CN116997282A - 内窥镜系统、控制装置和控制气流的方法 - Google Patents

Abstract

一种内窥镜系统，包括：内窥镜；包括电极和第一气体通道的处置管；通过第一气体通道供应第一气体的第一气体源；通过不包括在处置管内并沿插入通道的远端方向供应第二气体的第二气体通道供应第二气体的第二气体源；向电极提供第一高频电流以将第一气体离子化成等离子体状态的电源；用于控制电源、第一气体源和第二气体源的控制电路。第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且第二高频电流高于第一高频安培数。

Description

内窥镜系统、控制装置和控制气流的方法

技术领域

本发明涉及内窥镜系统、控制装置和控制用于消融过程(ablation procedure)的处置装置的气流的方法。特别地，本公开涉及用于射频消融的处置装置，其中气体从处置装置发射并形成用于消融过程的放电气氛，特别地用于处置胃食道反流病。

本申请基于并要求均在2021年3月1日提交的美国临时申请No.63,154,841；No.63/154,847；No.63/154,854；No.63/154,856和No.63/154,857的优先权。这些申请中的每一者的全部内容通过引用合并于此。

背景技术

在下面的讨论中，参考某些结构和/或方法。然而，以下引用不应被解释为是对这些结构和/或方法构成现有技术的认可。申请人明确地保留证明这种结构和/或方法不符合本发明的现有技术的权利。

当主要是胃酸的胃内容物反向移动进入食道，引起诸如烧心或胃酸过多等不愉快的主观症状(subjective symptom)时，引起胃食道反流病，胃食道反流病是食道的炎症性疾病，其引起诸如食道炎、巴雷特氏食道(Barrett'sesophagus)或由巴雷特氏食道引起的食道腺癌等病理状况。

当贲门松弛或腹部压力增加时，经常发生胃酸反流到食道中。当存在滑动性食道裂孔疝时，由于隔膜对贲门的夹持不够，很可能发生胃酸反流到食道中。

为了防止胃酸反流到食道中，开发了一种通常被称作防反流粘膜切除术(Anti-Reflux MucoSectomy(ARMS))的医疗过程。在该医疗过程中，切除胃食道连接处附近的粘膜，以在切除部位产生瘢痕，这将最终形成不完全的瘢痕狭窄。食道和胃中的一者或两者中的不完全瘢痕狭窄形成开口，该开口能够减少食物通过时发生的吞咽困难并防止胃酸反流，从而防止胃酸到达食道。在专利文献1中公开了这种医疗过程的示例。

另一种通常被称作抗反流粘膜消融(anti-reflux mucosal ablation(ARMA))的医疗过程是内窥镜处置方法，其中通过消融粘膜层下面的粘膜基底细胞而损伤粘膜，并且通过修复受损区域在消化道中形成不完全瘢痕狭窄。在专利文献2中公开了这种医疗过程的示例。

在专利文献3中公开了一种用于氩等离子体凝固(Argon-plasma coagulation(APC))的示例性内窥镜手术设备。现有技术的内窥镜-手术设备仪器被公开为具有探头，所述探头被构造为用于氩等离子体凝固(APC)的探头。借助于内窥镜，在这种情况下在患者的声带区域中，探头已经被引导到待处置的组织。探头包括用于氩等离子体凝固的第一作业通道和布置为与第一作业通道同轴的第二作业通道。在每个通道的远端处分别是出口开口。电极向探针的远端供应高频电流，从而向待处置的组织供应高频电流。电极布置在第一作业通道内。电极借助于电流输送装置连接到用于产生高频电压的高频(HF)发生器。在APC期间，优选为氩的惰性气体围绕电极流动，使得由于HF电流和气体之间的相互作用而产生等离子体。在探头内，电极开口到喷嘴装置，以便获得尽可能良好地定向的等离子体流。借助于等离子体流，可以将HF电流引导到组织，从而使组织凝固。

借助于相对于第一通道同轴布置的第二通道，可以将另一气流引导到操作区域。这可以在电离之前或在氩等离子体凝固期间发生。该气流、优选为氩气的流，包围等离子体流，使得在等离子体流的直接周围由保护性气流建立惰性气体的包络。也就是说，可电离气体不仅填充在探头的出口开口和待处置的组织之间的空间中，这将与单腔探头的情况相同；而且，可电离气体填充了更大的体积，凝固电流可以通过该体积找到它的路。该气体包络起保护性气氛的作用，从操作区域中取代了诸如氧气或一氧化碳等的反应性气体，使得防止将对患者是危险的这些气体与等离子流相关的点燃。

第二通道的出口开口参考探头的轴线延伸方向朝向探头的远端并且在第一通道的出口开口之前布置。也就是说，第一通道突出于第二通道。因此，因为确保第一通道的远端和等离子体流完全位于保护性气氛内，所以可以建立具有极高可靠性的保护性气氛。

因为用于向操作区域供应附加氩气的第二通道布置在APC探头内，因此包封等离子体流、即保护性气氛的氩云的形成与探头的关于内窥镜的位置无关。另外，附加氩流可以根据保护性气流的期望程度任意地打开和关闭。

现有技术处置装置的缺点是探头结构的复杂性。除了用于供应高频电流的电极之外，第一作业通道和第二作业通道还需要被构造为具有足够的宽度，用以允许惰性气体和气流从中流过，这对于探头的总体尺寸最小化引起了问题。现有技术处置装置也没有公开如何控制高频电的施加、惰性气体的注入和气流的注入。

引用列表

专利文献

专利文献1：美国专利No.9,592,070

专利文献2：美国专利申请公开No.2020/0261069A1

专利文献3：美国专利申请公开No.2009/0024122A1

发明内容

技术问题

然而，夹持单元和处置工具主体之间的传统连接结构在一个或多个方面存在缺陷。例如，传统连接结构缺乏足够的强度来确保当夹持单元旋转时夹持单元围绕按压管的轴线的旋转运动。又如，传统连接结构缺乏足够的强度来确保当夹持单元被操纵线拉动时夹持单元在按压管的轴线方向上的直线移动。结果，在结扎过程成功完成之前，夹持单元可能意外地从处置工具主体的钩部脱出。

因此，鉴于实际使用，需要设计一种以有效结构用于消融过程的处置装置，该处置装置将基本上避免由于现有技术处置装置的限制和缺点而导致的一个或多个问题。本公开的目的是提供一种改进的处置装置，其具有有效结构和相关医疗过程的实际管理。至少一个或一些目的是通过本文公开的处置装置实现的。

解决问题的方案

根据一个方面的内窥镜系统，包括：内窥镜，其包括插入通道；处置管，其被插入穿过所述插入通道并从所述插入通道的远端突出，其中所述处置管包括电极和第一气体通道；第一气体源，其被构造成通过所述第一气体通道供应第一气体；第二气体源，其被构造成通过第二气体通道供应第二气体。所述第二气体通道不包括在所述处置管内，并且所述第二气体通道沿所述插入通道的远端的方向供应所述第二气体。电源被构造为向所述电极供应足以将所述第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流。控制电路控制所述电源、所述第一气体源和所述第二气体源。所述第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且所述第二高频电流高于所述第一高频安培数。

根据一个方面的控制装置，包括：控制器，其包括用于控制第一气体源、第二气体源和电源的控制电路。所述第一气体源被构造为沿着内窥镜通过第一气体通道供应第一气体。所述第二气体源被构造为沿着内窥镜通过第二气体通道供应第二气体。所述电源被构造为向电极供应足以将所述第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流。所述第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且所述第二高频电流高于所述第一高频安培数。

