CN117226690A - 一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，包括箱体、收集机构、吸附机构、安装框、防护机构、驱动机构、调节机构、顶磨机构和下磨盘，所述箱体内腔的下方设置有对废液集液输送的收集机构，所述箱体内腔底部的一端设置有对废液双级过滤的吸附机构；本发明通过收集机构的设置，可用于对废液统一收集，并且进行统一进行压滤处理，之后再由吸附机构进行双级过滤，而达到二次过滤的效果，不仅能够对废液进行高效过滤，同时还可提高过滤的效果，以保证循环利用，压力筒、第一电动推杆、活塞和滤芯完成压滤作业，收集斗和连接管配合泵机、软管和排液管实现液体的输送工作，过滤膜和过滤网则进行双级吸附过滤处理。
Description
技术领域
本发明涉及晶片双面抛光技术领域，具体涉及一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机。
背景技术
随着光电子信息技术的不断发展，对作为光电子器件基片材料的单晶硅、蓝宝石等光电子晶片的表面粗糙度、TTV等指标的要求越来越高，在对晶片的多道加工工序过程中抛光尤为重要，而双面抛光机的抛光加工作为晶片超光滑表面加工最有效的技术手段之一。
申请号为CN201810996937.7的中国专利提供了一种双面抛光机与抛光方法。该双面抛光机包括机架、上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮和驱动组件，上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮分别独立地设置于机架上，中心齿轮设置于外齿轮的中心位置处，中心齿轮与外齿轮之间具有容纳空间，用于啮合放置晶片的游星轮，容纳空间位于上抛光盘与下抛光盘之间，驱动组件包括：第一驱动装置，设置于机架上并与上抛光盘连接，用于驱动上抛光盘转动；第二驱动装置，设置于机架上并与下抛光盘连接，用于驱动下抛光盘与上抛光盘同向转动；第三驱动装置，设置于机架上并与中心齿轮连接，用于驱动中心齿轮转动；第四驱动装置，设置于机架上并与外齿轮连接，用于驱动外齿轮转动。
晶片双面抛光机在抛光一段时间后，循环使用的抛光液会存在大量杂质，会堵塞过滤系统以及过滤不佳，导致杂质混在抛光液中对正在抛光温度晶片造成影响，导致晶片破损或者晶片抛光不平，同时无法对处理后的抛光液循环前的温度调整。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，可用于提高过滤效率以及效果，并且采用了分次过滤方式提高过滤的效果，还可起到对处理后的抛光液进行温度控制，同时还可提高了所需过滤的效率，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，包括箱体、收集机构、吸附机构、安装框、防护机构、驱动机构、调节机构、顶磨机构和下磨盘以及加热机构，所述箱体内腔的下方设置有对废液集液输送的收集机构，所述箱体内腔底部的一端设置有对废液双级过滤的吸附机构，所述安装框贯穿安装于箱体顶部的一端，所述防护机构设置于安装框的上方，所述驱动机构设置于安装框的下方，所述调节机构设置于箱体的顶部，所述顶磨机构设置于调节机构底部的一端，所述下磨盘设置于驱动机构的内部，所述箱体顶部的另一端设置有对循环使用抛光液预热的加热机构。
优选的，所述收集机构包括收集斗、连接管、压力筒、第一电动推杆、活塞、滤芯、泵机、软管和排液管；
所述收集斗栓接于安装框的底端，所述连接管分别连通于收集斗内腔的底部，所述压力筒连通于连接管的排液端，所述第一电动推杆安装于压力筒的顶端，所述活塞栓接于第一电动推杆的输出端，所述活塞位于压力筒内腔的上部，所述泵机栓接于箱体内腔的底部，所述软管连通于泵机的排液端，所述泵机的进液端通过管道与滤芯的底端法兰连接，所述滤芯法兰连通于压力筒的底端，所述排液管连通于软管的排液端。
