CN117075430B - 一种高压vdmos器件制备用自调节式原料曝光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明属于高压VDMOS器件制备领域，具体为一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，包括装置外壳，所述装置外壳的顶端安装固定有液压杆，所述液压杆的底端安装固定有激光器，所述激光器的底端固定连接有安装板，所述安装板上贯穿开设有通槽，所述安装板的底部安装有调节切换组件，所述安装板通过调节切换组件连接有掩模版本体，所述装置外壳的内部底端面上固定连接有固定框，所述固定框内安装有自适应调节定位组件，所述安装板的底端栓接固定有牵引绳，解决了现有的曝光装置在工作过程中，不能够对曝光设备上的掩膜版进行便捷稳定的调节切换工作，同时不能够对长时间使用后的掩膜版进行便捷稳定的拆卸清洗或更换的问题。

Description

一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置
技术领域
本发明涉及高压VDMOS器件制备领域，具体为一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置。
背景技术
功率VDMOS器件是一种电子开关，其开关状态受控于栅极电压，导通时由电子或空穴导电，其具有控制简单和开关快速的优点，因而被广泛应用于功率电子系统，主要包括开关电源和电机驱动等，击穿电压和比导通电阻为功率VDMOS的两个主要参数，其中随着功率器件的击穿电压的增大，其比导通电阻也急剧增加，对于高压VDMOS器件更加明显；
现有的高压VDMOS器件在生产制备时，利用碳化硅材料的优异的电学性能，对其进行VDMOS功率器件的制备，例如公开号为CN202110190174.9的一种高压VDMOS器件及其制备方法，其利用曝光装置对本征SiC衬底上的光刻胶进行曝光显影，方便后续刻蚀制备工作，但由于SiC衬底上的光刻胶的不同区域需要配合使用不同的掩膜版进行曝光显影，而现有的曝光装置在工作过程中，不能够对曝光设备上的掩膜版进行便捷稳定的调节切换工作，同时不能够对长时间使用后的掩膜版进行便捷稳定的拆卸清洗或更换，实用性较差；并且现有的曝光装置在工作过程中，不能够同时对多个SiC衬底进行自动稳定的自适应夹持定位工作，并且不能够对曝光显影后的SiC衬底进行便捷下料，进而不能够保证SiC衬底曝光显影工作和拿取下料的便捷和稳定，实用性和实用性较差，因此需要提供一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置来满足使用者的需求。
发明内容
鉴于现有高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置中存在的问题，提出了本发明。
为解决上述技术问题，根据本发明的一个方面，本发明提供了如下技术方案：一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，包括装置外壳，所述装置外壳的顶端安装固定有液压杆，所述液压杆的底端安装固定有激光器，所述激光器的底端固定连接有安装板，所述安装板上贯穿开设有通槽，所述安装板的底部安装有调节切换组件，所述安装板通过调节切换组件连接有掩模版本体，所述装置外壳的内部底端面上固定连接有固定框，所述固定框内安装有自适应调节定位组件，所述安装板的底端栓接固定有牵引绳，所述牵引绳限位滑动连接在导向轮上，所述导向轮安装在固定框上，所述牵引绳的另一端缠绕在固定线圈上，所述固定线圈上固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆的底端转动连接在装置外壳的内部底端面上，所述螺纹杆上螺纹连接有连接板，所述连接板的顶端面上固定连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端固定连接有托板，所述托板限位滑动连接在收纳槽内，所述支撑杆贯穿滑动连接在滑动槽内，所述螺纹杆的底部固定连接有涡卷弹簧，所述涡卷弹簧的外端固定连接在限位框内，所述限位框固定连接在装置外壳的内部底端面上。