一种控制方法，所述方法对包括第一气体和第二气体的流的气流、被构造成通过第一气体通道供应第一气体的第一气体源以及被构造成通过第二气体通道供应所述第二气体的第二气体源进行控制，所述方法包括：以到达电极的远端之外为目的通过所述第一气体通道供应所述第一气体；不以到达电极的远端之外为目的通过所述第二气体通道供应第二气体；以及对所述电极施加第一高频电流以将所述第一气体离子化成等离子体状态，其中所述第一高频电流足以将所述第一气体离子化成等离子体状态。所述第一气体以第一高频电流离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频电流离子化成等离子体状态，并且所述第二高频电流高于所述第一高频电流。

在各种实施方式中，控制电路被编程为在供应第一气体之前、同时或之后供应第二气体；在施加第一高频电流之前、同时或之后供应第二气体；或其各种组合。

本发明的有益效果

因此，本公开涉及内窥镜处置装置和夹持单元，所述内窥镜处置装置和夹持单元基本上避免了由于在传统内窥镜处置装置和夹持单元中发现的限制和缺点而导致的一个或多个问题。

附图说明

图1示出了插入有内窥镜装置用以执行消融过程的人胃的剖视图。

图2示出了具有插入在处置装置通道内的消融处置装置的内窥镜装置。

图3示出了内窥镜装置的远侧末端的主视图，并且示出了在内窥镜装置的通道开口中的消融处置装置的末端。

图4A是示意性地示出消融过程期间的内窥镜装置的远侧末端的侧视图。

图4B是示意性地示出消融过程期间的内窥镜装置的远侧末端的侧视图。

图4C是示意性地示出消融过程期间的内窥镜装置的远侧末端的侧视图。

图5A是示意性地示出利用注入CO₂气体的消融过程期间的内窥镜装置的远侧末端的侧视图。

图5B是示意性地示出利用注入CO₂气体的消融过程期间的内窥镜装置的远侧末端的侧视图。

图5C是示意性地示出利用注入CO₂气体的消融过程期间的内窥镜装置的远侧末端的侧视图。

图6A示出了从内窥镜装置的通道开口出现的消融处置装置的主视图。

图6B示出了从内窥镜装置的通道开口出现的消融处置装置的主视图。

图6C示出了从内窥镜装置的通道开口出现的消融处置装置的主视图。

图6D示出了从内窥镜装置的通道开口出现的消融处置装置的主视图。

图7示出了内窥镜装置的远侧末端的侧视图。

图8是列出用于开始消融处置过程的各种控制序列的图表。

图9是列出用于中止消融处置过程的各种控制序列的图表。

图10是列出用于开始消融处置过程的其它各种控制序列的图表。

图11是进一步列出用于开始消融处置过程的各种控制序列的图表。

图12是列出用于中止消融处置过程的其它各种控制序列的图表。

图13是进一步列出用于中止消融处置过程的各种控制序列的图表。

图14是控制第一气体和第二气体的流的方法的流程图。

具体实施方式

附加的特征和优点将在下面的说明中阐述，并且从该说明中将部分地显而易见，或者可以通过实践本发明来了解。所公开的处置装置的目的和其它优点将通过在说明书及其权利要求书以及附图中特别指出的结构来实现和达到。

在所有附图中，为了清楚起见，适当地调整了各个组成元件的尺寸。为了便于查看，在一些情况下，附图中的仅一些命名的特征标注有附图标记。

大体上，所公开的结构和方法提供了一种内窥镜处置装置，该内窥镜处置装置从端部发射诸如Ar的惰性气体以及可放电性比Ar低的气体这两者。诸如二氧化碳的这种可放电性较低的气体特别地在内窥镜处置装置的端盖附近取代了一些体积的Ar，导致在消融过程期间减少了对氩气的放电。公开了各种结构和方法，以实现与氩气组合的可放电性较低的气体的定向输送。例如，可从APC探头和穿过内窥镜的通道之间，或从内窥镜远侧端部上的用于空气流/水流的喷嘴发射可放电性较低的气体。

本文所用术语“患者”包括任何和所有生物，并且包括术语“受试者”。患者可以是人或动物。

在检查下面的附图和详细说明时，其它系统、方法、特征和优点对于本领域的技术人员来说将是或将变得显而易见。所有这些附加的系统、方法、特征和优点都旨在被包括在本说明书内，在本公开的范围内，并由所附权利要求保护。本部分中的任何内容都不应被认为是对这些权利要求的限制。下面结合所公开的输入装置的实施方式讨论其它方面和优点。应当理解，所公开的输入装置的上述大体说明和下面的详细说明都是示例性和解释性的，并且旨在对所声明的被公开的输入装置提供进一步解释。

优选实施方式的下面的详细说明可以结合附图来阅读，附图中相同的标号表示相同的元件。

图1是插入有内窥镜装置200用以执行消融处置过程的人胃的剖视图。内窥镜装置200的远侧末端201指向胃食道连接处202，用以在执行消融过程之前查看操作部位。

图2是内窥镜系统224和内窥镜装置200的示意图。内窥镜装置200包括远侧末端201、插入管210和操作部220。远侧末端201包括用于查看人体内部物体的摄像部215和照明部216。插入管210包括从插入开口222延伸到远侧末端201的处置装置通道230。消融处置装置和可选的其它手术处置装置可以被插入处置装置通道230中，延伸插入管的长度，然后终止于内窥镜装置200的远侧末端201处的通道开口217处或从通道开口217突出。例如，在图2中，电极302和处置管304被示出为从远侧末端201处的通道开口217突出。消融处置装置300包括定位于处置管304的近侧的第一气体源331和第二气体源332。消融处置装置300包括与电极302电连接的电源333。

内窥镜系统224包括控制装置400。控制装置包括控制器，控制器包括控制电路。控制电路被构造为控制第一气体源331、第二气体源332和电源333。第一气体源331被构造为沿着内窥镜通过第一气体通道306供应第一气体。第二气体源被构造为沿着内窥镜200通过第二气体通道306供应第二气体。电源333被构造为向电极302供应足以将第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流。第一气体在第一高频安培数离子化成等离子体状态。第二气体在第二高频安培数离子化成等离子体状态。第二高频电流高于第一高频安培数。

图3示出了内窥镜装置200的远侧末端201的端面206。摄像部215和两个照明部216用于查看操作部位。通道开口217内是消融处置装置300的电极302和处置管304。电极302和处置管304可滑动地布置在处置装置通道230中，并且可以被独立地操作，例如，电极302和处置管304均从通道开口217突出并经过包含远侧末端201的端面206的平面。由于处置装置通道230内的处置管304内的电极302，在这些不同的特征之间存在间隙，并且这些间隙中的每一个间隙均形成用于例如气体和流体通过的通路。因此，例如，在电极302的外表面和处置管304的内表面之间形成内管通道306(第一气体通道)，并且该内管通道306允许气体和/或液体被注到操作部位和从操作部位回收。而且，例如，在处置管304的外表面和通道开口217的内表面之间形成外管通道308(第二气体通道)，并且该外管通道308也允许气体和/或液体被注到操作部位和从操作部位回收。此外，内窥镜装置200的多用途通道218在远侧末端201的端面206中开口，并且也允许气体和/或液体被注到操作部位和从操作部位回收。多用途通道218可以形成在远侧末端201的端面206的不同位置，并且可以具有不同的尺寸和以不同的数量存在。

图4A在放大的侧视图中示意性地示出了在消融处置装置300准备好使用的状况下的内窥镜装置200的远侧末端201。帽402附接到远侧末端201，以便在操作期间通过摄像部215改善操作部位的可见性。帽402可以由透明树脂或玻璃材料制成。消融处置装置300从通道开口217突出，足以将电极302和内管通道306定位成经过帽402外侧的面401。

