CN116989338B - 一种法兰组件及尾气处理系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种法兰组件及尾气处理系统，属于尾气处理技术领域，解决了现有技术中旋流进气法兰的出气口距离等离子体火炬头较远、氮气流在流动过程中强度不断削减导致等离子体火炬头的表面堆积大量的粉尘的问题。该组件中，进气管与尾气进气法兰连接，多重吹扫法兰设于尾气进气法兰的底部；供气单元依次通过多重吹扫法兰的吹扫进气口和进气通道与吹扫基体的内腔连通；吹扫组件的吹扫支管设于进气管中且沿进气管的长度方向延伸。本发明可用于尾气处理。

Description

一种法兰组件及尾气处理系统

技术领域

本发明属于尾气处理技术领域，具体涉及一种法兰组件及尾气处理系统。

背景技术

为了能够减少粉尘在尾气进气法兰和等离子体火炬头上的堆积，通常在尾气进气法兰的下方设有旋流进气法兰，旋流进气法兰产生的氮气流对尾气进气法兰下方的粉尘进行吹扫。

但是，由于旋流进气法兰的出气口距离等离子体火炬头较远，氮气流在流动过程中强度不断削减，在实际应用中，等离子体火炬头的表面仍然会堆积大量的粉尘，影响等离子体火炬头产生等离子体电弧，进而影响尾气处理的效率。

发明内容

鉴于以上分析，本发明旨在提供一种法兰组件及尾气处理系统，解决了现有技术中旋流进气法兰的出气口距离等离子体火炬头较远、氮气流在流动过程中强度不断削减导致等离子体火炬头的表面堆积大量的粉尘的问题。

本发明的目的主要是通过以下技术方案实现的：

本发明提供了一种法兰组件，其中，包括进气管、尾气进气法兰、多重吹扫法兰、吹扫组件和等离子体火炬头；进气管与尾气进气法兰连接，多重吹扫法兰设于尾气进气法兰的底部，等离子体火炬头贯穿尾气进气法兰；

多重吹扫法兰包括多层依次层叠的吹扫基体，等离子体火炬头凸出至吹扫基体的内腔中，吹扫基体上开设吹扫进气口和进气通道，供气单元依次通过吹扫进气口和进气通道与吹扫基体的内腔连通，至少一个进气通道朝向等离子体火炬头的侧壁，剩余进气通道朝向等离子体火炬头的下方；

吹扫组件包括吹扫主管和吹扫支管，吹扫支管设于进气管中且沿进气管的长度方向延伸，吹扫支管上开设多个吹扫通孔，吹扫主管贯穿进气管的内壁，吹扫支管通过吹扫主管与供气设备连接。

进一步地，还包括设于吹扫基体顶部的气体旋流法兰，气体旋流法兰上开设气流环道，气流环道的外壁开设进气孔，气流环道的内壁开设出气孔，出气孔的出气方向相对于气体旋流法兰的径向倾斜设置。

进一步地，多层吹扫基体上位置相对应的吹扫进气口依次连通构成气流通路，气流通路与同一供气单元连通。

进一步地，吹扫进气口沿竖直方向设置。

进一步地，进气通道的轴线沿水平方向设置且相对于吹扫基体的径向倾斜；

或者，进气通道的轴线在吹扫基体径向平面上的投影沿吹扫基体的径向设置，且进气通道的轴线向远离等离子体火炬头方向倾斜。

进一步地，进气通道的轴线沿水平方向设置且相对于吹扫基体的径向倾斜；

沿逐渐远离等离子体火炬头的方向，进气通道的轴线与吹扫基体的径向的夹角逐渐减小。

进一步地，多层吹扫基体之间通过连接件进行连接；

或者，多层吹扫基体一体成型。

进一步地，多层吹扫基体中，沿逐渐远离等离子体火炬头的方向，吹扫基体的内径逐渐减小。

进一步地，每层吹扫基体上，进气通道和吹扫进气口的数量均为多个。

本发明还提供了一种尾气处理系统，包括上述法兰组件。

与现有技术相比，本发明至少可实现如下有益效果之一：

A）本发明提供的法兰组件中，在尾气进气法兰下方设置多重吹扫法兰，向多重吹扫法兰上朝向等离子体火炬头的侧壁的进气通道通入氮气气流，一方面，吹扫等离子体火炬头侧壁上堆积的粉尘，另一方面，提高吹扫等离子体火炬头侧壁周围空间的的气体压力，使得多重吹扫法兰包围的尾气进气法兰的底部空间不会产生流动死区，从而能够减少粉尘颗粒发生返流的情况发生；同时，向多重吹扫法兰上朝向等离子体火炬头的下方的进气通道通入氮气气流，该气流对等离子体火炬头的下方进行集中吹扫，减少等离子体火炬头下方的粉尘堆积，并阻止粉尘从等离子体火炬头下方开口进入等离子体火炬头内。

B）本发明提供的法兰组件中，当处理含尘量较多的尾气时，开启供气设备，供气设备中的气体（例如，氮气、压缩空气等）依次通过吹扫主管、吹扫支管和吹扫通孔吹入进气管中，对进气管侧壁沉积的粉尘进行吹扫。在进气管内设置沿其长度方向延伸的吹扫支管，吹扫支管上设置吹扫通孔，氮气通过吹扫主管、吹扫支管输送至吹扫通孔，并通过吹扫通孔吹入进气管中，由于从每个吹扫通孔上流出的氮气气流均具有足够的强度，从而能够对进气管内壁不同位置上沉积的粉尘进行整体、均匀吹扫，有效减少进气管粉尘堆积严重的问题，保证尾气处理系统的正常进气。

本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分的从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在所写的说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

附图仅用于示出具体实施例的目的，而并不认为是对本发明的限制，在整个附图中，相同的参考符号表示相同的部件;

图1为本发明实施例一提供的法兰组件的结构示意图；

图2a为本发明实施例一提供的法兰组件中多重吹扫法兰的结构示意图；

图2b为图2a经过第一进气通道所处平面的剖面图；

图2c为图2a经过第二进气通道所处平面的剖面图；

图3a为本发明实施例一提供的法兰组件中多重吹扫法兰内壁的第一种形状示意图，箭头方向为氮气流动方向；

图3b为本发明实施例一提供的法兰组件中多重吹扫法兰内壁的第二种形状示意图，箭头方向为氮气流动方向；

图3c为本发明实施例一提供的法兰组件中多重吹扫法兰内壁的第三种形状示意图，箭头方向为氮气流动方向；

图4为本发明实施例一提供的法兰组件中进气管与吹扫组件的位置示意图；

图5为本发明实施例一提供的法兰组件中气体旋流法兰的结构示意图；

图6为图5的横向剖视图；

图7为本发明实施例一提供的法兰组件中法兰分离件、尾气进气法兰和旋流进气法兰的位置示意图；

图8为本发明实施例二提供的尾气处理设备的爆炸图；

图9为本发明实施例二提供的尾气处理设备中尾气进气法兰、旋流进气法兰、水幕法兰和卡钳的连接示意图。

附图标记：

1-吹扫主管；2-吹扫支管；3-吹扫通孔；4-进气管；5-支撑板；6-等离子体火炬头；7-紧固件；8-多重吹扫法兰；81-吹扫基体；82-吹扫进气口；83-进气通道；9-气体旋流法兰；10-气流环道；11-进气孔；12-出气孔；13-尾气进气法兰；14-旋流进气法兰；15-第一凸块；16-第二凸块；17-分离螺丝；18-第一卡块；19-锁紧螺丝；20-第二卡块；21水幕法兰；22-凸缘；23-反应腔。

具体实施方式

下面结合附图来具体描述本发明的优选实施例，其中，附图构成本发明的一部分，并与本发明的实施例一起用于阐释本发明的原理。

实施例一

本实施例提供了一种法兰组件，参见图1，包括进气管4、尾气进气法兰13、多重吹扫法兰8、旋流进气法兰14和吹扫组件，其中，进气管4、尾气进气法兰13和旋流进气法兰14依次连接，多重吹扫法兰8设于尾气进气法兰13的底部，等离子体火炬头6贯穿尾气进气法兰13中心的通孔并向下凸出至多重吹扫法兰8中，以此来减少等离子体火炬头6下端开口发生堵塞的情况，吹扫组件设于进气管4中。

对于多重吹扫法兰8的结构，具体来说，参见图2a至图2c，其包括两层依次层叠的吹扫基体81，吹扫基体81上开设吹扫进气口82和进气通道83，供气单元提供的气流依次通过吹扫进气口82和进气通道83，对等离子体火炬头6进行吹扫。具体地，图2a中所示的上层的吹扫基体81设有4个进气通道83（对应图2c所示的剖面图中的进气通道83），该进气通道83朝向等离子体火炬头6的侧壁，图2a中所示的下层的吹扫基体81设有4个进气通道83（对应图2b所示的剖面图中的进气通道83），进气通道83朝向等离子体火炬头6的下方。

本实施例中使用供气单元为进气通道83提供氮气气流，但在另外的实施例中，还可以在进气通道83中通入空气或者其它惰性气体，均不脱离本发明的范围。

应理解，本发明的实施例并不限于上述图2a至图2c所示的多重吹扫法兰8的结构。例如，多重吹扫法兰8还可以设置为包括大于两层的吹扫基体81，其中至少一层吹扫基体81上的进气通道83朝向等离子体火炬头6的侧壁，并至少具有一层吹扫基体81上的进气通道83朝向等离子体火炬头6的下方，每层吹扫基体81具有1个、2个、3个或大于4个进气通道83。

对于吹扫组件的结构，示例性地，参见图4，其包括吹扫主管1和吹扫支管2，吹扫支管2设于进气管4中且沿进气管4的长度方向延伸，吹扫支管2上开设多个吹扫通孔3，吹扫主管1贯穿进气管4的内壁，吹扫主管1的一端与供气设备连接，另一端与吹扫支管2连接，吹扫支管2的长度可以小于、等于或大于进气管4的长度。

现有技术中，旋流进气法兰14设于尾气进气法兰13与热分解腔或反应腔之间，为了便于旋流进气法兰14的安装和供气，其外径需要与尾气进气法兰13基本相等，为了便于尾气的流动，其外径需要与尾气进气法兰13、热分解腔或反应腔的内径基本相等，因而旋流进气法兰14的出气口与等离子体火炬头6较远，从旋流进气法兰14的出气孔12供应的氮气到达等离子体火炬头6时流速较低，无法对等离子体火炬头6上堆积的粉尘进行有效吹扫。

与现有技术相比，本实施例提供的法兰组件，在尾气进气法兰13下方设置多重吹扫法兰8，向多重吹扫法兰8上朝向等离子体火炬头6的侧壁的进气通道83通入氮气气流，一方面，吹扫等离子体火炬头6侧壁上堆积的粉尘，另一方面，提高吹扫等离子体火炬头6侧壁周围空间的气体压力，使得多重吹扫法兰8包围的尾气进气法兰13的底部空间不会产生流动死区，从而能够减少粉尘颗粒发生返流的情况发生；同时，向多重吹扫法兰8上朝向等离子体火炬头6的下方的进气通道83通入氮气气流，该气流对等离子体火炬头6的下方进行集中吹扫，减少等离子体火炬头下方的粉尘堆积，并阻止粉尘从等离子体火炬头6下方开口进入等离子体火炬头6内。

再一方面，当处理含尘量较多的尾气时，开启供气设备，供气设备中的气体（例如，氮气、压缩空气等）依次通过吹扫主管1、吹扫支管2和吹扫通孔3吹入进气管4中，对进气管4侧壁沉积的粉尘进行吹扫。在进气管4内设置沿其长度方向延伸的吹扫支管2，吹扫支管2上设置吹扫通孔3，氮气通过吹扫主管1、吹扫支管2输送至吹扫通孔3，并通过吹扫通孔3吹入进气管4中，由于从每个吹扫通孔3上流出的氮气气流均具有足够的强度，从而能够对进气管4内壁不同位置上沉积的粉尘进行整体、均匀吹扫，有效减少进气管4粉尘堆积严重的问题，保证尾气处理系统的正常进气。

为了能够进一步减少产生的粉尘颗粒发生返流的情况发生，示例性地，上述法兰组件还包括设于吹扫基体81顶部的气体旋流法兰9，对于气体旋流法兰9的结构，具体来说，参见图5至图6，气体旋流法兰9上开设气流环道10，气流环道10的外壁开设进气孔11，气流环道10的内壁开设出气孔12，出气孔12的出气方向相对于气体旋流法兰9的径向倾斜设置，进气孔11的进气方向沿气体旋流法兰9的径向设置。

本实施例中气体旋流法兰9中供入的气体可以为氮气，应理解，还可以为空气或者其它惰性气体。

这样，在吹扫基体81的顶部设置气体旋流法兰9，通过气体旋流法兰9供入氮气，提高顶部空间的气体压力，基本上不会产生流动死区，从而能够减少产生的粉尘颗粒发生返流的情况发生；同时，由于气体旋流法兰9能够产生螺旋流动的氮气流，从而能够对尾气进气法兰13底部进行适当的冲刷，并加速粉尘颗粒的流动，从而能够减少粉尘颗粒沉积在尾气进气法兰13底部。

在实际应用中，为了便于管路的连接，多层吹扫基体81上位置相对应的吹扫进气口82依次连通构成气流通路，气流通路与同一供气单元连通，也就是说，多个吹扫进气口82公用一个供气单元。

示例性地，吹扫进气口82沿竖直方向设置，为了能够提高吹扫的均匀性，进气通道83的轴线沿水平方向设置且相对于吹扫基体81的径向倾斜，在吹扫基体81内形成水平螺旋氮气流，水平螺旋氮气流能够对等离子体火炬头6的周围进行均匀吹扫。

为了能够实现吹扫强度的合理分配，沿从尾气进气法兰13朝向旋流进气法兰14的方向上（或沿逐渐远离等离子体火炬头6的方向），进气通道83的轴线与吹扫基体81的径向的夹角逐渐减小。这是因为，夹角越大则吹扫面积越大，夹角越小则等离子体火炬头6位置的吹扫强度越大。

或者，吹扫进气口82沿竖直方向设置，从吹扫强度的角度考虑，进气通道83的轴线在吹扫基体81径向平面上的投影沿吹扫基体81的径向设置，且进气通道83的轴线向远离等离子体火炬头6方向倾斜（即向下倾斜），这样，从进气通道83吹出的氮气流能够径直对等离子体火炬头6的侧壁和/或周围进行高强度吹扫。

需要说明的是，多层吹扫基体81之间可以通过连接件（例如，相互配合的螺栓和螺母）进行连接；或者，从加工的角度考虑，多层吹扫基体81一体成型。

为了能够尽可能地增大对等离子体火炬头6侧壁和下方的吹扫强度，多层吹扫基体81中，沿逐渐远离等离子体火炬头6的方向，吹扫基体81的内径逐渐减小，也就是说，进气通道83的出气口距离等离子体火炬头6的垂直距离越小，从而能够在等离子体火炬头6的周围形成从上至下强度逐渐增加的氮气流保护，进一步减少甚至基本上能够避免等离子体火炬头6上粉尘的堆积。此外，采用此种结构的吹扫基体81，还能够有效降低吹扫基体81整体的重量，达到减重的目的。

为了能够吹扫基体81的内径逐渐减小，示例性地，可以采用如下三种方式：

第一种方式，多重吹扫法兰8的内壁为阶梯状，每级台阶对应一层吹扫基体81，参见图3a。

需要说明的是，采用此种方式，在相邻两级台阶的拐角处可能会出现粉尘堆积的问题，因此，相邻两级台阶的拐角处可以设置圆弧形的倒角，减少粉尘的堆积。

第二种方式，多重吹扫法兰8的内壁至少一段为倾斜壁，从上至下倾斜壁向多重吹扫法兰的轴线靠近，至少一个进气通道83的出气口位于倾斜壁上，参见图3b。

示例性地，多重吹扫法兰8的内壁从上至下包括依次连接的倾斜壁和竖直壁，至少一个进气通道83的出气口位于倾斜壁上，剩余进气通道83位于竖直壁上。

第三种方式，多重吹扫法兰8的内壁全部为倾斜壁，参见图3c。

需要说明的是，上述倾斜壁可以为直线型倾斜壁、内凹弧形或者外凸弧形的倾斜壁。

为了能够提高氮气流的均匀性，每层吹扫基体81上，进气通道83和吹扫进气口82的数量均为多个，多个进气通道83均匀布置，多个吹扫进气口82均匀布置，进气通道83和吹扫进气口82一一对应。示例性地，进气通道83和吹扫进气口82的数量均为2~8个，图2b和图2c中示出两者均为4个。

从结构的简化和吹扫两个方面考虑，示例性地，吹扫基体81的数量为两层，也就是说，上述多重吹扫法兰8包括从上至下依次层叠的第一吹扫基体和第二吹扫基体，参见图2b和图2c，第一吹扫基体上开设第一进气通道和第一吹扫进气口，第二吹扫基体上开设第二进气通道和第二吹扫进气口，其中，第一进气通道朝向等离子体火炬头6的侧壁，第二进气通道朝向等离子体火炬头6的下方，第二进气通道主要吹扫等离子体火炬头6下方中心区域的粉尘，第一进气通道主要吹扫等离子体火炬头6侧壁的粉尘。

相应地，第一吹扫基体、第二吹扫基体、第一进气通道和第二进气通道的具体参数如下：

第一吹扫基体的内径大于第二吹扫基体的内径，示例性地，第一吹扫基体的内径为50~75mm，第二吹扫基体的内径为50~60mm。

第一进气通道的轴线与第一吹扫基体的径向的夹角b大于或等于第二进气通道的轴线与第二吹扫基体的径向的夹角a，示例性地，第一进气通道的轴线与第一吹扫基体的径向的夹角b和第二进气通道的轴线与第二吹扫基体81的径向的夹角a为20°~50°。

为了保证氮气输入的顺畅性和吹扫强度，第一进气通道和第二进气通道的直径为2~6mm，第一进气通道与第二进气通道之间的距离为10~20mm。

为了能够减少吹扫组件在吹扫过程中发生的晃动，上述吹扫组件还包括设于进气管4外壁的支撑板5，支撑板5上开设支撑通孔，进气管4上开设安装通孔，支撑通孔和安装通孔位置相对应，吹扫主管1穿过支撑通孔和安装通孔且与两者固定连接，这样，通过支撑板5的设置，相当于增大了进气管4的壁厚，从而能够对吹扫主管1进行稳定支撑。

为了能够实现吹扫主管1的稳定安装，避免吹扫主管1从支撑通孔和安装通孔中脱出，上述进气管4的吹扫组件还包括紧固件7，紧固件7位于支撑板5远离进气管4的一侧，紧固件7套设于吹扫主管1的外壁且与吹扫主管1固定连接，从而紧固件7与支撑板5相固定，也就是说，吹扫组件与进气管4相固定。

为了便于吹扫组件的安装，进气管4的内径大于吹扫主管1的长度与吹扫支管2的外径之和，以便进气管4内有足够的空间实现吹扫组件的安装。

值得注意的是，在尾气处理系统运行时，内部空间通常为负压环境，尾气进气法兰13和旋流进气法兰14之间的分离往往需要借助工具将两者连接处撬开，但是，两者的连接处缝隙非常小，导致工具很难插入连接处，操作不便且十分费力，而且会对尾气进气法兰13和旋流进气法兰14造成损伤，因此，上述法兰组件还包括法兰分离件，参见图7，尾气进气法兰13和旋流进气法兰14层叠设置，该法兰分离件包括第一凸块15、第二凸块16和分离螺丝17，第一凸块15与尾气进气法兰13相连，第二凸块16与旋流进气法兰14相连，第一凸块15设于尾气进气法兰13的边缘处，第二凸块16设于旋流进气法兰14的边缘处，分离螺丝17的一端贯穿第一凸块15并抵在旋流进气法兰14上，分离螺丝17与第一凸块15可操作地相对移动，例如，两者可以通过螺纹连接。当需要将尾气进气法兰13与旋流进气法兰14分离时，转动分离螺丝17，使得分离螺丝17进一步旋入第一凸块15，也即分离螺丝17朝向旋流进气法兰14的方向运动，这时，当分离螺丝17与旋流进气法兰14相抵后，继续拧动分离螺丝17并使其向下运动2~8mm的长度，尾气进气法兰13和旋流进气法兰14的连接处产生缝隙，完成尾气进气法兰13和旋流进气法兰14的分离。

实施例二

本实施例提供了一种尾气处理系统，参见图8，包括法兰组件、水幕法兰21和反应腔23，法兰组件为实施例一提供的法兰组件，旋流进气法兰14的出气端依次与水幕法兰21和反应腔23依次连接，尾气从进气管4进入尾气处理系统，气流走向为进气管4→尾气进气法兰13→旋流进气法兰14→水幕法兰21→反应腔23。

与现有技术相比，本实施例提供的尾气处理系统的有益效果与实施例一提供的法兰组件的有益效果基本相同，在此不一一赘述。

为了能够提高上述尾气处理系统的整体性，尾气进气法兰13、旋流进气法兰14、水幕法兰21和反应腔23通过卡钳固定连接，卡钳包括第一卡块18、第二卡块20和锁紧螺丝19，参见图9，锁紧螺丝19的一端与第一卡块18连接，锁紧螺丝19的另一端与第二卡块20连接，第一卡块18设于尾气进气法兰13的上表面，第二卡块20设于反应腔23顶端凸缘22的下表面，在尾气处理系统的装配过程中，将尾气进气法兰13、旋流进气法兰14、水幕法兰21和反应腔23依次层叠，将第一卡块18卡在尾气进气法兰13的上表面，将旋流进气法兰14卡在反应腔23顶端凸缘22的下表面，然后，采用锁紧螺丝19将第一卡块18和第二卡块20锁紧，实现尾气进气法兰13、旋流进气法兰14、水幕法兰21和反应腔23的固定连接。这样，采用上述结构的卡钳，能够简单地将尾气进气法兰13和旋流进气法兰14锁紧为一个整体，无需在尾气进气法兰13和旋流进气法兰14上开设螺栓孔，能够有效降低加工难度，保证尾气处理系统的气密性；此外，卡钳可以设置在尾气进气法兰13和旋流进气法兰14边缘处的任一位置，从而能够对法兰组件进行更加灵活的设计，无需过多考虑卡钳的位置。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种法兰组件，其特征在于，包括进气管、尾气进气法兰、多重吹扫法兰、吹扫组件和等离子体火炬头；所述进气管与尾气进气法兰连接，所述多重吹扫法兰设于尾气进气法兰的底部，等离子体火炬头贯穿尾气进气法兰；

所述多重吹扫法兰包括多层依次层叠的吹扫基体，所述等离子体火炬头凸出至吹扫基体的内腔中，所述吹扫基体上开设吹扫进气口和进气通道，供气单元依次通过吹扫进气口和进气通道与吹扫基体的内腔连通，其中至少一层吹扫基体上的进气通道朝向等离子体火炬头的侧壁，并至少具有一层吹扫基体上的进气通道朝向等离子体火炬头的下方；

所述吹扫组件包括吹扫主管和吹扫支管，所述吹扫支管设于进气管中且沿进气管的长度方向延伸，所述吹扫支管上开设多个吹扫通孔，所述吹扫主管贯穿进气管的内壁，所述吹扫支管通过吹扫主管与供气设备连接；

多层吹扫基体上位置相对应的吹扫进气口依次连通构成气流通路，所述气流通路与同一供气单元连通；

所述进气通道的轴线沿水平方向设置且相对于吹扫基体的径向倾斜；或者，所述进气通道的轴线在吹扫基体径向平面上的投影沿吹扫基体的径向设置，且进气通道的轴线向远离等离子体火炬头方向倾斜。

2.根据权利要求1所述的法兰组件，其特征在于，还包括设于吹扫基体顶部的气体旋流法兰，所述气体旋流法兰上开设气流环道，所述气流环道的外壁开设进气孔，所述气流环道的内壁开设出气孔，所述出气孔的出气方向相对于气体旋流法兰的径向倾斜设置。

3.根据权利要求1所述的法兰组件，其特征在于，所述吹扫进气口沿竖直方向设置。

4.根据权利要求1所述的法兰组件，其特征在于，所述进气通道的轴线沿水平方向设置且相对于吹扫基体的径向倾斜；

沿逐渐远离等离子体火炬头的方向，所述进气通道的轴线与吹扫基体的径向的夹角逐渐减小。

5.根据权利要求1所述的法兰组件，其特征在于，多层吹扫基体之间通过连接件进行连接；

或者，多层吹扫基体一体成型。

6.根据权利要求1所述的法兰组件，其特征在于，多层吹扫基体中，沿逐渐远离等离子体火炬头的方向，所述吹扫基体的内径逐渐减小。

7.根据权利要求1至6任一项所述的法兰组件，其特征在于，每层吹扫基体上，所述进气通道和吹扫进气口的数量均为多个。

8.一种尾气处理系统，其特征在于，包括如权利要求1至7任一项所述的法兰组件。