CN117281411A - 一种清洗水槽、主水槽和辅水槽 - Google Patents
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Abstract
一种清洗水槽,包含主水槽、可分离安装于主水槽上的辅水槽、以及设置于主水槽和辅水槽之间的环形密封垫;所述主水槽的槽底具有第一环形接合壁,所述辅水槽的槽底具有第二环形接合壁,第一环形接合壁套设于第二环形接合壁的外周侧,所述环形密封垫包含位于第一环形接合壁的内周侧和第二环形接合壁的外周侧之间的纵向环形密封段。本申请的清洗水槽,起到密封作用的纵向环形密封段位于第一环形接合壁和第二环形接合壁之间,环形密封垫通过与第一环形接合壁的内周侧、第二环形接合壁的外周侧接触起到密封作用。本申请另提供一种主水槽和辅水槽。
Description
技术领域
本发明涉及清洗水槽技术,具体地,涉及一种清洗水槽和辅水槽。
背景技术
专利申请CN201611018410.4公开了一种沥水篮组件以及具有该沥水篮组件的清洗水槽,其方案中沥水篮的底部设置有第一吸盘,第一吸盘作为密封件使用,在使用时,密封件被沥水篮压紧在水槽本体上,密封件的上下表面分别和沥水篮、水槽本体接触(即采用的是横向密封方式),起到密封作用。前述技术方案要确保密封件能够压紧在水槽本体使密封垫产生一定形变,才能实现较好的密封效果。有鉴于此,特提出本申请。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种不同于现有技术的清洗水槽方案。
为解决上述技术问题,本发明提供一种清洗水槽,包含主水槽、可分离安装于主水槽上的辅水槽、以及设置于主水槽和辅水槽之间的环形密封垫;所述主水槽的槽底具有第一环形接合壁,所述辅水槽的槽底具有第二环形接合壁,第一环形接合壁套设于第二环形接合壁的外周侧,所述环形密封垫包含位于第一环形接合壁的内周侧和第二环形接合壁的外周侧之间的纵向环形密封段。
较佳地,所述主水槽具有限制结构,所述辅水槽具有受限结构,所述受限结构能够在第一状态和第二状间切换,所述受限结构处于第一状态时受限制结构阻碍而不能在纵向上活动,处于第二状态时不受限制结构阻碍而能在纵向上活动,从而使辅水槽可分离安装于主水槽内。
较佳地,所述主水槽的槽底具有第一槽底部和第二槽底部,所述第二槽底部相对第一槽底部下凹,且其间借由所述第一环形接合壁相接;所述第二环形接合壁设置于所述辅水槽的槽底的下侧,所述纵向密封段套接于所述第二环形接合壁的外周侧上。
较佳地,所述环形密封垫包含横向环形密封段,连接于所述纵向环形密封段的上侧,且夹持于第一槽底部和辅水槽的槽底之间。
较佳地,所述主水槽的第一槽底部开设有第一过水孔,所述清洗水槽包含遮盖所述第一过水孔的第一密封盖;所述辅水槽的侧壁开设有第二过水孔,所述清洗水槽包含遮盖所述第二过水孔的第二密封盖。
较佳地,所述辅水槽的槽底开设有第三过水孔,所述清洗水槽包含遮盖所述第三过水孔的第三密封盖。
较佳地,所述主水槽和辅水槽之间设置有电磁吸附装置。
本申请另提供一种主水槽,其上能够可分离地安装辅水槽,所述主水槽和辅水槽之间设置有环形密封垫;所述主水槽的槽底具有第一环形接合壁,所述辅水槽的槽底具有第二环形接合壁,第一环形接合壁套设于第二环形接合壁的外周侧,所述环形密封垫包含位于第一环形接合壁的内周侧和第二环形接合壁的外周侧的纵向环形密封段。
较佳地,所述主水槽具有限制结构,所述辅水槽具有受限结构,所述受限结构能够在第一状态和第二状间切换,所述受限结构处于第一状态时受限制结构阻碍而不能在纵向上活动,处于第二状态时不受限制结构阻碍而能在纵向上活动,从而使辅水槽可分离安装于主水槽内。
本申请另提供一种辅水槽,其能够可分离地安装于主水槽上,所述主水槽和辅水槽之间设置有环形密封垫;所述主水槽的槽底具有第一环形接合壁,所述辅水槽的槽底具有第二环形接合壁,第一环形接合壁套设于第二环形接合壁的外周侧,所述环形密封垫包含位于第一环形接合壁的内周侧和第二环形接合壁的外周侧的纵向环形密封段。