图4B在放大的侧视图中示意性地示出了在消融处置装置300处于进行消融过程的处理中的状况下的内窥镜装置200的远侧末端201。惰性气体、优选为氩，从内管开口306沿消融目标区域404的方向注入。优选氩作为惰性气体的原因是由于与其它惰性气体相比，氩能够以相对低的电压离子化成等离子体状态。为了防止意外放电和消融的发生，调整施加到电极302的电压电平以确保只有氩而没有其它惰性气体或自然存在的气体会转变成等离子体状态并产生放电。通过注入惰性气体，将会在消融目标区域404近旁形成惰性气体气氛406。该惰性气体气氛406是电极302向消融目标区域404施加高频(HF)电流所经过的介质。作为HF电流与惰性气体气氛406接触的结果，惰性气体(氩)被离子化成等离子体状态，导致放电发生。因为电极302是中性电极，所以放电将发生在电极302和附近的目标之间，附近的目标在这种情况下是消融目标区域404。从电极302的突出的远侧末端到内窥镜装置200的远侧末端201的最佳操作距离在8mm至18mm之间。在距离变得大于18mm的情况下，消融目标区域404和摄像部215之间的距离将会太远，这将负面影响执行医疗过程的医务人员的能见度。从远侧末端201突出太多的电极302和处置管304也可能通过遮挡摄像部215的范围来遮挡检查消融进展的医务人员的视野。在电极302的突出的远侧末端与内窥镜装置200的远侧末端201之间的距离变得小于8mm的情况下，这大致等于从帽402的远侧末端到远侧末端201的距离，惰性气体积聚在帽402内的风险增加了产生不期望的放电的风险。

图4C在放大的侧视图中示意性地示出了在消融处置装置300处于进行消融过程的处理中的状况下的内窥镜装置200的远侧末端201。在图4C中，电极302的远侧末端从远侧末端201突出大约8mm至18mm。当惰性气体、优选为氩从内管开口306注入消融目标区域404附近时，惰性气体将积聚在帽402内，导致惰性气体气氛406积聚在帽402内并接触内窥镜装置200的远侧末端201。在这种情况下，在电极302和帽402之间或在电极302和远侧末端201之间在惰性气体气氛406内可能发生放电，损坏帽402和/或放置在远侧末端201处的电子器件，诸如摄像部215或照明部216。应当避免通过放电损坏帽402或远侧末端201。

图5A在放大的侧视图中示意性地示出了在消融处置装置300用于消融过程的状况下的内窥镜装置200的远侧末端201。诸如惰性气体的第一气体、优选为氩从内管开口306注入消融目标区域404附近。以比用于将第一气体离子化成等离子体状态的高频电流高的高频电流离子化成等离子体状态的第二气体通过形成气流502的外管通道308注入。合适的第一气体是氩，并且以比用于使氩离子化的高频电流高的高频电流离子化成等离子体状态的合适的第二气体是例如CO₂气体，示例性实施方式将在这两种气体的上下文中讨论。气流502将来自氩气的惰性气体气氛406从帽402推出并推向消融目标区域404。与图4B中的情况相比，来自CO₂气体的第二气流502能使来自氩气的惰性气体气氛406以更高的效率积聚在消融目标区域404附近。换句话说，来自氩气的惰性气体气氛406集中在消融目标区域404附近，并从诸如帽402的内部体积和远侧末端201的端面206前方的区域等的非消融区域被来自CO₂气体的第二气流502取代或被迫离开。在消融目标区域404附近形成来自氩气的惰性气体气氛406之后，通过电极302施加的HF电流导致在来自氩气的惰性气体气氛406内发生放电，使消融目标区域404消融。

图5B在放大的侧视图中示意性地示出了在消融处置装置300用于消融过程的状况下的内窥镜装置200的远侧末端201。在图5B中，电极302的电极302远侧末端从远侧末端201突出大约8mm至18mm。当惰性气体、优选为氩从内管开口306沿消融目标区域404的方向注入时，第二气体、优选为CO₂气体通过形成气流502的外管通道308注入。来自CO₂气体的气流502将来自氩气的惰性气体气氛406从帽402推出并推向消融目标区域404，防止惰性气体在帽402内积聚。来自CO₂气体的气流502还防止来自氩气的惰性气体气氛406接触内窥镜装置200的远侧末端201，从而防止在电极302和帽402或远侧末端201之间发生任何放电。

图5C在放大的侧视图中示意性地示出了在消融处置装置300用于消融过程的状况下的内窥镜装置200的远侧末端201。在图5C中，电极302的电极302远侧末端从远侧末端201突出大约8mm至18mm。当惰性气体、优选为氩从内管开口306沿消融目标区域404的方向注入时，第二气体、优选为CO₂气体通过形成气流504的多用途通道218注入。从多用途通道218注入的气流504可以强于从外管通道308注入的气流。来自多用途通道218的CO₂气体的气流504将来自氩气的惰性气体气氛406从帽402推出并推向消融目标区域404，防止惰性气体在帽402内积聚。来自多用途通道218的CO₂气体的气流504还防止来自氩气的惰性气体气氛406接触内窥镜装置200的远侧末端201，从而防止在电极302和帽402或远侧末端201之间发生任何放电。从多用途通道218注入的气流504可以独立地使用或与从外通道308注入的来自CO₂气体的气流502组合使用。

一般而言，通过使CO₂气体的流速比惰性气体的流速快，可以抑制电极302和帽402或远侧末端201之间的放电。另一方面，通过使惰性气体的流速比CO₂气体的流速快，可以稳定地排放到消融目标区域404中而不受CO₂气体的影响。

图6A至图6D示出了消融处置装置300的处置管304的外表面的各种形状，其允许增大流过外管通道308的气体和/或液体的体积和/或形成用于气体和/或液体流过外管通道308的离散通道。在图6A中，处置管304的外表面具有三角形凹槽602。在图6B中，处置管304的外表面具有曲线形凹槽604。在图6C中，处置管304的外表面具有形成平坦表面的平坦化结构606。在图6D中，处置管304的外表面具有块形凹槽608。各实施方式中的各种结构/凹槽可以关于处置管304的轴线对称地分布。例如，可以使用三重、四重、五重和六重的对称性。例如，处置管304的外表面具有至少一个凹槽。例如，处置管304的外表面具有至少一个曲线形凹槽604，或至少一个平坦表面等。

图7示意性地示出了内窥镜装置200的远侧末端201和消融处置装置300的剖视图。消融处置装置300的处置管304具有两个部分，每个部分均具有不同的直径--外管部702和内管部704。外管部702的外径与通道开口217的内径相同或略小。通过这种构造，操作者能够感知外管部702与通道开口217的边缘的接触或外管部702与处置装置通道230之间产生的摩擦，以及使用所接收的感知作为指示来确定外管部702相对于通道开口217的位置。外管部702的距离706优选地设定为大于10mm，足够的距离以允许当外管部702和通道开口217的边缘接触时处置管304和电极302从帽402伸出。这种构造允许操作者将消融处置装置300设定在相对于内窥镜装置200和附接的帽402的最佳位置。通过防止电极302和内管通道306位于帽402内，该构造防止来自氩气的惰性气体气氛406积聚在帽402内，从而减少电极302与帽402或远侧末端201之间发生放电的风险。

通过使CO₂气体的流速比惰性气体的流速快，可以抑制电极302和帽402或远侧末端201之间的放电。

另一方面，通过使惰性气体的流速比CO₂气体的流速快，可以稳定地排放到消融目标区域404中而不受CO₂气体的影响。

图14示出了控制气流的方法的流程图。该方法控制消融处置装置300的气流。气流包括第一气流和第二气流、第一气体源和第二气体源。第一气体源被构造为通过第一气体通道供应第一气体。第二气体源被构造为通过第二气体通道供应第二气体。如图14所示，控制气流的方法包括步骤S1，其中，以到达电极的远端之外为目的通过第一气体通道供应第一气体。控制气流的方法包括步骤S2，其中，不以到达电极的远端之外为目的通过第二气体通道供应第二气体。控制气流的方法包括步骤S3，其中，对电极施加第一高频电流以将第一气体离子化成等离子体状态。第一高频电流足以将第一气体离子化成等离子体状态。在控制气流的方法中，第一气体以第一高频电流离子化成等离子体状态，第二气体以第二高频电流离子化成等离子体状态，并且第二高频电流高于第一高频电流。

