CN117048980A - 支撑机构及收纳装置 - Google Patents

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CN117048980A CN202310974156.9A CN202310974156A CN117048980A CN 117048980 A CN117048980 A CN 117048980A CN 202310974156 A CN202310974156 A CN 202310974156A CN 117048980 A CN117048980 A CN 117048980A
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刘春峰
刘国华
黄秋凯
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Abstract

本申请提供了一种支撑机构及收纳装置,涉及半导体运输包装技术领域,支撑机构用于支撑片体,支撑机构包括基部;第一接触构件,包括用于支撑片体的第一接触部,第一接触构件设置于基部的一侧;第二接触构件,包括用于支撑片体的第二接触部,第二接触构件设置于基部的一侧,第一接触部与第二接触部在第一方向上间隔设置;其中,第二接触部相对于第一接触部更为靠近基部的一侧,第一接触构件被配置为在受力时向着基部的所述一侧运动。由于第二接触部相对于第一接触部更为靠近基部的一侧,由第一接触部和第二接触部共同形成阶梯层结构来对晶圆进行支撑,避免晶圆在震动过程中晶圆发生旋转的情况出现,避免晶圆与其他部件发生摩擦而出现污染。

Description

支撑机构及收纳装置
技术领域
本申请涉及半导体运输包装技术领域,尤其是涉及一种支撑机构及收纳装置。
背景技术
晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅片体,晶圆的原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨、抛光以及切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。
国内晶圆生产线以8英寸和12英寸为主。晶圆的主要加工方式为片加工和批加工,即同时加工1片为片加工,同时加工多片晶圆为批加工。随着半导体特征尺寸越来越小,加工及测量设备越来越先进,使得晶圆加工出现了新的数据特点。同时,特征尺寸的减小,使得晶圆加工时,空气中的颗粒数对晶圆加工后质量及可靠性的影响增大,而随着洁净的提高,颗粒数也出现了新的数据特点。
在大尺寸晶圆进行加工过程中,随着晶圆表面精细化加工,对晶圆表面的洁净度的要求提高。对于大尺寸的晶圆中使用FOSB(前开口运装箱)进行厂外的周转,因此在运输周转过程中,需要保证容器内部晶圆的安全,防止其在运输中发生破损,同时防止晶圆在内部发生磨损,产生颗粒影响。
现有技术中,在晶圆运输过程中,使用晶圆支撑件,其中所用的支撑件需要使用盖体结构进行支撑,晶圆在弹性支持板的作用下进行固定,但是在运输过程中,容器受到冲击后,会发生形变,并且晶圆会发生旋转,造成晶圆边缘与容器内部的接触件发生摩擦,造成晶圆产生颗粒污染。
发明内容
有鉴于此,本申请提供一种支撑机构及收纳装置,目的在于,一定程度上解决以上技术问题。
第一方面,本申请提供一种支撑机构,所述支撑机构用于支撑片体,所述支撑机构包括:
基部;
第一接触构件,包括用于支撑片体的第一接触部,所述第一接触构件设置于所述基部的一侧;
第二接触构件,包括用于支撑片体的第二接触部,所述第二接触构件设置于所述基部的所述一侧,所述第一接触部与所述第二接触部在第一方向上间隔设置;
其中,所述第二接触部相对于所述第一接触部更为靠近所述基部的所述一侧,其中,所述第一接触构件被配置为在受力时向着所述基部的所述一侧运动。
在晶圆装在收纳装置,例如前开口运装箱的内部时,在运输过程中,会出现震动冲击等情况。因为前开口运装箱的未设置支撑机构的那一侧是固定的,而不具有缓冲能力的。所以整个晶圆的缓冲保护都由支撑机构来提供。在遇到较大冲击时,支撑晶圆的第一接触构件先变形对晶圆形成缓冲保护,当冲击行程超过第一接触构件的变形量时,第一接触构件提供的缓冲效果会变差,如果只设置第一接触构件,那么晶圆再次回弹时受到的第一接触构件的弹力就较小,易发生旋转。所以在以上方案中,本申请设置了第二接触件来提供超出第一接触构件变形量后的弹力,让晶圆在整个跳动行程中,都有足够的弹力支撑,减少晶圆的旋转运动。
