其中，第一衬底可以包括与显示构件重叠的第1-1部分和与显示构件重叠的第1-2部分，第1-2部分与第1-1部分间隔开。
第一衬底还可以包括第1-3部分，其中，第1-3部分可以设置在第1-1部分与第1-2部分之间并且可以具有比第1-1部分和第1-2部分的厚度小的厚度。
第1-3部分可以与第1-1部分和第1-2部分成一体。
第1-1部分和第1-2部分中的至少一个的形状可以是线性形状。
第1-1部分和第1-2部分中的至少一个的截面形状可以是四边形。
第1-1部分的与第1-2部分相邻的表面和第1-2部分的与第1-1部分相邻的表面中的至少一个可以具有弯折表面。
显示构件可以包括连接到第一衬底的无机绝缘层。
显示装置还可以包括设置在第一衬底与显示构件之间并且连接到第一衬底的有机保护层。
显示装置还可以包括设置在显示构件上的封装层。
显示装置还可以包括设置在显示构件上面的第二衬底。
第二衬底可以包括第2-1部分、与第2-1部分间隔开的第2-2部分以及设置在第2-1部分与第2-2部分之间并且具有比第2-1部分和第2-2部分的厚度小的厚度的第2-3部分。
第2-3部分可以与第2-1部分和第2-2部分成一体。
第2-1部分和第2-2部分中的至少一个的形状可以是线性形状。
第2-1部分和第2-2部分中的至少一个的截面形状可以是四边形。
第2-1部分的与第2-2部分相邻的表面和第2-2部分的与第2-1部分相邻的表面中的至少一个可以具有弯折表面。
显示装置还可以包括将第一衬底和第二衬底密封的密封构件。
显示装置还可以包括设置在显示构件与第二衬底之间的树脂层。
第1-1部分可以包括多个第1-1部分，多个第1-1部分可以在第一方向上沿线彼此间隔开，并且第1-2部分可以在第二方向上与第1-1部分间隔开并且设置在彼此相邻的第1-1部分之间。
根据一个或多个实施方式，制造显示装置的方法可以包括在第一衬底上设置显示构件以及处理第一衬底，其中，第一衬底可以包括与显示构件重叠的第1-1部分和与显示构件重叠的第1-2部分，第1-2部分与第1-1部分间隔开。
第一衬底的处理可以包括将激光束照射在第一衬底上以及将蚀刻溶液喷射在第一衬底上。
根据对实施方式、附图和权利要求的以下详细描述，这些和/或其他方面将变得明显并且更容易理解。
附图说明
根据结合附图进行的以下描述，特定实施方式的上述和其他方面、特征和优点将更加明显，在附图中：
图1A是根据实施方式的显示装置的示意性平面视图；
图1B是根据实施方式的沿着图1A的线I-I’截取的显示装置的示意性截面视图；
图1C是根据实施方式的显示装置的一部分的示意性平面视图；
图1D是根据实施方式的图1B的区A的示意性放大视图；
图1E是根据实施方式的图1B的区A的示意性放大视图；
图1F是根据实施方式的图1B的区A的示意性放大视图；
图1G是根据实施方式的图1B的区A的示意性放大视图；
图1H是根据实施方式的像素的等效电路的示意图；
图2A是根据实施方式的沿着图1A的线I-I’截取的显示装置的示意性截面视图；
图2B是根据实施方式的图2A的区B的示意性放大视图；
图2C是根据实施方式的图2A的区C的示意性放大视图；
图2D是根据另一实施方式的图2A的区C的示意性放大视图；
图3A是根据实施方式的沿着图1A的线I-I’截取的显示装置的示意性截面视图；
图3B是根据实施方式的图3A的区D的示意性放大视图；
图3C是根据实施方式的图3A的区E的示意性放大视图；
图4A至图4C是用于解释根据实施方式的制造显示装置的方法的示意性平面视图；
图5A是根据实施方式的显示装置的一部分的示意性平面视图；
图5B是根据实施方式的沿着图5A的线V-V’截取的显示装置的示意性截面视图；
图6A是根据实施方式的显示装置的一部分的示意性平面视图；以及
图6B是根据实施方式的沿着图6A的线V1-V1’截取的显示装置的示意性截面视图。
具体实施方式
在以下描述中，出于解释的目的，阐述了许多具体细节，以便提供对本发明的各种实施方式或实现方式的全面理解。如本文中所使用的，“实施方式”和“实现方式”是可互换的词，它们是本文中所公开的设备或方法的非限制性示例。然而，明显的是，可以在没有这些具体细节的情况下或者在具有一个或多个等效布置的情况下实践各种实施方式。这里，各种实施方式不必是排他性的，也不必限制本公开。例如，可以在另一实施方式中使用或实现实施方式的特定形状、配置和特性。
除非另有规定，否则图示的实施方式应当被理解为提供了本发明的特征。因此，除非另有规定，否则在不脱离本发明的情况下，各种实施方式的特征、组件、模块、层、膜、面板、区和/或方面等(在下文中单独或统称为“元件”)可以以其他方式组合、分离、交换和/或重新布置。
通常在附图中提供交叉影线和/或阴影以澄清相邻元件之间的边界。因此，除非规定，否则交叉影线或阴影的存在或不存在均不表达或指示对特定材料、材料性质、尺寸、比例、图示元件之间的共性和/或元件的任何其他特性、属性、性质等的任何偏好或要求。此外，在附图中，出于清楚和/或描述性的目的，元件的大小和相对大小可以被夸大。当实施方式可以不同地实现时，特定的过程顺序可以与所描述的顺序不同地执行。例如，两个连续描述的过程可以基本上同时执行，或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。另外，相似的附图标记表示相似的元件。