图8至图13是说明用于开始消融处置过程的用于控制内窥镜装置200和消融处置装置300的管控序列的不同模式的图表。由于在消融处置过程期间医务人员的双手都被占用，因此医务人员很可能使用脚踏开关来打开和关闭与消融处置过程相关的活动。每当操作脚踏开关时，控制装置指示内窥镜装置200或消融处置装置300执行图8至图13中所述的步骤，即第一步骤、第二步骤和第三步骤。过渡到下一步骤并不意味着中止先前的活动。相反，先前步骤的活动继续进行，除非是例如在图9、图12和图13中为了中止本文公开的消融处置过程而结合控制序列进一步说明的步骤之一期间的关闭这样的活动。

在图8、图10和图11中的用于开始消融处置过程的控制序列中，术语“惰性气体”表示指令从内管通道304注入惰性的第一气体(优选为氩气)。类似地，术语“CO₂”表示指令注入第二气体，即来自外管通道308或多用途通道218的以比将第一气体离子化成等离子体状态的高频电流高的高频电流离子化成等离子体状态的气体(优选为CO₂气体)。最后，术语“HF”表示指令从电极302施加高频(HF)电流以引起放电和消融。在单个步骤内说明了任何两个以上指令术语(CO₂、惰性气体和HF)的情况下，这意味着同时操作多个指令。

在图9、图12和图13中的用于中止消融处置过程的控制序列中，术语“惰性气体”表示指令中止从内管通道304注入惰性的第一气体(优选为氩气)。类似地，术语“CO₂”表示指令中止注入第二气体，即来自外管通道308或多用途通道218的以比将第一气体离子化成等离子体状态的高频电流高的高频电流离子化成等离子体状态的气体(优选为CO₂气体)。最后，术语“HF”表示指令中止从电极302施加高频(HF)电流以停止放电和消融。在单个步骤内说明了任何两个以上指令术语(CO₂、惰性气体和HF)的情况下，这意味着同时操作多个指令。

图8是说明用于开始消融处置过程的用于控制内窥镜装置200和消融处置装置300的管控序列(在图8中标记为序列号)的不同模式的图表。

在序列号1中，在第一步骤期间注入CO₂气体，然后在第二步骤期间注入惰性气体，最后在第三步骤期间施加HF电流。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402推出并远离远侧末端201。第二步骤期间注入的惰性气体积聚在消融目标区域404近旁，同时连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402的内部或远侧末端201近旁。第三步骤期间施加的HF电流将导致在惰性气体气氛406中发生放电，并且使消融目标区域404消融，而不必担心在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号2中，在第一步骤期间注入CO₂气体，然后在第二步骤期间施加HF电流，最后在第三步骤期间注入惰性气体。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出。由于HF电流不足以使注入的CO₂气体离子化，所以第二步骤期间施加的HF电流将不会产生任何放电，但是在第三步骤中形成惰性气体气氛406之后，HF电流将足以在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内部或远侧末端201近旁。

在序列号3中，在第一步骤期间首先注入CO₂气体，然后在第二步骤期间同时发生施加HF电流和注入惰性气体(对于序列号3，没有第三步骤)。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出。第二步骤期间施加的HF电流和注入的惰性气体将在形成惰性气体气氛406之后在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内部或远侧末端201近旁。

在序列号4中，第一步骤期间同时注入CO₂气体和惰性气体，然后在第二步骤期间发生HF电流的施加(对于序列号4，没有第三步骤)。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出，并且在消融目标区域404近旁形成惰性气体气氛406。第二步骤期间施加的HF电流将在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内部或远侧末端201近旁。

在序列号5中，第一步骤期间同时发生CO₂气体的注入和HF电流的施加，然后第二步骤期间发生惰性气体的注入(对于序列号5，没有第三步骤)。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出，并且由于CO₂气体，HF电流的施加不会产生任何放电。电极302和消融目标区域404之间的放电仅在第二步骤期间在消融目标区域404近旁形成惰性气体气氛406之后发生，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内部或远侧末端201近旁。

在序列号6中，在第一步骤期间同时发生CO₂气体和惰性气体的注入以及HF电流的施加(对于序列号6，没有第二步骤和第三步骤)。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出，同时消融目标区域404近旁形成惰性气体气氛406。一旦在消融目标区域404近旁形成惰性气体气氛406，HF电流的施加就会在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内部或远侧末端201近旁。

在序列号7中，在第一步骤期间首先向消融目标区域404注入惰性气体，然后在第二步骤期间注入CO₂气体，最后在第三步骤期间施加HF电流。在第一步骤期间，注入的惰性气体在内管通道304的附近形成惰性气体气氛406。第二步骤期间注入的CO₂气体使积聚的惰性气体和其它可放电气体被推出帽402并远离远侧末端201，同时在消融目标区域404的附近形成惰性气体气氛406。在第三步骤期间施加的HF电流将放电并使消融目标区域404消融，而不必担心在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号8中，在第一步骤期间注入惰性气体，在第二步骤期间施加HF电流，然后在第三步骤期间注入CO₂气体。在第一步骤期间，注入的惰性气体在内管通道304近旁形成惰性气体气氛406。在第二步骤期间施加的HF电流将在电极302和消融目标区域404之间产生放电。在第三步骤期间注入的CO₂气体将防止在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号9中，在第一步骤期间注入惰性气体，然后在第二步骤期间同时发生HF电流的施加和CO₂气体的注入(对于序列号9，没有第三步骤)。在第一步骤期间，注入的惰性气体将在内管通道304近旁形成惰性气体气氛406。在第二步骤期间施加的HF电流将在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而同时注入的CO₂气体将防止在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号10中，在第一步骤期间同时发生惰性气体的注入和HF电流的施加，然后在第二步骤期间发生CO₂气体的注入(对于序列号10，没有第三步骤)。在第一步骤期间，注入的惰性气体将在内管通道304近旁形成惰性气体气氛406，并且同时施加的HF电流将在电极302和消融目标区域404之间产生放电。第二步骤期间注入的CO₂气体将防止在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号11中，在第一步骤期间施加HF电流，在第二步骤期间发生CO₂气体的注入，并且在第三步骤期间发生惰性气体的注入。在第一步骤期间，由于缺乏惰性气体气氛406，施加的HF电流将不会产生放电。在第二步骤期间，注入的CO₂气体推出并取代残留在帽402中的任何气体。在第三步骤期间，在电极302和消融目标区域404之间在产生惰性气体气氛406之后可以发生放电。

在序列号12中，在第一步骤期间施加HF电流，在第二步骤期间发生惰性气体的注入，并且在第三步骤期间发生CO₂气体的注入。在第一步骤期间，由于缺乏惰性气体气氛406，施加的HF电流将不会产生放电。在第二步骤期间，在电极302和消融目标区域404之间在产生惰性气体气氛406之后可以发生放电。除了通过内管通道306连续注入的惰性气体之外，注入的CO₂气体将残留在帽402中的任何气体推出。

在序列号13中，在第一步骤期间施加HF电流，并且在第二步骤期间发生惰性气体和CO₂气体的注入(对于序列号13，没有第三步骤)。在第一步骤期间，由于缺乏惰性气体气氛406，施加的HF电流不会产生放电。在第二步骤期间，在电极302和消融目标区域404之间在产生惰性气体气氛406之后将会发生放电，而同时注入的CO₂气体将残留在帽402中的任何气体推出，以防止意外放电。

图9是说明用于中止消融处置过程的用于控制内窥镜装置200和消融处置装置300的管控序列(在图9中标记为序列号)的不同模式的图表。下面使用图8中使用的相同术语和操作方法说明序列14至26的详情。