作为本发明的一种优选方案，其中：所述液压杆的底端固定连接在激光器的顶部中心部位，所述激光器固定在安装板的顶部中心部位，所述通槽的中心轴线与激光器的中心轴线位于同一竖直中心线上，所述通槽的长度和宽度分别小于激光器的长度和宽度。
作为本发明的一种优选方案，其中：所述调节切换组件包括导轨，所述导轨固定连接在安装板的底端面上，所述导轨侧端固定连接有第一弹簧，所述第一弹簧的另一端固定连接有卡杆，所述卡杆贯穿滑动连接在导轨侧端，所述卡杆的端部卡合连接在卡槽内，所述卡槽开设在限位架的侧端，所述限位架内固定连接有第二弹簧，所述第二弹簧的另一端固定连接有挡板，所述挡板限位滑动连接在限位架内。
作为本发明的一种优选方案，其中：所述限位架侧端面与导轨的内壁相贴合，所述导轨的横截面呈“L”形，所述限位架的顶端面与安装板的底端面相贴合，所述限位架的内壁与掩模版本体的侧端面相贴合，所述掩模版本体的顶端面与安装板的底端面相贴合，所述导轨对称分布在限位架的两侧，所述导轨与卡杆一一对应，所述限位架的长度和宽度分别大于通槽的长度和宽度。
作为本发明的一种优选方案，其中：所述限位架等距分布在安装板的下方，相邻限位架之间固定连接，所述第二弹簧对称分布在限位架内部两侧，所述第二弹簧与挡板一一对应，所述挡板连接在限位架内部侧端的中间部位，所述限位架的端部横截面呈直角梯形。
作为本发明的一种优选方案，其中：所述自适应调节定位组件包括固定板，所述固定板固定连接在固定框内，所述固定板上开设有定位槽，所述收纳槽开设在固定板内，所述定位槽内部底端面上固定连接有橡胶气囊，所述定位槽等距分布在固定板上，所述定位槽分别与收纳槽和橡胶气囊一一对应，所述橡胶气囊呈圆环状，所述收纳槽的直径小于橡胶气囊的内径，所述收纳槽的中心轴线与定位槽的中心轴线位于同一竖直中心线上。
作为本发明的一种优选方案，其中：所述固定板内固定连接有固定筒，所述固定筒的内部底端固定连接有滤网板，所述滤网板的顶端面上固定连接有第三弹簧，所述第三弹簧的顶端固定连接有橡胶活塞，所述橡胶活塞和连接杆均限位滑动连接在固定筒内，所述橡胶活塞的顶端固定连接在连接杆的底端，所述连接杆的顶端固定连接有橡胶吸盘，所述固定筒等距分布在固定板上，所述固定筒的底部连接有中转框，所述固定筒的底端面、滤网板的底端面和中转框的内部顶端面平齐，所述中转框的长度和宽度分别与固定板的长度和宽度相等，所述中转框固定连接在固定板的底端面上。
作为本发明的一种优选方案，其中：所述中转框固定连接在固定框内，所述固定框的顶部连接有导气管，所述导气管的顶端连接在橡胶气囊的底端，所述滑动槽贯穿开设在中转框上，所述导气管对称分布在橡胶气囊的底端两侧，所述支撑杆的直径小于滑动槽的直径，所述托板的厚度与收纳槽的深度相等，所述支撑杆贯穿滑动连接在固定板内。
作为本发明的一种优选方案，其中：所述牵引绳对称分布在安装板的底端两侧，所述牵引绳通过导向轮与固定线圈一一对应，所述螺纹杆的长度大于支撑杆的长度，所述螺纹杆的顶端转动连接在中转框的底端面上。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、设置有调节切换组件，利用卡杆和卡槽的配合，能够对限位架进行便捷稳定的卡合固定和拆卸工作，进而能够保证各个限位架在导轨内移动切换工作的稳定和便捷，能够对不同的掩模版本体进行便捷稳定的切换使用，从而能够对高压VDMOS器件生产用本征SiC衬底的不同区的掺杂区进行便捷和稳定的曝光显影工作，有效提高了高压VDMOS器件后续制备工作的效率，并且利用第二弹簧和挡板的配合，能够对长时间使用后的掩模版本体进行便捷稳定的拆卸清理或更换，增加了装置的使用多样性和便捷性。
2、设置有自适应调节定位组件，在曝光过程中，利用液压杆能够推动掩模版本体向下稳定运动，直至与各个橡胶吸盘接触，此时在掩模版本体的继续运动作用下，能够稳定挤压推动连接杆，此时利用各个连接杆和相应橡胶吸盘的吸附固定，能够保证掩模版本体可以与固定板之间进行自动稳定的相对固定，进而能够有效避免装置工作过程中，装置发生震动导致掩模版本体工作过程中出现震动，影响后续曝光显影工作的准确，且在各个连接杆向下运动过程中，通过橡胶活塞能够将固定筒内的空气通过中转框和导气管稳定输送至各个橡胶气囊中，进而能够对各个橡胶气囊进行自动充气，此时在各个橡胶气囊的充气作用下，能够对各个定位槽中的本征SiC衬底进行自动稳定的挤压固定，同时能够将本征SiC衬底挤压固定在中间部位，能够保证本征SiC衬底后续曝光显影工作的稳定和准确，增加了装置的使用多样性和高效性。
