CN204819182U - 一种用于铜铝复合排的抛磨装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种用于铜铝复合排的抛磨装置，包括机架和电气控制机构，机架上设有多个送进机构，前端的送进机构之间设有侧面抛磨机构，后端的送进机构之间设有平面抛磨机构，送进机构、侧面抛磨机构、平面抛磨机构之间设有水循环机构。本实用新型在抛磨过程中，采用密闭箱体噪音很小，抛磨下来的铜粉在密闭箱内被水管中喷出的水带走，不易产生粉尘污染，水流将铜粉带入五级过滤水槽中，过滤后的水可以循环使用，而沉淀在水槽中的铜粉方便回收；可根据工件的不同加工要求，使用不同的加工及其组合，可对工件进行单工序侧面抛磨或平面抛磨，也可同时进行侧面抛磨和平面抛磨，工作效率高，操作方便，加工成本低，产品合格率高，便于大批量、连续化生产。

Description

一种用于铜铝复合排的抛磨装置

技术领域

本实用新型属于金属材料表面处理领域，具体地说涉及一种用于铜铝复合排的抛磨装置。

背景技术

目前，在实践生产中，对金属型材、棒材的使用规范中要求金属材料表面光洁、平整、无毛刺，但是一般型材、棒材的加工工艺均为轧制及拉拔，加工后会有轧制痕或拉拔痕，这样需要进行打磨和抛光处理后方可使用。目前生产用于金属材料表面处理的装置主要沿用铝板使用的抛磨机，主要存在以下问题：1）噪音较大；2）其抛磨方式大多为干抛，抛磨过程中产生很多粉尘，尤其是铜粉飞扬在车间中，污染环境，危害工人的身体健康；3）每次抛磨仅能加工一个侧面或平面，属于单工序单面加工，需要多次反复操作才能完成工件的表面处理，抛磨效率低，不适应大批量、连续生产。

实用新型内容

本实用新型为了解决上述现有的问题，而提供了一种用于铜铝复合排的抛磨装置。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种用于铜铝复合排的抛磨装置，包括机架和电气控制机构，机架上设有多个送进机构，前端的送进机构之间设有侧面抛磨机构，后端的送进机构之间设有平面抛磨机构，送进机构、侧面抛磨机构、平面抛磨机构之间设有水循环机构；

优选的，所述的送进机构包括设置在机架上的支架Ⅰ和限位装置，支架Ⅰ上设有压辊Ⅰ和托辊Ⅰ，压辊Ⅰ可在支架Ⅰ上滑动，压辊Ⅰ、托辊Ⅰ分别与上万向轴和下万向轴相连，上万向轴、下万向轴均与齿轮箱相连，齿轮箱通过联轴器Ⅰ与减速电机Ⅰ相连，限位装置与手轮Ⅰ相连；

优选的，所述的侧面抛磨机构包括安装在机架上的密闭箱Ⅰ，密闭箱Ⅰ上安有控制器Ⅰ，密闭箱Ⅰ内的支架Ⅱ上安有定位轮，定位轮与手轮Ⅲ相连，支架Ⅱ两端各安有压辊Ⅱ、托辊Ⅱ和压辊Ⅲ、托辊Ⅲ，支架Ⅱ上方设有千叶轮，千叶轮一端与螺旋齿轮换向器相连，另一端与密闭箱Ⅰ外的气缸相连，螺旋齿轮换向器通过联轴器Ⅱ与电机Ⅰ相连，千叶轮与手轮Ⅱ相连；

优选的，所述的平面抛磨机构包括安装在机架上的密闭箱Ⅱ，密闭箱Ⅱ上安有控制器Ⅱ和手轮Ⅳ，手轮Ⅳ与减速电机Ⅱ相连，密闭箱Ⅱ内的支架Ⅲ上安有压辊Ⅳ、压辊Ⅴ、托辊Ⅳ、托辊Ⅴ、托辊Ⅵ和从动辊，从动辊与主动辊通过砂带相连，主动辊通过密闭箱Ⅱ外的联轴器Ⅲ与电机Ⅱ相连；