在序列号14中，在第一步骤期间停止CO₂气体的注入，然后在第二步骤期间停止惰性气体的注入，然后在第三步骤期间停止HF电流的施加。放电和消融过程在第一步骤期间不再注入CO₂气体之后继续进行，但是当不再注入惰性气体并且惰性气体气氛406被消耗或耗散并且不再支持离子化时，放电和消融过程会在第二步骤期间中止。即使放电和消融过程在整个第二步骤中继续进行，当HF电流的施加被关闭时，放电和消融过程也会在第三步骤期间中止。

在序列号15中，在第一步骤期间停止CO₂气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加，然后在第三步骤期间停止惰性气体的注入。放电和消融过程在第一步骤期间不再注入CO₂气体之后继续进行，但是当关闭HF电流的施加时，放电和消融过程会在第二步骤期间中止。

在序列号16中，在第一步骤期间停止CO₂气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加和惰性气体的注入(在序列号16中没有第三步骤)。放电和消融过程在第一步骤期间不再注入CO₂气体之后继续进行，但是当关闭HF电流的施加和惰性气体的注入时，放电和消融过程会在第二步骤期间中止。

在序列号17中，在第一步骤期间停止CO₂气体和惰性气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加(在序列号17中没有第三步骤)。随着惰性气体气氛406被消耗或耗散并且不再支持离子化时，放电和消融过程可以在CO₂气体和惰性气体不再被注入之后中止。当HF电流的施加被关闭时，放电和消融过程会在第二步骤期间中止。

在序列号18中，在第一步骤期间停止CO₂气体的注入和HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止惰性气体的注入(在序列号18中没有第三步骤)。当HF电流的施加被关闭时，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号19中，CO₂气体和惰性气体的注入以及HF电流的施加在第一步骤期间都停止(对于序列号19，没有第二步骤和第三步骤)。在所有三个活动都关闭之后，放电和消融过程会中止。

在序列号20中，在第一步骤期间停止惰性气体的注入，然后在第二步骤期间停止CO₂气体的注入，然后在第三步骤期间停止HF电流的施加。由于电极302和消融目标区域404之间的惰性气体气氛406将通过CO₂气体的连续注入而被推出，所以当停止惰性气体的注入时，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号21中，在第一步骤期间停止惰性气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加，然后在第三步骤期间停止CO₂气体的注入。由于电极302和消融目标区域404之间的惰性气体气氛406将通过CO₂气体的连续注入而被推出，所以当停止惰性气体的注入时，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号22中，在第一步骤期间停止惰性气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加和CO₂气体的注入(在序列号22中没有第三步骤)。由于电极302和消融目标区域404之间的惰性气体气氛406将通过CO₂气体的连续注入而被推出，所以当停止惰性气体的注入时，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号23中，在第一步骤期间停止惰性气体的注入和HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止CO₂气体的注入(在序列号23中没有第三步骤)。在停止惰性气体的注入和HF电流的施加之后，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号24中，在第一步骤期间停止HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止CO₂气体的注入，然后在第三步骤期间停止惰性气体的注入。在HF电流的施加停止之后，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号25中，在第一步骤期间停止HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止惰性气体的注入，在第三步骤期间停止CO₂气体的注入。在停止HF电流的施加之后，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号26中，在第一步骤期间停止HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止惰性气体和CO₂气体的注入(在序列号26中没有第三步骤)。在停止HF电流的施加之后，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号1、2、3、4、5、6、7、9、11和13中，控制电路被编程为在供应第一气体之前或与供应第一气体同时供应第二气体，或者在施加第一高频电流之前或与施加第一高频电流同时供应第二气体(变化例1)。变化例1的共同优点是CO₂气体的注入发生在HF电流施加到惰性气体从而引起放电之前或同时。注入的CO₂气体用于防止在内窥镜装置200的帽402内和/或远侧末端201近旁发生意外放电。

在序列号8、10和12中，控制电路被编程为在供应第一气体和施加第一高频电流之后供应第二气体(变化例2)。变化例2的共同优点是放电可以在不等待CO₂气体注入的情况下发生，允许立即开始处置过程，这也可导致缩短整个处置过程的时间。

在序列号14、15和16中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应或停止第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应(变化例3)。

在序列号17至26中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应或停止第一高频电流的施加之后停止第二气体的供应(变化例4)。变化例4的共同优点是CO₂气体的注入在由于向惰性气体施加HF电流而引起的放电中止之后停止。因为CO₂气体用于在直到放电中止之前防止在内窥镜装置200的帽402内和/或远侧末端201近旁发生意外放电，所以降低了内窥镜装置200的远侧末端201损坏的风险。

控制电路可以在变化例1之后执行变化例3或变化例4，或者在变化例2之后执行变化例3或变化例4。

图10是列出用于开始消融处置过程的其它各种控制序列的图表。图10中的图表公开了用于开始消融处置过程的用于控制内窥镜装置200和消融处置装置300的管控序列(在图10中标记为序列号)的不同模式。

在序列号1A中，在第一步骤期间注入CO₂气体，然后在第二步骤期间注入惰性气体，最后在第三步骤期间施加HF电流。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402推出并远离远侧末端201。在第二步骤期间注入的惰性气体积聚在消融目标区域404近旁，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内或远侧末端201近旁。在第三步骤期间施加的HF电流将导致在惰性气体气氛406内发生放电和消融消融目标区域404，而不必担心在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号2A中，在第一步骤期间注入CO₂气体，然后在第二步骤期间施加HF电流，最后在第三步骤期间注入惰性气体。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出。由于HF电流不足以使注入的CO₂气体离子化，所以在第二步骤期间施加的HF电流不会产生任何放电，但是在第三步骤中形成惰性气体气氛406之后，HF电流将足以在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内或远侧末端201近旁。

在序列号3A中，在第一步骤期间首先注入CO₂气体，然后在第二步骤期间同时发生HF电流的施加和惰性气体的注入(对于序列号3A，没有第三步骤)。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出。在第二步骤期间施加的HF电流和注入的惰性气体将在形成惰性气体气氛406之后在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内或远侧末端201近旁。

在序列号4A中，在第一步骤期间同时注入CO₂气体和惰性气体，然后在第二步骤期间发生HF电流的施加(对于序列号4A，没有第三步骤)。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出，并且在消融目标区域404近旁形成惰性气体气氛406。在第二步骤期间施加的HF电流将在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内或远侧末端201近旁。

在序列号5A中，在第一步骤期间同时发生CO₂气体的注入和HF电流的施加，然后在第二步骤期间发生惰性气体的注入(对于序列号5A，没有第三步骤)。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出，由于CO₂气体，HF电流的施加不会产生任何放电。只有在第二步骤期间在消融目标区域404近旁形成惰性气体气氛406之后，电极302和消融目标区域404之间的放电才会发生，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内或远侧末端201近旁。

在序列号6A中，在第一步骤期间同时发生CO₂气体和惰性气体的注入以及HF电流的施加(对于序列号6A，没有第二步骤和第三步骤)。在第一步骤期间，来自先前过程的任何残留惰性气体被注入的CO₂气体从帽402或远侧末端201推出，同时在消融目标区域404近旁形成惰性气体气氛406。一旦在消融目标区域404近旁形成惰性气体气氛406，HF电流的施加将在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而连续注入的CO₂气体防止惰性气体积聚在帽402内或远侧末端201近旁。