较佳地,所述主水槽具有限制结构,所述辅水槽具有受限结构,所述受限结构能够在第一状态和第二状间切换,所述受限结构处于第一状态时受限制结构阻碍而不能在纵向上活动,处于第二状态时不受限制结构阻碍而能在纵向上活动,从而使辅水槽可分离安装于主水槽内。
较佳地,所述环形密封垫的底面高于所述第二环形接合壁的底面。
较佳地,所述第一槽底部设置有超声波装置。
较佳地,所述主水槽上设置有电解水发生器。
较佳地,所述受限结构包含壳体、受限位件、提拉件和传动组件,所述壳体固定于所述辅水槽的侧壁,一对所述受限位件安装于壳体上且被设置于能够相互靠近和远离,所述提拉件安装于壳体上,所述传动组件安装于壳体上且传动连接提拉件和一对所述提拉件,以使所述提拉件控制一对所述受限位件相互靠近和远离;所述限制结构被设置成在一对所述受限位件相互靠近时限制受限位件向上活动,在一对所述受限位件相互远离时允许受限位件向上活动。
较佳地,所述传动组件包含传动绳和弹性件;所述提拉件通过传动绳连接所述受限位件,以拉动一对所述受限位件相互远离;所述弹性件设置于壳体和受限位件之间,且在一对所述受限位件相互远离时弹性形变。
较佳地,所述壳体设置有张紧所述传动绳的导向件。
通过采用上述技术方案,本发明可以取得以下技术效果:
1、本申请的清洗水槽,起到密封作用的纵向环形密封段位于第一环形接合壁和第二环形接合壁之间,环形密封垫通过与第一环形接合壁的内周侧、第二环形接合壁的外周侧接触起到密封作用(即本申请是采用纵向密封方式);如果采用横向密封方式,在将辅水槽安装于主水槽上时,辅水槽需在纵向向下活动更多的位移量在确保密封垫的密封性的同时,使得限制结构和受限结构相配合,整个过程较为费劲;而采用纵向密封方式,辅水槽在纵向向下活动的位移量只需满足限制结构和受限结构相接合的要求即可,安装较为省力便捷。
2、当需要将辅水槽自主水槽分离时,可打开第一过水孔、或第二过水孔,或第三过水孔,从而平衡辅助槽的槽底上下侧的水压,避免限制结构和受限结构分离时,辅助槽因槽底下侧水压大于上侧水压,而向上弹起造成安全隐患。
3、环形密封垫的底面高于第二环形接合壁的底面,在辅水槽取出放置于厨房台面时,与台面直接接触的部分是第二环形接合壁而非密封垫的底面,可避免现有技术CN201611018410.4密封垫设置在沥水篮底部放置在厨房台面容易粘附脏污的问题。
4、结合超声波装置或电解水发生器,使得清洗水槽的功能更多样。
附图说明
图1绘示了一实施例的清洗水槽的示意图;
图2绘示了一实施例的清洗水槽的第一分解图;
图3绘示了一实施例的清洗水槽的第二分解图;
图4绘示了一实施例的清洗水槽的第三分解图;
图5绘示了一实施例的清洗水槽的第四分解图;
图6和图7分别绘示了不同视角下一实施例的辅水槽的示意图;
图8绘示了一实施例的辅水槽的分解图;
图9绘示了一实施例的受限结构的组装过程图;
图10绘示了一实施例的辅水槽的剖视图;
图11绘示了一实施例的受限结构的状态变化图;
图12和图13分别绘示了不同视角下一实施例的清洗水槽的剖视图;
图14绘示了另一实施例的清洗水槽的示意图;
图15绘示了一实施例的清洗水槽的分解图。
图16绘示了不同视角下又一实施例的分解图。
图17绘示了不同视角下又一实施例的分解图。
具体实施方式
为使本发明实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施方式中的附图,对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施方式是本发明一部分实施方式,而不是全部的实施方式。基于本发明中的实施方式,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本发明保护的范围。因此,以下对在附图中提供的本发明的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施方式。
