CN117206607A - 一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质 - Google Patents

一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质 Download PDF

Info

Publication number
CN117206607A
CN117206607A CN202311282264.6A CN202311282264A CN117206607A CN 117206607 A CN117206607 A CN 117206607A CN 202311282264 A CN202311282264 A CN 202311282264A CN 117206607 A CN117206607 A CN 117206607A
Authority
CN
China
Prior art keywords
position point
electrode
actual position
correction value
calculating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202311282264.6A
Other languages
English (en)
Inventor
成亚飞
袁进
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Moldbao Technology Co ltd
Original Assignee
Shenzhen Moldbao Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Moldbao Technology Co ltd filed Critical Shenzhen Moldbao Technology Co ltd
Priority to CN202311282264.6A priority Critical patent/CN117206607A/zh
Publication of CN117206607A publication Critical patent/CN117206607A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

本申请属于电极放电加工的技术领域,提供了一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质,所述提高电极加工精度的方法,包括:根据电极齿指定面的法向量确定探针路径,并基于所述探针路径获取所述电极齿在所述指定面上的至少一个实际位置点;根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值,所述理论位置点与所述实际位置点一一对应;利用所述补正值修正电极加工参数,以执行预设加工任务,所述放电位置参数包括所述实际位置点。所述操作装置包括获取模块、补正模块和执行模块。本申请通过指定方向上计算实际位置点和理论位置点的距离差得到补正值,提高了电极加工的精度。

Description

一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质
技术领域
本申请属于电极放电加工的技术领域,尤其涉及一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质。
背景技术
一般地,电极放电加工中,电极齿位置的极小偏差可能对加工精度产生明显的负面影响,因此需要将修正后的电极齿位置作为加工的输入参数。
一个直接的思路是通过电极基准台进行电极整体的位置修正。若电极基准台上只存在一个电极齿,那么采用这种方式可能会提高电极齿电极加工的精度,但对于更常见的电极基准台上具有多个电极齿的情况而言,各电极齿的误差并不完全一致,整体位置修正方式也是无法解决电极齿不规则的偏移而导致的加工误差的问题。
另外,在电极加工完成后,需要修改其摇摆间隙,现有的摇摆间隙计算的方式为不管什么方向直接算均值,使得精度较低、误差较大。
因此,如何提供以一种提高电极加工精度的方法,以解决电极齿的位置偏移而导致的生产精度下降的问题以及电极加工完成后摇摆间隙的问题,是本领域中一直需要攻克的大问题。
发明内容
本申请实施例提供了一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质,可以解决电极齿的实际加工位置点误差大的技术问题。
第一方面,本申请实施例提供了一种提高电极加工精度的方法,包括:根据电极齿指定面的法向量确定探针路径,并基于所述探针路径获取所述电极齿在所述指定面上的至少一个实际位置点;根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值,所述理论位置点与所述实际位置点一一对应;利用所述补正值修正电极加工参数,以执行预设加工任务,所述电极加工参数包括所述实际位置点。
本实现方式通过探针路径获取电极齿的实际位置点,得到特定电极齿由于可能存在的误差,例如电极齿的制造误差、电极齿的磨损误差等,导致的位置偏移,并在此基础上通过理论位置点与实际位置点在指定方向上的距离差得到在该指定方向上的补正值,以从需要补正的方向上,即指定方向上,考虑理论位置和实际位置的偏差,使得补正动作在方向上更具针对性,适应于不同方向上电极齿的位置误差对加工任务精度影响不同的情况,能够更好地实现加工任务的精度提升。
在第一方面的一种可能的实现方式中,所述根据电极齿指定面的法向量确定探针路径的步骤包括:以路径约束构建所述探针路径,所述路径约束是指所述探针路径的起点至所述探针路径的终点的方向与所述法向量的方向平行且相反。
通过本实现方式限制第一方向和法向量的位置关系,也即当探针路径与法向量之间的夹角为0时,探针获取到的实际位置点的精度更高,从而最终的测试结果也更为准确,能进一步提高电极加工的精度。