优选的，所述吸附机构包括存液箱、放置板、凹槽、凸块、过滤膜和过滤网；
所述存液箱放置于箱体内腔底部的一端，所述放置板安装于存液箱内腔的上部，所述凹槽分别开设于放置板顶部的四周，所述凸块插于凹槽的内部，所述过滤膜栓接于凸块的顶端，所述过滤网栓接于过滤膜的顶部，所述排液管位于存液箱内腔的上方；
所述加热机构包括加热盒、加热管、可控硅温度控制器、出液软管和输送管，所述加热盒安装于箱体顶部的另一端，所述加热管安装于加热盒内腔的中部，所述加热管位于加热盒内的输送管外侧，所述可控硅温度控制器贯穿安装于加热盒一侧的上部，所述输送管通过水泵连通于存液箱内腔一侧的下部，所述软管连通于输送管的排液端，所述出液软管的另一端与注液管的顶端连通。
优选的，所述防护机构包括滑槽、滑块和挡圈，所述滑槽分别开设于安装框内壁的两侧，所述滑块滑动连接于滑槽的内部，所述挡圈安装于滑块的内侧。
优选的，所述驱动机构包括电机、第一齿轮、传动柱、第二齿轮、第一齿圈和第二齿圈；
所述电机栓接于箱体内腔底部的另一端，所述第一齿轮键连接于电机的输出轴，所述第二齿轮啮合于第一齿轮的一侧，所述传动柱贯穿安装于第二齿轮的内壁，所述传动柱与箱体内腔的底部转动连接，所述传动柱的顶端开设有锥形槽；所述第一齿圈焊接于传动柱表面的上部，所述第二齿圈安装于安装框内腔的底部，所述下磨盘栓接于第二齿圈内腔的底部。
优选的，所述调节机构包括支撑组件和推拉组件，所述支撑组件设置于箱体的顶部，所述推拉组件设置于箱体的顶部
优选的，所述支撑组件包括支柱、横板、注液管和第二电动推杆，所述支柱转动连接于箱体的顶部，所述横板安装于支柱的顶端，所述第二电动推杆安装于横板顶部一端，所述注液管贯穿安装于横板顶部一端，所述注液管位于第二电动推杆的一侧，所述注液管与出液软管相连通。
优选的，所述推拉组件包括第三电动推杆、连接块、连接板和连接槽，所述连接板焊接于支柱表面的上部，所述连接槽开设于连接板的顶部，所述连接块滑动连接于连接槽的内部，所述第三电动推杆的输出端与连接块的顶部转动连接，所述第三电动推杆栓接于箱体顶部的另一端；所述箱体背面的端部安装有限位板，所述限位板位于连接板的背面。
优选的，所述顶磨机构包括磨料组件和送液组件，所述磨料组件设置于第二电动推杆的输出端，所述送液组件设置于磨料组件的外侧
优选的，所述磨料组件包括连接杆、连接盘和上磨盘，所述连接杆栓接于第二电动推杆的输出端，所述连接盘转动连接于连接杆的底端，所述上磨盘栓接于连接盘的底端；所述连接盘的底部中间端安装有锥形块；
所述送液组件包括集液框和分流管，所述集液框焊接于连接杆表面的上部，所述分流管的进液端连通于集液框内腔的底部，所述分流管的排液端连通至连接盘的底部。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明通过收集机构的设置，可用于对废液统一收集，并且进行统一进行压滤处理，之后再由吸附机构进行双级过滤，而达到二次过滤的效果，不仅能够对废液进行高效过滤，同时还可提高过滤的效果，以保证循环利用，压力筒、第一电动推杆、活塞和滤芯完成压滤作业，收集斗和连接管配合泵机、软管和排液管实现液体的输送工作，过滤膜和过滤网则进行双级吸附过滤处理，从而实现抛光液杂质的高效过滤，同时配合加热机构完成抛光液的加热工作，加热机构的设计使抛光液的温度得以有效控制，进一步提升抛光效果，从而提高后续抛光的精度。
2、本发明经调节机构的设置，可用于调整所需的高度位置，同时还可用于调整方位，以方便其经上下料以及拆取磨料盘，以利于操作使用，利用第二电动推杆可调整上磨盘的高度位置，在第三电动推杆、连接块、连接板和连接槽的推拉滑动下改变上磨盘的方位，从而利于其完成位置变动；本发明在限位板的作用下，通过第三电动推杆进行推动到顶端时，使连接盘的底部中间端的锥形块刚好位于传动柱的顶端锥形槽的上方，然后通过第二电动推杆作用实现锥形块和锥形槽的啮合，无需手动调整连接盘的位置以及啮合位置，实现高效调节，提升了上下料以及拆取磨料盘的效率。