在序列号7A中，在第一步骤期间首先向消融目标区域404注入惰性气体，然后在第二步骤期间注入CO₂气体，最后在第三步骤期间施加HF电流。在第一步骤期间，注入的惰性气体在内管通道304的附近形成惰性气体气氛406。在第二步骤期间注入的CO₂气体将积聚的惰性气体和其它可放电气体推出帽402并远离远侧末端201，同时在消融目标区域406的附近形成惰性气体气氛。在第三步骤期间施加的HF电流将放电并消融消融目标区域404，而不必担心在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号8A中，在第一步骤期间注入惰性气体，然后在第二步骤期间同时发生HF电流的施加和CO₂气体的注入(对于序列号8A，没有第三步骤)。在第一步骤期间，注入的惰性气体将在内管通道304近旁形成惰性气体气氛406。在第二步骤期间施加的HF电流将在电极302和消融目标区域404之间产生放电，而连续注入的CO₂气体将防止在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号9A中，在第一步骤期间施加HF电流，在第二步骤期间发生CO₂气体的注入，在第三步骤期间发生惰性气体的注入。在第一步骤期间，由于缺乏惰性气体气氛406，施加的HF电流将不会产生放电。在第二步骤期间，注入的CO₂气体推出并替换残留在帽402中的任何气体。在第三步骤期间，在电极302和消融目标区域404之间在产生惰性气体气氛406之后可以发生放电。

在序列号10A中，在第一步骤期间施加HF电流，并且在第二步骤期间发生惰性气体和CO₂气体的注入(对于序列号10A，没有第三步骤)。在第一步骤期间，由于缺乏惰性气体气氛406，施加的HF电流不会产生放电。在第二步骤期间，在电极302和消融目标区域404之间在产生惰性气体气氛406之后将发生放电，而被同时注入的CO₂气体将残留在帽402中的任何气体推出，以防止意外放电。

对于序列号1A至10A来说，共同优点是CO₂气体的注入发生在HF电流施加到惰性气体从而引起放电之前或同时。注入的CO₂气体用于防止在内窥镜装置200的帽402内和/或远侧末端201近旁发生意外放电。

图11是进一步列出了用于开始消融处置过程的各种控制序列的图表。图11中的图表公开了用于开始消融处置过程的用于控制内窥镜装置200和消融处置装置300的管控序列(在图11中标记为序列号)的不同模式。

在序列号1B中，在第一步骤期间注入惰性气体，在第二步骤期间施加HF电流，然后在第三步骤期间注入CO₂气体。在第一步骤期间，注入的惰性气体在内管通道304近旁形成惰性气体气氛406。在第二步骤期间施加的HF电流将在电极302和消融目标区域404之间产生放电。在第三步骤期间注入的CO₂气体将防止在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号2B中，在第一步骤期间同时发生惰性气体的注入和HF电流的施加，然后在第二步骤期间发生CO₂气体的注入(对于序列号2B，没有第三步骤)。在第一步骤期间，注入的惰性气体将在内管通道304近旁形成惰性气体气氛406，同时施加的HF电流将在电极302和消融目标区域404之间产生放电。在第二步骤期间注入的CO₂气体将防止在电极302和帽402或远侧末端201之间发生放电。

在序列号3B中，在第一步骤期间施加HF电流，在第二步骤期间发生惰性气体的注入，并且在第三步骤期间发生CO₂气体的注入。在第一步骤期间，由于缺乏惰性气体气氛406，施加的HF电流将不会产生放电。在第二步骤期间，在电极302和消融目标区域404之间在产生惰性气体气氛406之后可以发生放电。除了连续地通过内管通道306注入的惰性气体之外，注入的CO₂气体推出了残留在帽402中的任何气体。

对于序列号1B至3B，共同优点是放电可以在不等待CO₂气体注入的情况下发生，允许立即开始处置过程，这也可导致缩短整个处置过程的时间。

图12是列出用于中止消融处置过程的其它各种控制序列的图表。图12中的图表公开了用于中止消融处置过程的用于控制内窥镜装置200和消融处置装置300的管控序列(在图12中标记为序列号)的不同模式。

在序列号1C中，在第一步骤期间停止CO₂气体和惰性气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加(在序列号1C中没有第三步骤)。随着惰性气体气氛406被消耗或耗散并且不再支持离子化，在CO₂气体和惰性气体不再被注入之后，放电和消融过程可以中止。当HF电流的施加被关闭时，放电和消融过程会在第二步骤期间中止。

在序列号2C中，在第一步骤期间停止CO₂气体的注入和HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止惰性气体的注入(在序列号2C中没有第三步骤)。当HF电流的施加被关闭时，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号3C中，在第一步骤期间，CO₂气体和惰性气体的注入以及HF电流的施加都停止(在序列号3C中没有第二步骤和第三步骤)。在所有三个活动都关闭之后，放电和消融过程会中止。

在序列号4C中，在第一步骤期间停止惰性气体的注入，然后在第二步骤期间停止CO₂气体的注入，然后在第三步骤期间停止HF电流的施加。由于电极302和消融目标区域404之间的惰性气体气氛406将通过CO₂气体的连续注入而被推出，所以当惰性气体的注入停止时，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号5C中，在第一步骤期间停止惰性气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加，然后在第三步骤期间停止CO₂气体的注入。由于电极302和消融目标区域404之间的惰性气体气氛406将通过CO₂气体的连续注入而被推出，所以当惰性气体的注入停止时，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号6C中，在第一步骤期间停止惰性气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加和CO₂气体的注入(在序列号6C中没有第三步骤)。由于电极302和消融目标区域404之间的惰性气体气氛406将通过CO₂气体的连续注入而被推出，所以当惰性气体的注入停止时，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号7C中，在第一步骤期间停止惰性气体的注入和HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止CO₂气体的注入(在序列号7C中没有第三步骤)。在停止惰性气体的注入和HF电流的施加之后，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号8C中，在第一步骤期间停止HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止CO₂气体的注入，在第三步骤期间停止惰性气体的注入。在停止HF电流的施加之后，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号9C中，在第一步骤期间停止HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止惰性气体的注入，在第三步骤期间停止CO₂气体的注入。在停止HF电流的施加之后，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

在序列号10C中，在第一步骤期间停止HF电流的施加，然后在第二步骤期间停止惰性气体和CO₂气体的注入(在序列号10C中没有第三步骤)。在停止HF电流的施加之后，放电和消融过程会在第一步骤期间中止。

对于序列号1C至10C来说，共同优点是CO₂气体的注入在由于向惰性气体施加HF电流而引起的放电中止之后停止。因为CO₂气体用于在直到放电中止之前防止在内窥镜装置200的帽402内和/或远侧末端201近旁发生意外放电，所以降低了内窥镜装置200的远侧末端201损坏的风险。

图13是进一步列出用于中止消融处置过程的各种控制序列的图表。图13中的图表公开了说明用于中止消融处置过程的用于控制内窥镜装置200和消融处置装置300的管控序列(在图13中标记为序列号)的不同模式的图表。

在序列号1D中，在第一步骤期间停止CO₂气体的注入，然后在第二步骤期间停止惰性气体的注入，然后在第三步骤期间停止HF电流的施加。在第一步骤期间，放电和消融过程在CO₂气体不再被注入之后继续进行，但是当惰性气体不再被注入并且惰性气体气氛406被消耗或耗散并且不再支持离子化时，放电和消融过程在第二步骤期间可以中止。即使放电和消融过程在整个第二步骤中继续进行，当HF电流的施加被关闭时，放电和消融过程也会在第三步骤期间中止。

在序列号2D中，在第一步骤期间停止CO₂气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加，然后在第三步骤期间停止惰性气体的注入。在第一步骤期间，放电和消融过程在CO₂气体不再被注入之后继续进行，但是当HF电流的施加被关闭时，放电和消融过程将在第二步骤期间中止。

在序列号3D中，在第一步骤期间停止CO₂气体的注入，然后在第二步骤期间停止HF电流的施加和惰性气体的注入(在序列号3D中没有第三步骤)。在第一步骤期间，放电和消融过程在CO₂气体不再被注入之后继续进行，但是当HF电流的施加和惰性气体的注入被关闭时，放电和消融过程将在第二步骤期间中止。

虽然已经结合本发明的优选实施方式说明了本发明，但是本领域技术人员将认识到，在不脱离所附权利要求所限定的本发明的精神和范围的情况下，可以进行未具体说明的添加、删除、修改和替换。