优选地,所述第二接触构件还包括设置于所述第二接触部的第三接触部和第四接触部,所述第三接触部和所述第四接触部均用于支撑片体,所述第三接触部和所述第四接触部沿着所述第一方向间隔设置,
其中,所述第四接触部相对于所述第三接触部更为靠近所述基部的所述一侧。
优选地,所述第二接触构件包括设置于所述第二接触部的第一凹部,所述第一凹部向着所述基部所在侧凹陷,所述第三接触部和所述第四接触部设置于所述第一凹部内。
优选地,所述第一凹部的在向所述基部所在侧凹陷的方向上的开放程度逐渐减少。
优选地,所述第一凹部包括用于限定所述第一凹部的内侧部的引导面,所述引导面被配置为将与所述引导面接触的片体向所述第一凹部的底部引导。
优选地,所述第二接触构件还包括设置于所述第一凹部内的第二凹部,所述第二凹部向所述基部所在侧凹陷,所述第三接触部和所述第四接触部均与所述第二凹部的底部连接。
优选地,所述第三接触部延伸至所述第二凹部外,所述第四接触部设置于所述第二凹部内。
优选地,所述第一凹部的在所述第一凹部的向所述基部所在侧凹陷的方向上的开放程度不变。
优选地,所述第一接触构件在所述第一方向上成对设置,所述支撑机构包括在垂直于所述第一方向的第二方向上间隔设置的多对所述第一接触构件。
优选地,所述支撑机构包括与每对所述第一接触构件在所述第一方向上对应设置的成对的所述第二接触构件。
优选地,所述第一接触构件相对于所述第二接触构件更为靠近所述基部的在所述第一方向上的外侧;或者
所述第二接触构件相对于所述第一接触构件更为靠近所述基部的在所述第一方向上的外侧。
优选地,所述支撑机构还包括设置于所述基部的连接构件;
在所述第一接触构件相对于所述第二接触构件更为靠近所述基部的在所述第一方向上的外侧时,所述第二接触构件与所述连接构件连接;
在所述第二接触构件相对于所述第一接触构件更为靠近所述基部的在所述第一方向上的外侧,所述第一接触构件与所述连接构件连接。
优选地,所述支撑机构还包括与所述第一接触构件在所述第一方向上间隔设置的引导构件,所述引导构件包括用于支撑片体的限定部,其中,所述第一接触构件相对于所述引导构件更为靠近所述基部的所述一侧。
优选地,所述引导构件包括相对于所述第一接触构件更为远离所述基部的所述一侧的第一引导部以及相对于所述第一引导部更为靠近所述基部的所述一侧的第二引导部,所述限定部由所述第一引导部和所述第二引导部共同限定。
优选地,所述第一引导部的与所述第二引导部相对的面包括第一弧面,所述第二引导部的与所述第一引导部相对的面包括第二弧面,所述第二弧面的弧度大于所述第一弧面的弧度。
优选地,所述第一接触构件还包括设置于所述第一接触部的第三凹部,所述第三凹部向着所述基部所在侧凹陷,
所述第一接触构件还包括设置于所述第三凹部内的第四凹部,所述第四凹部向着所述基部所在侧凹陷,
其中,所述第三凹部的在所述第三凹部向着所述基部所在侧凹陷方向上的开放程度逐渐减少,所述第四凹部的在所述第四凹部向着所述基部所在侧凹陷方向上的开放程度不变。
优选地,所述第一接触构件还包括与所述第一接触部连接的第一延伸部,所述第二接触构件还包括与所述第二接触部连接的第二延伸部,
其中,所述基部还包括朝向与所述基部的所述一侧相对的另一侧的平面,所述第一延伸部相对于所述平面的可弹性形变的范围为30°至40°,所述第二延伸部相对于所述平面的可弹性形变的范围为10°至20°。
优选地,所述第一接触构件还包括与所述第一接触部连接的第一延伸部,第一接触部和所述第二接触部均设置于所述第一延伸部,
其中,所述基部还包括朝向与所述基部的所述一侧相对的另一侧的平面,所述第一延伸部相对于所述平面的可弹性形变的范围为20°至30°。
第二方面,本申请提供一种收纳装置,所述收纳装置包括如上所述的支撑机构。