3、本发明利用防护机构的设置，可用于起到防护的优点，不仅能够避免抛光液的飞溅，而且有效的阻挡形成防护，利用滑槽和滑块的滑动连接方便起到装拆取放，而挡圈则利用直接进行遮挡防护。
附图说明
图1为本发明结构示意图；
图2为本发明箱体结构示意图；
图3为本发明下磨盘结构示意图；
图4为本发明滑块结构示意图；
图5为本发明电机结构示意图；
图6为本发明排液管结构示意图；
图7为本发明活塞结构示意图；
图8为本发明凹槽结构示意图；
图9为本发明连接管结构示意图；
图10为本发明滑槽结构示意图；
图11为本发明分流管结构示意图。
图12为本发明加热管结构示意图。
图中：1、箱体；2、收集机构；21、收集斗；22、连接管；23、压力筒；24、第一电动推杆；25、活塞；26、滤芯；27、泵机；28、软管；29、排液管；3、吸附机构；31、存液箱；32、放置板；33、凹槽；34、凸块；35、过滤膜；36、过滤网；4、安装框；5、防护机构；51、滑槽；52、滑块；53、挡圈；6、驱动机构；61、电机；62、第一齿轮；63、传动柱；64、第二齿轮；65、第一齿圈；66、第二齿圈；7、调节机构；71、支柱；72、横板；73、注液管；74、第二电动推杆；75、第三电动推杆；76、连接块；77、连接板；78、连接槽；8、顶磨机构；81、连接杆；82、集液框；83、连接盘；84、上磨盘；85、分流管；9、下磨盘；10、加热机构；101、加热盒；102、加热管；103、可控硅温度控制器；104、出液软管；105、输送管。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，包括箱体1、收集机构2、吸附机构3、安装框4、防护机构5、驱动机构6、调节机构7、顶磨机构8和下磨盘9以及加热机构10，箱体1内腔的下方设置有对废液集液输送的收集机构2，箱体1内腔底部的一端设置有对废液双级过滤的吸附机构3，安装框4贯穿安装于箱体1顶部的一端，防护机构5设置于安装框4的上方，驱动机构6设置于安装框4的下方，调节机构7设置于箱体1的顶部，顶磨机构8设置于调节机构7底部的一端，下磨盘9设置于驱动机构6的内部，箱体1顶部的另一端设置有对循环使用抛光液预热的加热机构10。
收集机构2用于对废液统一收集，并且实现初次过滤工作，而吸附机构3则达到二次过滤，且吸附机构3为双级过滤方式进行滤除，安装框4可对其内部的部件进行安装承载，防护机构5可防止抛光液飞溅，以对其进行遮挡，驱动机构6用于起到旋转力的驱动工作，调节机构7不仅可调整上部磨料盘的位置，而且还可对磨料盘的方向进行改变调整，以利于后续的对所需部件的更换拆装作业，顶磨机构8配合下磨盘9可对晶片进行抛光处理。
如图6、图7和图9所示，收集机构2包括收集斗21、连接管22、压力筒23、第一电动推杆24、活塞25、滤芯26、泵机27、软管28和排液管29；
收集斗21栓接于安装框4的底端，连接管22分别连通于收集斗21内腔的底部，压力筒23连通于连接管22的排液端，第一电动推杆24安装于压力筒23的顶端，活塞25栓接于第一电动推杆24的输出端，活塞25位于压力筒23内腔的上部，泵机27栓接于箱体1内腔的底部，软管28连通于泵机27的排液端，泵机27的进液端通过管道与滤芯26的底端法兰连接，滤芯26法兰连通于压力筒23的底端，排液管29连通于软管28的排液端。
收集斗21和连接管22可对废液收集处理，压力筒23、第一电动推杆24、活塞25和滤芯26对收集的废液进行压滤处理，而泵机27、软管28和排液管29对压滤处理后的液体进行抽取排至存液箱31内。
如图8所示，吸附机构3包括存液箱31、放置板32、凹槽33、凸块34、过滤膜35和过滤网36；
存液箱31放置于箱体1内腔底部的一端，放置板32安装于存液箱31内腔的上部，凹槽33分别开设于放置板32顶部的四周，凸块34插于凹槽33的内部，过滤膜35栓接于凸块34的顶端，过滤网36栓接于过滤膜35的顶部，排液管29位于存液箱31内腔的上方。