优选的，所述的水循环机构包括与密闭箱Ⅰ、密闭箱Ⅱ底部的出水管相连的过滤水槽，过滤水槽与水泵连接，水泵与主水管相连，主水管上的进水管与密闭箱Ⅰ、密闭箱Ⅱ相连；

优选的，所述的电气控制机构包括电器控制柜、安装在密闭箱Ⅱ上的控制面板，控制面板包括总控制开关、水泵启动开关、水泵停止开关、气缸启动开关、气缸停止开关、送进启动开关、送进停止开关、平面抛磨机构启动开关、平面抛磨机构停止开关、侧面抛磨机构启动开关、侧面抛磨机构停止开关；

优选的，所述的送进机构包含一组及以上的子送进机构；

优选的，所述的侧面抛磨机构包含一组及以上的子侧面抛磨机构；

优选的，所述的平面抛磨机构包含一组及以上的子平面抛磨机构；

优选的，所述的过滤水槽为五级过滤水槽。

本实用新型的有益效果是：

1、在抛磨过程中，采用密闭箱体噪音很小，抛磨下来的铜粉在密闭箱内被水管中喷出的水带走，不易产生粉尘污染，保护工人的身体健康，同时水流将铜粉带入五级过滤水槽中，过滤后的水可以循环使用，而沉淀在水槽中的铜粉方便回收；

2、具有多功能性，可根据工件的不同加工要求，使用不同的加工及其组合，可对工件进行单工序侧面抛磨或平面抛磨，也可同时进行侧面抛磨和平面抛磨，降低不必要的能耗，工作效率高，操作方便，加工成本低，产品合格率高，便于大批量、连续化生产。

附图说明

图1是本实用新型的俯视结构示意图；

图2是本实用新型的子送进机构俯视结构示意图；

图3是本实用新型的子侧面抛磨机构俯视结构示意图；

图4是本实用新型的子平面抛磨机构主视结构示意图；

图5为本实用新型图4的A-A向剖面示意图；

图6为本实用新型图5的B-B向剖面示意图；

图7是本实用新型的电气控制机构的控制面板结构示意图。

零件说明：1、机架，2、送进机构，201、减速电机Ⅰ，202、联轴器Ⅰ，203、齿轮箱，204、上万向轴，205、限位装置，206、压辊Ⅰ，207、手轮Ⅰ，208、升降气缸，209、支架Ⅰ，3、侧面抛磨机构，301、电机Ⅰ，302、联轴器Ⅱ，303、螺旋齿轮换向器，304、千叶轮，305、手轮Ⅱ，306、气缸，307、支架Ⅱ，308、定位轮，309、手轮Ⅲ，310、压辊Ⅱ，311、压辊Ⅲ，312、控制器Ⅰ，313、密闭箱Ⅰ，4、平面抛磨机构，401、电机Ⅱ，402、联轴器Ⅲ，403、主动辊，404、支架Ⅲ，405、压辊Ⅳ，406、压辊Ⅴ，407、托辊Ⅳ，408、托辊Ⅴ，409、托辊Ⅵ，410、从动辊，411、砂带，412、密闭箱Ⅱ，413、手轮Ⅳ，414、减速电机Ⅱ，415、控制器Ⅱ，5、水循环机构，501、水泵，502、主水管，503、过滤水槽，6、电器控制机构，601、控制面板，602、总控制开关，603、水泵启动开关，604、水泵停止开关，605、气缸启动开关，606、气缸停止开关，607、送进启动开关，608、送进停止开关，609、平面抛磨机构启动开关，610、平面抛磨机构停止开关，611、侧面抛磨机构启动开关，612、侧面抛磨机构启动开关。

具体实施方式

为了更好地理解与实施，下面结合附图对本实用新型作进一步描述：如图1和图7所示，一种用于铜铝复合排的抛磨装置，包括机架1和电气控制机构6，机架1上设有7组送进机构2，前端3组送进机构2之间均设有2组侧面抛磨机构3，后端4组送进机构2之间均设有1组平面抛磨机构4，送进机构2、侧面抛磨机构3、平面抛磨机构4之间设有水循环机构5。