当元件(诸如层)被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“耦接到”另一元件或层时，它可以直接在另一元件或层上、连接到或耦接到另一元件或层，或者可以存在居间元件或层。然而，当元件或层被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接耦接到”另一元件或层时，不存在居间元件或层。为此，术语“连接”可以指在具有或不具有居间元件的情况下的物理、电和/或流体连接。此外，X轴、Y轴和Z轴不限于直角坐标系的三个轴，诸如x轴、y轴和z轴，并且可以在更广泛的意义上解释。例如，X轴、Y轴和Z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。出于本公开的目的，“A和B中的至少一个”可以被理解为仅A、仅B、或者A和B的任何组合。另外，“X、Y和Z中的至少一个”和“从由X、Y和Z组成的组中选择的至少一个”可以被理解为仅X、仅Y、仅Z、或者X、Y和Z中的两个或多个的任何组合。如本文中使用的，术语“和/或”包括相关所列项目中的一个或多个的任何和所有组合。
尽管本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种类型的元件，但是这些元件不应当受到这些术语的限制。这些术语用于将一个元件与另一元件相区分。因此，在不偏离本公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件可以被称为第二元件。
空间相对术语(诸如“下面(beneath)”、“下方(below)”、“之下(under)”、“下(lower)”、“上方(above)”、“上(upper)”、“上面(over)”、“较高(higher)”、“侧(side)”(例如，如在“侧壁”中)等)可以在本文中用于描述性的目的，并且因此描述如附图中图示的一个元件与另一(些)元件的关系。空间相对术语意在包括装置在使用、操作和/或制造中除了附图中所描绘的取向之外的不同取向。例如，如果附图中的装置被翻转，则被描述为在其他元件或特征“下方”或“下面”的元件将被取向为在其他元件或特征“上方”。因此，术语“下方”能够包含上方和下方两种取向。此外，装置可以以其他方式取向(例如，旋转90度或处于其他取向)，并且因此，本文中使用的空间相对描述词被相应地解释。
本文中使用的术语是为了描述特定实施方式的目的，并且不意在进行限制。如本文中所使用的，单数形式“一(a)”、“一个(an)”和“该(the)”意在也包括复数形式，除非上下文另有明确指示。此外，术语“包括(comprise)”、“包括有(comprising)”、“包含(include)”和/或“包含有(including)”在本说明书中使用时，指定所述特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组的存在，但不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组的存在或附加。还应注意，如本文中所使用的，术语“实质上”、“大约”和其他类似术语被用作近似术语并且不用作程度术语，并且因此被用于说明本领域普通技术人员将认识到的测量、计算和/或提供的值的固有偏差。
本文中参考作为实施方式和/或中间结构的示意性图示的剖面和/或分解图示描述了各种实施方式。因此，预期图示的形状会由于例如制造技术和/或公差而发生变化。因此，本文中所公开的实施方式不一定被理解为限于图示区的特定形状，而是包括由例如制造引起的形状的偏差。以这种方式，附图中图示的区在本质上可以是示意性的，并且这些区的形状可以不反映设备的区的实际形状，并且因此不一定意在进行限制。
图1A是根据实施方式的显示装置的示意性平面视图，图1B是根据实施方式的沿着图1A的线I-I’截取的显示装置的示意性截面视图，图1C是根据实施方式的显示装置的一部分的示意性平面视图，图1D是根据实施方式的图1B的区A的示意性放大视图，图1E是根据实施方式的图1B的区A的示意性放大视图，图1F是根据实施方式的图1B的区A的示意性放大视图，图1G是根据实施方式的图1B的区A的示意性放大视图，以及图1H是根据实施方式的像素的等效电路的示意图。
参考图1A，根据实施方式制造的显示装置1可以包括显示区域DA和显示区域DA外部的外围区域PA。显示装置1可以通过二维布置在显示区域DA中的像素PX的阵列来显示图像。
外围区域PA可以是不显示图像的区域，并且可以完全地或部分地围绕显示区域DA。驱动器等可以向分别与像素PX相对应的像素电路提供电信号或电力。驱动器等可以布置在外围区域PA中。焊盘可以布置在外围区域PA中。焊盘可以是电子元件或印刷电路板可以电连接到的区。
在下文中，尽管显示装置1包括有机发光二极管OLED作为发光元件，但是根据实施方式的显示装置1不限于此。在另一示例中，显示装置1可以是包括无机发光二极管的发光显示装置，例如，无机发光显示装置。无机发光二极管可以包括包含基于无机材料半导体的材料的PN结二极管。在正向偏置电压被施加到PN结二极管的情况下，可以注入空穴和电子，并且通过空穴和电子的复合产生的能量可以被转换为光能。因此，可以发射特定颜色的光。无机发光二极管可以具有在几微米至数百微米的范围内的宽度。在实施方式中，无机发光二极管可以由微型发光二极管表示。在另一示例中，显示装置1可以是量子点发光显示装置。