在第一方面的一种可能的实现方式中,所述指定方向至少包括第一方向和第二方向;所述根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值的步骤包括:确定所述法向量与所述第一方向平行,则根据所述实际位置点和所述理论位置点在所述第一方向上的距离差计算得到所述第一方向上的补正值,过滤所述实际位置点和所述理论位置点在所述第二方向上的距离差。
通过本实现方式限制第一方向与法向量的位置关系,来间接限定指定面是直面时,如何计算补正值的方法。
在第一方面的一种可能的实现方式中,所述指定面包括指定面集合,所述指定面集合是指法向量与所述第一方向平行的指定面;所述根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差,计算得到所述指定方向上的补正值的步骤包括:根据所述指定面集合上的所述实际位置点和所述理论位置点在所述第一方向上的距离差的平均值,计算得到所述第一方向上的补正值,过滤所述实际位置点和所述理论位置点在所述第二方向上的距离差。
通过本实现方式计算两个相对设置的平行面来计算补正值,可以进一步提高对电极齿补正位置的精度。
在第一方面的一种可能的实现方式中,所述指定方向包括相互正交的第一方向和第二方向,将所述法向量记为(M,N),M为所述法向量在所述第一方向上的投影长度,N为所述法向量在所述第二方向上的投影长度,令Max为M和N中的最大值;所述根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值步骤包括:根据所述实际位置点和所述理论位置点在Max方向上的距离差计算得到所述Max方向上的补正值,过滤其他方向上所述实际位置点和所述理论位置点的距离差;其中,所述Max方向是指M和N中的最大值所代表的所述投影长度的指向。
通过本实现方式判断实际位置点和理论位置点之间的距离在哪个方向的投影更大,就采用该方向上的投影计算补正值,以解决电极齿为斜面的情况下的位置补正问题,从而在斜面时,也可以对电极齿的位置进行补正,提高了本方法的适用范围。
在第一方面的一种可能的实现方式中,所述电极加工参数为电极齿的放电位置;利用所述补正值修正所述电极齿的放点位置参数,以执行基于所述电极齿的预设加工任务。
在第一方面的一种可能的实现方式中,所述电极加工参数为放电加工位置;利用所述补正值计算所述电极齿的摇动间隙,将所述摇动间隙输出到放电程序中,以执行电极加工任务。
在第一方面的一种可能的实现方式中,所述指定方向包括两两正交的第一方向、第二方向以及第三方向,将所述法向量记为坐标形式的(I,J,K),I为所述法向量在所述第一方向上的投影长度,J为所述法向量在所述第二方向上的投影长度,K为所述法向量在所述第三方向上的投影长度,令Max为I、J以及K中的最大值;所述根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值步骤包括:根据所述实际位置点和所述理论位置点在所述Max方向上的距离差计算得到所述Max方向上的补正值,过滤其他方向上的所述实际位置点和所述理论位置点的距离差;其中,所述Max方向是指I、J以及K中最大值所代表的所述投影长度的指向。
通过本实现方式引入第三方向,解决在三维空间内电极齿的位置补正问题,也即电极齿的指定面在第一方向和第二方向、第二方向和第三方向以及第一方向和第三方向上均有投影时的如何计算电极齿的位置补正问题,进一步提高了本方法的适用范围。
在第一方面的一种可能的实现方式中,将第二指定面集合上的实际位置点的Max方向以第一方向、第二方向和第三方向进行归类;分别计算各类中各所述实际位置点与所述理论位置点的在Max方向上距离差;分别计算各类中总距离差的均值。
通过本实现方式解决多个指定面为斜面时,通过分类再计算均值的方式计算电极齿位置的补正值,以提高其位置进度,继而提高电极加工的精度。
第二方面,本申请实施例提供了一种提高电极加工精度的方法的操作装置,包括:获取模块,用于根据电极齿指定面的法向量确定探针路径,并基于所述探针路径获取所述电极齿在所述指定面上的至少一个实际位置点;补正模块,用于根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值,所述理论位置点与所述实际位置点一一对应;执行模块,用于利用所述补正值修正所述电极齿的放电位置参数,以执行基于所述电极齿的预设加工任务,所述放电位置参数包括所述实际位置点。
第三方面,本申请实施例提供了一种终端设备,包括:包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序,所述处理器执行所述计算机程序时实现上述任意一个所述的方法。
第四方面,本申请实施例提供了一种计算机可读存储介质,包括:所述计算机可读存储介质存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现上述任意一项实施例中的所述的方法。
可以理解的是,上述第二方面至第四方面的有益效果可以参见上述第一方面中的相关描述,在此不再赘述。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请提供的整体结构示意图;
图2是本申请提供的一个实施例的示意图;
图3是本申请提供的另一个实施例的示意图;
图4是本申请提供的再一个实施例的示意图;
图5是本申请提供的还一个实施例的示意图。
其中,附图标记为:
100-电极基准台;200-电极齿。
具体实施方式
以下描述中,为了说明而不是为了限定,提出了诸如特定系统结构、技术之类的具体细节,以便透彻理解本申请实施例。然而,本领域的技术人员应当清楚,在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本申请。在其它情况中,省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明,以免不必要的细节妨碍本申请的描述。
应当理解,当在本申请说明书和所附权利要求书中使用时,术语“包括”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在,但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