根据本申请提供的支撑机构,当支撑机构在支撑晶圆时,由于第二接触部相对于第一接触部更为靠近基部的一侧,晶圆的边缘在于第一接触部接触后,会迫使受力的第一接触件向着基部的朝向所述一侧的部分运动,直至晶圆的边缘接触到第二接触部,这时,第一接触部和第二接触部共同形成了的晶圆的支撑。这种由第一接触部和第二接触部共同形成阶梯层结构来对晶圆进行支撑,能够避免晶圆在运输过程中,由于容器发生碰撞而震动(例如沿着晶圆的轴向震动),导致晶圆发生旋转的情况出现。从而避免晶圆与其他部件发生摩擦而出现污染。
为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第一示例的俯视图的示意图;
图2示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第一示例的正视图的示意图;
图3示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第一示例的侧视图的局部放大图的示意图;
图4示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第一示例的轴测图的示意图;
图5示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第一示例的轴测图的局部放大图的示意图;
图6示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第二示例的轴测图的示意图;
图7示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第二示例的正视图的示意图;
图8示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第二示例的轴测图的局部放大图的示意图;
图9示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第三示例的俯视图的示意图;
图10示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第三示例的轴测图的示意图;
图11示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第三示例的正视图的示意图;
图12示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第三示例的轴测图的局部放大图的示意图;
图13示出了根据本申请实施例第一方面提供的支撑机构的第三示例支撑片体的示意图;
图14示出了根据本申请实施例第二方面提供的收纳装置的主体结构的轴测图的示意图;
图15示出了根据本申请实施例第二方面提供的收纳装置的主体结构的俯视图的示意图;
图16示出了根据本申请实施例第二方面提供的收纳装置的盖体结构的仰视图的示意图。
附图标记:
1-容器主体;11-开口缘部;111-缘部阶梯部;112-缘部凹槽;113-定位件;12-弯曲部;13-侧边支撑件;14-抓取部;141-抓取器;142-固定器;143-限定凸起;15-定位体;16-把手;161-把手固定件;17-底部支撑件;2-盖体;21-闩锁部;22-盖体主板;221-支撑机构固定件;222-支撑机构定位件;223-凹部支撑体;
3、4、5-支撑机构;31、52-第一连接件;33、41、53-第一接触构件;331、411-第一延伸部;332、412、531-第一接触部;32、43、532-第二接触构件;321、431-第二延伸部;322、432-第二接触部;323-垫体;34、44、54-引导构件;35、42、51-基部;433-下垫片;434-上垫片;441-下引导体;442-上引导体。
具体实施方式
下面将结合附图对本申请的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本申请要求的保护范围之内。
根据本申请实施例的第一方面提供一种支撑机构,以下将结合图1至图13具体描述支撑机构的结构和工作原理。
在实施例中,支撑机构3用于支撑片体,支撑机构3包括基部35、第一接触构件33和第二接触构件32。第一接触构件33包括用于支撑片体的第一接触部332,第一接触构件33设置于基部35的一侧。第二接触构件32包括用于支撑晶片的第二接触部322,第二接触构件32设置于基部35的一侧,第一接触部332与第二接触部322在第一方向上间隔设置。其中,第二接触部322相对于第一接触部332更为靠近基部35的所述一侧,其中,第一接触构件33被配置为在受力时向着基部35的所述一侧运动。