显示装置1可以用作包括电视、笔记本计算机、监视器、广告牌、物联网(IoT)装置以及包括移动电话、智能电话、平板个人计算机(PC)、移动通信终端、电子记事簿、电子书、便携式多媒体播放器(PMP)、导航设备和超级移动个人计算机(UMPC)的便携式电子装置的各种产品中的显示屏。例如，根据实施方式的显示装置1可以用在包括智能手表、手表电话、眼镜型显示器和头戴式显示器(HMD)的可穿戴设备中。在实施方式中，显示装置1可以用作汽车的仪器面板、汽车的中央仪表板或布置在仪表盘上的中央信息显示器(CID)、替代汽车的侧镜的室内镜显示器和布置在前面座椅的背面作为汽车后座的娱乐的显示器中的显示屏。
参考图1B，显示装置1可以包括第一衬底110、显示构件200和封装层300。
显示构件200可以设置在第一衬底110上。封装层300可以设置在显示构件200上。封装层300可以覆盖显示构件200，并且可以防止外部湿气和氧气渗透显示构件200。
显示装置1可以包括弯曲区域BA，在该弯曲区域BA中执行弯曲。弯曲区域BA可以与显示构件200重叠。作为示例，参考图1B，显示装置1可以在弯曲区域BA中围绕X轴弯曲。然而，这仅是一个示例，并且其中显示装置1弯曲的方法不限于此。作为示例，显示装置1可以包括弯曲区域BA，并且显示装置1在每个弯曲区域BA中围绕其弯曲的轴可以是不同的。
参考图1C和图1D，第一衬底110可以是具有高刚性的支撑衬底。作为示例，第一衬底110可以包括包含SiO2的透明玻璃材料作为主要成分。然而，这是示例，并且第一衬底110可以包括金属、塑料和丙烯酸材料中的至少一种。随着显示构件200的面积增加，可以在显示构件200中形成弯曲度或波纹度。作为示例，在其中显示装置1被包括在电视(TV)和笔记本计算机中的情况下，弯曲度或波纹度可能增加。在实施方式中，由于显示构件200设置在平坦的第一衬底110上，所以可以减少弯曲度或波纹度增加的现象。
第一衬底110可以包括第1-1部分111和第1-2部分112。第1-1部分111和第1-2部分112可以被提供在显示装置1的弯曲区域BA中。例如，第1-1部分111和第1-2部分112可以被设置成与显示构件200重叠。第1-1部分111可以与第1-2部分112间隔开。例如，显示装置1的柔性可以在显示装置1的弯曲区域BA中增加。
作为示例，第1-1部分111和第1-2部分112中的至少一个的形状可以是具有X轴方向的线性形状。然而，这仅是示例，并且第1-1部分111和第1-2部分112的形状不限于此。
第1-1部分111可以包括与第1-2部分112相邻的第1-1表面111S。例如，第1-2部分112可以包括与第1-1部分111相邻的第1-2表面112S。例如，第1-1表面111S和第1-2表面112S可以是彼此面对的表面。作为示例，第1-1表面111S和第1-2表面112S可以包括平面。例如，如图1D中所示，第1-1部分111和第1-2部分112中的至少一个的形状在截面形状方面可以是四边形。然而，这是示例，并且第1-1部分111和第1-2部分112的形状不限于此。
显示构件200可以包括无机绝缘层IIL、像素电路PC、有机绝缘层216、有机发光二极管OLED、像素限定层224和间隔物225。无机绝缘层IIL可以包括阻挡层211、缓冲层212、第一栅极绝缘层213、第二栅极绝缘层214和层间绝缘层215。无机绝缘层IIL可以连接到第一衬底110。
阻挡层211可以设置在第一衬底110上。阻挡层211可以是防止或减少外部异物渗透的层。阻挡层211可以是包括诸如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiO2)和/或氮氧化硅(SiON)的无机材料的单层或多层。
缓冲层212可以设置在阻挡层211上。缓冲层212可以包括诸如氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)和氧化硅(SiO2)的无机绝缘材料，并且可以包括包含上述无机绝缘材料的单层或多层。
像素电路PC可以设置在缓冲层212上。像素电路PC可以包括薄膜晶体管TFT和存储电容器Cst。在实施方式中，薄膜晶体管TFT可以包括半导体层Act、栅极电极GE、源极电极SE和漏极电极DE。存储电容器Cst可以包括下电极CE1和上电极CE2。
半导体层Act可以布置在缓冲层212上。半导体层Act可以包括多晶硅。在另一示例中，半导体层Act可以包括非晶硅、氧化物半导体或有机半导体。在实施方式中，半导体层Act可以包括沟道区、漏极区和源极区，漏极区和源极区位于沟道区的相对侧上。
第一栅极绝缘层213可以设置在半导体层Act和缓冲层212上。第一栅极绝缘层213可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或锌氧化物(ZnOx)。锌氧化物(ZnOx)可以包括氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。
栅极电极GE可以设置在第一栅极绝缘层213上。栅极电极GE可以与半导体层Act的沟道区重叠。栅极电极GE可以包括低电阻金属材料。在实施方式中，栅极电极GE可以包括包含钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)和钛(Ti)的导电材料，并且可以包括包含上述材料的单层或多层。