如图2所示，送进机构2由7组子送进机构组成，除前端第一组子送进机构外，每组子送进机构的结构完全相同，包括设置在机架1上的支架Ⅰ209和限位装置205，支架Ⅰ209上设有压辊Ⅰ206和托辊Ⅰ，压辊Ⅰ206可在Ⅰ209上滑动，压辊Ⅰ206、托辊Ⅰ分别与上万向轴204和下万向轴相连，上万向轴204、下万向轴均与齿轮箱203相连，齿轮箱203通过联轴器Ⅰ202与减速电机Ⅰ201相连，限位装置205与手轮Ⅰ207相连；其中，第一组子送进机构（如图1所示）处在本抛磨装置的最前端，其机构与其他子送进机构相比，增加两个齿轮、两个万向轴、一个压辊、一个托辊和两个升降气缸，所增加部件的主要目的是为增加工件的传动力。

送进机构2的工作过程是这样实现的：减速电机Ⅰ201带动联轴器Ⅰ202旋转，联轴器Ⅰ202带动齿轮箱203中的齿轮旋转，齿轮带动上万向轴204和下万向轴旋转，上万向轴204带动压辊Ⅰ206旋转，下万向轴带动下托辊Ⅰ旋转，从而使工件实现送进运动。压辊Ⅰ206和托辊Ⅰ使用橡胶制造，托辊Ⅰ固定到支架Ⅰ209上，压辊Ⅰ206可在支架Ⅰ209上滑动，由升降气缸208控制，利用升降气缸208控制压辊Ⅰ206，成本低，使用方便。限位装置205可以通过手轮Ⅰ207对其通道宽度进行调节，使其满足不同宽度工件的加工要求，同时能够使工件保持在同一传送主轴上。

如图3所示，侧面抛磨机构3由4组子侧面抛磨机构组成，每个子侧面抛磨机构的结构完全相同，包括安装在机架1上的密闭箱Ⅰ313，密闭箱Ⅰ313上安有控制器Ⅰ312，密闭箱Ⅰ313内的支架Ⅱ307上安有定位轮308，定位轮308与手轮Ⅲ309相连，支架Ⅱ307两端各安有压辊Ⅱ310、托辊Ⅱ和压辊Ⅲ311、托辊Ⅲ，支架Ⅱ307上方设有千叶轮304，千叶轮304一端与螺旋齿轮换向器303相连，另一端与密闭箱Ⅰ313外的气缸306相连，螺旋齿轮换向器303通过联轴器Ⅱ302与电机Ⅰ301相连，千叶轮304与手轮Ⅱ305相连。

侧面抛磨机构3的工作过程是这样实现的：工件传动进入密闭箱Ⅰ313内，通过压辊Ⅱ310和托辊Ⅱ，与千叶轮304和定位轮308接触，从而实现工件的抛磨，再通过压辊Ⅲ311和托辊Ⅲ传动出密闭箱Ⅰ313。压辊Ⅱ310、托辊Ⅱ和压辊Ⅲ311、托辊Ⅲ均使用橡胶制造，托辊Ⅱ和托辊Ⅲ固定在支架Ⅱ307上，压辊Ⅱ310和压辊Ⅲ311与弹簧装置连接，可通过弹簧装置上方的螺母对其进行上下调节，调节好后通过螺母将其固定，压辊Ⅱ310、托辊Ⅱ和压辊Ⅲ311、托辊Ⅲ起到支撑、稳定工件的作用，以保证加工工件的精度。定位轮308可通过手轮Ⅲ309调节其前后位置，调节好后将其固定。千叶轮304既可以由手轮Ⅱ305调节其前后位置，也可以通过气缸306调节其前后位置。根据工件的宽度，调节千叶轮304和定位轮308之间的距离，以此来决定工件的抛磨量，千叶轮304和定位轮308之间的距离数值和电流数值显示在控制器Ⅰ312的显示屏上。密闭箱Ⅰ313固定在机架1上，密闭箱Ⅰ313的正面设置有活动窗口，采用玻璃制造，可以从外面看到密闭箱Ⅰ313内部的运作情况，最主要的作用是可以防止抛磨过程中的铜粉飞扬，保护车间环境。

