CN117082930A - 显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及显示装置。显示面板的像素定义层设于驱动基板上,像素定义层凸出于驱动基板形成像素容纳区域。子像素设于像素容纳区域,子像素包括阳极、有机发光层和阴极,阳极设置于像素容纳区域内的驱动基板上,有机发光层设置于阳极之上,阴极设置在有机发光层之上。围挡结构设于像素定义层上,部分围挡结构嵌入像素定义层。公共阴极设于驱动基板和围挡结构之间,且公共阴极被像素定义层覆盖。辅助阴极设于围挡结构与公共阴极之间,沿像素定义层延伸并电连接阴极,使阴极与公共阴极电性桥接。通过辅助阴极桥接阴极与公共阴极,降低阴极的走线电阻,从而降低了显示面板的IR drop。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
与液晶显示器(英文名称Liquid Crystal Display,简称LCD)相比,使用有机发光二极管(英文名称Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)的显示器最近在显示器应用中获得了极大的关注,因为它们具有更快的响应时间、更大的视角、更高的对比度、更轻的重量、低功率以及易于形成在驱动基板上。但是现有的显示面板的结构中不能够有效传递阴极信号,使显示面板的压降(英文名称IR drop)较高,因此如何在现有显示面板的结构基础上降低显示面板的压降是亟待解决的问题。
发明内容
本申请的目的在于提供一种显示面板及显示装置。
本申请提供一种显示面板,包括驱动基板、像素定义层、子像素、围挡结构、公共阴极和辅助阴极,像素定义层设于所述驱动基板上,所述像素定义层凸出于所述驱动基板形成像素容纳区域;子像素设于所述像素容纳区域,所述子像素包括阳极、有机发光层和阴极,所述阳极设置于所述像素容纳区域内的驱动基板上,所述有机发光层设置于所述阳极之上,所述阴极设置在所述有机发光层之上;围挡结构设于所述像素定义层上;公共阴极设于所述驱动基板和所述围挡结构之间,且所述公共阴极被所述像素定义层覆盖;辅助阴极,设于所述围挡结构与所述公共阴极之间,沿所述像素定义层向对应的所述像素容纳区域延伸并电连接所述阴极,使所述阴极与所述公共阴极电性桥接。
在本申请的一种示例性实施例中,所述公共阴极与所述阳极之间被所述像素定义层间隔以实现电性绝缘。
在本申请的一种示例性实施例中,所述像素定义层背离所述驱动基板的一侧设有与所述公共阴极层连通的槽,部分所述围挡结构嵌入所述槽中,所述辅助阴极沿所述槽的槽壁延伸设置;所述槽的宽度从远离所述驱动基板的一侧向靠近所述驱动基板的一侧逐渐减小,部分所述围挡结构与所述槽相对应,以使部分所述围挡结构嵌入所述槽中。
在本申请的一种示例性实施例中,所述围挡结构包括遮挡部和连接部,所述遮挡部的宽度大于所述连接部的宽度,至少部分所述连接部嵌入所述槽中,所述遮挡部设于所述连接部远离所述槽的一侧。
在本申请的一种示例性实施例中,所述像素定义层凸出于所述驱动基板形成像素边框,四个依次连接的所述像素边框合围成所述像素容纳区域;所述辅助阴极设于所述像素边框上,所述围挡结构设于所述辅助阴极上,所述围挡结构和所述辅助阴极从所述像素边框的一端延伸至另一端。
在本申请的一种示例性实施例中,所述像素定义层凸出于所述驱动基板形成像素边框,四个依次连接的所述像素边框合围成所述像素容纳区域; 在第一方向上,所述辅助阴极从所述像素边框的一端延伸至另一端;在第二方向上,在部分所述像素边框上,所述辅助阴极从所述像素边框的两端向中间延伸且间隔设置,在另一部分所述像素边框上,所述辅助阴极从所述像素边框的一端延伸至另一端。
在本申请的一种示例性实施例中,在所述第二方向上,从所述像素边框的两端向中间延伸且间隔设置的所述辅助阴极与从所述像素边框的一端延伸至另一端的所述辅助阴极交错设置。
在本申请的一种示例性实施例中,所述像素定义层凸出于所述驱动基板形成像素边框,四个依次连接的所述像素边框合围成所述像素容纳区域; 在第一方向上,所述辅助阴极从沿第一方向上对应的两个所述像素边框的两端向中间延伸且间隔设置;在第二方向上,所述辅助阴极从沿第二方向上对应的两个所述像素边框的两端向中间延伸且间隔设置。
在本申请的一种示例性实施例中,所述辅助阴极设有间隔的孔,所述围挡结构包括导电结构,所述导电结构穿过所述孔连接所述公共阴极,所述辅助阴极和所述公共阴极通过所述导电结构进行电连接。
本申请还提供一种显示装置,包括上述的显示面板。