第二栅极绝缘层214可以设置在栅极电极GE和第一栅极绝缘层213上。第二栅极绝缘层214可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或锌氧化物(ZnOx)。
上电极CE2可以设置在第二栅极绝缘层214上。上电极CE2可以与栅极电极GE重叠。例如，栅极电极GE可以充当存储电容器Cst的下电极CE1。尽管在图1D中示出了存储电容器Cst与薄膜晶体管TFT重叠，但是在另一示例中，存储电容器Cst可以不与薄膜晶体管TFT重叠。例如，下电极CE1可以是与栅极电极GE分离的电极。上电极CE2可以包括铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和/或铜(Cu)，并且可以包括包含上述材料的单层或多层。
层间绝缘层215可以设置在上电极CE2和第二栅极绝缘层214上。层间绝缘层215可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或锌氧化物(ZnOx)。
源极电极SE和漏极电极DE可以设置在层间绝缘层215上。源极电极SE和漏极电极DE均可以通过形成在第一栅极绝缘层213、第二栅极绝缘层214和层间绝缘层215中的接触孔连接到半导体层Act。源极电极SE和漏极电极DE中的至少一个可以包括包含钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)和钛(Ti)的导电材料，并且可以包括包含上述材料的单层或多层。在实施方式中，源极电极SE和漏极电极DE中的至少一个可以具有Ti/Al/Ti的多层结构。
有机绝缘层216可以设置在源极电极SE、漏极电极DE和层间绝缘层215上。有机绝缘层216可以包括有机材料。有机绝缘层216可以包括有机绝缘材料，该有机绝缘材料包括诸如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚苯乙烯(PS)的通用聚合物、具有苯酚基基团的聚合物衍生物、丙烯酰基聚合物、酰亚胺基聚合物、芳基醚基聚合物、酰胺基聚合物、氟基聚合物、对二甲苯基聚合物、乙烯醇基聚合物及它们的混合物。
发光元件可以设置在有机绝缘层216上。在实施方式中，发光元件可以是有机发光二极管OLED。有机发光二极管OLED可以包括像素电极221、中间层222和相对电极223。像素电极221可以包括导电氧化物，诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、氧化铟镓(IGO)或氧化铝锌(AZO)。在另一示例中，像素电极221可以包括包含银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)或它们的化合物的反射层。在另一示例中，像素电极221还可以包括在反射层上/下的层，该层包括ITO、IZO、ZnO或In2O3。
像素限定层224可以覆盖像素电极221的边缘。像素限定层224可以包括像素开口224OP，并且像素开口224OP可以与像素电极221重叠。像素开口224OP可以限定从有机发光二极管OLED发射的光的发射区域。像素限定层224可以包括有机绝缘材料和/或无机绝缘材料。在实施方式中，像素限定层224可以包括阻光材料。
间隔物225可以设置在像素限定层224上。间隔物225可以防止在制造显示面板的方法中破坏第一衬底110上的多层。在制造显示面板的方法中，可以使用掩模片。例如，掩模片可以进入像素限定层224的像素开口224OP的内部，或者紧密地附接到像素限定层224。在沉积材料沉积在第一衬底110上的情况下，间隔物225可以防止或减少多层的一部分被掩模片损坏或破坏的缺陷。
间隔物225可以包括诸如聚酰亚胺的有机材料。在另一示例中，间隔物225可以包括诸如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiO2)的无机绝缘材料，或者包括有机绝缘材料和无机绝缘材料。在实施方式中，间隔物225可以包括与像素限定层224的材料不同的材料。在另一示例中，间隔物225和像素限定层224可以包括相同的材料。例如，像素限定层224和间隔物225可以在使用半色调掩模等的掩模工艺期间一起形成。
中间层222可以设置在像素电极221和像素限定层224上。中间层222可以包括发射层222b。发射层222b可以与像素电极221重叠。发射层222b可以包括发射具有特定颜色的光的聚合物有机材料或低分子量有机材料。
中间层222还可以包括第一功能层222a和第二功能层222c中的至少一个。第一功能层222a可以设置在像素电极221与发射层222b之间。第一功能层222a可以包括空穴传输层(HTL)和/或空穴注入层(HIL)。第二功能层222c可以设置在发射层222b与相对电极223之间。第二功能层222c可以包括电子传输层(ETL)和/或电子注入层(EIL)。
相对电极223可以设置在像素电极221、中间层222和像素限定层224上面。相对电极223可以包括具有低功函数的导电材料。作为示例，相对电极223可以包括包含银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)或其合金的透明层(或半透明层)。在另一示例中，相对电极223还可以包括透明层(或半透明层)上的层，该层包括ITO、IZO、ZnO或In2O3。