3、设置有托板，本征SiC衬底曝光显影工作结束后，利用液压杆能够带动安装板向上运动至最顶端，此时在安装板的运动作用下，通过导向轮上的牵引绳能够带动固定线圈自动转动，进而能够带动螺纹杆自动转动，配合螺纹连接的连接板能够带动各个支撑杆上的托板同时向上运动，进而能够推动各个定位槽中的本征SiC衬底自动向上运动，完成脱离工作，从而能够保证工作人员后续拿取下料工作的高效和便捷，有效提高了装置的使用高效性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施方式的技术方案，下面将将结合附图和详细实施方式对本发明进行详细说明，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。其中：
图1是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置整体立体结构示意图；
图2是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置中转框立体结构示意图；
图3是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置涡卷弹簧立体结构示意图；
图4是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置整体主视结构示意图；
图5是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置图4中A处结构示意图；
图6是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置支撑杆结构示意图；
图7是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置托板结构示意图；
图8是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置橡胶吸盘俯视结构示意图；
图9是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置整体侧视结构示意图；
图10是本发明一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置限位架仰视结构示意图。
图中标号：1、装置外壳；2、液压杆；3、激光器；4、安装板；5、通槽；6、调节切换组件；601、导轨；602、第一弹簧；603、卡杆；604、卡槽；605、限位架；606、第二弹簧；607、挡板；7、掩模版本体；8、固定框；9、自适应调节定位组件；901、固定板；902、定位槽；903、橡胶气囊；904、固定筒；905、滤网板；906、第三弹簧；907、橡胶活塞；908、连接杆；909、橡胶吸盘；910、中转框；911、导气管；10、牵引绳；11、导向轮；12、固定线圈；13、螺纹杆；14、连接板；15、支撑杆；16、托板；17、收纳槽；18、滑动槽；19、涡卷弹簧；20、限位框。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施方式的限制。
其次，本发明结合示意图进行详细描述，在详述本发明实施方式时，为便于说明，表示器件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本发明保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。
实施例
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的实施方式作进一步地详细描述。