结合图1至图13,在一实施例中,本申请的清洗槽包含主水槽1、辅水槽2、下水器3、超声波装置4、电解水发生器5、环形密封垫6。主水槽1的侧壁1A开设有过孔S,电解水发生器5安装在侧壁1A的外侧且对应于过孔S的位置,以电解容置于主水槽1内的水。主水槽1的槽底具有第一槽底部1B、第二槽底部1C,第二槽底部1C相对第一槽底部1B下凹,且其间借由第一环形接合壁1D相接。第一槽底部1B设置有超声波装置4,第二槽底部1C开设有排水孔。主水槽1的侧壁1A设置有限制结构1E,其用以配合辅水槽2的受限结构2D使用,后文将进一步详述。
辅水槽2可分离安装于主水槽1上,辅水槽2的侧壁2A的前后两侧设置有受限结构2D,辅水槽2的槽底2B开设有出水孔,且槽底2B设置有第二环形接合壁2C,第二环形接合壁2C设置于辅水槽2的槽底2B的下侧,第二环形接合壁2C自出水孔的端缘向下延伸,且第二环形接合壁2C围绕开设于槽底2B的出水孔,第一环形接合壁1D套设于第二环形接合壁2C的外周侧,环形密封垫6设置两者之间。受限结构2D和限制结构1E可分离接合,从而使辅水槽2可分离安装于主水槽1内,本实施例,受限结构2D包含壳体M1、受限位件M2、提拉件M3和传动组件M4。其中,壳体M1用于供用户握持,壳体M1固定于辅水槽2的侧壁2A,一对受限位件M2安装于壳体M1上且被设置于能够相互靠近和远离,提拉件M3安装于壳体M1上,传动组件M4安装于壳体M1上且传动连接提拉件M3和一对提拉件M3,以使提拉件M3控制一对受限位件M2相互靠近和远离。限制结构1E为凸柱,其被设置成在一对受限位件M2相互靠近时限制受限位件M2向上活动,在一对受限位件M2相互远离时允许受限位件M2向上活动。传动组件M4包含传动绳M41、弹性件M42和导向件M43,提拉件M3通过传动绳M41连接受限位件M2,以拉动一对受限位件M2相互远离(如图11),而弹性件M42设置于壳体M1和受限位件M2之间,且在一对受限位件M2相互远离时弹性形变。导向件M43对传动绳M41进行导向,且张紧传动绳。在辅水槽2相对主水槽向下活动时,限制结构1E推动一对受限位件M2相对远离,直至一对受限位件M2活动至限制结构1E的下侧。
在本实施例,主水槽1的第一槽底部1B开设有第一过水孔P1,清洗水槽包含遮盖第一过水孔P1的第一密封盖Q1;辅水槽2的侧壁2A开设有第二过水孔P2,清洗水槽包含遮盖第二过水孔P2的第二密封盖Q2;辅水槽2的槽底(2B)开设有第三过水孔P3,所述清洗水槽包含遮盖所述第三过水孔P3的第三密封盖Q3。当需要将辅水槽2自主水槽1分离时,可打开第一过水孔或第二过水孔,或打开第三过水孔,从而平衡辅助槽的槽底上下侧的水压,避免限制结构和受限结构分离时,辅助槽因槽底下侧水压大于上侧水压,而向上弹起造成安全隐患。
在另一实施例中,只设置位于主水槽1的第一槽底部1B的第一开水孔P1和遮盖第一开水孔P1的第一密封盖Q1。
在另一实施例中,只设置位于辅水槽2的侧壁2A的第二过水孔P2和遮盖第二过水孔P2的第二密封盖Q2。
在另一实施例中,只设置位于辅水槽2槽底2B的第三过水孔P3和遮盖所述第三过水孔P3的第三密封盖Q3。
环形密封垫6设置于辅水槽2的槽底2B出水孔位置,其用以在辅水槽2安装于主水槽1时,限制主水槽1内的水流动至辅水槽2内。环形密封垫6套接于第二环形接合壁2C上,其具有横向环形密封段6A和纵向环形密封段6B。横向环形密封段6A位于第一槽底部1B和辅水槽2的槽底2B之间,纵向环形密封段6B位于第一环形接合壁1D的内周侧和第二环形接合壁2C的外周侧之间。纵向环形密封段6B的内周表面贴紧第二环形接合壁2C,而外周表面贴紧第一环形接合壁1D,通过纵向密封的方式起到密封作用。环形密封垫6的的底面(纵向环形密封段6B的底面)高于第二环形接合壁2C的底面。因环形密封垫的底面高于第二环形接合壁的底面,在辅水槽2取出放置于厨房台面时,与台面直接接触的部分是第二环形接合壁而非密封垫的底面,因而可改善现有技术密封垫容易粘附脏污的问题。另外,相较于采用现有技术的横向密封的方案,采用上述实施例的密封垫的方案,亦有助于配合受限结构2D提升密封能力,其原因在于,如采用CN201611018410.4的横向密封的思路,在安装辅水槽2时,辅水槽2需先向下活动预定距离以克服限制结构1E对受限位件M2的阻碍,此过程密封件将弹性变形压缩,当受限位件M2活动至限制结构1E下侧后,密封件将复位,复位后的密封件的密封效果较弹性变形压缩时的效果差,亦即现有技术的密封件如配合前述受限结构2D使用,密封件在安装过程和安装之后密封效果有差异,如果为了确保密封性,则需要使密封件向下活动更大的位移量,较为费劲。而采用本申请横向密封的安装方式,密封垫主要是通过与第一、第二环形接合壁接触的侧面起到密封作用,密封垫不会因辅水槽2的安装而在上下方向有弹性形变的过程,能够避免现有技术密封件在安装过程和安装之后密封效果有差异的问题。