封装层300可以设置在显示构件200上。封装层300可以覆盖有机发光二极管OLED。在实施方式中，封装层300可以包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。图1D中示出了封装层300包括顺序地堆叠的第一无机封装层310、有机封装层320和第二无机封装层330。
参考图1E，与参考图1D描述的实施方式相比，还可以包括第1-3部分113。为了便于描述，省略了与参考图1D描述的内容实质上相同的内容。
第1-3部分113可以布置在第1-1部分111与第1-2部分112之间。作为示例，第1-1部分111、第1-2部分112和第1-3部分113可以彼此成一体。例如，第一衬底110的面对显示构件200的表面(例如，面对Z轴方向的表面)可以是平坦的。因此，显示构件200可以设置在即使在弯曲区域BA中也是平坦的第一衬底110上。可以减少在显示构件200中形成(或发生)弯曲度或波纹度。
第1-3部分113的厚度可以小于第1-1部分111和第1-2部分112的厚度。例如，与第一衬底110的面对显示构件200的表面相对的表面(例如，面对Z轴方向的表面)可以包括弯曲表面。因此，在弯曲区域BA中，显示装置1的柔性可以增加。
参考图1F，与参考图1D描述的实施方式相比，第1-1部分111的与第1-2部分112相邻的第1-1表面111S和第1-2部分112的与第1-1部分111相邻的第1-2表面112S中的至少一个可以包括弯折表面。例如，可以减少由于外部冲击而对第一衬底110的损坏。为了便于描述，省略了与参考图1D描述的内容实质上相同的内容。
参考图1F中所示的截面形状，第1-1表面111S与第1-2表面112S之间的距离可以在面对显示构件200的方向上减小。例如，其中第一衬底110支撑显示构件200的面积可以增加。因此，在减少弯曲区域BA中的显示构件200中的弯曲度或波纹度的形成(或发生)的同时，可以增加显示装置1的柔性。
参考图1G，与参考图1D描述的实施方式相比，显示装置1还可以包括布置在第一衬底110与显示构件200之间并且连接到第一衬底110的有机保护层OPL。为了便于描述，省略了与参考图1D描述的内容基本上相同的内容。
有机保护层OPL可以在第一衬底110与显示构件200之间延伸，并且可以与作为发光元件的有机发光二极管OLED重叠。有机保护层OPL可以包括聚合物树脂，诸如聚醚砜、聚芳酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚酰亚胺、聚碳酸酯、三乙酸纤维素、乙酸丙酸纤维素等。因此，有机保护层OPL可以防止异物通过第1-1部分111与第1-2部分112之间渗透显示构件200，而不降低显示装置1的柔性。
参考图1H，像素电路PC可以包括第一晶体管T1、第二晶体管T2、第三晶体管T3、第四晶体管T4、第五晶体管T5、第六晶体管T6和第七晶体管T7。第一晶体管T1、第二晶体管T2、第三晶体管T3、第四晶体管T4、第五晶体管T5、第六晶体管T6和第七晶体管T7中的每个的第一端子可以是源极端子或漏极端子。根据晶体管的类型(例如，p型或n型)，第二端子可以是与第一端子不同的端子。作为示例，在其中第一端子是源极端子的情况下，第二端子可以是漏极端子。
像素电路PC可以连接到第一扫描线SLn、第二扫描线SLn-1、第三扫描线SLn+1、发射控制线EL、数据线DL、驱动电压线PL和初始化电压线VL。第一扫描线SLn可以传输第一扫描信号Sn。第二扫描线SLn-1可以传输第二扫描信号Sn-1。第三扫描线SLn+1可以传输第三扫描信号Sn+1。发射控制线EL可以传输发射控制信号En。数据线DL可以传输数据信号DATA。驱动电压线PL可以传输驱动电压ELVDD。初始化电压线VL可以传输初始化电压Vint。
第一晶体管T1可以包括栅极端子、第一端子和第二端子。第一晶体管T1的栅极端子可以连接到第二节点N2。第一晶体管T1的第一端子可以连接到第一节点N1。第一晶体管T1的第二端子可以连接到第三节点N3。第一晶体管T1可以充当驱动晶体管，并且可以接收数据信号DATA并且根据第二晶体管T2的开关操作将驱动电流供给到发光元件。发光元件可以是有机发光二极管OLED。
第二晶体管T2(例如，开关晶体管)可以包括栅极端子、第一端子和第二端子。第二晶体管T2的栅极端子可以连接到第一扫描线SLn。第二晶体管T2的第一端子可以连接到数据线DL。第二晶体管T2的第二端子可以连接到第一节点N1(或第一晶体管T1的第一端子)。第二晶体管T2可以根据通过第一扫描线SLn传输的第一扫描信号Sn而导通，并且可以执行将数据信号DATA传输到第一节点N1的开关操作。可以通过数据线DL来传输数据信号DATA。
第三晶体管T3(例如，补偿晶体管)可以包括栅极端子、第一端子和第二端子。第三晶体管T3的栅极端子可以连接到第一扫描线SLn，第三晶体管T3的第一端子可以连接到第二节点N2(或第一晶体管T1的栅极端子)，并且第三晶体管T3的第二端子可以连接到第三节点N3(或第一晶体管T1的第二端子)。第三晶体管T3可以根据第一扫描信号Sn而导通，以二极管连接第一晶体管T1。可以通过第一扫描线SLn来传输第一扫描信号Sn。第三晶体管T3可以具有其中两个或更多个晶体管串联连接的结构。