如图1-10所示，一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，包括装置外壳1，装置外壳1的顶端安装固定有液压杆2，液压杆2的底端安装固定有激光器3，激光器3的底端固定连接有安装板4，安装板4上贯穿开设有通槽5，安装板4的底部安装有调节切换组件6，安装板4通过调节切换组件6连接有掩模版本体7，装置外壳1的内部底端面上固定连接有固定框8，固定框8内安装有自适应调节定位组件9，安装板4的底端栓接固定有牵引绳10，牵引绳10限位滑动连接在导向轮11上，导向轮11安装在固定框8上，牵引绳10的另一端缠绕在固定线圈12上，固定线圈12上固定连接有螺纹杆13，螺纹杆13的底端转动连接在装置外壳1的内部底端面上，螺纹杆13上螺纹连接有连接板14，连接板14的顶端面上固定连接有支撑杆15，支撑杆15的顶端固定连接有托板16，托板16限位滑动连接在收纳槽17内，支撑杆15贯穿滑动连接在滑动槽18内，螺纹杆13的底部固定连接有涡卷弹簧19，涡卷弹簧19的外端固定连接在限位框20内，限位框20固定连接在装置外壳1的内部底端面上，利用设置有调节切换组件6能够对不同的掩模版本体7进行便捷稳定的切换使用，并且能够对长时间使用后的掩模版本体7进行便捷稳定的拆卸清理或更换，且在曝光过程中，利用液压杆2能够推动掩模版本体7向下稳定运动，进而能够自动驱动自适应调节定位组件9与掩模版本体7之间进行自动稳定的相对固定，进而能够有效避免装置工作过程中，装置发生震动导致掩模版本体7工作过程中出现震动，影响后续曝光显影工作的准确，并且自适应调节定位组件9能够同时对多个本征SiC衬底进行自动稳定的挤压固定，同时能够将本征SiC衬底挤压固定在中间部位，能够保证本征SiC衬底后续曝光显影工作的稳定和准确。
在本实例中，液压杆2的底端固定连接在激光器3的顶部中心部位，激光器3固定在安装板4的顶部中心部位，通槽5的中心轴线与激光器3的中心轴线位于同一竖直中心线上，通槽5的长度和宽度分别小于激光器3的长度和宽度，可以保证激光器3能够通过通槽5稳定照射掩模版本体7，进而能够保证后续曝光显影工作的稳定。
在本实例中，调节切换组件6包括导轨601，导轨601固定连接在安装板4的底端面上，导轨601侧端固定连接有第一弹簧602，第一弹簧602的另一端固定连接有卡杆603，卡杆603贯穿滑动连接在导轨601侧端，卡杆603的端部卡合连接在卡槽604内，卡槽604开设在限位架605的侧端，限位架605内固定连接有第二弹簧606，第二弹簧606的另一端固定连接有挡板607，挡板607限位滑动连接在限位架605内，限位架605侧端面与导轨601的内壁相贴合，导轨601的横截面呈“L”形，限位架605的顶端面与安装板4的底端面相贴合，限位架605的内壁与掩模版本体7的侧端面相贴合，掩模版本体7的顶端面与安装板4的底端面相贴合，导轨601对称分布在限位架605的两侧，导轨601与卡杆603一一对应，限位架605的长度和宽度分别大于通槽5的长度和宽度，利用卡杆603和卡槽604的配合，能够对限位架605进行便捷稳定的卡合固定和拆卸工作，进而能够保证各个限位架605在导轨601内移动切换工作的稳定和便捷，能够对不同的掩模版本体7进行便捷稳定的切换使用，从而能够对高压VDMOS器件生产用本征SiC衬底的不同区的掺杂区进行便捷和稳定的曝光显影工作，有效提高了高压VDMOS器件后续制备工作的效率。
在本实例中，限位架605等距分布在安装板4的下方，相邻限位架605之间固定连接，第二弹簧606对称分布在限位架605内部两侧，第二弹簧606与挡板607一一对应，挡板607连接在限位架605内部侧端的中间部位，限位架605的端部横截面呈直角梯形，利用第二弹簧606和挡板607的配合，能够对长时间使用后的掩模版本体7进行便捷稳定的拆卸清理或更换，增加了装置的使用多样性和便捷性。
在本实例中，自适应调节定位组件9包括固定板901，固定板901固定连接在固定框8内，固定板901上开设有定位槽902，收纳槽17开设在固定板901内，定位槽902内部底端面上固定连接有橡胶气囊903，定位槽902等距分布在固定板901上，定位槽902分别与收纳槽17和橡胶气囊903一一对应，橡胶气囊903呈圆环状，收纳槽17的直径小于橡胶气囊903的内径，收纳槽17的中心轴线与定位槽902的中心轴线位于同一竖直中心线上，中转框910固定连接在固定框8内，固定框8的顶部连接有导气管911，导气管911的顶端连接在橡胶气囊903的底端，滑动槽18贯穿开设在中转框910上，导气管911对称分布在橡胶气囊903的底端两侧，支撑杆15的直径小于滑动槽18的直径，托板16的厚度与收纳槽17的深度相等，支撑杆15贯穿滑动连接在固定板901内，在各个连接杆908向下运动过程中，通过橡胶活塞907能够将固定筒904内的空气通过中转框910和导气管911稳定输送至各个橡胶气囊903中，进而能够对各个橡胶气囊903进行自动充气，此时在各个橡胶气囊903的充气作用下，能够对各个定位槽902中的本征SiC衬底进行自动稳定的挤压固定，同时能够将本征SiC衬底挤压固定在中间部位，能够保证本征SiC衬底后续曝光显影工作的稳定和准确，增加了装置的使用多样性和高效性。