存液箱31用于临时储存过滤后的液体，放置板32配合凹槽33和凸块34方便对过滤膜35和过滤网36承载的同时对其进行限位，而过滤膜35和过滤网36则起到双级过滤吸附处理工作。
如图12所示，加热机构10包括加热盒101、加热管102、可控硅温度控制器103、出液软管104和输送管105，加热盒101安装于箱体1顶部的另一端，加热管102安装于加热盒101内腔的中部，加热管102位于加热盒101内的输送管105外侧，可控硅温度控制器103贯穿安装于加热盒101一侧的上部，输送管105通过水泵连通于存液箱31内腔一侧的下部，出液软管104连通于输送管105的排液端，出液软管104的另一端与注液管73的顶端连通；
滤除后的抛光液会通过水泵的抽取进入输送管105的内部，在进入输送管105之间提前使加热管102工作，并且利用可控硅温度控制器103控制加热管102的温度在20°，且左右相差不超过5°，由于在抛光过程中的摩擦会产生热量，因此不适宜温度过高，而且又因抛光时温度较低则会无法对镜片起到高度精度的抛光，因此通过预热抛光液提高抛光所需的精度，经过加热后的抛光液会被出液软管104输送至注液管73内，然后排出指定位置，使抛光液的温度得以有效控制，进一步提升抛光效果。
由于上磨盘84的顶部开设有贯穿式的微孔，因此在磨料时顶部的微孔会向下滴流抛光液，然后经过抛光使用后会向向持续滴流，并且下磨盘9如上磨盘84相同开设有微孔，且安装框4也开设有微孔，以保证废液向下持续滴流，直至滴流至收集斗21内部，由收集斗21完成收集作业；
压滤时：
在收集斗21内部的废液会通过连接管22流至压力筒23的内部，且连接管22的排液处栓接有流量计以及控制阀，当排出预设的废液量时停止排液，压力筒23的排液处也设置有控制阀，然后由第一电动推杆24推动活塞25在压力筒23工作，使第一电动推杆24推动活塞25向下移动，同步会打开压力筒23排液处的控制阀，然后由于压力作业会使废液经过滤芯26以至于形成初次过滤；
压力筒23一侧的下部设置有单向阀，其在压滤时用于进气工作，滤芯26在更换时解除法兰连通即可水平取下；
二次过滤时：
由泵机27抽取液体经过软管28和排液管29排出，直至排到存液箱31的内部，在进入存液箱31的内部时会预先经过过滤膜35和过滤网36，通过过滤膜35和过滤网36的双极过滤达到二次滤除作业，且过滤膜35为精密过滤膜，而过滤网36为活性炭吸附网，以便于达到所需的高效过滤以及提高过滤效果的优点，由于软管28的设置，在取放过滤膜35和过滤网36时需要转动排液管29，以至于方便操作更换；
滤芯26和过滤膜35和过滤网36分别经过不同的液量进行定量或是定时更换即可。
如图2、3、4和6所示，防护机构5包括滑槽51、滑块52和挡圈53，滑槽51分别开设于安装框4内壁的两侧，滑块52滑动连接于滑槽51的内部，挡圈53安装于滑块52的内侧。
防护时：
直接将挡圈53带动滑块52移动至滑槽51的上方，且滑槽51和滑块52上下对应，直至将滑块52从上至下插在滑槽51的内部即可完成安装工作，取下时，直接向上拉动挡圈53，滑槽51和滑块52脱离即可。
如图3和5所示，驱动机构6包括电机61、第一齿轮62、传动柱63、第二齿轮64、第一齿圈65和第二齿圈66；
电机61栓接于箱体1内腔底部的另一端，第一齿轮62键连接于电机61的输出轴，第二齿轮64啮合于第一齿轮62的一侧，传动柱63贯穿安装于第二齿轮64的内壁，传动柱63与箱体1内腔的底部转动连接，所述传动柱63的顶端开设有锥形槽；第一齿圈65焊接于传动柱63表面的上部，第二齿圈66安装于安装框4内腔的底部，下磨盘9栓接于第二齿圈66内腔的底部。
电机61和第一齿轮62起到驱动工作，而传动柱63、第二齿轮64、第一齿圈65和第二齿圈66则利于起到传动工作；
转动时：