还应当理解,在本申请说明书和所附权利要求书中使用的术语“和/或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以及所有可能组合,并且包括这些组合。
另外,在本申请说明书和所附权利要求书的描述中,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本申请说明书中描述的参考“一个实施例”或“一些实施例”等意味着在本申请的一个或多个实施例中包括结合该实施例描述的特定特征、结构或特点。由此,在本说明书中的不同之处出现的语句“在一个实施例中”、“在一些实施例中”、“在其他一些实施例中”、“在另外一些实施例中”等不是必然都参考相同的实施例,而是意味着“一个或多个但不是所有的实施例”,除非是以其他方式另外特别强调。术语“包括”、“包含”、“具有”及它们的变形都意味着“包括但不限于”,除非是以其他方式另外特别强调。
参照图1,一般可行的电极放电加工中,先通过分中碰数或者单边碰数确定电极基准台100的中心点作为加工跑位的依据,例如,对电极基准台100进行分中碰数:电极基准台100具有相对设置的第一侧面和第二侧面(假设第一侧面和第二侧面是相对于Y轴平行的),通过探针先碰第一侧面,探头的重点将中心坐标归零,再用探头碰第二侧面,并记录下X轴方向的坐标,将得到的X轴方向的坐标除以2得到中心位置点在X轴方向的坐标,以此类推,分别计算得到电极基准台100的中心位置点。但是在接插件类型电极中,一个电极基准台100上存在多个跑位(也即电极齿200),如果只用一个电极基准台100的中心作为跑位依据,不同的电极齿200之间采用电极设计图纸所给的在第一方向X和第二方向Y(也即一般坐标系中的X轴和Y轴)上的距离移动是不精准的,若偏移距离不精准,则影响电极齿200的加工误差,导致加工精度降低。为了降低偏移误差,提高加工精度,本申请提供的方法可以补正电极齿200位置,以修正电极齿200的加工位置点。
另外,在行业中,在电极加工完成后的结果往往不一致,例如:实际检测结果有-0.046和-0.022,当前行业对于模具精度要求普遍都比较高(精度在0.01以内),以这个电极的结果很难达到精度要求,如使用传统的方式需要对这个电极返修,实际检测结果在0.01的公差范围内才可以给电火花加工使用。为了降低偏移误差,提高加工精度,本申请提供了一种提高电极加工精度的方法,以修正电极齿200的加工位置点。
本方法应用的第一个应用场景为:将得到的补正值对应补正到电极齿的加工位置上。
本方法应用的第二个应用场景为:将原先结果进行分解,由原来全局Rgap,分解后第一方向上的Xgap和第二方向上的Ygap,并把分解后的结果在放电加工中输出正确的参数。例如:原来计算腰摇摆隙值时采用所有电极齿的点的全局平均值Rgap,采用本申请提供的方法后,将摇摆间隙值分解后第一方向上的Xgap和第二方向上的Ygap后,提高放电加工精度、减少返修的概率。
本申请的一个实施例中,提供了一种提高电极加工精度的方法,包括:根据电极齿200指定面的法向量确定探针路径,并基于探针路径获取电极齿200在指定面上的至少一个实际位置点;根据实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到指定方向上的补正值,理论位置点与实际位置点一一对应;利用补正值修正电极加工参数,以执行加工任务。
电极齿200是指设置于电极基准台100上的多个被加工对象,电极齿200的形状可以是长方体,可以是正方体,也可以是多边形棱柱,也可以是圆柱等等,在此不做具体的限定。
法向量是指垂直于指定面,且指向方向为自指定面的面上一点值向朝外。
探针是指设置于电极基准台100的上方(上方是指相对于电极基准台100高度方向)并用于对电极齿200放电加工的部件。探针一般为柱形部件,通过探针获取电极齿200的指定面上的实际位置点并对电极齿200进行电极加工的部件。
指定面是指电极齿200上当前待加工的面。这里的指定面可以是直面,可以是斜面,也可以是曲面,在此不做任何限定。
实际位置点是指通过探针实际在电极齿200的指定面上获取到的位置点,一般在指定面上获取的实际位置点可以是一个,也可以是多个,通常可采用多个实际位置点来进行计算,因为采用的实际位置点的数量越多,最后电极齿200的位置补正后的精度度越高,进而加工的精度越高。
理论位置点是通过软件获取得到,且每一个理论位置点均与在实际操作中的一个实际位置点相对应。理论位置点是从已经设置好的系统软件中获取到的点,由于实际的电极齿200位置与理论的电极齿200位置存在偏差,故而获取到的理论位置点和实际位置点不一定完全一致,可通过本实施例中方法解决实际位置点和理论位置点的实际偏差问题,从而精确电极齿200的加工位置。
探针路径是指探针行走路径,可以是平行于法向量,也可以与法向量呈角度相交,在此不做限定,只要满足探针沿着探针路径在电极齿200的指定面上获取到实际位置点即可。需要说明的是,探针路径与法向量之间的夹角大小会影响最终获取实际位置点的精度,夹角越小,获取的实际位置点的误差越小。
指定方向是指,指定面可投影的方向,可以是一个方向,也可以是多个方向,在此不做具体的限定。在本实施例中,指定方向以一个方向为例,做示例说明。
补正值是指相对于实际位置点需要修正的数值,通过将补正值补正到实际位置点上,可提高电极齿200的位置精度。例如,在一个指定方向上,获取一个电极齿200的一个指定面上的一个实际位置点,补正值就是实际位置点与理论位置点在上述一个指定方向上的距离差。
本实施例中,通过沿法向量取实际位置点,使得取点的精度更高,具有两种应用场景:
其一,应用于提高电极齿位置补正上,具体为:确定电极齿200上的当前定位的加工面(即为指定面),并找出指定面的法向量,再通过上述法向量来确定探针路径,探针沿着探针路径在电极齿200的指定面上获取一个实际位置点,根据实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到指定方向上的补正值。