在本实例中，固定板901内固定连接有固定筒904，固定筒904的内部底端固定连接有滤网板905，滤网板905的顶端面上固定连接有第三弹簧906，第三弹簧906的顶端固定连接有橡胶活塞907，橡胶活塞907和连接杆908均限位滑动连接在固定筒904内，橡胶活塞907的顶端固定连接在连接杆908的底端，连接杆908的顶端固定连接有橡胶吸盘909，固定筒904等距分布在固定板901上，固定筒904的底部连接有中转框910，固定筒904的底端面、滤网板905的底端面和中转框910的内部顶端面平齐，中转框910的长度和宽度分别与固定板901的长度和宽度相等，中转框910固定连接在固定板901的底端面上，在曝光过程中，利用液压杆2能够推动掩模版本体7向下稳定运动，直至与各个橡胶吸盘909接触，此时在掩模版本体7的继续运动作用下，能够稳定挤压推动连接杆908，此时利用各个连接杆908和相应橡胶吸盘909的吸附固定，能够保证掩模版本体7可以与固定板901之间进行自动稳定的相对固定，进而能够有效避免装置工作过程中，装置发生震动导致掩模版本体7工作过程中出现震动，影响后续曝光显影工作的准确。
在本实例中，牵引绳10对称分布在安装板4的底端两侧，牵引绳10通过导向轮11与固定线圈12一一对应，螺纹杆13的长度大于支撑杆15的长度，螺纹杆13的顶端转动连接在中转框910的底端面上，本征SiC衬底曝光显影工作结束后，利用液压杆2能够带动安装板4向上运动至最顶端，此时在安装板4的运动作用下，通过导向轮11上的牵引绳10能够带动固定线圈12自动转动，进而能够带动螺纹杆13自动转动，配合螺纹连接的连接板14能够带动各个支撑杆15上的托板16同时向上运动，进而能够推动各个定位槽902中的本征SiC衬底自动向上运动，完成脱离工作，从而能够保证工作人员后续拿取下料工作的高效和便捷。
需要说明的是，本发明为一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，首先，工作人员可通过控制开启装置外壳1上的液压杆2，此时液压杆2能够通过激光器3推动安装板4向下运动，此时在安装板4的运动作用下，能够带动两侧牵引绳10的顶端向下运动一段距离，此时在牵引绳10的运动过程中，在限位框20内部涡卷弹簧19的弹性作用下，能够带动螺纹杆13自动转动，进而能够带动固定线圈12稳定转动，此时在固定线圈12的转动作用下，能够对牵引绳10进行自动收卷，而在螺纹杆13的转动作用下，能够带动螺纹连接的连接板14向下稳定运动，进而能够通过各个支撑杆15带动顶端的托板16自动向下运动至收纳槽17中，随后液压杆2停止运动；
然后工作人员可通过向外拉动导轨601上的卡杆603，此时卡杆603能够运动脱离限位架605上的卡槽604，随后工作人员可通过拉动限位架605在导轨601中稳定运动，此时在各个限位架605的运动作用下，能够根据实际需求将需要使用的掩模版本体7移动至激光器3正下方，移动稳定后，在第一弹簧602的弹性作用下，能够带动导轨601上的卡杆603自动卡合至相应限位架605上的卡槽604中，此时限位架605能够带动掩模版本体7进行便捷稳定的定位卡合，保证掩模版本体7后续工作状态的稳定，此时工作人员可将清洗、烘干、涂覆层光刻胶后的各个本征SiC衬底放置在固定板901上的各个定位槽902中；
随后工作人员可通过控制开启装置外壳1上的液压杆2继续推动安装板4向下运动，而在安装板4的运动作用下，能够带动掩模版本体7向下运动至与各个连接杆908顶端的橡胶吸盘909接触，随后在掩模版本体7的继续运动作用下，能够通过橡胶吸盘909推动挤压连接杆908，此时橡胶吸盘909在受到挤压后，能够自动稳定的吸附固定在掩模版本体7的底端面上，并且在各个连接杆908的运动作用下，能够带动底端的橡胶活塞907在固定筒904中向下稳定运动，而在橡胶活塞907的运动作用下，能够将固定筒904内的空气通过中转框910和导气管911稳定输送至各个橡胶气囊903中，进而能够对各个橡胶气囊903进行自动充气，此时在各个橡胶气囊903的充气作用下，能够对各个定位槽902中的本征SiC衬底进行自动稳定的挤压固定，同时能够将本征SiC衬底挤压固定在中间部位，能够保证本征SiC衬底后续曝光显影工作的稳定和准确，与此同时，在各个连接杆908和相应橡胶吸盘909的吸附固定作用下，能够保证掩模版本体7可以与固定板901之间进行自动稳定的相对固定，此时激光器3通过通槽5和掩模版本体7能够对各个本征SiC衬底上的光刻胶进行稳定准确的曝光显影工作，能够有效避免装置工作过程中，装置发生震动导致掩模版本体7工作过程中出现震动，影响后续曝光显影工作的准确；