上述实施方式中的控制装置的全部或部分可以由计算机实现。在这种情况下，用于实现该功能的程序可以被记录在计算机可读记录介质中，并且记录在记录介质上的程序可以被读入计算机系统中并且为了实现而被执行。本文使用的术语“计算机系统”包括OS或诸如外设等的硬件。“计算机可读记录介质”指的是诸如软盘、磁光盘、诸如ROM或CD-ROM等便携式介质或嵌入计算机系统中的硬盘等的存储装置。“计算机可读记录介质”可以包括：短时间地动态保持程序的记录介质，例如经由因特网等网络或电话线等通信线路传送程序时的通信线路；将程序保持一定时期的记录介质，例如在这种情况下用作服务器或客户机的计算机系统内部的易失性存储器。上述程序也可以是用于实现上述功能的一部分的程序。上述程序可以是能够与已经记录在计算机系统中的程序组合来实现上述功能的程序。上述程序可以是通过使用诸如FPGA等可编程逻辑器件来实现的程序。

所公开的内窥镜系统的实施方式包括：内窥镜，其包括插入通道；处置管，其插入穿过所述插入通道并从所述插入通道的远端突出，其中所述处置管包括电极和第一气体通道、被构造成通过所述第一气体通道供应第一气体的第一气体源、被构造成通过不包括在所述处置管内的第二气体通道供应第二气体并且沿所述插入通道的远端的方向供应所述第二气体的第二气体源、被构造为向所述电极供应足以将所述第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流的电源、以及控制所述电源、所述第一气体源和所述第二气体源的控制电路。所述第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，所述第二高频电流高于所述第一高频安培数。

在本公开的另一方面中，第一气体是惰性气体，诸如氩。

在本公开的另一方面中，第二气体是二氧化碳。

在本公开的另一方面中，第一气体是氩并且第二气体是二氧化碳，第一高频电流足以将氩离子化成等离子体状态，但不足以将二氧化碳离子化成等离子体状态。

在本公开的另一方面中，在电极的壁的外表面和处置管的壁的内表面之间的空间(plenum)形成第一气体通道。

在本公开的另一方面中，第一气体通道延伸经过电极的主体，并且包括在电极的远端面(例如处置管的远端面)上的开口。

在本公开的另一方面中，在处置管的壁的外表面和插入通道的壁的内表面之间的空间形成第二气体通道。

在本公开的另一方面中，第三气体源被构造成通过第三气体通道供应第三气体，其中第三气体通道形成在内窥镜内并独立于插入通道，并且其中第三气体通道具有在内窥镜的远端中的开口，所述开口与在内窥镜的远端中的用于处置管的开口间隔开。

在本公开的另一方面中，第二气体通道形成在内窥镜内并且独立于插入通道，并且其中第二气体通道具有在内窥镜的远端中的开口，所述开口与在内窥镜的远端中的用于处置管的开口间隔开。

在本公开的另一方面中，处置管包括外部和内部，所述外部与所述内部相比具有较大的直径，并且所述外部的直径等于或略小于插入通道的内径。

在本公开的另一方面中，不考虑电极的话，所述外部从处置管的远端延伸大于10mm。

在本发明的另一方面中，在内窥镜的远端附接有帽。

在本公开的另一方面中，所述外部和电极都从被帽覆盖的区域突出。

在本公开的另一方面中，电极是中性电极。

在本公开的另一方面中，处置管的壁的外表面包括一个或多个凹槽。

在本公开的另一方面中，凹槽是三角形的、曲线形的、路缘石形的或块形的。

在本公开的另一方面中，处置管的壁的外表面包括一个或多个平坦表面。

在本公开的另一方面中，控制装置包括控制器，控制器包括用于控制第一气体源、第二气体源和电源的控制电路。第一气体源被构造为通过内窥镜内的第一气体通道供应第一气体，第二气体源被构造为通过内窥镜内的第二气体通道供应第二气体，并且电源被构造为向电极供应足以将第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流。第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，第二高频电流高于第一高频安培数。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第一气体之前或同时供应第二气体，或者在施加第一高频电流之前或同时供应第二气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第一气体和施加第一高频电流之后供应第二气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应或停止第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应或停止第一高频电流的施加之后停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在同时供应第一气体并施加第一高频电流之前供应第二气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在施加第一高频电流之前同时供应第一气体和第二气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第一气体之前同时供应第二气体和施加第一高频电流。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为同时供应第一气体和第二气体以及施加第一高频电流。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第二气体之前供应第一气体，并且在施加第一高频电流之前供应第二气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在同时施加第一高频电流并供应第二气体之前供应第一气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第二气体之前施加第一高频电流，并且在供应第一气体之前供应第二气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在同时供应第一气体和第二气体之前施加第一高频电流。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第一气体之前或同时供应第二气体，或者在施加第一高频电流之前或同时供应第二气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第一气体和施加第一高频电流之后供应第二气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应或停止第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应或停止第一高频电流的施加之后停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在施加第一高频电流之前供应第一气体，并且在供应第二气体之前供应第一高频电流。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第二气体之前同时供应第一气体和施加第一高频电流。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第一气体之前施加第一高频电流，并且在供应第二气体之前供应第一气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应之前停止第二气体的供应，并且在停止第一高频电流的施加之前停止第一气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应，并且在停止第一气体的供应之前停止第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在同时停止第一气体的供应和第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一高频电流的施加之前同时停止第一气体和第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应之前同时停止第二气体的供应和第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为同时停止第一气体和第二气体的供应以及第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第二气体的供应之前停止第一气体的供应，并且在停止第一高频电流的施加之前停止第一气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一高频电流的施加之前停止第一气体的供应，并且在停止第二气体的供应之前停止第一高频的施加。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在同时停止第二气体的供应和停止第一高频电流的施加之前停止第一气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第二气体的供应之前同时停止第一气体的供应和第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第二气体的供应之前停止第一高频电流的施加，并且在停止第一气体的供应之前停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应之前停止第一高频电流的施加，并且在停止第二气体的供应之前停止第一气体的供应。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在同时停止第一气体和第二气体的供应之前停止第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在供应第一气体之前或同时供应第二气体，或者在施加第一高频电流之前或同时供应第二气体。

在本公开的另一方面中，控制电路被编程为在停止第一气体的供应之后或在停止第一高频电流的施加之后停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，公开了对第一气体和第二气体的流、被构造为通过第一气体通道供应第一气体的第一气体源以及被构造为通过第二气体通道供应第二气体的第二气体源进行控制的方法。所述方法包括：以到达电极的远端之外为目的通过第一气体通道将第一气体供应到例如处置区域，不以到达电极的远端之外为目的通过第二气体通道将第二气体供应到例如处置区域，以及对电极施加第一高频电流以将第一气体离子化为等离子体状态，其中第一高频电流足以将第一气体离子化为等离子体状态。第一气体以第一高频电流离子化成等离子体状态，第二气体以第二高频电流离子化成等离子体状态，并且第二高频电流高于第一高频电流。

在本公开的另一方面中，公开了用于第一气体和第二气体的流、被构造为通过第一气体通道供应第一气体的第一气体源以及被构造为通过第二气体通道供应第二气体的第二气体源的控制方法。所述方法包括：以到达电极的远端之外为目的通过第一气体通道供应第一气体，不以到达电极的远端之外为目的通过第二气体通道供应第二气体，以及对电极施加第一高频电流以将第一气体离子化为等离子体状态，其中第一高频电流足以将第一气体离子化为等离子体状态。在停止第一气体的供应或停止第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应，第一气体以第一高频电流离子化成等离子体状态，第二气体以第二高频电流离子化成等离子体状态，并且第二高频电流高于第一高频电流。