如图4、图5、图6所示，本实用新型的平面抛磨机构4由4组子平面抛磨机构组成，包括安装在机架1上的密闭箱Ⅱ412，密闭箱Ⅱ412上安有控制器Ⅱ415和手轮Ⅳ413，手轮Ⅳ413与减速电机Ⅱ414相连，密闭箱Ⅱ412内的支架Ⅲ404上安有压辊Ⅳ405、压辊Ⅴ406、托辊Ⅳ407、托辊Ⅴ408、托辊Ⅵ409和从动辊410，从动辊410与主动辊403通过砂带411相连，主动辊403通过密闭箱Ⅱ412外的联轴器Ⅲ402与电机Ⅱ401相连；

平面抛磨机构4的工作过程是这样实现的：工件传动进入密闭箱Ⅱ412内，通过压辊Ⅳ405和托辊Ⅴ408，与砂带411和托辊Ⅳ407接触，从而实现工件的抛磨，通过压辊Ⅴ406和托辊Ⅵ409传动出密闭箱Ⅱ412。压辊Ⅳ405、压辊Ⅴ406、托辊Ⅳ407、托辊Ⅴ408、托辊Ⅵ409均使用橡胶制造，主动辊403外面包裹一层厚厚的胶皮，防止砂带411滑落，从动辊410采用铝合金制造，方便安装。托辊Ⅳ407、托辊Ⅴ408、托辊Ⅵ409均固定在支架Ⅲ404上，压辊Ⅳ405和压辊Ⅴ406与弹簧装置连接，可通过弹簧装置上方的螺母对其进行上下调节，调节好后通过螺母将其固定，压辊Ⅳ405、托辊Ⅴ408和压辊Ⅴ406、托辊Ⅵ409起到支撑、稳定工件的作用，以保证加工工件的精度。主动辊403与减速电机Ⅱ414连接，可在支架404上滑动，由连接减速电机Ⅱ414的手轮Ⅳ413控制，从动辊410可上下滑动由控制器Ⅱ415控制。安装砂带411时通过控制器Ⅱ415将从动辊410滑到最下面，安装好砂带411后，通过控制器Ⅱ415将从动辊410滑到最上面。根据工件的厚度，可以通过手轮Ⅳ413调节主动辊403上下滑动，进而调整砂带411与托辊Ⅳ407之间的距离，以此来决定工件的抛磨量，主动辊403与托辊Ⅳ407之间的距离数值和电流数值显示在控制器Ⅱ415的显示屏上。密闭箱Ⅱ412固定在机架1上，密闭箱Ⅱ412的正面设置有活动窗口，采用玻璃制造，可以从外面看到密闭箱Ⅱ412内部的运作情况，最主要的作用是可以防止抛磨过程中的铜粉飞扬，保护车间环境。

如图1所示：本实用新型的水循环机构5包括与4个密闭箱Ⅰ313、4个密闭箱Ⅱ412底部的出水管相连的6组五级过滤水槽503，第六组过滤水槽503与水泵501连接，水泵501与主水管502相连，主水管502上设有多个进水管，与8个密闭箱Ⅰ313、4个密闭箱Ⅱ412相连。

本实用新型的水循环机构5的工作过程是这样实现的：连通主水管502的进水管通过密闭箱Ⅰ313、密闭箱Ⅱ412，其喷头可调节喷水角度，将其对准千叶轮304或砂带411与工件接触位置的前端，抛磨过程中通水进行冷却，出水管从密闭箱Ⅰ313、密闭箱Ⅱ412的底部通过，接入五级过滤水槽503的第一级，喷头喷出的水将铜粉等灰尘通过出水管带入五级过滤水槽503的第一级，通过五级过滤水槽503依次过滤进入到第五级，每个五级过滤水槽503的第五级用水管连通，将五级过滤水槽503的第五级与水泵501用水管连接起来，水泵501的另一端连接主水管502，通过水泵501将五级过滤水槽503第五级过滤后的水抽入到主水管502中，主水管502中水流入到各进水管中，进水管中的水从喷头喷出对工件进行冷却，如此循环。此循环过程中，实现了水循环利用，保证了工件在抛磨时的冷却，同时将抛磨下的铜粉等灰尘带入到五级过滤水槽503中，不仅防止其污染车间环境，保护工人的身体健康，而且方便铜粉的回收利用。