本申请方案的一种显示面板及显示装置,具有以下有益效果:显示面板包括驱动基板、像素定义层、子像素、围挡结构、公共阴极和辅助阴极,像素定义层设于驱动基板上,像素定义层凸出于驱动基板形成像素容纳区域。子像素设于像素容纳区域,子像素包括阳极、有机发光层和阴极,阳极设置于像素容纳区域内的驱动基板上,有机发光层设置于阳极之上,阴极设置在有机发光层之上。围挡结构设于像素定义层上,公共阴极设于驱动基板和围挡结构之间,且公共阴极被像素定义层覆盖。辅助阴极设于围挡结构与公共阴极之间,沿像素定义层向对应的像素容纳区域延伸并电连接阴极,使阴极与公共阴极电性桥接。通过辅助阴极设于围挡结构与公共阴极之间以桥接阴极与公共阴极,降低阴极的走线电阻,从而降低了显示面板的IR drop。
本申请的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本申请的实践而习得。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本申请。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本申请的实施例,并与说明书一起用于解释本申请的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1a是本发明实施例中一种显示面板的一种实施例的剖面示意图;
图1b是本发明实施例中一种显示面板的另一实施例的剖面示意图;
图2是本发明实施例中一种显示面板的俯视图;
图3是本发明实施例中一种显示面板的另一实施例的俯视图;
图4是图3中A-A处的剖面示意图;
图5是本发明实施例中一种显示面板的第一实施方式的俯视图;
图6是图5中B-B处的剖面示意图;
图7是本发明实施例中一种显示面板的第二实施方式的俯视图;
图8是图7中C-C处的剖面示意图;
图9是本发明实施例中一种显示面板的其他实施例的俯视图;
图10是图9中D-D处的剖面示意图;
图11是本发明实施例中一种显示面板的制作方法的流程示意图;
图12是本发明实施例中一种显示面板的第一结构示意图;
图13是本发明实施例中一种显示面板的第二结构示意图;
图14是本发明实施例中一种显示面板的第三结构示意图。
附图标记说明:
驱动基板100;像素定义层200;槽210;像素边框220;像素容纳区域230;子像素300;阳极310;有机发光层320;阴极330;围挡结构400;遮挡部410;连接部420;公共阴极500;辅助阴极600;孔610;模板层700。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而,示例实施方式能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的范例;相反,提供这些实施方式使得本申请将更加全面和完整,并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。
此外,所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本申请的实施例的充分理解。然而,本领域技术人员将意识到,可以实践本申请的技术方案而没有特定细节中的一个或更多,或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下,不详细示出或描述公知方法、装置、实现或者操作以避免模糊本申请的各方面。
下面结合附图和具体实施例对本申请作进一步详述。在此需要说明的是,下面所描述的本申请各个实施例中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。
需要说明的是:在本文中提及的“多个”是指两个或两个以上。“和/或”描述关联对象的关联关系,表示可以存在三种关系,例如,A和/或B可以表示:单独存在A,同时存在A和B,单独存在B这三种情况。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
与液晶显示器(简称LCD)相比,使用有机发光二极管(简称OLED)的显示器最近在显示器应用中获得了极大的关注,因为它们具有更快的响应时间、更大的视角、更高的对比度、更轻的重量、低功率以及易于形成在柔性基板上。然而,常规地,红色、绿色、蓝色子像素的形成要求多次精细金属掩膜(英文名称Fine Metal Mask,简称FMM)工艺。然而精细金属掩膜(简称FMM)工艺具有像素开口率低,蒸镀对位不准确的问题,由此业界开发出采用光刻工艺结合非精细金属掩膜的制程工艺。
当前在非精细金属掩膜工艺上主要是通过在驱动基板上形成具有蒸镀遮挡角度的围挡结构,在显示器应用中能够取消精细金属掩膜工艺,增大像素开口率,降低制造成本。但是现有的非精细金属掩膜工艺制造的显示面板中,还存在不能够有效传递阴极信号,使显示面板的压降(英文名称IR drop)较高的情况,因此如何在现有显示面板的结构基础上降低显示面板的压降是亟待解决的问题。