在进行曝光显影工作时，安装板4继续向下运动过程中，牵引绳10处于松弛状态，此时连接板14运动至螺纹杆13上的螺纹底端，不会在进行继续向下运动，且牵引绳10处于松弛状态，并不会对螺纹杆13造成不良影响，而当曝光显影工作结束后，利用液压杆2能够带动安装板4向上运动至最顶端，此时在安装板4的运动作用下，通过导向轮11上的牵引绳10能够带动固定线圈12自动转动，进而能够带动螺纹杆13自动转动，配合螺纹连接的连接板14能够带动各个支撑杆15上的托板16同时向上运动，进而能够推动各个定位槽902中的本征SiC衬底自动向上运动，完成脱离工作，从而能够保证工作人员后续拿取下料工作的高效和便捷，且在掩模版本体7长时间使用后，工作人员可通过推动挡板607向限位架605内部运动，直至挡板607运动脱离掩模版本体7，进而能够对掩模版本体7进行便捷拆卸，同理，在需要对掩模版本体7进行卡合安装工作时，只需再次推动挡板607向限位架605内部运动，此时可将掩模版本体7稳定卡合在限位架605中，随后在第二弹簧606的弹性作用下，能够带动挡板607自动向外运动复位，进而能够对掩模版本体7进行便捷稳定的卡合安装，从而能够保证掩模版本体7后续工作状态的稳定。
虽然在上文中已经参考实施方式对本发明进行了描述，然而在不脱离本发明的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，本发明所披露的实施方式中的各项特征均可通过任意方式相互结合起来使用，在本说明书中未对这些组合的情况进行穷举性的描述仅仅是出于省略篇幅和节约资源的考虑。因此，本发明并不局限于文中公开的特定实施方式，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (6)

1.一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，包括装置外壳（1），其特征在于；所述装置外壳（1）的顶端安装固定有液压杆（2），所述液压杆（2）的底端安装固定有激光器（3），所述激光器（3）的底端固定连接有安装板（4），所述安装板（4）上贯穿开设有通槽（5），所述安装板（4）的底部安装有调节切换组件（6），所述安装板（4）通过调节切换组件（6）连接有掩模版本体（7），所述装置外壳（1）的内部底端面上固定连接有固定框（8），所述固定框（8）内安装有自适应调节定位组件（9），所述安装板（4）的底端栓接固定有牵引绳（10），所述牵引绳（10）限位滑动连接在导向轮（11）上，所述导向轮（11）安装在固定框（8）上，所述牵引绳（10）的另一端缠绕在固定线圈（12）上，所述固定线圈（12）上固定连接有螺纹杆（13），所述螺纹杆（13）的底端转动连接在装置外壳（1）的内部底端面上，所述螺纹杆（13）上螺纹连接有连接板（14），所述连接板（14）的顶端面上固定连接有支撑杆（15），所述支撑杆（15）的顶端固定连接有托板（16），所述托板（16）限位滑动连接在收纳槽（17）内，所述支撑杆（15）贯穿滑动连接在滑动槽（18）内，所述螺纹杆（13）的底部固定连接有涡卷弹簧（19），所述涡卷弹簧（19）的外端固定连接在限位框（20）内，所述限位框（20）固定连接在装置外壳（1）的内部底端面上；
所述自适应调节定位组件（9）包括固定板（901），所述固定板（901）固定连接在固定框（8）内，所述固定板（901）上开设有定位槽（902），所述收纳槽（17）开设在固定板（901）内，所述定位槽（902）内部底端面上固定连接有橡胶气囊（903），所述定位槽（902）等距分布在固定板（901）上，所述定位槽（902）分别与收纳槽（17）和橡胶气囊（903）一一对应，所述橡胶气囊（903）呈圆环状，所述收纳槽（17）的直径小于橡胶气囊（903）的内径，所述收纳槽（17）的中心轴线与定位槽（902）的中心轴线位于同一竖直中心线上；