在实施中,片体可以例如为晶圆。如此,当支撑机构3在支撑晶圆时,由于第二接触部322相对于第一接触部332更为靠近基部35的一侧,晶圆的边缘在于第一接触部332接触后,会迫使受力的第一接触件向着基部35的所述一侧运动,直至晶圆的边缘接触到第二接触部322,这时,第一接触部332和第二接触部322共同形成了的晶圆的支撑。这种由第一接触部332和第二接触部322共同形成阶梯层结构来对晶圆进行支撑,能够避免晶圆在震动过程中(例如沿着晶圆的轴向震动)晶圆发生旋转的情况出现。从而避免晶圆与其他部件发生摩擦而出现污染。
如图1至图5所示,图1至图5给出了支撑机构3的第一示例。在图1给出的示例中,基部35可以为板状结构。这里参见图1,图1以俯视图的形式示出了支撑机构3,在俯视视角下,基部35可以例如为矩形的板状。虽然图中未示出,但并不限于此,基部35的形状可以根据实际情况来设置。
进一步参见图2,在实施例中,基部35的上侧可以为以上描述中提到的“一侧”,基部35的下侧为与“一侧”相对的另一侧。在图2中,给出了支撑机构3的第一示例的正视图的示意图,作为示例,基部35的下侧可以为平面,并在图2中沿着水平方向布置。这里,图2中的水平方向与图1中的水平方向相同,二者均为矩形板状的基部35的宽边方向,该方向可以为上述第一方向。因此,第二接触部322相对于第一接触部332更为靠近基部35的所述一侧可以理解为第一接触部332相对于第二接触部322具有更高的高度。
在实施例中,第一接触构件33还包括第一延伸部331,第一延伸部331将第一接触构件33与基部35连接。作为示例,第一延伸部331可以为条状结构,条状的第一延伸部331可以具有弹性,在晶圆接触到第一接触部332后,由于第一延伸部331具有弹性,第一延伸部331允许第一接触部332下降,也就是向着基部35运动。关于第一延伸部331的具体设置方式,将在后续的描述中进一步说明。
在实施例中,第二接触构件32还可以包括设置于第二接触部322的第三接触部和第四接触部,第三接触部和第四接触部可以均用于支撑片体,第三接触部和第四接触部沿着第一方向间隔设置。其中,第四接触部相对于第三接触部更为靠近基部35的所述一侧。
根据以上的描述,以图2中示出的方位为例,第三接触部具有高于第四接触部的高度。如图5所示,图5中示出了采用了相同的附图标记指代第三接触部和第四接触部。在实施例中,第三接触部和第四接触部二者又共同形成了阶梯状支撑结构,两者之间的高频度高度差在晶圆抵接在第三接触部和第四接触部之后,根据本申请实施例提供的支撑机构3能够进一步防止晶圆受到冲击震动后出现旋转。
作为示例,在实施例中,第三接触部和第四接触部二者可以均具有柔性,例如,第三接触部和第四接触部二者均可以由柔性材料制成,从而为晶圆提供更好的抗冲击防护。因此,第三接触部和第四接触部可以形成为实质上的垫体323。
作为示例,第三接触部可以设置于第四接触部的外侧,也就是说,第三接触部可以更为靠近基部35的长边。或者,第三接触部可以设置于第四接触部的内侧,即第四接触部可以更为靠近基部35的长边。此外,作为示例,具有更高的高度的第三接触部可以具有在第一方向上更小的尺寸,而相对来说更低的第四接触部可以具有在第一方向上大于第三接触部的尺寸,这有利于为晶圆提供平稳的支撑。
在实施例中,第二接触构件32可以包括设置于第二接触部322的第一凹部,第一凹部可以向着基部35所在侧凹陷,即第一凹部向下凹陷,第三接触部和第四接触部可以设置于第一凹部内。由此,第二接触构件32的第一凹部允许在晶圆与第二接触部322接触时,利用第二接触部322上的第一凹部来引导晶圆的走向。由于第三接触部和第四接触部设置于第一凹部内,第一凹部能够将晶圆向着第三接触部和第四接触部引导,从而使得晶圆能够快速且准确地到达更高的第三接触部,然后在压缩第三接触部后与第四接触部抵接。
进一步地,在实施例中,第一凹部的在向基部35所在侧凹陷的方向上的开放程度逐渐减少。也就是说,第一凹部在向下的方向上的开放程度逐渐减小,这里,支撑机构3的侧视图的局部放大图图3,图3给出了第一凹部的示例。这里,开放程度可以理解为开放的面积,也就是说,在向下的方向上,第一凹部在逐渐收口,这样设置,更为有利于引导晶圆的走向。