其二,应用于基于放电加工位置补正上,具体为:电极加工完成后,获取电极齿200的理论位置点,将李文位置点输出至检测程序后,并对实物电极进行检测,检测完成后输出电极齿200的实际位置点,其中实际位置点的获取途径是沿着电极齿200当前定位的加工面(即为指定面)的法向量,根据实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到指定方向上的补正值,在本应用中,上述补正值为摇摆值。
需要说明的是,若电极齿200在电极基准台100上的位置不考虑一个方向(例如Z轴)上的偏移,需要考虑其他两个方向(例如X轴和Y轴)的偏移,那么在使用本实施例中的方法时,至少要通过两个指定面,并在两个指定面上分别获取实际位置点,通过两个指定面上获取的实际位置点,来计算电极齿200的两个方向(例如X轴和Y轴)的偏移,从而进行位置补正。例如,若应用到第一种场景中,电极齿200为直角梯形,需要分别从两个指定面上获取直角梯形的实际位置点,来确认直角梯形分别在X轴和Y轴方向上的偏移,从而通过两个方向上的偏移来确认偏移后的电极齿200位置。若应用到第二种场景中,电极齿200为直角梯形,电极齿200的补正值(也即摇摆值)需要分别从电极齿200上获取的实际位置点,来确认摇摆时分别在X轴和Y轴方向上的摇摆间隙,从而通过两个方向上的摇摆来确认放电加工中的摇摆间隙,也即可以将现有技术中的总的摇摆间隙的均值替换为在不同方向上的摇摆间隙的均值,大大提高了放电加工的精度。
本实施例中提供的提高电极加工精度的方法,相对现有技术的有益效果是:通过在指定方向上计算实际位置点和理论位置点的距离差得到补正值,既提高了电极加工的精度,又忽略了其他无关紧要的方向上的数值,便于统计计算。
本申请提供的一个实施例中,根据电极齿200指定面的法向量确定探针路径的步骤包括:以路径约束构建探针路径,路径约束是指探针路径的起点至探针路径的终点的方向与法向量的方向平行且相反。
假设探针路径的起点为F点,探针路径的终点为F’点,探针路径的起点至探针路径的终点的方向与法向量的方向平行且相反,里面具有两重意思:
(1)探针路径的起点至探针路径的终点的方向与法向量的方向平行。也即路径约束使得探针路径与法向量的夹角为0,此时,探针获取到实际位置点的数据误差较小,可以提供获取到的实际位置点的精度,进一步降低获得到的数据误差,提高电极齿200电极加工的精度。
(2)探针路径的起点至探针路径的终点的方向与法向量的方向相反。法向量的方向是由F’点到F点的方向,故而探针路径的获取方向是电极齿200的指定面上的实际位置点是由F点到F’点的方向。
本申请提供的一个实施例中,指定方向至少包括第一方向X和第二方向Y,根据实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到指定方向上的补正值的步骤包括:确定法向量与第一方向X平行,则根据实际位置点和理论位置点在第一方向X上的距离差计算得到第一方向X上的补正值,过滤实际位置点和理论位置点在第二方向Y上的距离差。
指定面至少是平面,在平面上至少存在第一个方向X和第二方向Y,第一个方向和第二方向Y相交,两者之间的夹角可以是锐角,也可以是直角。
需要说明的是,在本实施例中,“过滤实际位置点和理论位置点在第二方向Y上的距离差”有两重含义:
其一,将第二方向Y上的实位置点和理论位置点的距离差忽略不予考虑;
其二,将第二方向Y上的实际位置点和理论位置点的距离差删除;
不管采用哪种方式,在本实施例中均只看与法向量相平行的方向上的实际位置点和理论位置点的距离差。
应当说明的是,在本实施例中,法向量与第一方向X平行,因为法向量垂直于指定面,则指定面是垂直于第一方向X,也即,该指定面相对于第一方向X而言为直面。
值得一提的是,在本实施例中只考虑了一个电极齿200中一个指定方向上的例子,而第一方向X仅为一个示例,若把第一方向X替换成第二方向Y或者其他任意一个指定方向计算方法和实现的理论均与本实施例中提供的方法相同或相似,不再一一赘述。
在本实施例中,通过限制第一方向X和法向量的位置关系,来间接限定指定面是直面时,计算补正值的方法。
为了更好的理解本实施例中的补正方法和计算方式,以下举例说明如何计算补正值。
例如,参照图2,第一个方向X和第二方向Y呈角度相交,且第一个方向X与法向量S相平行。在指定面上取点A,A为实际位置点,其对应的理论位置点为A’,计算实际位置点和理论位置点的距离差S1时,只计算在第一方向X上的距离差S1,忽略第二方向Y上的距离差,那么补正值等于在第一方向X上的距离差S1,即:
补正值=S1(第一方向X上)
获取的实际位置点A(1.8,1,1.4),其对应的理论位置点A’(2,1,1.5),那么:
S1=1.8-2=-0.2
补正值=-0.2
值得一提的是,第一方向X和第二方向Y可能不是正交的,上述实施例采用笛卡尔坐标系仅为了便于说明。
在第一种应用场景下计算补正值从而得到电极齿位置的补正值。
在第二种应用场景下计算补正值从而得到摇摆间隙,和上述应用于第一场景下的计算方式相同。得到补正值后,完成电极加工,通过将补正值划分到第一方向上形成Xgap,然后基于各方向做平均值计算各方向的摇摆间隙。
本申请的一个实施例中,指定面包括指定面集合,指定面集合是指法向量与第一方向X平行的指定面;根据实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差,计算得到指定方向上的补正值的步骤包括:根据指定面集合上的实际位置点和理论位置点在第一方向X上的距离差的平均值,计算得到第一方向X上的补正值,过滤实际位置点和理论位置点在第二方向Y上的距离差。
需要说明的是,指定面集合是指法向量与第一方向X平行的指定面,也即指定面集合包含了多个与第一方向X平行的指定面,而法向量垂直于指定面,故而指定面集合是指多个与第一方向X垂直的指定面,也即指定面集合中的所有指定面均为直面(指定面垂直于第一方向X)。因为指定面集合可以包括两个或两个以上的指定面,所以在计算补正值时,需要在指定面集合中的多个指定面上分别获取一个或多个实际位置点,并通过软件获取与上述实际位置点相对应的理论位置点,补正值为指定面集合中的各指定面上的实际位置点与理论位置点的距离差,在除以指定面集合中指定面的个数,得到距离差的平均值,也即补正值。
需要说明的是,在本实施例中仅仅列举出了第一方向X的例子,若把第一方向X替换成第二方向Y或者其他任意一个指定方向亦相同。
为了更为清楚的做解释说明,以下针对于该实施例方案做举例说明。