电机61带动第一齿轮62转动，利用啮合连接的关系会由第一齿轮62通过第二齿轮64使传动柱63转动，在传动柱63转动时会带动第一齿圈65一同进行转动，以便于配合第二齿圈66，从而使第一齿圈65和第二齿圈66之间的游星轮以及游星轮内部放置的物料一同进行转动，从而使物料转动并且完成双面磨料工作。
优选的，调节机构7包括支撑组件和推拉组件，支撑组件设置于箱体1的顶部，推拉组件设置于箱体1的顶部
如图10所示，支撑组件包括支柱71、横板72、注液管73和第二电动推杆74，支柱71转动连接于箱体1的顶部，横板72安装于支柱71的顶端，第二电动推杆74安装于横板72顶部一端，注液管73贯穿安装于横板72顶部一端，注液管73位于第二电动推杆74的一侧，所述注液管73与出液软管104相连通。
支柱71和横板72可用于支撑以及安装第二电动推杆74，而第二电动推杆74则利于起到上下推拉调整上磨盘84高度位置的作用，注液管73起到注射抛光液的作用。
如图10所示，推拉组件包括第三电动推杆75、连接块76、连接板77和连接槽78，连接板77焊接于支柱71表面的上部，连接槽78开设于连接板77的顶部，连接块76滑动连接于连接槽78的内部，第三电动推杆75的输出端与连接块76的顶部转动连接，第三电动推杆75栓接于箱体1顶部的另一端；所述箱体1背面的端部安装有限位板，所述限位板位于连接板77的背面。
第三电动推杆75推拉连接块76通过带动连接板77转动来使支柱71转动，以至于调整上磨盘84的方向位置，从而利于上下更换磨料盘以及上下料操作；
调整上磨盘84位置高度时：
由第二电动推杆74的直接推动会通过连接杆81和连接盘83带动上磨盘84向下移动，直至上磨盘84与物料接触即可；
调整上磨盘84方向位置或是角度时：
由第三电动推杆75回缩拉动连接块76，此时连接块76会在连接槽78内部进行滑动，并且带动连接板77转动，而连接板77再被带动下会使支柱71一同进行转动，最后会使第二电动推杆74带动上磨盘84与一同被带动，直至与下方的下磨盘9错位，从而利于后续更换磨料盘以及上下料操作，在调整时上磨盘84会向背面方向转动调节；
箱体1背面的端部安装有限位板，限位板位于连接板77的背面，限位板的设置主要用于对连接板77限位，在第三电动推杆75推动支柱71和连接板77转动至预设位置时也就是处于上磨盘84和下磨盘9为上下垂直对应位置，此时无法被推动也就是达到了所需位置，提高后续对位的精准度。
进一步，顶磨机构8包括磨料组件和送液组件，磨料组件设置于第二电动推杆74的输出端，送液组件设置于磨料组件的外侧。
如图11所示，磨料组件包括连接杆81、连接盘83和上磨盘84，连接杆81栓接于第二电动推杆74的输出端，连接盘83转动连接于连接杆81的底端，上磨盘84栓接于连接盘83的底端；所述连接盘83的底部中间端安装有锥形块；
本发明在限位板的作用下，通过第三电动推杆75进行推动到顶端时，使连接盘83的底部中间端的锥形块刚好位于传动柱63的顶端锥形槽的上方，然后通过第二电动推杆74作用实现锥形块和锥形槽的啮合，无需手动调整连接盘的位置以及啮合位置，实现高效调节，提升了上下料以及拆取磨料盘的效率。
送液组件包括集液框82和分流管85，集液框82焊接于连接杆81表面的上部，分流管85的进液端连通于集液框82内腔的底部，分流管85的排液端连通至连接盘83的底部。
连接杆81方便连接第二电动推杆74的输出端，连接盘83方便安装承载上磨盘84，而上磨盘84配合下磨盘9完成双面抛光的作用，集液框82和分流管85利于对注液管73滴流的液体进行收集以及分流排放，辅助其进行抛光处理；
在排液时：
注液管73滴流的抛光液会进入集液框82，且集液框82会通过分流管85输送，并且由上方的多组微孔向下持续滴流，以辅助其完成抛光作业；