在实施例中,第一凹部的内侧部可以呈“V”形,即第一凹部的两个相对的内侧面是倾斜的平面。在另一些示例中,第一凹部的内侧部可以为曲面,例如弧面。
在实施例中,第一凹部可以包括用于限定第一凹部的内侧部的引导面,引导面被配置为将与引导面接触的片体向第一凹部的底部引导。在这一示例中,给出了又一引导晶圆的方式,换句话说,该方式中,第一凹部的用于限定第一凹部的内侧部的引导面并不一定需要使得第一凹部呈现如上所述的逐渐收口状态,而是只要能够借由该引导面将晶圆引导至第一凹部的底部即可,例如引导面可以为竖直延伸的平面。
进一步地,在实施例中,第二接触构件32还可以包括设置于第一凹部内的第二凹部,第二凹部可以向着基部35所在侧凹陷。这里,设置第二凹部,允许晶圆在经由第一凹部引导后向第二凹部运动。在实施例中,第三接触部和第四接触部还可以均与第二凹部的底部连接,这样使得第三接触部和第四接触部二者自身的侧部能够经由第二凹部的内侧部来限位,在支撑晶圆时是尤其有利的。
具体来说,在面对冲击震动情况时,由晶圆传递到第三接触部和第四接触部的力可能会导致第三接触部和第四接触部发生扭动,而可能出现第三接触部和第四接触部倾覆,导致第三接触部和第四接触部对晶圆的接触面出现幅度较大的变动,这可能会提高晶圆在支撑时失衡或者发生旋转的风险。
而由于第三接触部和第四接触部可以被配置为具有柔性,在与晶圆抵接时,第三接触部和第四接触部会出现弹性形变。弹性形变会使得第三接触部和第四接触部的横截面尺寸增加,本实施例中,将第三接触部和第四接触部设置于第二凹部的底部,便可以利用第二凹部的内侧部来抵靠第三接触部和第四接触部,从而维持它们的形状,避免倾覆的情况出现,提高支撑的稳定性。
进一步地,在实施例中,第三接触部可以延伸至第二凹部外,第四接触部可以设置于第二凹部内。这在图5中示出,如此,第三接触部和第四接触部以及第二凹部内侧部均能够对晶圆起到限定作用,进一步提高了对晶圆支撑的稳定性。
作为示例,第二凹部的在第二凹部的向基部35所在侧凹陷的方向上的开放程度不变。即第二凹部在向下的方向上开放面积可以是不变的,例如第二凹部可以为沿着第一方向延伸的条形沟槽。这样,第二凹部的形状可以更好地与晶圆的边缘适配,从而对晶圆的边缘产生更好地限定。
在实施例中,第一接触构件33可以在第一方向上成对设置,支撑机构3可以包括在垂直于第一方向的第二方向上间隔设置的多对第一接触构件33。参见图1,这里的第二方向可以为图1中示出的竖直方向,也就是矩形板状的基部35的长边方向。换句话说,多对第一接触构件33沿着基部35的长边方向间隔地设置,这允许支撑机构3支撑多个晶圆。
进一步地,在实施例中,支撑机构3可以包括与每对第一接触构件33在第一方向上对应设置的成对的第二接触构件32。也就是说,对应每对第一接触构件33,均设置了一对第二接触构件32,这样彼此对应的一对第一接触构件33和一对第二接触构件32在第一方向上也是间隔设置的。如此,成对设置的第二接触构件32,利用两组第三接触部和第四接触部,对一个晶圆形成了四点支持,进一步降低了晶片在运输过程中的旋转。
在图1至图5中给出的支撑机构3的第一示例中,第一接触构件33可以相对于第二接触构件32更为靠近基部的在第一方向上的外侧,即第一接触构件33可以相对于第二接触构件32更为靠近基部的长边。这也就是说,两列第二接触构件32设置于两列第一接触构件33之间。
在图6至图8中给出的支撑机构的第二示例中,支撑机构4、第一接触构件41、第二接触构件43、第一延伸部411、第一接触部412、第二延伸部431、第二接触部432、引导构件44、基部42、下垫片433以及上垫片434(即第三接触部和第四接触部)均使用了不同的附图标记来指代。在第二示例中,第二接触构件可以相对于第一接触构件更为靠近基部的在第一方向上的外侧,即第二接触构件可以相对于第一接触构件更为靠近基部的长边。这也就是说,两列第一接触构件设置于两列第二接触构件之间。