例如,参照图3,指定面集合包括两个指定面,且两个指定面均与第一方向X相垂直。在两个指定面中分别获取一个实际位置点,分别是B和C,该实际位置点分别对应的理论位置点为B’和C’,计算BB’之间在第一方向X上的距离差S3,计算CC’之间在第一方向X上的距离差S2,并分别过滤BB’和CC’分别在第二方向Y上的距离差值,那么补正值为:
R=(S2+S3)/2
获取的实际位置点B(1.8,1,1.4),其对应的理论位置点B’(2,1,1.5),那么:
S3=1.8-2=-0.2
获取的实际位置点C(0.1,0.4,0.8),其对应的理论位置点C’(0,0.5,0.8),那么:
S2=0.1-0=0.1
补正值=(S3+S2)/2=(0.1-0.2)/2=-0.05
在本实施例中,通过计算两个相对设置的平行面来计算补正值,可以进一步提高对电极齿200补正位置的精度。
在第一种应用场景下计算补正值从而得到电极齿位置的补正值。
在第二种应用场景下计算补正值从而得到摇摆间隙,和上述应用于第一场景下的计算方式相同。得到补正值后,完成电极加工,通过将补正值划分到第一方向上形成Xgap,然后基于各方向做平均值计算各方向的摇摆间隙。
本申请提供的一个实施例中,指定方向包括相互正交的第一方向X和第二方向Y,将法向量的记为(M,N),M为法向量在第一方向X上的投影长度,N为法向量在第二方向Y上的投影长度,令Max为M和N中的最大值;根据实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到指定方向上的补正值步骤包括:根据实际位置点和理论位置点在Max方向上的距离差计算得到Max方向上的补正值,过滤其他方向上实际位置点和理论位置点的距离差;其中,Max方向是指M和N中的最大值所代表的投影长度的指向。
第一方向X是指在一个坐标系中的X轴或Y轴或Z轴的指向方向,在此不做具体限定,为了便于说明,在本实施例中,第一方向X以X轴的指向方向为例,在具体实施例中做以展示。
第二方向Y是指在一个坐标系中的X轴或Y轴或Z轴的指向方向,且方向不同于第一方向X,在此不做具体限定,为了便于说明,在本实施例中,第二方向Y以Y轴的指向方向为例,在具体实施例中做以展示。
在本实施例中,分为两种情况,其一,指定面相对于第一方向X或第二方向Y来说,指定面为直面(该指定面垂直于第一方向X或第二方向Y);其二,指定面相对于于第一方向X或第二方向Y来说,指定面为斜面(该指定面相交于第一方向X或第二方向Y)。
确定为其一的情况,则该补正值的计算方法和上述实施例中一致,不赘述。
确定为其二的情况,则该补正值的计算方法如下:
先通过探针在指定面上取一点D,再通过软件获取D对应的理论位置点D’,此时因为是斜面,所以DD’在第一方向X或第二方向Y均会有分量,所以通过计算指定面的法向量(M,N)来计算补正值。
确定M>N时,则Max为M,那么补正值为DD’为在第一方向X上的投影长度。
确定M<N时,则Max为N,那么补正值为DD’为在第二方向Y上的投影长度。
确定M=N时,则Max为N/M,那么补正值为DD’为在第二方向Y/第一方向X上的投影长度,需要说明的是,虽然M=N时,Max可以是M,也可以是N,但是最后计算时,只计算其中对应的一个方向上的投影长度。
参照图4,获取的实际位置点D(0.9,0.4),其对应的理论位置点D’(1,0.5),通过计算得到指定面的法向量为(1,0),由于M>N,所以补正值为DD’在第一方向X上的投影长度,也即:
补正值=0.9-1=-0.1
在第一种应用场景下计算补正值从而得到电极齿位置的补正值。
在第二种应用场景下计算补正值从而得到摇摆间隙,和上述应用于第一场景下的计算方式相同。得到补正值后,完成电极加工,通过将补正值划分到第一方向上形成Xgap,然后基于各方向做平均值计算各方向的摇摆间隙。
在本实施例中,通过判断实际位置点和理论位置点之间的距离在哪个方向的投影更大,就采用该方向上的投影计算补正值,以解决电极齿200为斜面的情况下的位置补正问题,从而在斜面时,也可以对电极齿200的位置进行补正,提高了本方法的适用范围。
本申请提供的一个实施例中,指定方向包括两两正交的第一方向X、第二方向Y以及第三方向Z,将法向量记为坐标形式的(I,J,K),I为法向量在第一方向X上的投影长度,J为法向量在第二方向Y上的投影长度,K为法向量在第三方向Z上的投影长度,令Max为I、J以及K中的最大值;根据实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到指定方向上的补正值步骤包括:根据实际位置点和理论位置点在Max方向上的距离差计算得到Max方向上的补正值,过滤其他方向上的实际位置点和理论位置点的距离差;其中,Max方向是指I、J以及K中最大值所代表的投影长度的指向。
第一方向X是指在一个坐标系中的X轴或Y轴或Z轴的指向方向,在此不做具体限定,为了便于说明,在本实施例中,第一方向X以X轴的指向方向为例,在具体实施例中做以展示。
第二方向Y是指在一个坐标系中的X轴或Y轴或Z轴的指向方向,且方向不同于第一方向X,为了便于说明,在本实施例中,第二方向Y以Y轴的指向方向为例,在具体实施例中做以展示。
第三方向Z是指一个坐标系中的X轴或Y轴或Z轴的指向方向,且方向不同于第一方向X和第二方向Y,为了便于说明,在本实施例中,第三方向Z以Z轴的指向方向为例,在具体实施例中做以展示。
在本实施例中,分为两种情况:
其一,指定面相对于第一方向X、第二方向Y或第三方向Z来说,指定面为直面(该指定面垂直于第一方向X、第二方向Y或第三方向Z任意一个方向);
其二,指定面相对于第一方向X、第二方向Y或第三方向Z来说,指定面为曲面(该指定面相交于第一方向X、第二方向Y或第三方向Z)。
确定为其一的情况,则该补正值的计算方法和上述实施例中一致,不赘述。
确定为其二的情况,则该补正值的计算方法如下:
先通过探针在指定面上取一点E,再通过软件获取E对应的理论位置点E’,此时因为指定面是斜面,所以EE’在第一方向X、第二方向Y或第三方向Z上会有分量,所以通过计算指定面的法向量(I,J,K)来计算补正值。
确定I≥J且I>K,或I≥J且I≥K时,则Max为I,那么补正值为EE’在第一方向X上的投影长度。