需说明的是,第一、二环形接合壁并不限于图示中在外周方向完全封闭的情形,其可设计成包含多个在外周方向间隔设置的接合壁,排布成环形状即可。
以上即为本申请的第一实施方式,应理解,本申请的具体实施方式并不限于此,在另一实施例中,可使用磁性吸附装置、吸盘等来使辅水槽2可分离地安装于主水槽1内。在另一实施例中,第二环形接合壁2C可离出水孔的端缘有预设的距离。结合图14和图15,在另一实施例中,限制结构1E可为条状,而受限结构2D可设置于辅助槽2的左右两侧。结合图16,在另一实施例中,限制结构可包含位于主水槽1的相邻侧壁的两部分,两部分的结构可不同,而两受限结构2D的具体结构可对应性调整。不同于采用受限结构和限制结构配合的方式,结合图17,在另一实施例中,主水槽1和辅水槽2之间设置有电磁吸附装置,即通过电磁吸附的方式使辅水槽2和主水槽1可分离地配合,具体而言,主水槽1上可设置的电磁铁7,而辅水槽2上可设置有磁吸件8(如铁件等)与之相对应,电磁铁7在控制装置(图未示)的控制下作用于磁吸件8,从而使得辅水槽2与主水槽1固定或分离。
以上所述仅为本发明的优选实施方式而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种清洗水槽,包含主水槽(1)、可分离安装于主水槽(1)上的辅水槽(2)、以及设置于主水槽(1)和辅水槽(2)之间的环形密封垫(6);其特征在于,所述主水槽(1)的槽底具有第一环形接合壁(1D),所述辅水槽(2)的槽底具有第二环形接合壁(2C),第一环形接合壁(1D)套设于第二环形接合壁(2C)的外周侧,所述环形密封垫(6)包含位于第一环形接合壁(1D)的内周侧和第二环形接合壁(2C)的外周侧之间的纵向环形密封段(6B);
所述主水槽底部设有超声波装置(4),和/或,所述主水槽侧壁设有电解水发生器(5)。
2.根据权利要求1所述的清洗水槽,其特征在于,所述主水槽(1)具有限制结构(1E),所述辅水槽(2)具有受限结构(2D),所述受限结构(2D)能够在第一状态和第二状间切换,所述受限结构(2D)处于第一状态时受限制结构(1E)阻碍而不能在纵向上活动,处于第二状态时不受限制结构(1E)阻碍而能在纵向上活动,从而使辅水槽(2)可分离安装于主水槽(1)内。
3.根据权利要求1所述的清洗水槽,其特征在于,所述主水槽(1)的槽底具有第一槽底部(1B)和第二槽底部(1C),所述第二槽底部(1C)相对第一槽底部(1B)下凹,且其间借由所述第一环形接合壁(1D)相接;所述第二环形接合壁(2C)设置于所述辅水槽(2)的槽底(2B)的下侧,所述纵向密封段(6B)套接于所述第二环形接合壁(2C)的外周侧上。
4.根据权利要求3所述的清洗水槽,其特征在于,所述主水槽(1)的第一槽底部(1B)开设有第一过水孔(P1),所述清洗水槽包含遮盖所述第一过水孔(P1)的第一密封盖(Q1);
或,
所述辅水槽(2)的侧壁(2A)开设有第二过水孔(P2),所述清洗水槽包含遮盖所述第二过水孔(P2)的第二密封盖(Q2);
或,
所述辅水槽(2)的槽底(2B)开设有第三过水孔(P3),所述清洗水槽包含遮盖所述第三过水孔(P3)的第三密封盖(Q3)。