所述固定板（901）内固定连接有固定筒（904），所述固定筒（904）的内部底端固定连接有滤网板（905），所述滤网板（905）的顶端面上固定连接有第三弹簧（906），所述第三弹簧（906）的顶端固定连接有橡胶活塞（907），所述橡胶活塞（907）和连接杆（908）均限位滑动连接在固定筒（904）内，所述橡胶活塞（907）的顶端固定连接在连接杆（908）的底端，所述连接杆（908）的顶端固定连接有橡胶吸盘（909），所述固定筒（904）等距分布在固定板（901）上，所述固定筒（904）的底部连接有中转框（910），所述固定筒（904）的底端面、滤网板（905）的底端面和中转框（910）的内部顶端面平齐，所述中转框（910）的长度和宽度分别与固定板（901）的长度和宽度相等，所述中转框（910）固定连接在固定板（901）的底端面上；
所述中转框（910）固定连接在固定框（8）内，所述固定框（8）的顶部连接有导气管（911），所述导气管（911）的顶端连接在橡胶气囊（903）的底端，所述滑动槽（18）贯穿开设在中转框（910）上，所述导气管（911）对称分布在橡胶气囊（903）的底端两侧，所述支撑杆（15）的直径小于滑动槽（18）的直径，所述托板（16）的厚度与收纳槽（17）的深度相等，所述支撑杆（15）贯穿滑动连接在固定板（901）内。
2.根据权利要求1所述一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，其特征在于：所述液压杆（2）的底端固定连接在激光器（3）的顶部中心部位，所述激光器（3）固定在安装板（4）的顶部中心部位，所述通槽（5）的中心轴线与激光器（3）的中心轴线位于同一竖直中心线上，所述通槽（5）的长度和宽度分别小于激光器（3）的长度和宽度。
3.根据权利要求1所述一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，其特征在于：所述调节切换组件（6）包括导轨（601），所述导轨（601）固定连接在安装板（4）的底端面上，所述导轨（601）侧端固定连接有第一弹簧（602），所述第一弹簧（602）的另一端固定连接有卡杆（603），所述卡杆（603）贯穿滑动连接在导轨（601）侧端，所述卡杆（603）的端部卡合连接在卡槽（604）内，所述卡槽（604）开设在限位架（605）的侧端，所述限位架（605）内固定连接有第二弹簧（606），所述第二弹簧（606）的另一端固定连接有挡板（607），所述挡板（607）限位滑动连接在限位架（605）内。
4.根据权利要求3所述一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，其特征在于：所述限位架（605）侧端面与导轨（601）的内壁相贴合，所述导轨（601）的横截面呈“L”形，所述限位架（605）的顶端面与安装板（4）的底端面相贴合，所述限位架（605）的内壁与掩模版本体（7）的侧端面相贴合，所述掩模版本体（7）的顶端面与安装板（4）的底端面相贴合，所述导轨（601）对称分布在限位架（605）的两侧，所述导轨（601）与卡杆（603）一一对应，所述限位架（605）的长度和宽度分别大于通槽（5）的长度和宽度。
5.根据权利要求3所述一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，其特征在于：所述限位架（605）等距分布在安装板（4）的下方，相邻限位架（605）之间固定连接，所述第二弹簧（606）对称分布在限位架（605）内部两侧，所述第二弹簧（606）与挡板（607）一一对应，所述挡板（607）连接在限位架（605）内部侧端的中间部位，所述限位架（605）的端部横截面呈直角梯形。
6.根据权利要求1所述一种高压VDMOS器件制备用自调节式原料曝光装置，其特征在于：所述牵引绳（10）对称分布在安装板（4）的底端两侧，所述牵引绳（10）通过导向轮（11）与固定线圈（12）一一对应，所述螺纹杆（13）的长度大于支撑杆（15）的长度，所述螺纹杆（13）的顶端转动连接在中转框（910）的底端面上。
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