由于传动柱63的顶端开设有锥形槽，而连接盘83的底部中间安装有锥形块，锥形槽和锥形块相适配，在被推动向下移动时会使锥形块插至锥形槽的内部，在锥形块向下插入时此时的电机61为不工作状态，因此在持续向下插入时会使锥形块的外壁推动锥形槽内壁迫使传动柱63转动，直至完成适配性的插入作业即可，此方式无需后续的二次调节，直接向下推动插入即可完成适配作业，当传动柱63转动时会带动连接盘83以及上磨盘84一同进行转动，从而达到双面抛光工作。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (10)
1.一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：包括箱体(1)、收集机构(2)、吸附机构(3)、安装框(4)、防护机构(5)、驱动机构(6)、调节机构(7)、顶磨机构(8)和下磨盘(9)以及加热机构(10)，所述箱体(1)内腔的下方设置有对废液集液输送的收集机构(2)，所述箱体(1)内腔底部的一端设置有对废液双级过滤的吸附机构(3)，所述安装框(4)贯穿安装于箱体(1)顶部的一端，所述防护机构(5)设置于安装框(4)的上方，所述驱动机构(6)设置于安装框(4)的下方，所述调节机构(7)设置于箱体(1)的顶部，所述顶磨机构(8)设置于调节机构(7)底部的一端，所述下磨盘(9)设置于驱动机构(6)的内部，所述箱体(1)顶部的另一端设置有对循环使用抛光液预热的加热机构(10)。
2.根据权利要求1所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述收集机构(2)包括收集斗(21)、连接管(22)、压力筒(23)、第一电动推杆(24)、活塞(25)、滤芯(26)、泵机(27)、软管(28)和排液管(29)；
所述收集斗(21)栓接于安装框(4)的底端，所述连接管(22)分别连通于收集斗(21)内腔的底部，所述压力筒(23)连通于连接管(22)的排液端，所述第一电动推杆(24)安装于压力筒(23)的顶端，所述活塞(25)栓接于第一电动推杆(24)的输出端，所述活塞(25)位于压力筒(23)内腔的上部，所述泵机(27)栓接于箱体(1)内腔的底部，所述软管(28)连通于泵机(27)的排液端，所述泵机(27)的进液端通过管道与滤芯(26)的底端法兰连接，所述滤芯(26)法兰连通于压力筒(23)的底端，所述排液管(29)连通于软管(28)的排液端。
3.根据权利要求2所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述吸附机构(3)包括存液箱(31)、放置板(32)、凹槽(33)、凸块(34)、过滤膜(35)和过滤网(36)；
所述存液箱(31)放置于箱体(1)内腔底部的一端，所述放置板(32)安装于存液箱(31)内腔的上部，所述凹槽(33)分别开设于放置板(32)顶部的四周，所述凸块(34)插于凹槽(33)的内部，所述过滤膜(35)栓接于凸块(34)的顶端，所述过滤网(36)栓接于过滤膜(35)的顶部，所述排液管(29)位于存液箱(31)内腔的上方；
所述加热机构(10)包括加热盒(101)、加热管(102)、可控硅温度控制器(103)、出液软管(104)和输送管(105)，所述加热盒(101)安装于箱体(1)顶部的另一端，所述加热管(102)安装于加热盒(101)内腔的中部，所述加热管(102)位于加热盒(101)内的输送管(105)外侧，所述可控硅温度控制器(103)贯穿安装于加热盒(101)一侧的上部，所述输送管(105)通过水泵连通于存液箱(31)内腔一侧的下部，所述出液软管(104)连通于输送管(105)的排液端。
4.根据权利要求1所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述防护机构(5)包括滑槽(51)、滑块(52)和挡圈(53)，所述滑槽(51)分别开设于安装框(4)内壁的两侧，所述滑块(52)滑动连接于滑槽(51)的内部，所述挡圈(53)安装于滑块(52)的内侧。