5.根据权利要求2所述的清洗水槽,其特征在于,所述受限结构(2D)包含壳体(M1)、受限位件(M2)、提拉件(M3)和传动组件(M4),所述壳体(M1)固定于所述辅水槽(2)的侧壁,一对所述受限位件(M2)安装于壳体(M1)上且被设置于能够相互靠近和远离,所述提拉件(M3)安装于壳体(M1)上,所述传动组件(M4)安装于壳体(M1)上且传动连接提拉件(M3)和一对所述提拉件(M3),以使所述提拉件(M3)控制一对所述受限位件(M2)相互靠近和远离;所述限制结构(1E)被设置成在一对所述受限位件(M2)相互靠近时限制受限位件(M2)向上活动,在一对所述受限位件(M2)相互远离时允许受限位件(M2)向上活动。
6.根据权利要求5所述的清洗水槽,其特征在于,所述传动组件(M4)包含传动绳(M41)和弹性件(M42);所述提拉件(M3)通过传动绳(M41)连接所述受限位件(M2),以拉动一对所述受限位件(M2)相互远离;所述弹性件(M42)设置于壳体(M1)和受限位件(M2)之间,且在一对所述受限位件(M2)相互远离时弹性形变。
7.根据权利要求1所述的清洗水槽,其特征在于,所述环形密封垫(6)的底面高于所述第二环形接合壁(2C)的底面。
8.根据权利要求1所述的清洗水槽,其特征在于,所述主水槽(1)和辅水槽(2)之间设置有电磁吸附装置。
9.一种主水槽,其上能够可分离地安装辅水槽(2),所述主水槽(1)和辅水槽(2)之间设置有环形密封垫(6);其特征在于,所述主水槽(1)的槽底具有第一环形接合壁(1D),所述辅水槽(2)的槽底具有第二环形接合壁(2C),第一环形接合壁(1D)套设于第二环形接合壁(2C)的外周侧,所述环形密封垫(6)包含位于第一环形接合壁(1D)的内周侧和第二环形接合壁(2C)的外周侧的纵向环形密封段(6B);
所述主水槽(1)具有限制结构(1E),所述辅水槽(2)具有受限结构(2D),所述受限结构(2D)能够在第一状态和第二状间切换,所述受限结构(2D)处于第一状态时受限制结构(1E)阻碍而不能在纵向上活动,处于第二状态时不受限制结构(1E)阻碍而能在纵向上活动,从而使辅水槽(2)可分离安装于主水槽(1)内;
或,
所述主水槽(1)底部设有电磁铁(7),所述辅水槽(2)底部设有磁吸件(8)与之配合作用。
10.一种辅水槽,其能够可分离地安装于主水槽(1)上,所述主水槽(1)和辅水槽(2)之间设置有环形密封垫(6);其特征在于,所述主水槽(1)的槽底具有第一环形接合壁(1D),所述辅水槽(2)的槽底具有第二环形接合壁(2C),第一环形接合壁(1D)套设于第二环形接合壁(2C)的外周侧,所述环形密封垫(6)包含位于第一环形接合壁(1D)的内周侧和第二环形接合壁(2C)的外周侧的纵向环形密封段(6B);
所述主水槽(1)具有限制结构(1E),所述辅水槽(2)具有受限结构(2D),所述受限结构(2D)能够在第一状态和第二状间切换,所述受限结构(2D)处于第一状态时受限制结构(1E)阻碍而不能在纵向上活动,处于第二状态时不受限制结构(1E)阻碍而能在纵向上活动,从而使辅水槽(2)可分离安装于主水槽(1)内;
或,
所述主水槽(1)底部设有电磁铁(7),所述辅水槽(2)底部设有磁吸件(8)与之配合作用。
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CN202210056397.0A Pending CN117281411A (zh) | 2022-01-18 | 2022-01-18 | 一种清洗水槽、主水槽和辅水槽 |
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CN (1) | CN117281411A (zh) |
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2022
- 2022-01-18 CN CN202210056397.0A patent/CN117281411A/zh active Pending
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PB01 | Publication | ||
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