第四晶体管T4(例如，第一初始化晶体管)可以包括栅极端子、第一端子和第二端子。第四晶体管T4的栅极端子可以连接到第二扫描线SLn-1，第四晶体管T4的第一端子可以连接到初始化电压线VL，并且第四晶体管T4的第二端子可以连接到第二节点N2。第四晶体管T4可以根据第二扫描信号Sn-1而导通，以通过将初始化电压Vint传输到第一晶体管T1的栅极端子来初始化第一晶体管T1的栅极电压。可以通过第二扫描线SLn-1来传输第二扫描信号Sn-1。第四晶体管T4可以具有其中两个或更多个晶体管串联连接的结构。
第五晶体管T5(例如，第一发射控制晶体管)可以包括栅极端子、第一端子和第二端子。第五晶体管T5的栅极端子可以连接到发射控制线EL，第五晶体管T5的第一端子可以连接到驱动电压线PL，并且第五晶体管T5的第二端子可以连接到第一节点N1。
第六晶体管T6(例如，第二发射控制晶体管)可以包括栅极端子、第一端子和第二端子。第六晶体管T6的栅极端子可以连接到发射控制线EL，第六晶体管T6的第一端子可以连接到第三节点N3，并且第六晶体管T6的第二端子可以连接到有机发光二极管OLED的像素电极。第五晶体管T5和第六晶体管T6根据发射控制信号En而同时导通，并且电流流过有机发光二极管OLED。可以通过发射控制线EL来传输发射控制信号En。
第七晶体管T7(例如，第二初始化晶体管)可以包括栅极端子、第一端子和第二端子。第七晶体管T7的栅极端子可以连接到第三扫描线SLn+1，第七晶体管T7的第一端子可以连接到有机发光二极管OLED的像素电极，并且第七晶体管T7的第二端子可以连接到初始化电压线VL。第七晶体管T7可以根据第三扫描信号Sn+1而导通，以通过将初始化电压Vint传输到有机发光二极管OLED的像素电极来初始化有机发光二极管OLED的像素电极的电压。可以通过第三扫描线SLn+1来传输第三扫描信号Sn+1。可以省略第七晶体管T7。
存储电容器Cst可以包括下电极CE1和上电极CE2。存储电容器Cst的下电极CE1可以连接到第二节点N2，并且存储电容器Cst的上电极CE2可以连接到驱动电压线PL。
有机发光二极管OLED可以包括像素电极和面对像素电极的相对电极。相对电极可以接收公共电压ELVSS。有机发光二极管OLED可以通过接收来自第一晶体管T1的驱动电流并且发射特定颜色的光来显示图像。可以以公共的方式提供相对电极，例如，作为像素上面的一个主体。
图2A是根据实施方式的沿着图1A的线I-I’截取的显示装置的示意性截面视图，图2B是根据实施方式的图2A的区B的示意性放大视图，图2C是根据实施方式的图2A的区C的示意性放大视图，并且图2D是根据另一实施方式的图2A的区C的示意性放大视图。
参考图2A，显示装置1可以包括第一衬底110、显示构件200、第二衬底120和密封构件130。显示构件200可以设置在第一衬底110上，第二衬底120可以面对第一衬底110，并且密封构件130可以将第一衬底110接合到第二衬底120。
第二衬底120可以设置在显示构件200被提供到的第一衬底110上面。第二衬底120可以设置在显示构件200上面以面对第一衬底110，并且可以通过下面描述的密封构件130接合到第一衬底110。
第二衬底120可以是具有高刚性的衬底。作为示例，第二衬底120可以包括包含SiO2作为主要成分的透明玻璃材料。然而，这是示例，并且第二衬底120可以包括金属、塑料和丙烯酸材料中的至少一种。
密封构件130可以布置在第一衬底110的外围区域PA中。例如，第一衬底110可以接合到第二衬底120。密封构件130可以与布置在显示区域DA中的显示构件200间隔开特定间距，并且也可以与第一衬底110的外部以内侧分开的方式间隔开特定间距。密封构件130可以包括例如玻璃料。如上所述，密封构件130可以将第一衬底110接合到第二衬底120，并且显示构件200可以从外部被密封。
参考图2B，第一衬底110可以包括第1-1部分111和第1-2部分112。第1-1部分111和第1-2部分112可以被提供在显示装置1的弯曲区域BA中。第1-1部分111可以与第1-2部分112间隔开。例如，显示装置1的柔性可以在显示装置1的弯曲区域BA中增加。
如类似于图1E的实施方式，图2B的第一衬底110还可以包括第1-3部分(例如，图1E中的第1-3部分113)。如类似于图1F的实施方式，第1-1部分111的与第1-2部分112相邻的一个表面(参见图1F中的第1-1表面111S)和第1-2部分112的与第1-1部分111相邻的一个表面(参见图1F中的第1-2表面112S)中的至少一个可以包括弯折表面。如类似于图1G的实施方式，图2B的第一衬底110还可以包括有机保护层(例如，图1G中的有机保护层OPL)。然而，关于图2B的第一衬底110，为了便于描述，省略了与参考图1A至图1H描述的内容实质上相同的内容。
参考图2C，第二衬底120可以包括玻璃。第二衬底120可以是具有高刚性的衬底。第二衬底120可以包括第2-1部分121、第2-2部分122和第2-3部分123。第2-1部分121、第2-2部分122和第2-3部分123可以被提供在显示装置1的弯曲区域BA中。
第2-1部分121可以与第2-2部分122间隔开。第2-3部分123可以布置在第2-1部分121与第2-2部分122之间。作为示例，第2-1部分121、第2-2部分122和第2-3部分123可以彼此成一体。