5.根据权利要求1所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述驱动机构(6)包括电机(61)、第一齿轮(62)、传动柱(63)、第二齿轮(64)、第一齿圈(65)和第二齿圈(66)；
所述电机(61)栓接于箱体(1)内腔底部的另一端，所述第一齿轮(62)键连接于电机(61)的输出轴，所述第二齿轮(64)啮合于第一齿轮(62)的一侧，所述传动柱(63)贯穿安装于第二齿轮(64)的内壁，所述传动柱(63)与箱体(1)内腔的底部转动连接，所述传动柱(63)的顶端开设有锥形槽；所述第一齿圈(65)焊接于传动柱(63)表面的上部，所述第二齿圈(66)安装于安装框(4)内腔的底部，所述下磨盘(9)栓接于第二齿圈(66)内腔的底部。
6.根据权利要求3所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述调节机构(7)包括支撑组件和推拉组件，所述支撑组件设置于箱体(1)的顶部，所述推拉组件设置于箱体(1)的顶部。
7.根据权利要求6所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述支撑组件包括支柱(71)、横板(72)、注液管(73)和第二电动推杆(74)，所述支柱(71)转动连接于箱体(1)的顶部，所述横板(72)安装于支柱(71)的顶端，所述第二电动推杆(74)安装于横板(72)顶部一端，所述注液管(73)贯穿安装于横板(72)顶部一端，所述注液管(73)位于第二电动推杆(74)的一侧，所述注液管(73)与出液软管(104)相连通。
8.根据权利要求7所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述推拉组件包括第三电动推杆(75)、连接块(76)、连接板(77)和连接槽(78)，所述连接板(77)焊接于支柱(71)表面的上部，所述连接槽(78)开设于连接板(77)的顶部，所述连接块(76)滑动连接于连接槽(78)的内部，所述第三电动推杆(75)的输出端与连接块(76)的顶部转动连接，所述第三电动推杆(75)栓接于箱体(1)顶部的另一端；所述箱体(1)背面的端部安装有限位板，所述限位板位于连接板(77)的背面。
9.根据权利要求7所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述顶磨机构(8)包括磨料组件和送液组件，所述磨料组件设置于第二电动推杆(74)的输出端，所述送液组件设置于磨料组件的外侧。
10.根据权利要求9所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述磨料组件包括连接杆(81)、连接盘(83)和上磨盘(84)，所述连接杆(81)栓接于第二电动推杆(74)的输出端，所述连接盘(83)转动连接于连接杆(81)的底端，所述上磨盘(84)栓接于连接盘(83)的底端；所述连接盘(83)的底部中间端安装有锥形块；
所述送液组件包括集液框(82)和分流管(85)，所述集液框(82)焊接于连接杆(81)表面的上部，所述分流管(85)的进液端连通于集液框(82)内腔的底部，所述分流管(85)的排液端连通至连接盘(83)的底部。
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Denomination of invention: A double-sided wafer polishing machine that can efficiently filter polishing solution Granted publication date: 20240712 Pledgee: China Everbright Bank Co.,Ltd. Jingzhou Branch Pledgor: Hubei Wufang crystal Co.,Ltd. Registration number: Y2024980041012 |