在实施例中,支撑机构3还可以包括与第一接触构件33在第一方向上间隔设置的引导构件34,引导构件34包括用于支撑片体的限定部,其中,第一接触构件33相对于引导构件34更为靠近基部的一侧。也就是说,引导构件34具有比第一接触构件33还要高的高度,这样晶圆会首先与引导构件34接触,晶圆的运动方向会被引导,从而被引导至限定部,进而使得晶圆能够被快速且准确地支承。
作为示例,引导构件34可以与多对第一接触构件33一一对应地设置,例如,每一引导构件34均设置于成对设置的第一接触构件33之间,以及与该对第一接触构件33对应的那对第二接触构件32之间。
在实施例中,参见图1至图5,支撑机构3还可以包括第一连接件31,第一连接件31可以为凸出于基部的上侧部的梁部,该梁部相当于连接了基部的两个短边,有利于提高基部的强度。进一步地,基部以及成对设置的第一接触构件33和成对设置的第二接触构件32可以均关于梁部对称,引导构件34可以设置于该梁部。
进一步地,位于内侧的接触构件可以与梁部一体成型。例如第一示例中,第二接触构件32可以与梁部一体成型,而在第二示例中,第一接触构件33可以与梁部一体成型。这样有利于提高支撑机构3的整体性。
进一步地,引导构件34可以包括相对于第一接触构件33更为远离基部的上侧的第一引导部以及相对于第一引导部更为靠近基部的上侧的第二引导部,限定部由第一引导部和第二引导部共同限定。参见图6至图8,第一引导部和第二引导部在第二示例中进行了标注,其中,第一引导部可以具有更高的高度,例如为上引导体442,第二引导部则相对较低,例如为下引导体441。在实施例中,上引导体和下引导体之间的槽状部分形成为限定部。
进一步地,在实施例中,第一引导部的与第二引导部相对的面可以包括第一弧面,第二引导部的与第一引导部相对的可以面包括第二弧面,第二弧面的弧度大于第一弧面的弧度。由此,当晶圆首先与第一引导部接触时,由第一引导部的第一弧面的引导作用,晶圆会滑入到第一引导部和第二引导部之间的槽状部分,即限定部内,从而使得晶圆快速定位。而由于第二引导部的第二弧面的弧度更大,有利于将晶圆固定在限定部内,从而有利于避免晶圆晃动而脱离引导构件34。
此外,在实施例中,第一接触构件33可以和第二接触构件32在部分结构上相似。例如第一接触构件33还可以包括设置于第一接触部的第三凹部,第三凹部向着基部所在侧凹陷,第一接触构件33还可以包括设置于第三凹部内的第四凹部,第四凹部向着基部所在侧凹陷。其中,第三凹部的在第三凹部向着基部所在侧凹陷方向上的开放程度逐渐减少,第四凹部的在第四凹部向着基部所在侧凹陷方向上的开放程度不变。这也就是说,第三凹部相对于上述第一凹部,第四凹部相当于上述第二凹部,这使得第一接触构件33能够利用第三凹部引导晶圆,并利用第四凹部将晶圆限位,有利于提高对晶圆支撑的稳定性。
正如以上所提及的,第一接触构件33还包括与第一接触部连接的第一延伸部331,第二接触构件32还包括与第二接触部322连接的第二延伸部321。其中,在支撑机构3的第一示例和第二示例中,第一延伸部331相对于基部的下侧的平面(即水平面)的可弹性形变的角度范围为30°至40°,第二延伸部321相对于基部的下侧的平面的可弹性形变的角度范围为10°至20°。这样,第一接触构件33和第二接触构件32可以具有不同的弯曲角度,在第一接触构件33的弯曲的过程中,能够对晶圆起到有效地缓冲效果,并且与第二接触构件结合,增加晶片的稳定性。
此外,在实施例中,第一接触构件可以被设置为承受晶圆的重量后恰好使得晶圆的边缘与第二接触构件接触,从而进一步提高对晶圆支撑的稳定性。
图9至图13给出了支撑机构的第三示例,在第三示例中,支撑机构5、第一连接件52、第一接触构件53、第一接触部531、第二接触构件532、引导构件54以及基部51均使用了新的附图标记。与前两个示例不同的是,在第三示例中,第一接触构件53还可以包括与第一接触部531连接的第一延伸部,而第一接触部531和第二接触部可以均设置于第一延伸部,其中,第二接触部可以设置于第一延伸部的根部,即第一延伸部的靠近于基部51的端部附近。
进一步地,第一延伸部相对于基部的下侧的平面的可弹性形变的角度范围为20°至30°,以此起到对晶圆的缓冲和稳定支撑的作用。由此,第二接触部形成为实质上的止旋件,其具体结构可以与前两示例中相同。由于止旋件与第一接触部相互偏移,这两个结构与晶圆的接触点与晶片的圆心构成三点结构,这形成了稳定的三角形结构,提高了支撑的稳定性。