第2-3部分123的厚度可以小于第2-1部分121和第2-2部分122的厚度。例如，第二衬底120的面对显示构件200的表面(例如，面对Z轴方向的表面)可以包括弯曲表面。因此，在弯曲区域BA中，显示装置1的柔性可以增加。
作为示例，第2-1部分121和第2-2部分122中的至少一个的形状可以是线性形状。然而，这仅是示例，并且第2-1部分121和第2-2部分122的形状不限于此。
第2-1部分121可以包括与第2-2部分122相邻的第2-1表面121S。例如，第2-2部分122可以包括与第2-1部分121相邻的第2-2表面122S。例如，第2-1表面121S和第2-2表面122S可以是彼此面对的表面。作为示例，第2-1表面121S和第2-2表面122S均可以包括平面。如图2D中所示，第2-1部分121和第2-2部分122中的至少一个的形状在截面形状方面可以是四边形。然而，这是示例，并且第2-1部分121和第2-2部分122的形状不限于此。
参考图2D，与参考图2C描述的实施方式相比，第2-1部分121的与第2-2部分122相邻的第2-1表面121S和第2-2部分122的与第2-1部分121相邻的第2-2表面122S中的至少一个可以包括弯折表面。例如，可以减少由于外部冲击而对第一衬底110的损坏。关于图2D的实施方式，为了便于描述，省略了与参考图2C描述的内容实质上相同的内容。
图3A是根据实施方式的沿着图1A的线I-I’截取的显示装置的示意性截面视图，图3B是根据实施方式的图3A的区D的示意性放大视图，并且图3C是根据实施方式的图3A的区E的示意性放大视图。
参考图3A，显示装置1可以包括第一衬底110、显示构件200、封装层300、树脂层140和第二衬底120。
显示构件200可以设置在第一衬底110上，封装层300可以设置在显示构件200上，并且第二衬底120可以设置在封装层300上。由于图3A中的显示构件200、封装层300和第二衬底120与参考图1A至图2D描述的那些实质上相同，为了便于描述，省略了对它们的详细描述。
树脂层140可以设置在显示构件200与第二衬底120之间。树脂层140的上表面(例如，面对Z轴方向的表面)可以连接到第二衬底120，并且树脂层140的下表面(例如，面对Z轴方向的表面)可以连接到第一衬底110和封装层300中的至少一个。
作为示例，树脂层140可以是光学清洁树脂(OCR)层。树脂层140可以与具有恒定厚度的膜型粘合剂不同。树脂层140可以包括光固化树脂，例如，紫外线(UV)固化树脂。树脂层140可以包括丙烯酸基树脂，例如，丙烯酸酯基材料。
参考图3B，第一衬底110可以包括第1-1部分111和第1-2部分112。第1-1部分111和第1-2部分112可以被提供在显示装置1的弯曲区域BA中。第1-1部分111可以与第1-2部分112间隔开。例如，显示装置1的柔性可以在显示装置1的弯曲区域BA中增加。
如类似于图1E的实施方式，图3B的第一衬底110还可以包括第1-3部分(例如，图1E中的第1-3部分113)。如类似于图1F的实施方式，第1-1部分111的与第1-2部分112相邻的一个表面(参见图1F中的第1-1表面111S)和第1-2部分112的与第1-1部分111相邻的一个表面(参见图1F中的第1-2表面112S)中的至少一个可以包括弯折表面。如类似于图1G，图3B的第一衬底110还可以包括有机保护层(例如，图1G中的有机保护层OPL)。然而，为了便于描述，省略了与参考图1A至图1H描述的内容实质上相同的内容。
参考图3C，第二衬底120可以包括第2-1部分121、第2-2部分122和第2-3部分123。第2-1部分121、第2-2部分122和第2-3部分123可以被提供在显示装置1的弯曲区域BA中。
第2-1部分121可以与第2-2部分122间隔开。第2-3部分123可以布置在第2-1部分121与第2-2部分122之间。
第2-3部分123的厚度可以小于第2-1部分121和第2-2部分122的厚度。例如，第二衬底120的面对显示构件200的表面(例如，面对Z轴方向的表面)可以包括弯曲表面。因此，在弯曲区域BA中，显示装置1的柔性可以增加。
第2-1部分121的与第2-2部分122相邻的第2-1表面121S和第2-2部分122的与第2-1部分121相邻的第2-2表面122S中的至少一个可以包括弯折表面。然而，为了便于描述，省略了与参考图2D描述的内容实质上相同的内容。
图4A至图4C是用于解释根据实施方式的制造显示装置的方法的示意性平面视图。
首先，如图4A中所示，可以将显示构件200设置在第一衬底110上，并且然后，可以如图4B和图4C中所示对第一衬底110进行处理。
参考图4B，可以将激光束照射到第一衬底110。作为示例，激光照射器LS可以设置在第一衬底110上面，并且可以在沿着特定路径移动的情况下将激光束照射在第一衬底110上。当激光束照射到第一衬底110时，可以在第一衬底110中形成间隙。下面描述的蚀刻溶液可以渗透形成在第一衬底110中的间隙，并且可以蚀刻第一衬底110的至少一部分。尽管在图4B中示出了一个激光照射器LS在移动的情况下将激光束照射在第一衬底110上，但是这是示例，并且固定在第一衬底110上面的激光照射器LS可以将激光束照射在第一衬底110上。