为了解决上述技术问题,参照图1a、1b和图2所示,本申请提供一种显示面板,包括驱动基板100、像素定义层200、子像素300、围挡结构400、公共阴极500和辅助阴极600,像素定义层200设于驱动基板100上,像素定义层200凸出于驱动基板100形成像素容纳区域230;子像素300设于像素容纳区域230,子像素300包括阳极310、有机发光层320和阴极330,阳极310设置于像素容纳区域230内的驱动基板100上,有机发光层320设置于阳极310之上,阴极330设置在有机发光层320之上;围挡结构400设于像素定义层200上;公共阴极500设于驱动基板100和围挡结构400之间,且公共阴极500被像素定义层200覆盖;辅助阴极600设于围挡结构400与公共阴极500之间,沿像素定义层200延伸并电连接阴极330,使阴极330与公共阴极500电性桥接。围挡结构400形成于相邻像素容纳区域230之间,能够减少显示面板的掩膜次数,进而降低显示面板的制造成本。通过辅助阴极600设于围挡结构400与公共阴极500之间以桥接阴极330与公共阴极500,降低阴极330的走线电阻,从而降低了显示面板的IRdrop。
在一些实施例中,像素定义层200(英文名称Pixel Define Layer,简称PDL)的材料可以为光敏聚酰亚胺(英文名称Photosensitive Polyimide Photoresist,简称PSPI)等,用于分隔子像素300。
在一些实施例中,子像素300的阴极330用于提供恒定负压,子像素300的阳极310独立分布在各个子像素300中,由外部的驱动电路控制各子像素300的阳极310电压,从而控制各个子像素300的有机发光层320进行发光。
在一些实施例中,在子像素300之间制作像素定义层200,对像素定义层200进行曝光显影,使像素定义层200在每个子像素300的阳极310的上方形成像素开口,并且像素定义层200部分覆盖子像素300的阳极310,在像素定义层200和阳极310上蒸镀有机发光材料形成有机发光层320,在有机发光层320上蒸镀阴极材料形成阴极330。
可选的,阳极310的材质可包括但不限于铝、银及其氧化物、氧化铟锡、氧化铟锌、金属与氧化铟锡的叠层或者金属与氧化铟锡的叠层。阴极330的材料可包括但不限于Al(铝)、Au(金)、Ag(银)、MgAg(铝镁合金)等金属材料。阳极310可通过蒸发镀膜或者溅射镀膜的方式沉积到子像素300中。
在一些实施例中,参照图1a、1b和图2所示,显示面板包括多个像素,用于发射不同颜色的光,多个像素发射光以显示图像。每个像素由红、绿、蓝三种颜色的子像素300叠加混合实现白色画面的显示,以及通过控制不同颜色子像素300的发光程度来显示不同的彩色画面。
在一些实施例中,参照图1a所示,公共阴极500被像素定义层200覆盖,阳极310的边缘被像素定义层200覆盖,公共阴极500与阳极310之间被像素定义层200间隔以实现电性绝缘,从而使公共阴极500和阳极310不会发生短路。
进一步的,参照图1a所示,像素定义层200背离驱动基板100的一侧设有与公共阴极500层连通的槽210,部分围挡结构400嵌入槽210中,辅助阴极600沿槽210的槽壁延伸设置;槽210的宽度从远离驱动基板100的一侧向靠近驱动基板100的一侧逐渐减小,部分围挡结构400与槽210相对应,以使连接部420嵌入槽210中。通过辅助阴极600沿槽210的槽壁延伸设置并在槽210的底部和公共阴极500连接,延伸的部分辅助阴极600与阴极330连接。可选的,辅助阴极600可延伸至槽壁外,以使辅助阴极600和阴极330具有更好的连接效果。将部分围挡结构400嵌入槽210中能够加强围挡结构400与像素定义层200的连接稳定性,将槽210设置成从远离驱动基板100的一侧向靠近驱动基板100的一侧逐渐增大的结构,以增加了围挡结构400在槽210中的体积,进一步加强了围挡结构400与槽210的连接稳定性。从而避免围挡结构400在后续工艺和使用过程中发生错位或者坍塌,影响显示面板的显示效果。
更进一步的,槽210的底部的宽度决定了辅助阴极600与阴极330的接触面积,为了实现更好连接效果,在工艺允许的情况下可以将槽210的底部的宽度开设的更大。
在另一实施例中,参照图1b所示,公共阴极500设于驱动基板100上并延伸至像素定义层200的上表面,辅助阴极600设于像素定义层200上与公共阴极500接触设置,且辅助阴极600向对应的像素容纳区域230中延伸并连接阴极330,围挡结构400设于辅助阴极600上,公共阴极500与阳极310之间被像素定义层200间隔以实现电性绝缘,从而使公共阴极500和阳极310不会发生短路。通过辅助阴极600设于围挡结构400与公共阴极500之间以桥接阴极330与公共阴极500,降低阴极330的走线电阻,从而降低了显示面板的IR drop。