根据本申请实施例的第二方面提供一种收纳装置,收纳装置包括如上支撑机构,也包括如上有益效果,在此不再赘述,以下将结合图14至图16具体描述收纳装置的结构和工作原理。
如图14至16所示,本申请的半导体收纳容器,还包括容器主体1和盖体2。容器主体1为具有开口的开放性容器主体,容器主体1可以包括下部、四个侧部与开口部。其中,开口部可以与下部彼此相对,侧部可以将开口部与下部相互连接。
在实施例中,开口部可以包括开口缘部11,开口缘部11可以位于开口部与侧部的交界处。开口缘部11的每个侧边上可以具有左右两个缘部凹槽112,缘部凹槽112可以用于配合后面要提到的盖体结构中的闩锁结构,从而利用这种配合将盖体与主体密封结合。此外,开口缘部11的内侧还设置有缘部阶梯部111,缘部阶梯部111用于与盖体2抵接,从而对盖体2限位。
在实施例中,缘部凹槽112的左右两侧可以安装有彼此相对的定位件113,定位件113可以用于定位盖体与开口部结合时,固定盖体的安装位置,盖体2的底部包括对应的开口位置设置的定位部件。
在实施例中,容器主体1的左右两侧的外部位置处可以安装有把手固定件161。把手固定件161上可以固定有把手16,把手16用于对容器主体1进行搬运时使用。容器主体1的下侧边还可以包括多个定位体15,下侧边左右两侧还均设置有弯曲部12,弯曲部12可以与容器主体1的下侧边一体成型。在实施中,弯曲部12可以与定位体15相互结合,将容器主体1固定、水平地放置在工作台上。其中,定位体15与工作台上的结构结合,从而避免在放置容器主体1的工作过程中,发生晃动,导致晶圆与容器发生摩擦。
进一步地,在容器主体1的左右内侧部可以分别安装有侧边支撑件13。侧边支撑件上具有多个弯曲凹槽部,左右两边的凹槽部可以相互对应,用于放置需要搬运的晶圆,晶圆的边缘位置可以与凹槽部相互接触。在容器主体1底部的内侧部上可以安装有底部支撑件17。底部支撑件上可以设置有与侧边支撑件13上凹槽部相互对应的底部支撑件17的凹槽,底部支撑件17与侧边支撑件13凹槽共同支撑晶圆。底部支撑件17与晶圆的边缘接触,从而减少晶圆与容器内部的接触。
容器主体1的上侧部外表面上可以包括限定凸起143,在限定凸起143上安装有抓取部14,抓取部14可以包括抓取器141和固定器142,使用固定器142可以将抓取器141固定在限定凸起143的内部。
盖体2可以包括盖体主板22和闩锁部21,在盖体主板22的内表面的中央位置可以设置有凹陷部位。其中,凹陷部位的内部上可以安装有若干个悬空的支撑机构固定件221,支撑机构的基部可以插入到支撑机构固定件221与凹陷部的内表面之间。
在实施例中,凹陷部的侧表面上可以设置有两个相对的支撑机构定位件222,从而将支撑机构固定在凹陷部的位置,防止支撑机构在凹陷部上下震动,对晶圆造成摩擦。进一步地,凹陷部的中央位置可以均匀安装有凹部支撑体223,用于对支撑机构进行支撑,当晶圆与支撑机构进行接触后,将支撑机构抵接到凹部支撑体223上时,减小支撑件的上、下弹性变化,避免晶圆的磨损加大。
以上仅为本申请的优选实施例,并非因此限制本申请的保护范围,凡是在本申请的创新构思下,利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本申请的保护范围内。

Claims (19)

1.一种支撑机构,其特征在于,所述支撑机构用于支撑片体,所述支撑机构包括:
基部;
第一接触构件,包括用于支撑片体的第一接触部,所述第一接触构件设置于所述基部的一侧;
第二接触构件,包括用于支撑片体的第二接触部,所述第二接触构件设置于所述基部的所述一侧,所述第一接触部与所述第二接触部在第一方向上间隔设置;
其中,所述第二接触部相对于所述第一接触部更为靠近所述基部的所述一侧,其中,所述第一接触构件被配置为在受力时向着所述基部的所述一侧运动。
2.根据权利要求1所述的支撑机构,其特征在于,所述第二接触构件还包括设置于所述第二接触部的第三接触部和第四接触部,所述第三接触部和所述第四接触部均用于支撑片体,所述第三接触部和所述第四接触部沿着所述第一方向间隔设置,
其中,所述第四接触部相对于所述第三接触部更为靠近所述基部的所述一侧。