确定J≥I且J≥K,或J≥I且J>K时,则Max为J,那么补正值为DD’在第二方向Y上的投影长度。
确定K≥I且K≥J,或K≥I且K>J时,则Max为K,那么补正值为DD’在第三方向Z上的投影长度。
确定I=J=K时,则Max为I/J/K,那么补正值为DD’在第一方向X/第二方向Y/第三方向Z上的投影长度,需要说明的是,虽然I=J=K时,Max可以是I,也可以是J,也可以是K,但是最后计算时,只计算其中对应的一个方向上的投影长度。
在本实施例中,仅适合应用于第一种应用场景下计算补正值从而得到电极齿位置的补正值。通过引入第三方向Z,解决在三维空间内电极齿200的位置补正问题,也即电极齿200的指定面在第一方向X和第二方向Y、第二方向Y和第三方向Z以及第一方向X和第三方向Z上均有投影时的如何计算电极齿200的位置补正问题,进一步提高了本方法的适用范围。
本申请提供的一个实施例中,根据实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到指定方向上的补正值步骤包括:将具有相同所述Max方向的指定面定义为同类指定面,并将所述同类指定面的Max方向记为类方向,计算所述同类指定面上所述实际位置点和所述理论位置点在所述类方向上的距离差均值,得到所述类方向上的补正值。
在本实施例中,电极齿200具有多个指定面,指定面是斜面,所以指定面在第一方向X、第二方向Y和第三方向Z上均存在投影,因此需要先计算每个指定面对应的法向量(I,J,K),并判断该指定面对应的Max和Max方向是哪个。因为存在多个指定面,因此采用上述方法将多个指定面的法向量求出来后,将对应的Max和Max方向进行分类。将Max方向为第一方向X的归为一类,将Max方向为第二方向Y的归为一类,将Max方向为第三方向Z的归为一类,对应计算各个方向上的距离差的和的均值。
为了更为清楚的做解释说明,以下针对于该实施例方案做举例说明。
例如,参照图5,电极齿200上具有两个指定面,并在两个指定面上分别获取实际位置点F和G,这两个实际位置点分别对应的理论位置点为F’和G’。
电极齿200的一个指定面中中取实际位置点F(0.9,0,0.8),其对应的理论位置点为F’(1,0,1),其对应的法向量(I,J,K)为由于Max为I,因此,在本实施例中Max方向为对应的第一方向X,实际位置点F(0.9,0,0.8)和F’(1,0,1)在第一方向X上的距离差S4为/>
电极齿200的另一个指定面中取实际位置点为G(-1.2,0.5,1),其对应的理论位置点为G’(-1,1,0.5),其对应的法向量(I,J,K)为由于Max为I,因此,在本实施例中Max方向为对应的第一方向X。实际位置点为G(-1.2,0.5,1)和理论位置点为G’(-1,1,0.5)在第一方向X上的距离差S5为-0.2。/>
补正值=(S3+S4)/2=(-1.2-(-1))/2=-0.1
因此,在本实施例中,仅需要在第一方向X上补正-0.1即可,第二方向Y和第三方向Z上不需要进行补正。
在本实施例中,仅适合应用于第一种应用场景下计算补正值从而得到电极齿位置的补正值。通过引入第一方向X、第二方向Y和第三方向Z,将Max方向可根据上述三个方向进行归类,归类后计算每个方向上的补正值。
本申请的一个实施例中,电极基准台100上设有多个电极齿200,需要单独对每个电极齿200一一进行位置补正,且每个电极齿200的位置补正方法与上述实施例的一致,不再一一赘述。
本申请提供的一个实施例中,对于一些场景而言需要考虑第一方向X、第二方向Y和第三方向Z上的补正。且需要保证,每个电极齿200的第一方向X、第二方向Y和第三方向Z上均存在X+,X-,Y+,Y-,Z+,Z-的直面、斜面或曲面。三次元模型检测点编程时,需在X+,X-,Y+,Y-,Z+,Z-方向每个面上进行打点,存储理论坐标系位置并且进行标记。三次元实物检测时提交实际检测打点坐标系位置数据进行存储,根据不同矢量方向的点进行分析计算,提取电极齿200的中心补正数值;计算电极基准与电极齿200基准的相对位置,输出相应XYZ补正值;将电极齿200的XY补正值写入到放电跑位程式;生成程式加工,补正因电极特征、电极加工精度造成的工件加工精度误差。
对于斜面而言,通过法向量(I,J,K)确定Max方向后,应当与Max方向一致的直面求和计算均值,以得到该Max方向上的补正值。例如,针对于图4,计算除了阴影面积之外的指定面,再计算垂直于第一方向XX的指定面时。首先,计算阴影面积的法向量(M,N),由于M>N,那么阴影面积的Max方向是第一方向X上计算,得到实际位置点与理论位置点的距离差为S5。其次,计算与第一方向X的指定面上实际位置点与理论位置点的距离差为S6,那么补正值为:
补正值=(S5+S6)/2
对于长方体或正方体电极齿200而言,也可以获取相对设置的两个面,记其中一个面的数据为0,对另一个面相对于上述的面求距离的方案,来计算电极齿200尺寸的偏差。
对于一些场景中,电极齿200存在曲面(奠基石不能所有面均为曲面,需要有定位的直面或斜面),此时,曲面上的点的计算,可以参考实际位置点的曲面法向量进行运算。
本申请实施例还提供了一种提高电极加工精度的方法的操作装置,操作装置包括获取模块、补正模块和执行模块,其中,获取模块用于根据电极齿200指定面的法向量确定探针路径,并基于探针路径获取电极齿200在指定面上的至少一个实际位置点;补正模块用于根据实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到指定方向上的补正值,理论位置点与实际位置点一一对应;执行模块用于利用补正值修正电极齿200的放电位置参数,以执行预设加工任务。