在一些实施例中,参照图1a所示,围挡结构400包括遮挡部410和连接部420,遮挡部410的宽度大于连接部420的宽度,至少部分连接部420嵌入槽210中,遮挡部410设于连接部420远离槽210的一侧。像素定义层200的宽度大于遮挡部410的宽度,遮挡部410的宽度大于辅助电极的宽度。遮挡部410能够在子像素300进行蒸镀的过程中起到遮挡作用。有机发光层320在靠近遮挡结构的一侧具有成膜边界,遮挡部410在靠近子像素300的一侧具有遮挡边界,蒸镀设备的位置、遮挡边界、有机发光层320的成膜边界之间具有的角度为有机发光层320的遮挡角。阴极330在靠近遮挡结构的一侧具有成膜边界,遮挡部410在靠近子像素300的一侧具有遮挡边界,蒸镀设备的位置、遮挡边界、阴极330的成膜边界之间具有的角度为阴极330的遮挡角。在制备有机发光层320和阴极330膜层时,控制有机发光层320的遮挡角小于阴极330的蒸镀角,从而使阴极330的覆盖面积大于有机发光层320的覆盖面积,减小有机发光层320对阴极330与辅助阴极600的连接的影响。
在一些实施例中,参照图2所示,像素定义层200凸出于驱动基板100形成像素边框220,四个依次连接的像素边框220合围成像素容纳区域230。像素定义层200可以包括但不限于方形、圆形和三角形等。可选的,本申请中为方形。则像素边框220的数量为四个,通过四个像素边框220合围成像素容纳区域230。
在一些实施例中,参照图2所示,辅助阴极600设于像素边框220上,围挡结构400设于辅助阴极600上,围挡结构400和辅助阴极600从像素边框220的一端延伸至另一端围挡结构400对整个像素边框220起到遮挡作用,在像素边框220的连接处辅助阴极600相互连接以覆盖全部像素边框220,降低阴极330的走线电阻,能够最大程度的降低IR drop。
在另一实施例中,参照图3和图4所示,辅助阴极600可以根据显示面板的应用选择延伸的长度,其中一部分会从像素边框220的一端延伸至另一端,另一部分会从像素边框220的两端向中间延伸但不接触。具体有以下几种实施方式:
在第一实施方式中,参照图5和图6所示,在第一方向上,辅助阴极600从像素边框220的一端延伸至另一端。在第二方向上,在部分像素边框220上,辅助阴极600从像素边框220的两端向中间延伸且间隔设置,在另一部分像素边框220上,辅助阴极600从像素边框220的一端延伸至另一端。其中在辅助阴极600的间隔处能够使围挡结构400与像素定义层200接触,使围挡结构400与像素定义层200之间具有更好的膜层附着性。
进一步的,在第一方向上,辅助阴极600从像素边框220的一端延伸至另一端。在第二方向上,从像素边框220的两端向中间延伸且间隔设置的辅助阴极600与从像素边框220的一端延伸至另一端的辅助阴极600交错设置。由此,能够使相邻子像素300具有对应的结构,使工艺更加简单。
在第二实施方式中,参照图7和图8所示,在第一方向上,辅助阴极600从沿第一方向上对应的两个像素边框220的两端向中间延伸且间隔设置;在第二方向上,辅助阴极600从沿第二方向上对应的两个像素边框220的两端向中间延伸且间隔设置。在像素边框220的连接处,第一方向上的辅助阴极600与第二方向上的辅助阴极600连接,能够减少辅助阴极600的用量,降低成本。
在其他实施例中,参照图9和图10所示,在上述的多种辅助电极的结构中,能够在辅助阴极600上设置孔610,以能够在降低压降的同时,并进一步增加围挡结构400与像素定义层200之间的膜层附着性。
本申请还提供一种显示装置,包括上述的显示面板。通过设置辅助阴极600连接公共阴极500和阴极330从而降低IR drop。
参照图11至图14所示,本申请还提供一种显示面板的制作方法,包括:
S100、如图12所示,在驱动基板100上形成间隔设置的阳极310和公共阴极500。
S200、如图12所示,在驱动基板100上形成像素定义层200,像素定义层200覆盖阳极310的边缘和公共阴极500。
S300、如图12所示,在像素定义层200上设有上下连通的槽210。
S400、如图12所示,在槽210中形成辅助阴极600,辅助阴极600沿槽210的槽壁延伸设置,在槽210的底部辅助阴极600与公共阴极500相互连接。
S500、如图12所示,在阳极310和像素定义层200上形成模板层700,模板层700设有与槽210对应的开口。
S600、如图13所示,在槽210中形成围挡结构400,部分围挡结构400穿过开口嵌入槽210中,部分围挡结构400在模板层700上。
S700、如图14所示,去除模板层700。
其中,模板层700上的部分围挡结构400的宽度为遮挡部410,穿过开口嵌入槽210中的部分围挡结构400为连接部420,遮挡部410宽度大于连接部420的宽度。