在本公开的另一方面中，公开了对第一气体和第二气体的流、被构造为通过第一气体通道供应第一气体的第一气体源以及被构造为通过第二气体通道供应第二气体的第二气体源进行控制的方法。所述方法包括：以到达电极的远端之外为目的通过第一气体通道供应第一气体，不以到达电极的远端之外为目的通过第二气体通道供应第二气体，以及对电极施加第一高频电流以将第一气体离子化为等离子体状态，其中第一高频电流足以将第一气体离子化为等离子体状态。在停止第一气体的供应或停止第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应，第一气体以第一高频电流离子化成等离子体状态，第二气体以第二高频电流离子化成等离子体状态，并且第二高频电流高于第一高频电流。

在本公开的另一方面中，在供应第一气体之前或同时供应第二气体，或者在施加第一高频电流之前或同时供应第二气体。另外，在一些实施方式中，第一气体以第一高频电流离子化成等离子体状态，第二气体以第二高频电流离子化成等离子体状态，并且第二高频电流高于第一高频电流。在一些实施方式中，第一气体是诸如氩的惰性气体，第二气体是二氧化碳，并且第一高频电流足以仅将例如氩的第一气体离子化成等离子体状态。

在本公开的另一方面中，在供应第一气体和施加第一高频电流之后供应第二气体。

在本公开的另一方面中，在停止第一气体的供应或停止第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，在供应第一气体之前供应第二气体，并且在施加第一高频电流之前供应第一气体。

在本公开的另一方面中，在施加第一高频电流之前供应第二气体，并且在供应第一气体之前施加第一高频电流。

在本公开的另一方面中，在同时供应第一气体并施加第一高频电流之前供应第二气体。

在本公开的另一方面中，在施加第一高频电流之前，同时供应第一气体和第二气体。

在本公开的另一方面中，在供应第一气体之前，同时发生第二气体的供应和第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，第一气体和第二气体的供应以及第一高频电流的施加同时发生。

在本公开的另一方面中，在供应第二气体之前供应第一气体，并且在施加第一高频电流之前供应第二气体。

在本公开的另一方面中，在同时施加第一高频电流并供应第二气体之前供应第一气体。

在本公开的另一方面中，在供应第二气体之前施加第一高频电流，并且在供应第一气体之前供应第二气体。

在本公开的另一方面中，在同时供应第一气体和第二气体之前施加第一高频电流。

在本公开的另一方面中，在停止第一气体的供应之前停止第二气体的供应，并且在停止第一高频电流的施加之前停止第一气体的供应。

在本公开的另一方面中，在停止第一高频电流的供应之前停止第二气体的供应，并且在停止第一气体的供应之前停止第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，在同时停止第一气体的供应和第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，在停止第一高频电流的施加之前，同时停止第一气体和第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，在停止第一气体的供应之前，同时停止第二气体的供应和第一高频的施加。

在本公开的另一方面中，同时停止第一气体和第二气体的供应以及第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，在停止第二气体的供应之前停止第一气体的供应，并且在停止第一高频电流的施加之前停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，在停止第一高频电流的施加之前停止第一气体的供应，并且在停止第二气体的供应之前停止第一高频的施加。

在本公开的另一方面中，在同时停止第二气体的供应和第一高频电流的施加之前停止第一气体的供应。

在本公开的另一方面中，在停止第二气体的供应之前，同时停止第一气体的供应和第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，在停止第二气体的供应之前停止第一高频电流的施加，并且在停止第一气体的供应之前停止第二气体的供应。

在本公开的另一方面中，在停止第一气体的供应之前停止第一高频电流的施加，并且在停止第二气体的供应之前停止第一气体的供应。

在本公开的另一方面中，在同时停止第一气体和第二气体的供应之前停止第一高频电流的施加。

在本公开的另一方面中，在停止第一气体的供应之后或在停止第一高频电流的施加之后停止第二气体的供应。

产业上的可利用性

内窥镜处置装置和夹持单元基本上避免了由于在传统内窥镜处置装置和夹持单元中发现的限制和缺点而导致的一个或多个问题。

附图标记列表

200内窥镜装置(内窥镜)

224内窥镜系统

230处置装置通道(插入通道)

304 处置管

302 电极

306 第一气体通道

331 第一气体源

332 第二气体源

308 第二气体通道

333 电源

400 控制电路

Claims (20)

1.一种内窥镜系统，包括：

内窥镜，其包括插入通道；

处置管，其被插入穿过所述插入通道并从所述插入通道的远端突出，其中所述处置管包括电极和第一气体通道；

第一气体源，其被构造成通过所述第一气体通道供应第一气体；

第二气体源，其被构造成通过第二气体通道供应第二气体，其中所述第二气体通道不包括在所述处置管内，并且所述第二气体通道沿所述插入通道的远端的方向供应所述第二气体；

电源，其被构造为向所述电极供应足以将所述第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流；以及

控制电路，其控制所述电源、所述第一气体源和所述第二气体源，

其中，所述第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且所述第二高频电流高于所述第一高频安培数。

2.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述第二气体是二氧化碳。

3.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述第一气体是氩并且所述第二气体是二氧化碳，其中所述第一高频电流足以将氩离子化成等离子体状态，但不足以将二氧化碳离子化成等离子体状态。

4.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，在所述电极的壁的外表面和所述处置管的壁的内表面之间的空间形成所述第一气体通道。

5.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，在所述处置管的壁的外表面和所述插入通道的壁的内表面之间的空间形成所述第二气体通道。

6.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述第二气体通道形成在所述内窥镜内并独立于所述插入通道，其中所述第二气体通道在所述内窥镜的远端中具有开口，所述开口与所述内窥镜的远端中的用于所述处置管的开口间隔开。

7.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在供应所述第一气体之前或同时供应所述第二气体，或者在施加所述第一高频电流之前或同时供应所述第二气体。

8.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在供应所述第一气体和施加所述第一高频电流之后供应所述第二气体。

9.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之前停止所述第二气体的供应。

10.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之后停止所述第二气体的供应。

11.一种控制装置，包括：

控制器，其包括用于控制第一气体源、第二气体源和电源的控制电路；

其中，所述第一气体源被构造为沿着内窥镜通过第一气体通道供应第一气体，

所述第二气体源被构造为沿着内窥镜通过第二气体通道供应第二气体，

所述电源被构造为向电极供应足以将所述第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流，并且

所述第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且所述第二高频电流高于所述第一高频安培数。

12.根据权利要求11所述的控制装置，其中，所述控制电路被编程为在供应所述第一气体之前或同时供应所述第二气体，或者在施加所述第一高频电流之前或同时供应所述第二气体。

13.根据权利要求11所述的控制装置，其中，所述控制电路被编程为在供应所述第一气体和施加所述第一高频电流之后供应所述第二气体。

14.根据权利要求12所述的控制装置，其中，所述控制电路被编程为在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之前停止所述第二气体的供应。

15.根据权利要求12所述的控制装置，其中，所述控制电路被编程为在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之后停止所述第二气体的供应。

16.一种控制方法，所述方法对包括第一气体和第二气体的流的气流、被构造成通过第一气体通道供应第一气体的第一气体源以及被构造成通过第二气体通道供应所述第二气体的第二气体源进行控制，所述方法包括：

以到达电极的远端之外为目的通过所述第一气体通道供应所述第一气体；

不以到达电极的远端之外为目的通过所述第二气体通道供应第二气体；以及

对所述电极施加第一高频电流以将所述第一气体离子化成等离子体状态，其中所述第一高频电流足以将所述第一气体离子化成等离子体状态，

其中，所述第一气体以第一高频电流离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频电流离子化成等离子体状态，并且所述第二高频电流高于所述第一高频电流。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，在供应所述第一气体之前或同时供应所述第二气体，或者在施加所述第一高频电流之前或同时供应所述第二气体。

18.根据权利要求16所述的方法，在供应所述第一气体和施加所述第一高频电流之后供应所述第二气体。

19.根据权利要求16所述的方法，其中，在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之前停止所述第二气体的供应。

20.根据权利要求16所述的方法，其中，在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之后停止所述第二气体的供应。