CN117403185A - 一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，涉及真空镀膜领域。为了解决传统的太阳光伏盖板、表面不宜清洁、透光率不佳的技术问题。一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，在第四层SiAlO2第二低折射率介质膜上镀制NbOx第二高折射率膜，靶材采用NbOx靶，靶材需预清洗0.5h，设定NbOx靶的电流为40‑60A，在第四层上用真空镀膜工艺镀制NbOx第二高折射率膜，镀制的NbOx第二高折射率膜的厚度为50‑120nm，NbOx第二高折射率膜可以增加膜层与基片2的结合力并形成光学效应，通过多膜层介质镀膜的结构，可使太阳能盖板膜层的光学透过率大于百分之八十。
Description
技术领域
本发明涉及真空镀膜领域，特别涉及一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品。
背景技术
太阳能光伏盖板是一种利用太阳能光电转换技术的设备，由光伏电池组成，光伏电池可以将太阳能转换为电能，从而实现可再生能源的利用，太阳能光伏盖板可以安装在建筑物的屋顶、墙面或其他适当的位置上，通过吸收阳光来产生电能，这些电能可以用于供电、储存或供其他设备使用，以减少对传统能源的依赖，并降低对环境的影响。
太阳能光伏盖板在使用时，需要使用普通钢化玻璃对光伏模板进行保护。
但普通钢化盖板，往往会出现以下问题：
1、普通钢化盖板玻璃长时间使用积攒脏污导致能量转换效率随时间周期变化变差；
2、普通钢化盖板玻璃在不同使用环境影对能量转换效率影响大；
3、普通钢化盖板玻璃未能遮挡电池线路，影响美观；
4、普通钢化盖板玻璃表面脏污不宜清洁，影响能量转换效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，实用、便捷，解决了现有的太阳光伏盖板、透光率不佳、表面不宜清洁和使用效果不佳的情况，以解决上述背景技术提出的问题。
为实现上述目的，本发明提出如下方案：
一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，包括防护框和基片，所述防护框与基片卡合固定，所述基片的上端镀制有高折射率底膜，所述高折射率底膜的上端表面镀制有第一低折射率介质膜，所述第一低折射率介质膜的上端表面镀制有第一高折射率膜，所述第一高折射率膜的上端表面镀制有第二低折射率介质，所述第二低折射率介质的上端表面镀制有第二高折射率膜。
进一步的，所述高折射率底膜的厚度为50-120mm，所述高折射率底膜用于增加膜层与基片的结合力并形成光学效应。
进一步的，所述第一低折射率介质膜的厚度为20-80nm。
进一步的，所述第一高折射率膜的厚度为50-120nm，所述第一高折射率膜用于增加膜层与基片的结合力并形成光学效应。
进一步的，所述第二低折射率介质膜的厚度为20-80nm。
进一步的，所述第二高折射率膜的厚度为50-120nm，所述第二高折射率膜用于增加膜层与基片的结合力并形成光学效应。
本发明提供的一种技术方案，一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品的方法，包括以下步骤：
步骤一：使用时，首先将待镀制基片通过超声波清洗机洗净烘干；
步骤二：再把清洗好的基片传输至入口室再传输到缓存室再传输到过渡室再传输到工艺室；
步骤三：工艺区通入高纯惰性气体，成膜真空维持在5.0E-03mbar，真空室中抽真空至3 .0× 10-6Mbar ,氩气流量为200-400Sccm,氧气流量为50-200Sccm；
步骤四：需要使用的材料进行预清洁，切换工艺参数待参数稳定后基片进入；
步骤五：选用真空磁控溅射方式利用中频电源在基片上镀制五氧化二铌膜-硅铝膜-五氧化二铌膜-硅铝膜-五氧化二铌膜。
综上：步骤五所述的五氧化二铌膜，靶材为五氧化二铌靶，Nb靶的电流为40-60A；镀制的Nb膜的厚度为50-120 nm，步骤五所述的硅铝膜，靶材为硅铝靶；SiAl靶的电流为30-55A；镀制的SiAl膜的厚度为20-80 nm。
与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
（1）使用时，相比较普通盖板钢化玻璃，采用多膜层介质镀膜的膜系结构，在高真空磁控溅射下使膜层致密，采用介质膜系靶镀制低反射率高透过率银白色可钢化太阳能光伏盖板膜层，其光学透过率＞80%，相对普通玻璃提升透过率，且同时起到美化效果，易清洁，有更高的能效转换效率。