由上,通过部分围挡结构400嵌入像素定义层200与像素定义层200起到连接作用,同时通过在槽210中形成辅助阴极600能够桥接阴极330与公共阴极500,降低阴极330的走线电阻,从而降低了显示面板的IR drop。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,术语“设置(设有)”、“连接”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本说明书的描述中,参考术语 “一些实施例”等的描述意指结合该实施例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本申请的限制,本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型,故但凡依本申请的权利要求和说明书所做的变化或修饰,皆应属于本申请专利涵盖的范围之内。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
驱动基板;
像素定义层,设于所述驱动基板上,所述像素定义层凸出于所述驱动基板形成像素容纳区域;
子像素,设于所述像素容纳区域,所述子像素包括阳极、有机发光层和阴极,所述阳极设置于所述像素容纳区域内的所述驱动基板上,所述有机发光层设置于所述阳极之上,所述阴极设置在所述有机发光层之上;
围挡结构,设于所述像素定义层上;
公共阴极,设于所述驱动基板和所述围挡结构之间,且所述公共阴极被所述像素定义层覆盖;
辅助阴极,设于所述围挡结构与所述公共阴极之间,沿所述像素定义层向对应的所述像素容纳区域延伸并电连接所述阴极,使所述阴极与所述公共阴极电性桥接。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述公共阴极与所述阳极之间被所述像素定义层间隔以实现电性绝缘。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述像素定义层背离所述驱动基板的一侧设有与所述公共阴极层连通的槽,部分所述围挡结构嵌入所述槽中,所述辅助阴极沿所述槽的槽壁延伸设置;
所述槽的宽度从远离所述驱动基板的一侧向靠近所述驱动基板的一侧逐渐减小,部分所述围挡结构与所述槽相对应,以使部分所述围挡结构嵌入所述槽中。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述围挡结构包括遮挡部和连接部,所述遮挡部的宽度大于所述连接部的宽度,至少部分所述连接部嵌入所述槽中,所述遮挡部设于所述连接部远离所述槽的一侧。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述像素定义层凸出于所述驱动基板形成像素边框,四个依次连接的所述像素边框合围成所述像素容纳区域;
所述辅助阴极设于所述像素边框上,所述围挡结构设于所述辅助阴极上,所述围挡结构和所述辅助阴极从所述像素边框的一端延伸至另一端。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述像素定义层凸出于所述驱动基板形成像素边框,四个依次连接的所述像素边框合围成所述像素容纳区域;
在第一方向上,所述辅助阴极从所述像素边框的一端延伸至另一端;
在第二方向上,在部分所述像素边框上,所述辅助阴极从所述像素边框的两端向中间延伸且间隔设置,在另一部分所述像素边框上,所述辅助阴极从所述像素边框的一端延伸至另一端。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,在所述第二方向上,从所述像素边框的两端向中间延伸且间隔设置的所述辅助阴极与从所述像素边框的一端延伸至另一端的所述辅助阴极交错设置。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述像素定义层凸出于所述驱动基板形成像素边框,四个依次连接的所述像素边框合围成所述像素容纳区域;
在第一方向上,所述辅助阴极从沿第一方向上对应的两个所述像素边框的两端向中间延伸且间隔设置;
在第二方向上,所述辅助阴极从沿第二方向上对应的两个所述像素边框的两端向中间延伸且间隔设置。
9.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述辅助阴极设有间隔的孔,所述围挡结构包括导电结构,所述导电结构穿过所述孔连接所述公共阴极,所述辅助阴极和所述公共阴极通过所述导电结构进行电连接。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至9任一项所述的显示面板。
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2023
- 2023-10-12 CN CN202311318992.8A patent/CN117082930A/zh active Pending
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