需要说明的是,上述装置/单元之间的信息交互、执行过程等内容,由于与本申请方法实施例基于同一构思,其具体功能及带来的技术效果,具体可参见方法实施例部分,此处不再赘述。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到,为了描述的方便和简洁,仅以上述各功能单元、模块的划分进行举例说明,实际应用中,可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能单元、模块完成,即将所述装置的内部结构划分成不同的功能单元或模块,以完成以上描述的全部或者部分功能。实施例中的各功能单元、模块可以集成在一个处理单元中,也可以是各个单元单独物理存在,也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中,上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现,也可以采用软件功能单元的形式实现。另外,各功能单元、模块的具体名称也只是为了便于相互区分,并不用于限制本申请的保护范围。上述系统中单元、模块的具体工作过程,可以参考前述方法实施例中的对应过程,在此不再赘述。
本申请实施例还提供了一种终端设备,包括存储器、处理器以及存储在存储器中并可在处理器上运行的计算机程序,处理器执行计算机程序时实现上述实施例中的方法。
本申请实施例还提供了一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现可实现上述各个方法实施例中的步骤。
所述集成的单元如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时,可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解,本申请实现上述实施例方法中的全部或部分流程,可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成,所述的计算机程序可存储于一计算机可读存储介质中,该计算机程序在被处理器执行时,可实现上述各个方法实施例的步骤。其中,所述计算机程序包括计算机程序代码,所述计算机程序代码可以为源代码形式、对象代码形式、可执行文件或某些中间形式等。所述计算机可读介质至少可以包括:能够将计算机程序代码携带到拍照装置/终端设备的任何实体或装置、记录介质、计算机存储器、只读存储器(ROM,Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM,RandomAccess Memory)、电载波信号、电信信号以及软件分发介质。例如U盘、移动硬盘、磁碟或者光盘等。在某些司法管辖区,根据立法和专利实践,计算机可读介质不可以是电载波信号和电信信号。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述或记载的部分,可以参见其它实施例的相关描述。
本领域普通技术人员可以意识到,结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤,能够以电子硬件、或者计算机软件和电子硬件的结合来实现。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行,取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能,但是这种实现不应认为超出本申请的范围。

Claims (12)

1.一种提高电极加工精度的方法,其特征在于,包括:
根据电极齿指定面的法向量确定探针路径,并基于所述探针路径获取所述电极齿在所述指定面上的至少一个实际位置点;
根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值,所述理论位置点与所述实际位置点一一对应;
利用所述补正值修正电极加工参数,以执行加工任务。
2.如权利要求1所述的提高电极加工精度的方法,其特征在于,所述根据电极齿指定面的法向量确定探针路径的步骤包括:
以路径约束构建所述探针路径,所述路径约束是指所述探针路径的起点至所述探针路径的终点的方向与所述法向量的方向平行且相反。
3.如权利要求1或2所述的提高电极加工精度的方法,其特征在于,所述指定方向至少包括第一方向和第二方向;
所述根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值的步骤包括:
确定所述法向量与所述第一方向平行,则根据所述实际位置点和所述理论位置点在所述第一方向上的距离差计算得到所述第一方向上的补正值,过滤所述实际位置点和所述理论位置点在所述第二方向上的距离差。
4.如权利要求3所述的提高电极加工精度的方法,其特征在于,所述指定面包括指定面集合,所述指定面集合是指法向量与所述第一方向平行的指定面;
所述根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差,计算得到所述指定方向上的补正值的步骤包括:
根据所述指定面集合上的所述实际位置点和所述理论位置点在所述第一方向上的距离差的平均值,计算得到所述第一方向上的补正值,过滤所述实际位置点和所述理论位置点在所述第二方向上的距离差。
5.如权利要求1或2所述的提高电极加工精度的方法,其特征在于,所述指定方向包括相互正交的第一方向和第二方向,将所述法向量记为(M,N),M为所述法向量在所述第一方向上的投影长度,N为所述法向量在所述第二方向上的投影长度,令Max为M和N中的最大值;
所述根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值步骤包括:
根据所述实际位置点和所述理论位置点在Max方向上的距离差计算得到所述Max方向上的补正值,过滤其他方向上所述实际位置点和所述理论位置点的距离差;
其中,所述Max方向是指M和N中的最大值所代表的所述投影长度的指向。
6.如权利要求5所述的提高电极加工精度的方法,其特征在于,所述电极加工参数为电极齿的放电位置;
利用所述补正值修正所述电极齿的放点位置参数,以执行基于所述电极齿的预设加工任务。
7.如权利要求5所述的提高电极加工精度的方法,其特征在于,所述电极加工参数为放电加工位置;
利用所述补正值计算所述电极齿的摇动间隙,将所述摇动间隙输出到放电程序中,以执行电极加工任务。
8.如权利要求6所述的提高电极加工精度的方法,其特征在于,所述指定方向包括两两正交的第一方向、第二方向以及第三方向,将所述法向量记为坐标形式的(I,J,K),I为所述法向量在所述第一方向上的投影长度,J为所述法向量在所述第二方向上的投影长度,K为所述法向量在所述第三方向上的投影长度,令Max为I、J以及K中的最大值;