如图7所示：本实用新型的电器控制机构6由电器控制柜、安装在密闭箱Ⅱ412上的控制面板601组成；控制面板601由总控制开关602、水泵启动开关603、水泵停止开关604、气缸启动开关605、气缸停止开关606、送进启动开关607、送进停止开关608、平面抛磨机构启动开关609、平面抛磨机构停止开关610、侧面抛磨机构启动开关611、侧面抛磨机构停止开关612组成。

本实用新型可根据工件的不同加工要求，选用不同数量的子侧面抛磨机构和子平面抛磨机构，由控制面板601进行控制，其他未被选用的抛磨机构处于待机状态，即节省了能耗又实现了高效工作的目的。

本实用新型的工作原理：电器控制柜的总电源开关开启后，按下送进启动开关607启动送进机构（如图2）的减速电机Ⅰ201，减速电机Ⅰ201带动联轴器Ⅰ202旋转，联轴器Ⅰ202带动齿轮箱203中的齿轮旋转，齿轮带动上万向轴204和下万向轴旋转，上万向轴204带动压辊Ⅰ206旋转，下万向轴带动下托辊Ⅰ旋转，从而使工件实现送进运动，升降气缸208可以控制压辊Ⅰ206的高度，满足不同厚度工件的加工要求；按下侧面抛磨机构启动开关611启动侧面抛磨机构（如图3）的电机Ⅰ301，电机Ⅰ301带动联轴器Ⅱ302旋转，联轴器Ⅱ302带动螺旋齿轮换向器303中的齿轮旋转，齿轮带动轴承旋转，轴承带动千叶轮304旋转，从而使工件进行侧面抛磨，根据控制器Ⅰ312显示屏上显示的数值，可以通过手轮Ⅱ305对千叶轮304进行前后位置的调节，实现所需要的工件的抛磨量；按下平面抛磨机构启动开关609启动平面抛磨机构（如图4）的电机Ⅱ401，电机Ⅱ401带动联轴器Ⅲ402旋转，联轴器Ⅲ402带动主动辊403旋转，主动辊403带动从动辊410和砂带411旋转，从而使工件进行平面抛磨，根据控制器Ⅱ415显示屏上显示的数值，可以通过手轮Ⅳ413对主动辊403进行上下位置的调节，实现所需要的工件的抛磨量；按下水泵启动开关603启动水循环机构（如图1）的水泵501，水泵501将五级过滤水槽503第五级中的水抽入主水管502中，主水管502中的水流入进水管中，进水管中的水通过喷头喷到砂带411或千叶轮304与工件接触的位置前端，流下来的水进入密闭箱Ⅰ313、密闭箱Ⅱ412底部的出水管中，出水管中的水流入五级过滤水槽503的第一级，第一级中的水依次过滤流入到第五级，第五级中的水再被水泵501抽入主水管502中，如此实现水循环。以上所述仅为本实用新型的一种实施方式。

本实用新型的抛磨装置在抛磨过程中，噪音很小，抛磨下来的铜粉在密闭箱内被进水管中喷出的水带入出水管，流入五级过滤水槽中，不易产生粉尘污染，保护工人的身体健康，同时五级过滤水槽过滤后的水可以循环使用，而沉淀在五级过滤水槽中的铜粉方便回收利用；可根据工件的不同加工要求，使用不同的加工及其组合，可对工件进行单工序侧面抛磨或平面抛磨，也可同时进行侧面抛磨和平面抛磨，降低不必要的能耗，工作效率高，操作方便，加工成本低，产品合格率高，便于大批量、连续化生产。

Claims (10)

1.一种用于铜铝复合排的抛磨装置，包括机架（1）和电气控制机构（6），其特征在于机架（1）上设有多个送进机构（2），前端的送进机构（2）之间设有侧面抛磨机构（3），后端的送进机构（2）之间设有平面抛磨机构（4），送进机构（2）、侧面抛磨机构（3）、平面抛磨机构（4）之间设有水循环机构（5）。