参考图4C，喷嘴NS可以将蚀刻溶液喷射在第一衬底110上。在该过程期间，可以蚀刻第一衬底110的至少一部分，并且可以减小第一衬底110的被喷射蚀刻溶液的部分的厚度。当在第一衬底110的被照射激光束的部分中形成间隙时，蚀刻溶液可以通过该间隙渗透第一衬底110。因此，可以在第一衬底110的被照射激光束的部分上执行更多的蚀刻，并且因此，可以进一步减小第一衬底110的被照射激光束的部分的厚度。因此，在蚀刻溶液被喷射到第一衬底110的情况下，可以在第一衬底110中形成弯折表面。例如，第1-1部分111和第1-2部分112可以通过使用其中执行更多蚀刻的激光照射部分作为边界而被设置在第一衬底110上。
如参考图4B和图4C所述，制造第二衬底120的过程还可以包括将激光束照射到第二衬底120，并且将蚀刻溶液喷射到第二衬底120。然而，由于这些操作的详细描述与参考图4B和图4C进行的描述实质上相同，因此为了便于描述，省略了对它们的描述。
图5A是根据实施方式的显示装置的一部分的示意性平面视图，图5B是根据实施方式的沿着图5A的线V-V’截取的显示装置的示意性截面视图，图6A是根据实施方式的显示装置的一部分的示意性平面视图，并且图6B是根据实施方式的沿着图6A的线V1-V1’截取的显示装置的示意性截面视图。
参考图5A和图5B，第1-1部分111和第1-2部分112均可以被提供为多个。如图5A中所示，第1-1部分111可以在第一方向D1上沿线彼此间隔开。作为示例，第一方向D1可以是X轴方向。例如，第1-2部分112可以布置成在第二方向D2上与第1-1部分111间隔开。第二方向D2可以是与第一方向D1相交的方向。
如图5B中所示，第1-2部分112可以布置在彼此相邻的第1-1部分111之间。作为示例，如图5B中所示，当在Y轴方向上观察时，第1-1部分111可以与第1-2部分112的至少一部分重叠。例如，可以形成其中第1-1部分111与第1-2部分112重叠的重叠区域OA。
然而，参考图5A和图5B进行的描述仅是一个示例，并且第1-1部分111和第1-2部分112的配置不限于此。
作为示例，参考图6A和图6B，第1-1部分111和第1-2部分可以在不同的列中布置成线，并且每个第1-1部分111和每个第1-2部分112可以布置在同一列上。例如，第1-1部分111中的至少一个和第1-2部分112中的至少一个可以布置在同一行中。尽管在图6A中示出了第1-1部分111和第1-2部分112形成4行和5列，但是这仅是示例，并且第1-1部分111和第1-2部分112的配置不限于此。
根据实施方式，可以确保包括玻璃衬底的显示装置的柔性，并且可以提高显示装置的耐用性。
本公开的效果不限于上述效果，并且本领域普通技术人员可以从随附权利要求中清楚地理解未提及的其他效果。
在总结详细描述时，本领域技术人员将认识到，在实质上不偏离本公开的原理、精神和范围的情况下，可以对实施方式进行许多变化和修改。因此，所公开的实施方式仅在一般和描述性的意义上使用，而不是出于限制的目的。

Claims (10)

1.一种显示装置，包括：
第一衬底；以及
设置在所述第一衬底上的显示构件，其中，
所述第一衬底包括：
与所述显示构件重叠的第1-1部分；以及
与所述显示构件重叠的第1-2部分，所述第1-2部分与所述第1-1部分间隔开。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述第一衬底还包括第1-3部分，并且
所述第1-3部分设置在所述第1-1部分与所述第1-2部分之间并且具有比所述第1-1部分和所述第1-2部分的厚度小的厚度。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第1-3部分与所述第1-1部分和所述第1-2部分成一体。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第1-1部分和所述第1-2部分中的至少一个的形状是线性形状。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第1-1部分和所述第1-2部分中的至少一个的截面形状是四边形。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第1-1部分的与所述第1-2部分相邻的表面和所述第1-2部分的与所述第1-1部分相邻的表面中的至少一个具有弯折表面。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示构件包括连接到所述第一衬底的无机绝缘层。
8.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
设置在所述第一衬底与所述显示构件之间的有机保护层，所述有机保护层连接到所述第一衬底。
9.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
设置在所述显示构件上的封装层。
10.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：
设置在所述显示构件上面的第二衬底。
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