3.根据权利要求2所述的支撑机构,其特征在于,所述第二接触构件包括设置于所述第二接触部的第一凹部,所述第一凹部向着所述基部所在侧凹陷,所述第三接触部和所述第四接触部设置于所述第一凹部内。
4.根据权利要求3所述的支撑机构,其特征在于,所述第一凹部的在向所述基部所在侧凹陷的方向上的开放程度逐渐减少。
5.根据权利要求3所述的支撑机构,其特征在于,所述第一凹部包括用于限定所述第一凹部的内侧部的引导面,所述引导面被配置为将与所述引导面接触的片体向所述第一凹部的底部引导。
6.根据权利要求3所述的支撑机构,其特征在于,所述第二接触构件还包括设置于所述第一凹部内的第二凹部,所述第二凹部向所述基部所在侧凹陷,所述第三接触部和所述第四接触部均与所述第二凹部的底部连接。
7.根据权利要求6所述的支撑机构,其特征在于,所述第三接触部延伸至所述第二凹部外,所述第四接触部设置于所述第二凹部内。
8.根据权利要求6所述的支撑机构,其特征在于,所述第一凹部的在所述第一凹部的向所述基部所在侧凹陷的方向上的开放程度不变。
9.根据权利要求1所述的支撑机构,其特征在于,所述第一接触构件在所述第一方向上成对设置,所述支撑机构包括在垂直于所述第一方向的第二方向上间隔设置的多对所述第一接触构件。
10.根据权利要求9所述的支撑机构,其特征在于,所述支撑机构包括与每对所述第一接触构件在所述第一方向上对应设置的成对的所述第二接触构件。
11.根据权利要求10所述的支撑机构,其特征在于,所述第一接触构件相对于所述第二接触构件更为靠近所述基部的在所述第一方向上的外侧;或者
所述第二接触构件相对于所述第一接触构件更为靠近所述基部的在所述第一方向上的外侧。
12.根据权利要求11所述的支撑机构,其特征在于,所述支撑机构还包括设置于所述基部的连接构件;
在所述第一接触构件相对于所述第二接触构件更为靠近所述基部的在所述第一方向上的外侧时,所述第二接触构件与所述连接构件连接;
在所述第二接触构件相对于所述第一接触构件更为靠近所述基部的在所述第一方向上的外侧,所述第一接触构件与所述连接构件连接。
13.根据权利要求1所述的支撑机构,其特征在于,所述支撑机构还包括与所述第一接触构件在所述第一方向上间隔设置的引导构件,所述引导构件包括用于支撑片体的限定部,其中,所述第一接触构件相对于所述引导构件更为靠近所述基部的所述一侧。
14.根据权利要求13所述的支撑机构,其特征在于,所述引导构件包括相对于所述第一接触构件更为远离所述基部的所述一侧的第一引导部以及相对于所述第一引导部更为靠近所述基部的所述一侧的第二引导部,所述限定部由所述第一引导部和所述第二引导部共同限定。
15.根据权利要求14所述的支撑机构,其特征在于,所述第一引导部的与所述第二引导部相对的面包括第一弧面,所述第二引导部的与所述第一引导部相对的面包括第二弧面,所述第二弧面的弧度大于所述第一弧面的弧度。
16.根据权利要求1所述的支撑机构,其特征在于,所述第一接触构件还包括设置于所述第一接触部的第三凹部,所述第三凹部向着所述基部所在侧凹陷,
所述第一接触构件还包括设置于所述第三凹部内的第四凹部,所述第四凹部向着所述基部所在侧凹陷,
其中,所述第三凹部的在所述第三凹部向着所述基部所在侧凹陷方向上的开放程度逐渐减少,所述第四凹部的在所述第四凹部向着所述基部所在侧凹陷方向上的开放程度不变。
17.根据权利要求1至16中任一项所述的支撑机构,其特征在于,
所述第一接触构件还包括与所述第一接触部连接的第一延伸部,所述第二接触构件还包括与所述第二接触部连接的第二延伸部,
其中,所述基部还包括朝向与所述基部的所述一侧相对的另一侧的平面,所述第一延伸部相对于所述平面的可弹性形变的范围为30°至40°,所述第二延伸部相对于所述平面的可弹性形变的范围为10°至20°。
18.根据权利要求1至16中任一项所述的支撑机构,其特征在于,所述第一接触构件还包括与所述第一接触部连接的第一延伸部,第一接触部和所述第二接触部均设置于所述第一延伸部,
其中,所述基部还包括朝向与所述基部的所述一侧相对的另一侧的平面,所述第一延伸部相对于所述平面的可弹性形变的范围为20°至30°。
19.一种收纳装置,其特征在于,所述收纳装置包括如权利要求1至18中任一项所述的支撑机构。
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