2.如权利要求1所述的一种用于铜铝复合排的抛磨装置，其特征在于所述的送进机构（2）包括设置在机架（1）上的支架Ⅰ（209）和限位装置（205），支架Ⅰ（209）上设有压辊Ⅰ（206）和托辊Ⅰ，压辊Ⅰ（206）可在支架Ⅰ（209）上滑动，压辊Ⅰ（206）、托辊Ⅰ分别与上万向轴（204）和下万向轴相连，上万向轴（204）、下万向轴均与齿轮箱（203）相连，齿轮箱（203）通过联轴器Ⅰ（202）与减速电机Ⅰ（201）相连，限位装置（205）与手轮Ⅰ（207）相连。

3.如权利要求1所述的一种用于铜铝复合排的抛磨装置，其特征在于所述的侧面抛磨机构（3）包括安装在机架（1）上的密闭箱Ⅰ（313），密闭箱Ⅰ（313）上安有控制器Ⅰ（312），密闭箱Ⅰ（313）内的支架Ⅱ（307）上安有定位轮（308），定位轮（308）与手轮Ⅲ（309）相连，支架Ⅱ（307）两端各安有压辊Ⅱ（310）、托辊Ⅱ和压辊Ⅲ（311）、托辊Ⅲ，支架Ⅱ（307）上方设有千叶轮（304），千叶轮（304）一端与螺旋齿轮换向器（303）相连，另一端与密闭箱Ⅰ（313）外的气缸（306）相连，螺旋齿轮换向器（303）通过联轴器Ⅱ（302）与电机Ⅰ（301）相连，千叶轮（304）与手轮Ⅱ（305）相连。

4.如权利要求1所述的一种用于铜铝复合排的抛磨装置，其特征在于所述的平面抛磨机构（4）包括安装在机架（1）上的密闭箱Ⅱ（412），密闭箱Ⅱ（412）上安有控制器Ⅱ（415）和手轮Ⅳ（413），手轮Ⅳ（413）与减速电机Ⅱ（414）相连，密闭箱Ⅱ（412）内的支架Ⅲ（404）上安有压辊Ⅳ（405）、压辊Ⅴ（406）、托辊Ⅳ（407）、托辊Ⅴ（408）、托辊Ⅵ（409）和从动辊（410），从动辊（410）与主动辊（403）通过砂带（411）相连，主动辊（403）通过密闭箱Ⅱ（412）外的联轴器Ⅲ（402）与电机Ⅱ（401）相连。

5.如权利要求1所述的一种用于铜铝复合排的抛磨装置，其特征在于所述的水循环机构（5）包括与密闭箱Ⅰ（313）、密闭箱Ⅱ（412）底部的出水管相连的过滤水槽（503），过滤水槽（503）与水泵（501）连接，水泵（501）与主水管（502）相连，主水管（502）上的进水管与密闭箱Ⅰ（313）、密闭箱Ⅱ（412）相连。

6.如权利要求1所述的一种用于铜铝复合排的抛磨装置，其特征在于所述的电气控制机构（6）包括电器控制柜、安装在密闭箱Ⅱ（412）上的控制面板（601），控制面板（601）包括总控制开关（602）、水泵启动开关（603）、水泵停止开关（604）、气缸启动开关（605）、气缸停止开关（606）、送进启动开关（607）、送进停止开关（608）、平面抛磨机构启动开关（609）、平面抛磨机构停止开关（610）、侧面抛磨机构启动开关（611）、侧面抛磨机构停止开关（612）。

7.如权利要求1或2所述的一种用于铜铝复合排的抛磨装置，其特征在于所述的送进机构（2）包含一组及以上的子送进机构。

8.如权利要求1或3所述的一种用于铜铝复合排的抛磨装置，其特征在于所述的侧面抛磨机构（3）包含一组及以上的子侧面抛磨机构。

9.如权利要求1或4所述的一种用于铜铝复合排的抛磨装置，其特征在于所述的平面抛磨机构（4）包含一组及以上的子平面抛磨机构。

10.如权利要求5所述的一种用于铜铝复合排的抛磨装置，其特征在于所述的过滤水槽（503）为五级过滤水槽。