所述根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值步骤包括:
根据所述实际位置点和所述理论位置点在所述Max方向上的距离差计算得到所述Max方向上的补正值,过滤其他方向上的所述实际位置点和所述理论位置点的距离差;
其中,所述Max方向是指I、J以及K中最大值所代表的所述投影长度的指向。
9.如权利要求7所述的提高电极加工精度的方法,其特征在于,所述根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值步骤包括:
将具有相同所述Max方向的指定面定义为同类指定面,并将所述同类指定面的Max方向记为类方向,计算所述同类指定面上所述实际位置点和所述理论位置点在所述类方向上的距离差均值,得到所述类方向上的补正值。
10.一种提高电极加工精度的方法的操作装置,其特征在于,包括:
获取模块,用于根据电极齿指定面的法向量确定探针路径,并基于所述探针路径获取所述电极齿在所述指定面上的至少一个实际位置点;
补正模块,用于根据所述实际位置点和理论位置点在指定方向上的距离差计算得到所述指定方向上的补正值,所述理论位置点与所述实际位置点一一对应;
执行模块,用于利用所述补正值修正电极加工参数,以执行加工任务。
11.一种终端设备,包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1至9任一项所述的方法。
12.一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至9任一项所述的方法。
CN202311282264.6A 2023-09-28 2023-09-28 一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质 Pending CN117206607A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311282264.6A CN117206607A (zh) 2023-09-28 2023-09-28 一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311282264.6A CN117206607A (zh) 2023-09-28 2023-09-28 一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN117206607A true CN117206607A (zh) 2023-12-12

Family

ID=89040538

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202311282264.6A Pending CN117206607A (zh) 2023-09-28 2023-09-28 一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN117206607A (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8249304B2 (en) System and method for measuring gaps between object parts
JP2002359266A (ja) 半導体集積回路の不良検出方法及び不良検出装置
JP2005538473A (ja) 座標点からの形状要素の計算における妨害信号の影響を最小とさせる方法
CN115993804B (zh) 一种基于数控机床的刀具参数调整方法及相关设备
CN115861351A (zh) 边缘检测方法、缺陷检测方法及检测装置
CN114241018A (zh) 一种牙齿点云配准方法、系统及可读存储介质
JP4230980B2 (ja) パターンマッチング方法およびプログラム
CN115033999A (zh) 涡轮盘斜榫槽轮廓尺寸扫描检测及三维评价方法及装置
CN114332237A (zh) 一种计算相机坐标系和激光器坐标系转换关系的方法
US20040131257A1 (en) Pattern measurement method, manufacturing method of semiconductor device, pattern measurement apparatus, and program
CN117206607A (zh) 一种提高电极加工精度的方法、装置、终端设备及介质
CN112536643B (zh) 机台健康监测方法、装置及计算机可读存储介质
CN110977064B (zh) 基于点云数据处理的成型电极损耗最优修整量实现方法
CN115597524A (zh) 一种孔轴垂直度误差测量方法、装置及设备
CN112355711B (zh) 一种基于cnc机床的工件加工方法及系统
JPH07262243A (ja) 形状データチェック方法
CN112017290B (zh) 一种圆锥面拟合方法、装置、计算机设备和存储介质
CN110310239B (zh) 一种基于特性值拟合消除光照影响的图像处理方法
JP2006269710A (ja) パターン評価方法および半導体装置の製造方法
CN114387232A (zh) 一种晶圆圆心定位、晶圆缺口定位及晶圆定位校准方法
CN112907079A (zh) 适用于3d打印的可识别性能评估方法、系统及存储介质
CN111397560B (zh) 获取方槽理论值的方法、装置、计算机设备及存储介质
CN116563419B (zh) 晶圆图配置数据的修正方法、装置、电子设备及存储介质
CN116503409B (zh) 一种焊缝缺陷3d点云检测方法、设备和介质
CN117961197B (zh) 一种无人化涡轮叶片微孔电加工单元的自适应纠偏方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination