CN116895577A - 用于末端执行器的载体、包括载体的运送设备、和衬底处理设备 - Google Patents

用于末端执行器的载体、包括载体的运送设备、和衬底处理设备 Download PDF

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Abstract

本发明的运送设备，包括：末端执行器，包括柄部和安置在所述柄部中的多个真空孔；以及载体，位于所述柄部上并且用于支撑消耗部件，其中所述载体包括：用于支撑所述消耗部件的一侧，面向所述末端执行器的所述柄部的另一表面，以及多多个支撑块，被安置在所述另一表面上并且与所述多个真空孔相对应，其中，与所述真空孔连通的内部空间被安置在所述多个支撑块中，并且所述内部空间通过从所述多个真空孔提供的负压而被抽空。

Description

用于末端执行器的载体、包括载体的运送设备、和衬底处理 设备
相关专利申请的交叉引用
本申请要求于2022年4月1日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2022-0041027号的权益，其公开内容通过引用全部并入本文。
技术领域
本发明涉及一种用于末端执行器的载体，以及包括所述载体的运送设备，和衬底处理设备。
背景技术
可以通过在衬底上形成预定图案来制造半导体器件。当在衬底上形成预定图案时，可以在半导体制造过程中所使用的装备中连续地执行多个过程，诸如沉积过程、光刻过程、和蚀刻过程。
发明内容
同时，聚焦环可能在所述衬底被蚀刻的同时与所述衬底一起被蚀刻。如果蚀刻量超过一定水平，则需要更换，并且正在持续努力以改进对环形构件(诸如聚焦环)的运送。
本发明的目的在于提供一种用于末端执行器的载体、以及包括所述载体的运送设备和衬底处理设备，所述载体易于制造且具有简单结构，并且能够以与衬底相同或相似的运送操作来运送环状构件。
本发明的目的不限于上述目的，且本领域技术人员通过下面的描述将清楚地理解其它未提及的目的。
本发明的用于实现上述目的的运送设备的一个方面包括末端执行器，所述末端执行器包括柄部和安置在所述柄部中的多个真空孔；以及载体，位于所述柄部上并且用于支撑消耗部件，其中，所述载体包括：用于支撑所述消耗部件的一侧，面向所述末端执行器的所述柄部的另一表面，以及多个支撑块，被安置在所述另一表面上并且与所述多个真空孔相对应，其中，与所述真空孔连通的内部空间被安置在所述多个支撑块中，并且所述内部空间通过从所述多个真空孔提供的负压而被抽空。
本发明的用于实现上述另一目的的衬底处理设备的一个方面包括：卡盘，用于支撑衬底；以及运送设备，其中，所述运送设备包括：末端执行器，包括柄部和安置在所述柄部中的多个真空孔；以及载体，位于所述柄部上并且用于支撑消耗部件，其中，所述载体包括：用于支撑所述消耗部件的一侧，面向所述末端执行器的所述柄部的另一表面，以及多个支撑块，被安置在所述另一表面上并且与所述多个真空孔相对应，其中，与所述真空孔连通的内部空间被安置在所述多个支撑块中，并且所述内部空间通过从所述多个真空孔提供的负压而被抽空，其中，所述消耗部件形成环形形状并且包括所述卡盘的环形构件，其中，所述载体具有直径与所述消耗部件相同的圆形形状、或具有沿着所述消耗部件的周缘形成拐角的多边形形状、或具有包括与所述消耗部件的弧相同的弧的形状，以便不从所述消耗部件的周缘突出，其中，多个突出单元被设置在所述载体的一个表面上，并且所述多个突出单元彼此间隔开、向上突出与所述消耗部件的内周表面相接触，以防止所述消耗部件的水平移动，并且所述多个突出单元被形成为具有与所述消耗部件的高度相比相同或更低的高度，其中，所述运送设备运送被设置在所述卡盘上的所述环形构件。
本发明的用于实现上述另一目的的用于末端执行器的载体的一个方面包括：基部单元，包括支撑消耗部件的一个表面，以及面向柄部以便位于包括所述柄部的所述末端执行器上的另一表面，多个真空孔被安置在所述柄部中；以及多个支撑块，被安置在所述另一表面上并且与所述多个真空孔相对应，其中，在所述支撑块中安置有内部空间，所述内部空间与所述多个真空孔连通并且通过从所述多个真空孔所提供的负压而被抽空。
其它实施例的细节被包括在具体实施方式和附图中。
附图说明
从以下结合附图对实施例的描述中，这些和/或其他方面将变得显而易见并且更容易理解，附图中：
图1是图示出根据本发明的一些实施例的衬底处理设备的示图；
图2是图示出根据本发明的一些实施例的处理室的示图；
图3是图示出根据本发明的第一实施例的运送设备的平面视图；
图4是沿图3的线H-H截取的横截面视图；
图5是示出根据本发明的第一实施例的运送设备的柄部的平面视图；
图6是示出根据本发明的第一实施例的运送设备的柄部的侧视图；
图7是图示出沿图6的线A-A截取的横截面的下部的横截面视图；
图8是示出根据本发明的第一实施例的运送设备的柄部的仰视图；
图9是沿图8的线B-B截取的横截面视图；
图10是图示出根据本发明的第一实施例的载体的平面视图；
图11是沿图10的线C-C截取的横截面视图；
图12是图示出根据本发明的第二实施例的其上安置有载体的运送设备的平面视图；
图13是图示出根据本发明的第二实施例的环形构件被安置在载体上的状态的横截面视图；
图14是图示出根据本发明的第三实施例的载体的平面视图；
图15是图示出根据本发明的第四实施例的载体的平面视图；
图16是图示出根据本发明的第五实施例的载体的平面视图；以及
图17是图示出根据本发明的第六实施例的环形构件被安置在载体上的状态的横截面视图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图详细描述本发明的优选实施例。参考下面结合附图详细描述的实施例，本发明的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本发明不限于下面描述的实施例，而是可以被实现为呈各种不同的形式，并且提供这些实施例是为了使本发明的描述完整，并且充分地对本发明所属领域的本领域技术人员告知本发明的范围，并且本发明仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记始终指代相同的元件。除非另有特别说明，否则单数也包括复数。
所述衬底处理设备1被安置在装备的前面，并且具有用于在容纳所述衬底W的容器C与处理装备(未示出)之间传送所述衬底W的索引单元(装备前端模块(EFEM))以及处理室100的结构。此处，所述处理装备的所述处理室100可以被布置呈相对于水平方向的两行，并且衬底运送设备60可以被设置在它们之间。
然而，本发明不限于此。在下文中，所述衬底处理设备1的所述处理室100的布置被设置成沿着所述传送室50的圆周。
图1是图示出根据本发明的一些实施例的衬底处理设备的示图。
参考图1，衬底处理设备1可以包括装载端口10、衬底传送模块200、装载锁定室30、传送室50、和处理室100。
装载端口10是前端模块，并且可以在大气状态下传送晶片。其中装载有在处理室100中受处理的多个衬底W(见图2)的容器C可以通过自动化系统(未示出)而被放置在装载端口10中。容器C是用于容纳呈预定数量的、在其上执行相同过程的多个衬底W，并且将所述多个衬底传送到每个处理装备的装置，并且可以使用前开口统一盒(FOUP)。
衬底传送模块200可以设置成与装载端口10相邻，容器C被放置在装载端口10上。所述衬底传送模块200可以使用传送设备200A在被放置在装载端口10上的容器C与装载锁定室30之间传送所述衬底W。稍后将参考图3和图4描述所述衬底传送模块200。
所述装载锁定室30可以被设置在所述衬底传送模块200的后端处。所述装载锁定室30可以包括装载室31和卸载室32。在装载室31中，流入所述处理室100的衬底W可以暂时地停留以供进展所述处理。在所述卸载室32中，在处理完成之后从处理室100流出的衬底W可以暂时停留在卸载室32。当所述衬底W被传送到装载锁定室30中时，控制器(未示出)将装载锁定室30的内部减压以形成初始低真空状态，并且通过这种方式，有可能防止外部污染物流入处理室100和传送室50中。
所述传送室50可以被设置成与装载锁定室30的一侧相邻。一个或更多个处理室100可以被布置呈在传送室50周围的预定布置方式。
所述传送室50被设置在装载锁定室30与处理室100之间，并且可以起到在一个或更多个处理室100之间或在装载锁定室30与一个或更多个处理室100之间传送衬底W的作用。可以在传送室50的内部设置用于传送衬底W的至少一个衬底传送装置60。
所述衬底传送装置60可以包括机器人臂(未示出附图标记)和臂叶片(未示出附图标记)，所述臂叶片可以由驱动装置(诸如步进电机)操作。
所述处理室100可以设置为用于执行各种衬底W过程的多个室。例如，处理室100可以执行蚀刻过程、化学气相沉积过程、灰化过程、和清洁过程。在下文中，将示例性地描述在真空环境中使用蚀刻过程(例如，干法蚀刻过程)处理衬底W的处理室100。并且，在此实施例中，所述处理室100的布置是为了例示所述处理室100沿着传送室50的圆周设置。
在下文中，将参考与每个描述相关的附图来描述处理室100和传送设备200A。
图2是图示出根据本发明的一些实施例的处理室的示图。
参考图2，处理室100可包括室主体110、衬底支撑单元120、气体供应单元130、等离子体源140、和挡板150。
然而，在本实施例中，作为示例，将处理室100的等离子体处理描述为电感耦合等离子体(ICP)装备，但这仅是示例。换言之，应当注意，处理室100可以被设置为电容耦合等离子体(CCP)装备、微波等离子体装备、或用于等离子体处理的其它各种等离子体处理设备。
所述室主体110可以提供处理空间，在所述处理空间中对所述衬底W进行处理。所述室主体110可以设置呈圆柱形、多边形或圆柱形。可以在所述室主体110中形成开口(未示出)。所述开口可以形成通道，所述衬底W通过所述通道被载入或载出。
可在所述室主体110的底表面中形成排气孔(未示出)。所述排气孔可以通过排气管线而被连接到泵。所述泵可以通过排气管线向排气孔提供真空压力。在所述过程期间所产生的副产物和停留在所述室主体110中的等离子体可以通过真空压力而排放到室主体110的外部。
所述衬底支撑单元120可以在处理空间中支撑所述衬底W。所述衬底支撑单元120可以被设置为静电卡盘，所述静电卡盘用于使用静电力支撑所述衬底W。作为另一示例，所述衬底支撑单元120可以用诸如机械夹持之类的各种方式支撑所述衬底W。换言之，所述衬底支撑单元120可以由用于支撑所述衬底W的卡盘(诸如静电卡盘)而形成。
所述衬底支撑单元120可以包括支撑件121、下构件122、升降销单元123、和环构件(其可以为聚焦环124)。
所述支撑件121可以被设置为电介质板。衬底W可以设置在所述电介质板的上表面上。例如，电介质板可以被设置为呈盘的形状。所述电介质板可以具有比所述衬底W更小的半径。下电极121A可以被安置在所述电介质板的内部。用于加热所述衬底W的加热器121B可以被安置在所述电介质板的内部。所述加热器121B可以被设置为螺旋线圈。
所述下构件122可以具有设置在其上的电介质板，以支撑所述电介质板。所述下构件122可以联接到待被固定的电介质板。所述下构件122的上表面可以具有阶梯形状，使得下构件122的中心区域高于边缘区域。
冷却通道122A可以形成在下构件122中。所述冷却通道122A可以被设置为通道，冷却流体通过所述通道循环。高频电源(未示出)被设置在所述下构件122的外部，并且高频电源可以将电力施加到所述下构件122。被施加到所述下构件122的电力可以引导在所述室主体110中所产生的等离子体以朝向所述下构件122移动。所述下构件112可以由金属材料制成。
所述升降销单元123可以包括升降销123A和销驱动构件(未示出)。所述升降销123A可以被设置成使得其纵向方向指向竖直方向。可以设置多个升降销123A，并且每个升降销123A可以被设置在销孔中。升降销123A可以上下移动以从销孔突出。
所述销驱动构件在所述竖直方向上移动所述多个升降销123A。所述销驱动构件可以在使多个升降销123A维持相同高度的同时上下移动。所述升降销单元123可以由销驱动构件升高所述升降销123A来升高和降低所述衬底W。
所述环构件可以设置有聚焦环124。所述聚焦环124可以将等离子体聚焦到所述衬底W。所述聚焦环124可以包括外环1241和内环1242。
所述外环1241可以被设置为呈围绕所述内环1242的圆环形状。所述外环1241可以被定位成在所述下构件122的边缘区域中与所述内环1242相邻。
所述内环1242可以被设置为呈围绕所述电介质板的圆环形状。所述内环1242可以具有台阶，使得内环1242可以具有内区域1242A和外区域1242B，所述内区域1242A被设置在与电介质板的上表面相同的高度处，并且所述外区域1242B具有比内区域1242A的高度更高的高度。内环1242的被设置在与电介质板的高度的相同高度处的内区域1242A可以支撑所述衬底W的底部边缘区域。
另外，所述聚焦环124的清洁过程所需要的时间，即MTBC(平均清洁间隔时间)，可以由所述内环1242的内区域1242A确定。然而，所述内环1242可以与衬底W一起通过在处理空间中所执行的蚀刻过程而被蚀刻。如果重复地执行处理所述衬底W的过程，则聚焦环124的蚀刻量逐渐地增加，并且需要进行更换。
如果必需更换所述聚焦环124，则可以由环驱动装置(未示出)和运送设备200A来运送/更换所述聚焦环124。
此处，例如，所述环驱动装置可以驱动所述聚焦环124上下。用于上下移动所述聚焦环124的销结构(未示出)可以被设置在所述驱动装置中。当需要更换所述聚焦环124时，可以由被包括在所述驱动装置中的销来升高和降低所述聚焦环124。当所述聚焦环124被上升和下降时，所述衬底传送装置60的柄部(未示出)被插入所述聚焦环124的底表面以从销接收所述聚焦环124。在所述衬底传送装置60接收所述聚焦环124之后，所述衬底传送装置60可以将所述聚焦环124传送到所述运送设备200A。
所述气体供应单元130可以将处理气体供应到由所述衬底支撑单元120所支撑的所述衬底W上。所述气体供应单元130可以包括用于储存气体的气体储存单元131、气体传递穿过的气体供应管线132、以及用于将气体引入处理空间的进气口(未示出)。
所述等离子体源140可将所述室主体110中的所述处理气体激发成等离子体状态。例如，所述等离子体源140可以是电感耦合等离子体(ICP)源。等离子体源140可以包括天线141和外部电源(未示出)。然而，本发明不限于此。
所述挡板150可以控制被排出到所述室主体110外部的等离子体的流率。所述挡板150可以在处理空间中位于所述室主体110的内壁与所述支撑单元120之间。所述挡板150被设置呈圆环形状。沿着挡板150的圆周方向设置的多个通孔可以被形成于所述挡板150中。
在下文中，将参照附图描述所述运送设备200A。
图3和图4是用于描述根据本发明的第一实施例的运送设备的示图。图5至图9是用于描述根据本发明的第一实施例的运送设备的柄部的视图。图10和图11是用于描述根据本发明的第一实施例的载体的示图。
参见图3至图11，运送设备200A可以包括末端执行器210和载体250。
简单地说，所述运送设备200A可以由基于真空的吸附力将运送设备200A附着到衬底W来传送所述衬底W。另外，本实施例的所述运送设备200A可以通过以吸附和运送所述衬底W的操作相同或类似的方式来吸附所述载体250并且将消耗部件布置在所述载体250上来运送消耗部件。消耗部件可以具有环形形状。例如，消耗部件可以包括聚焦环124，所述聚焦环124是卡盘(衬底支撑单元120)的环状构件。
具体地，所述末端执行器210可以被设置有机器人臂211和柄部212，并且可以包括被安置在柄部212中的多个真空孔212B。
所述机器人臂211被配置成被连接至所述柄部212并且操作所述柄部212。所述机器人臂211可以具有能够实现柄部212的水平移动和竖直高度调节的结构。例如，所述机器人臂211可以具有多关节结构，以便能够在水平方向上移动和/或旋转。并且，所述机器人臂211可以形成将马达、齿轮、皮带等组合以供在水平方向上操作的结构。此外，所述机器人臂211设置有气缸和活塞结构，并且可以通过调节所述活塞的突出长度来调节竖直高度。
此外，所述机器人臂211可以具有与用于形成真空的泵(未示出)相连通的真空路径211A，使得柄部212以真空方式与衬底W和载体250相吸附(见图4)。
所述柄部212被配置成支撑所述衬底W或所述载体250。所述柄部212可以用机械的方式连接到所述机器人臂211，这将代替已知技术而被省略。柄部212可以与机器人臂211的真空路径211A相连通，以便以真空方式与所述衬底W或所述载体250相吸附。
例如，参考图5，所述柄部212可以具有诸如“U”的形状。换言之，可以实现其中在端部处形成一对叶片的结构。并且参考图7(其可以处于与图8的底视图相同的观察方向)，真空孔212B位于柄部212中的每个虚拟顶点U(或V)处，并且可以在三个点处提供负压。所述多个真空孔212B可以通过单个真空管线212A(两端可以具有分支结构)彼此连通，使得同时地提供负压。然而，这仅是示例。
另外，参考图7，真空管线212A相对于下部观察方向被示例呈“y”形状(或左右反转的“y”形状)，并且真空孔212B被形成为从“y”形状的真空管线212A沿直角方向延伸。然而，真空管线212A的形状不限于此，并且可以变化该形状的变型(诸如“Y”)。
此外，在柄部212中，从真空管线212A沿直角方向延伸的连通孔212BB可以被形成在与真空管线212A中的真空孔212B间隔开的位置(其可以是“y”形的端部)处。所述连通孔212BB是一种其中所述真空管线212A与机器人臂211的真空路径211A相连通的配置(见图4)。
换言之，柄部212的真空孔212B可以形成用于从所述内部空间252S抽吸流体(其可以是诸如空气之类的气体)的入口。并且，柄部212的连通孔212BB可以是流体的出口，使得通过真空孔212B被引入的流体经由真空管线212A而流入机器人臂211的真空路径211A。
另外，在柄部212中，虽然图中未示出，但是根据实施例的变型，在柄部212的表面(其可以是上表面)上在真空孔212B的位置处还设置有单独的垫(未示出)。所述垫可以具有沿着真空孔212B的圆周形成的环形，使得真空孔212B的负压直接地作用在所述衬底W上。
所述柄部212的垫可以具有与接触垫253相同的直径，并且可以被设置成竖直地抵接。替代地，有可能进行各种修改，诸如柄部212的垫可以被形成为比所述接触垫253的内径更小，并且柄部212的垫和接触垫253可以被布置在内侧和外侧。此外，柄部212的垫可以由与接触垫253相同或类似的方式(稍后描述)由弹性材料或软材料制成。
所述载体250可以位于柄部212上，并且可以支撑消耗部件，如图3和图4所示。例如，所述载体250可以包括基部单元251、支撑块252、和接触垫253。
所述基部单元251可以形成所述载体250的外部。换言之，所述基部单元251的一个表面251T可以形成所述载体250的一个表面，并且所述基部单元251的另一表面251B可以形成所述载体250的另一表面。此处，所述载体250的一个表面可以是上表面。并且，所述载体250的另一表面可以是作为所述载体250的所述一个表面的相反表面的下表面。
所述基部单元251的一个表面251T可以支撑消耗部件。换言之，消耗部件可以被放置在所述基部单元251的上部上。所述基部单元251的所述另一表面251B可以面向所述柄部212，并且可以位于所述末端执行器210上。即，所述基部单元251的所述另一表面251B可以面向其中安置有所述多个真空孔212B的柄部212。
所述基部单元251可以被形成为呈板的形式，并且所述板可以具有不从所述消耗部件的周缘突出的形状。作为示例，所述基部单元251可以被形成为呈具有与图3和图10所示的消耗部件的直径相同的直径的圆形形状。然而，本发明不限于此，并且稍后将参考图15和图16描述另一实施例。
所述支撑块252被配置成增加所述末端执行器210与所述载体250之间的吸附力。
所述支撑块252的形状不受特别限制，并且可以进行各种修改，只要该结构是通过从真空孔212B所提供的负压而被抽空即可。所述支撑块252可以具有下端敞开且上端封闭的结构，使得所述内部空间252S的下端敞开，这将在后面描述。例如，所述支撑块252可以由柱状结构(诸如圆柱体、方柱体、或六角柱体)形成。
所述支撑块252可以被安置在所述基部单元251的所述另一表面251B上，以便与所述末端执行器210相接触。所述支撑块252可以对应于所述基部单元251的所述另一表面251B上的多个真空孔212B。换言之，所述支撑块252可以被设置于所述基部单元251的所述面向末端执行器210的另一表面251B上，位于面向真空孔212B的位置处。
所述支撑块252可以设置有待被真空吸附的内部空间252S。所述内部空间252S可以被形成为从所述支撑块252的下部向上部凹入的空间。即，所述内部空间252S可以在所述支撑块252的下部中形成开放空间。所述内部空间252S的下部是敞开的，以使得每个支撑块252与每个真空孔212B相连通。所述支撑块252的内部空间252S可以具有比真空孔212B的直径更大的直径。
例如，在大气压的环境中，所述内部空间252S可以在面向真空孔212B的位置处与多个真空孔212B连通，并且可以通过从所述多个真空孔212B所提供的负压而被抽空。从真空孔212B所提供的负压可以与被提供以吸附所述衬底W的负压相同或相似。即，可以采取与用于运送所述消耗部件的操作相同或相似的方式来应用通用末端执行器210的用于运送所述衬底W的操作。因此，即使所述末端执行器210具有不同的待运送物体(诸如衬底W或消耗部件)，根据待运送物体而进行的控制不会不同，使得用于控制所述末端执行器210的逻辑可以是简单的。
接触垫253可以被安置在所述支撑块252的表面上。然而，在一些实施例中可以省略所述接触垫253。
当所述内部空间252S被抽空时，所述接触垫253可以密封所述内部空间252S。此外，当所述内部空间252S被抽空时，所述接触垫253的表面(其可以是下表面)可以与所述末端执行器210成紧密接触。示例性地，接触垫253可以由弹性材料或软材料制成，并且可以由橡胶或硅树脂材料制成。用于安置接触垫253的各种方法是可能的，例如，在所述支撑块252的表面与所述接触垫之间提供粘合剂并且以粘合的方式附接所述接触垫，或者以涂覆的方式将液体橡胶或硅树脂附接到所述支撑块252的表面。
所述接触垫253可以具有围绕所述内部空间252S的周缘的环形(环状物或甜甜圈)形状，以敞开所述内部空间252S的下端。所述接触垫253的直径可以等于或大于所述内部空间252S的内径。
在下文中，将参考图12至图17描述本实施例的经修改示例，并且将省略对具有相同功能的相同配置的重复描述。
图12和图13是用于描述根据本发明第二实施例的载体的示图。参考图12和图13，将主要描述与参考图3和图4所描述的点不同的点。
参考图12和图13，所述运送设备200A可以包括末端执行器210和载体250。
根据第二实施例的载体250还可以包括突出单元254。
所述突出单元254可以被设置在所述基部单元251的一个表面251T上。所述突出单元254被配置成防止消耗部件的水平移动，并且可以向上突出而与消耗部件的内周表面抵接。
可以设置多个突出单元254以防止所述消耗部件在多个方向上的水平移动。多个突出单元254可以被设置为彼此间隔开。所述消耗部件形成环形，并且所述突出单元254可以被设置在与环形消耗部件的内周表面相接触的位置处。
示例性地，可以设置两个突出单元254。在这种情况下，所述突出单元254可以被设置在相反的方向上，并且例如可以被设置在所述基部单元251的一个表面251T上的左侧(9点钟方向)和右侧(3点钟方向)上。
被设置在所述基部单元251的左侧上的突出单元254在所述消耗部件的左侧位置处与消耗部件的内周表面相接触，并且阻挡所述消耗部件的向右路径，使得可以防止所述消耗部件的向右移动。
此外，被设置在所述基部251的右侧上的所述突出单元254在所述消耗部件的右侧位置处与所述消耗部件的内周表面相接触，并且阻挡所述消耗部件的向左路径，使得可以防止所述消耗部件的向左移动。
另外，所述两个突出单元254可以防止所述消耗部件在12点钟和6点钟方向(并且可以包括其他方向)上的移动。这是因为所述两个突出单元254在左右方向上彼此间隔开，并且被设置在间隔距离为最大的位置处，使得没有形成能够移动所述消耗部件的足够空间。
换言之，被设置在基部单元251的一个表面251T的左侧(9点钟)和右侧(3点钟)上的所述突出单元254位于在所述消耗部件的半径内的所述基部单元251的最大宽度处。并且因而，基于从9点钟至3点钟方向延伸的假想线，所述消耗部件和所述基部单元251的宽度在12点钟和6点钟的方向被减小，并且也可以阻挡在12点钟和6点钟方向的移动。在9点钟方向与12点钟方向之间以及在12点钟方向与3点钟方向之间的运动也通过相同或相似的方式被阻挡。
而且，所述突出单元254可以具有弯曲的上部。替代地，所述突出单元254可以具有倾斜的拐角/倾斜的表面(见图17)。这是为了使所述突出单元254平缓地引导所述消耗部件。
即，当所述消耗部件被承座在所述载体250上时，由于所述机器人臂211和所述柄部212的操作误差，所述消耗部件的位置可能偏离所述载体250的合适位置。然而，在沿着所述突出单元254的弯曲表面(或倾斜的拐角/倾斜的表面)受引导时，此实施例的所述消耗部件可以在移动直到它与两个(或更多个)突出单元254的侧表面相接触的过程中而被承座在合适的位置。
另外，可以存在两个以上的突出单元254。以下将参考附图进行描述。
图14是图示出根据本发明第三实施例的载体的平面图。参考图14，将主要描述与参考图12和图13描述的点不同的点。
参考图14，所述运送设备200A可以包括末端执行器210和载体250。
根据第三实施例的所述载体250还可以包括类似于第二实施例的突出单元254。
然而，第三实施例中的突出单元254的数量可以是三个或更多。并且，由于可以由与上述的两个突出单元254相同的机制来做出第三实施例的突出单元254对消耗部件的水平移动的限制，因此将省略重复的描述。
所设置的两个或更多个(诸如三个和四个)突出单元254可以具有彼此相距的最大分离距离，并且可以按照相等的间隔布置。然而，由于所述突出单元254防止所述消耗部件在多个方向上的水平移动，则在若不与此存在冲突的情况下，即可以用各种方式进行突出单元254的布置。
另外，所述突出单元254可以被制成使得，不对储存箱和/或容器C的设计施加限制，在所述储存箱和/或容器C中传送所述消耗部件。例如，所述突出单元254可以形成为不比消耗部件突出更多，使得相对于相同高度的储存盒，可以使消耗部件的装载数量最大化。例如，所述突出单元254可以形成为具有与消耗部件的高度相比相同或更低的高度。
在下文中，将描述所i是载体250的形状的修改示例。
图15是示出根据本发明第四实施例的载体的平面视图，图16是图示出根据本发明第五实施例的载体的平面视图。参考图15和图16，将主要描述与参考图12至图14所描述的点不同的点。
参考图15和图16，所述运送设备200A可以包括末端执行器210和载体250。
第四和第五实施例的所述基部单元251可以形成为呈多边形形状，其中沿着消耗部件的周缘形成拐角。多边形的形状不受限制，只要其能够支撑所述消耗部件即可，并且可以包括任何形状，诸如三角形、四边形、五边形、六边形、或多边形的角被斜切的形状。此外，多边形的每个拐角可以形成曲面以对应于所述环形构件(聚焦环124)的弧。
另外，所述基部单元251不限于圆形和多边形形状，并且可以具有包括与消耗部件的弧相同的弧的形状的经修改示例。
在下文中，将参考附图描述所述突出单元254的经修改示例。
图17是图示出根据本发明第六实施例的环形构件被安置在载体上的状态的横截面视图。参考图17，将主要描述与参考图12至图16所描述的点不同的点。
参考图17，所述运送设备200A可以包括末端执行器210和载体250。第六实施例的突出单元254被形成有从面向消耗部件的内周表面的一侧向上至另一侧的倾斜表面(未示出附图标记)，或用以引导所述消耗部件的倾斜拐角。如此，所述突出单元254可以具有各种修改。
尽管上面已经参考附图描述了本发明的实施例，但是本发明不限于上述实施例，而是可以用各种不同的形式来制造，并且本发明所属领域的普通技术人员可以理解，在不改变本发明的技术精神或基本特征的情况下，本发明可以用其他具体形式来实施。因此，应当理解，上述实施例在所有方面都是例示性的，而非限制性的。
[附图标记]
1：衬底处理设备 10：装载端口
30：装载锁定室 50：传送室
100：处理室 110：室主体
120：衬底支撑单元 124：聚焦环
200：衬底传送模块 200A：运送设备
210：末端执行器 211：机器人臂
212：柄部 250：载体
252：支撑块 252S：内部空间

Claims (20)

1.一种运送设备，包括：
末端执行器，包括柄部和安置在所述柄部中的多个真空孔；以及
载体，位于所述柄部上并且用于支撑消耗部件，
其中，所述载体包括：
用于支撑所述消耗部件的一侧，
面向所述末端执行器的所述柄部的另一表面，以及
多个支撑块，被安置在所述另一表面上并且与所述多个真空孔相对应，
其中，与所述真空孔连通的内部空间被安置在所述多个支撑块中，并且所述内部空间通过从所述多个真空孔提供的负压而被抽空。
2.根据权利要求1所述的运送设备，其中，在所述支撑块的表面上还安置有接触垫。
3.根据权利要求2所述的运送设备，其中，所述接触垫由弹性材料或软材料制成，使得通过抽空所述内部空间来密封所述内部空间，并且所述接触垫形成具有与所述内部空间的内径相比相等或更大的直径的环形形状。
4.根据权利要求1所述的运送设备，其中，所述消耗部件形成环形形状，
其中，所述载体具有直径与所述消耗部件相同的圆形形状、或具有沿着所述消耗部件的周缘形成拐角的多边形形状、或具有包括与所述消耗部件的弧相同的弧的形状，以便不从所述消耗部件的周缘突出。
5.根据权利要求1所述的运送设备，其中，所述消耗部件包括卡盘的环形构件。
6.根据权利要求5所述的运送设备，还包括：
多个突出单元，被设置在所述载体的一个表面上、彼此间隔开、并且向上突出与所述消耗部件的内周表面相接触，以防止所述消耗部件的水平移动。
7.根据权利要求6所述的运送设备，其中，所述突出单元形成为具有与所述消耗部件的高度相比相同或更低的高度。
8.根据权利要求6所述的运送设备，其中，所述突出单元形成有沿从面向所述消耗部件的内周表面的一侧向另一侧的方向向上的倾斜表面或倾斜拐角，以引导所述消耗部件。
9.根据权利要求6所述的运送设备，其中，所述突出单元具有弯曲的上部。
10.根据权利要求1所述的运送设备，其中，所述支撑块的内部空间具有比所述真空孔的直径更大的直径。
11.一种用于处理衬底的设备，包括：
卡盘，用于支撑衬底；以及
运送设备，
其中，所述运送设备包括：
末端执行器，包括柄部和安置在所述柄部中的多个真空孔；以及
载体，位于所述柄部上并且用于支撑消耗部件，
其中，所述载体包括：
用于支撑所述消耗部件的一侧，
面向所述末端执行器的所述柄部的另一表面，以及
多个支撑块，被安置在所述另一表面上并且与所述多个真空孔相对应，
其中，与所述真空孔连通的内部空间被安置在所述多个支撑块中，并且所述内部空间通过从所述多个真空孔提供的负压而被抽空，
其中，所述消耗部件形成环形形状并且包括所述卡盘的环形构件，
其中，所述载体具有直径与所述消耗部件相同的圆形形状、或具有沿着所述消耗部件的周缘形成拐角的多边形形状、或具有包括与所述消耗部件的弧相同的弧的形状，以便不从所述消耗部件的周缘突出，
其中，多个突出单元被设置在所述载体的一个表面上，并且所述多个突出单元彼此间隔开、向上突出与所述消耗部件的内周表面相接触，以防止所述消耗部件的水平移动，并且所述多个突出单元被形成为具有与所述消耗部件的高度相比相同或更低的高度，
其中，所述运送设备运送被设置在所述卡盘上的所述环形构件。
12.一种用于末端执行器的载体，包括：
基部单元，包括支撑消耗部件的一个表面，以及面向柄部以便位于包括所述柄部的所述末端执行器上的另一表面，多个真空孔被安置在所述柄部中；以及
多个支撑块，被安置在所述另一表面上并且与所述多个真空孔相对应，
其中，在所述支撑块中安置有内部空间，所述内部空间与所述多个真空孔连通并且通过从所述多个真空孔所提供的负压而被抽空。
13.根据权利要求12所述的载体，
其中，在所述支撑块的表面上还安置有接触垫，
其中，所述接触垫由弹性材料或软材料制成，使得通过抽空所述内部空间来密封所述内部空间，并且所述接触垫形成具有与所述内部空间的内径相比相等或更大的直径的环形形状。
14.根据权利要求12所述的载体，中，所述消耗部件形成环形形状，
其中，所述基部单元具有直径与所述消耗部件相同的圆形形状、或具有沿着所述消耗部件的周缘形成拐角的多边形形状、或具有包括与所述消耗部件的弧相同的弧的形状，以便不从所述消耗部件的周缘突出。
15.根据权利要求12所述的载体，还包括：
多个突出单元，被设置在所述基部单元的一个表面上、彼此间隔开、并且向上突出与所述消耗部件的内周表面相接触，以防止所述消耗部件的水平移动。
16.根据权利要求15所述的载体，其中，所述突出单元形成为具有与所述消耗部件的高度相比相同或更低的高度。
17.根据权利要求15所述的载体，其中，所述突出单元形成有沿从面向所述消耗部件的内周表面的一侧向另一侧的方向向上的倾斜表面或倾斜拐角，以引导所述消耗部件。
18.根据权利要求15所述的载体，其中，所述突出单元具有弯曲的上部。
19.根据权利要求12所述的载体，其中，所述支撑块的内部空间具有比所述真空孔的直径更大的直径。
20.根据权利要求12所述的载体，其中，所述消耗部件包括卡盘的环形构件。
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