附图说明
图1为本发明的整体的剖视图；
图2为本发明的高折射率底膜位置的示意图；
图3为本发明的第一低折射率介质膜位置的示意图；
图4为本发明的第一高折射率膜位置的示意图；
图5为本发明的第二低折射率介质膜位置的示意图；
图6为本发明的第二高折射率膜位置的示意图；
图7为本发明的整体的立体。
图中：1、防护框；2、基片；3、高折射率底膜；4、第一低折射率介质膜；5、第一高折射率膜；6、第二低折射率介质膜；7、第二高折射率膜。
实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-7，一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，包括防护框1和基片2，防护框1与基片2卡合固定，基片2的上端镀制有高折射率底膜3，高折射率底膜3的上端表面镀制有第一低折射率介质膜4，第一低折射率介质膜4的上端表面镀制有第一高折射率膜5，第一高折射率膜5的上端表面镀制有低折射率介质6，低折射率介质6的上端表面镀制有第二高折射率膜7，使用时，通过设置防护框1，可对整体进行保护，同时便于整体安装。
高折射率底膜3的厚度为50-120mm，高折射率底膜3用于增加膜层与基片2的结合力并形成光学效应，使用时，在基片2空气面表面镀制NbOx底膜：靶材采用NbOx靶，靶材需预清洗0.5h，设定NbOx靶的电流为40-60A，在基片2上用真空镀膜工艺镀制NbOx高折射率底膜3。
第一低折射率介质膜4的厚度为20-80nm，使用时，在第一层NbOx高折射率底膜3上镀制SiAlO2低折射率介质膜，靶材为SiAlO2靶，靶材需预清洗0.5h，设定SiAlO2靶的电流为30-55A在NbOx高折射率底膜3上镀制SiAlO2低折射率介质膜。
第一高折射率膜5的厚度为50-120nm，第一高折射率膜5用于增加膜层与基片2的结合力并形成光学效应，使用时，在第二层SiAlO2低折射率介质膜上镀制NbOx高折射率膜：靶材采用NbOx靶，靶材需预清洗0.5h，设定NbOx靶的电流为40-60A，在第二层上用真空镀膜工艺镀制NbOx高折射率膜。
第二低折射率介质膜6的厚度为20-80nm，使用时，在第三层NbOx高折射率底膜3上镀制SiAlO2低折射率介质膜：靶材为SiAlO2靶，靶材需预清洗0.5h，设定SiAlO2靶的电流为30-55A在第三层NbOx高折射率膜上镀制SiAlO2低折射率介质膜。
第二高折射率膜7的厚度为50-120nm，第二高折射率膜7用于增加膜层与基片2的结合力并形成光学效应，使用时，在第四层SiAlO2低折射率介质膜上镀制NbOx高折射率膜：靶材采用NbOx靶，靶材需预清洗0.5h，设定NbOx靶的电流为40-60A，在第四层上用真空镀膜工艺镀制NbOx高折射率膜。
其具体操作过程如下：
第一步：使用时，首先将待镀制基片2通过超声波清洗机洗净烘干。
第二步：再把清洗好的基片2传输至入口室再传输到缓存室再传输到过渡室再传输到工艺室。
第三步：工艺区通入高纯惰性气体，成膜真空维持在5.0E-03mbar，真空室中抽真空至3 .0× 10-6Mbar ,氩气流量为200-400Sccm,氧气流量为50-200Sccm。
第四步：需要使用的材料进行预清洁，切换工艺参数待参数稳定后基片2进入。
第五步：选用真空磁控溅射方式利用中频电源在基片2上镀制五氧化二铌膜-硅铝膜-五氧化二铌膜-硅铝膜-五氧化二铌膜。
第六步：步骤五的五氧化二铌膜，靶材为五氧化二铌靶，Nb靶的电流为40-60A；镀制的Nb膜的厚度为50-120 nm，步骤五的硅铝膜，靶材为硅铝靶；SiAl靶的电流为30-55A；镀制的SiAl膜的厚度为20-80 nm。
综上，本发明提出的一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，首先，把清洗后的基片2传输进入镀膜室，高真空多腔室多靶位磁控溅射镀膜机(镀膜机型号为ZC2440*1830)的真空室中，需提前将真空室中抽真空至3 .0×10-6Mbar ,真空室中充入高纯氩气(Ar)，氩气流量为200-4000sccm,氧气流量为50-200Sccm，基片2为玻璃材质，在基片2空气面表面镀制NbOx底膜，靶材采用NbOx靶，靶材需预清洗0.5h，设定NbOx靶的电流为40-60A，在基片2上用真空镀膜工艺镀制NbOx高折射率底膜3，镀制的NbOx高折射率底膜3的厚度为50-120nm，NbOx高折射率底膜3可以增加膜层与基片2的结合力并形成光学效应，在第一层NbOx高折射率底膜3上镀制SiAlO2第一低折射率介质膜4，靶材为SiAlO2靶，靶材需预清洗0.5h，设定SiAlO2靶的电流为30-55A ，在第二层SiAlO2第一低折射率介质膜4上镀制NbOx第一高折射率膜5，靶材采用NbOx靶，靶材需预清洗0.5h，设定NbOx靶的电流为40-60A，在第二层上用真空镀膜工艺镀制NbOx第一高折射率膜5，镀制的NbOx第一高折射率膜5的厚度为50-120nm， NbOx第一高折射率膜5可以增加膜层与基片2的结合力并形成光学效应，在第三层NbOx第一高折射率膜5上镀制SiAlO2第二低折射率介质膜6，靶材为SiAlO2靶，靶材需预清洗0.5h，设定SiAlO2靶的电流为30-55A，在第四层SiAlO2第二低折射率介质膜6上镀制NbOx第二高折射率膜7，靶材采用NbOx靶，靶材需预清洗0.5h，设定NbOx靶的电流为40-60A，在第四层上用真空镀膜工艺镀制NbOx第二高折射率膜7，镀制的NbOx第二高折射率膜7的厚度为50-120nm， NbOx第二高折射率膜7可以增加膜层与基片2的结合力并形成光学效应，通过多膜层介质镀膜的结构，可使太阳能盖板膜层的光学透过率大于百分之八十，进而使太阳能盖板使用效果更佳，更易清洁，从而丰富了整体的功能，增加了整体的适用性。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明披露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，包括防护框（1）和基片（2），其特征在于：所述防护框（1）与基片（2）卡合固定，所述基片（2）的上端镀制有高折射率底膜（3），所述高折射率底膜（3）的上端表面镀制有第一低折射率介质膜（4），所述第一低折射率介质膜（4）的上端表面镀制有第一高折射率膜（5），所述第一高折射率膜（5）的上端表面镀制有第二低折射率介质膜（6），所述第二低折射率介质膜（6）的上端表面镀制有第二高折射率膜（7）。
2.根据权利要求1所述的一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，其特征在于：所述高折射率底膜（3）的厚度为50-120mm，所述高折射率底膜（3）用于增加膜层与基片（2）的结合力并形成光学效应。
3.根据权利要求1所述的一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，其特征在于：所述第一低折射率介质膜（4）的厚度为20-80nm。
4.根据权利要求1所述的一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，其特征在于：所述第一高折射率膜（5）的厚度为50-120nm，所述第一高折射率膜（5）用于增加膜层与基片（2）的结合力并形成光学效应。
5.根据权利要求1所述的一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，其特征在于：所述第二低折射率介质膜（6）的厚度为20-80nm。
6.根据权利要求1所述的一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品，其特征在于：所述第二高折射率膜（7）的厚度为50-120nm，所述第二高折射率膜（7）用于增加膜层与基片（2）的结合力并形成光学效应。
7.如权利要求1-6任一项所述的一种低反射银白色太阳能盖板玻璃镀膜产品的方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤一：使用时，首先将待镀制基片（2）通过超声波清洗机洗净烘干；
步骤二：再把清洗好的基片（2）传输至入口室再传输到缓存室再传输到过渡室再传输到工艺室；
步骤三：工艺区通入高纯惰性气体，成膜真空维持在5.0E-03mbar，真空室中抽真空至3.0× 10-6Mbar ,氩气流量为200-400Sccm,氧气流量为50-200Sccm；
步骤四：需要使用的材料进行预清洁，切换工艺参数待参数稳定后基片（2）进入；
步骤五：选用真空磁控溅射方式利用中频电源在基片（2）上镀制五氧化二铌膜-硅铝膜-五氧化二铌膜-硅铝膜-五氧化二铌膜；
综上：步骤五所述的五氧化二铌膜，靶材为五氧化二铌靶，Nb靶的电流为40-60A；镀制的Nb膜的厚度为50-120 nm，步骤五所述的硅铝膜，靶材为硅铝靶；SiAl靶的电流为30-55A；镀制的SiAl膜的厚度为20-80 nm。
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