CN116819914B - 一种掩模成像系统及曝光设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种掩模成像系统及曝光设备，掩模成像系统包括激光发生器、透镜组件、全息掩模板和显微成像装置，激光发生器发射出成像光束，成像光束沿着水平方向投射，依次经过透镜组件和全息掩模板的透光区域形成空间像，空间像在显微成像装置上二次成像。透镜组件适于对成像光束进行扩束准直。本发明提出的掩模成像系统，透镜组件、全息掩模板和显微成像装置始终沿水平光路排列，从而减少了垂直安装架体的布设，此外无须设置反射光路，避免平面镜的设置，降低光路的复杂性，减少光轴角度的变换，使得光轴始终沿水平方向设置，从而降低显微成像装置与全息掩模板的距离、显微成像装置与光轴垂直度调节难度，避免无法成像。

Description

一种掩模成像系统及曝光设备

技术领域

本发明涉及光刻机技术领域，具体涉及一种掩模成像系统及曝光设备。

背景技术

在集成电路加工领域，光刻机在其中起到至关重要的作用，光刻曝光方法在近年来经历了接触式光刻，接近式光刻，投影式光刻几个阶段的发展，其中投影式光刻曝光方法通过投影物镜将目标图形传递到晶圆上，在紫外波段由于材料所限，常用紫外物镜中可选择的材料主要有紫外熔融石英和氟化钙两种，其中氟化钙加工困难、价格高，由于材料限制，投影物镜在消色差方面能力较弱，传统的投影曝光光刻方法所能加工集成电路线程受到投影物镜的限制。

现有技术中提供一种光刻系统概念——全息光刻系统，来克服光刻系统的结构复杂的缺陷。全息光刻是利用全息衍射成像，在硅片上进行曝光。在研究全息光刻系统时，通过对已设计的全息光刻系统进行全息掩模成像光路转化，来进行全息掩模成像。通过全息掩模成像验证全息光刻系统光路原理的正确性，以及全息光刻系统光路的可实现性。全息掩模成像系统相对于全息光刻系统结构简单，减少了曝光、显影等部分的结构和工艺，无须提供曝光所需的苛刻环境，在实验室环境即可满足全息掩模成像要求。全息掩模成像系统结构简单、工艺少，所产生的误差相对较少，进而提高了原理验证的准确性。

显微成像系统的姿态位置调整是全息掩模成像系统是否能够成像的关键。现有技术中的显微成像系统的光路复杂，需要通过设置多个平面镜实现光路的转折，从而导致显微成像装置与全息掩模板的距离精度调节以及显微成像装置与光轴垂直度调节难度大，容易出现无法成像的情况。

发明内容

因此，本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中的显微成像装置与全息掩模板的距离精度调节以及显微成像装置与光轴垂直度调节难度大，容易出现无法成像的缺陷，从而提供一种实现水平成像，提高成像品质和效率的掩模成像系统及曝光设备。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案如下：

一种掩模成像系统，掩模成像系统为全息掩模成像系统，应用于芯片制备工艺，包括：沿同一水平光路依次设置的激光发生器、透镜组件、全息掩模板和显微成像装置，所述激光发生器适于发射成像光束以形成所述水平光路，所述透镜组件沿所述水平光路设于所述激光发生器和所述全息掩模板之间，以适于对所述成像光束进行扩束准直形成扩束准直光束，其中，所述扩束准直光束经过所述全息掩模板的透光区域产生空间像；所述显微成像装置适于对所述空间像进行二次成像。

根据本发明的一些实施例，所述透镜组件包括沿水平方向排列设置的扩束透镜和准直透镜；所述成像光束依次经过所述扩束透镜和所述准直透镜，以实现所述成像光束的扩束准直，形成所述扩束准直光束。

根据本发明的一些实施例，所述显微成像装置包括：调节台、筒镜、相机和物镜；所述筒镜固定设于所述调节台上，所述调节台适于调节所述筒镜与所述空间像的相对位置；所述物镜与所述筒镜靠近所述全息掩模板的一端连接，所述物镜适于对经所述全息掩模板透光区域投射出的所述空间像进行放大；相机，所述相机与所述筒镜远离所述全息掩模板的一端连接，所述相机适于对放大后的所述空间像进行采集；所述筒镜、所述物镜和所述相机位于所述水平光路的同一光轴上。

根据本发明的一些实施例，所述筒镜包括筒体，设于所述筒体内设有若干个镜片以及用于调节多个所述镜片之间的偏转角度及间距的微调结构，所述镜片与所述微调结构固定连接，所述微调结构在所述筒体内转动或滑移以实现对所述空间像进行调整。

根据本发明的一些实施例，所述调节台包括：安装基台、升降机构、第一水平位移机构、第二水平位移机构和俯仰偏摆旋转机构，所述升降机构设置于所述安装基台上，所述升降机构沿Y轴方向做升降运动；所述第一水平位移机构设于所述升降机构上，所述第一水平位移机构沿Z轴方向与所述升降机构相对滑移；所述第二水平位移机构设于所述第一水平位移机构上，所述第二水平位移机构沿X轴方向与所述第一水平位移机构相对滑移；所述俯仰偏摆旋转机构设于所述第二水平位移机构上，所述筒镜固定安装在所述俯仰偏摆旋转机构上，所述俯仰偏摆旋转机构绕X轴和/或Z轴方向转动以调节所述筒镜的俯仰偏摆角度，所述俯仰偏摆旋转机构绕所述Y轴方向转动以调节所述筒镜水平旋转角度。

根据本发明的一些实施例，所述第二水平位移机构和所述俯仰偏摆旋转机构之间设有转接座。

根据本发明的一些实施例，所述俯仰偏摆旋转机构的上端面设有固定套筒，所述筒镜固定穿设于所述固定套筒上。

根据本发明的一些实施例，所述升降机构、所述第一水平位移机构和所述第二水平位移机构均内置有位移传感器，以分别实时检测所述升降机构、所述第一水平位移机构和所述第二水平位移机构的位移参数。

根据本发明的一些实施例，所述调节台还包括设于所述安装基台上的控制器和显示器，所述控制器与所述位移传感器通信连接，所述显示器与所述控制器通信连接，所述控制器接收所述位移传感器发出的位移参数并反馈至所述显示器，以实现对所述升降机构、所述第一水平位移机构和所述第二水平位移机构的反馈调节。

本发明还提出了一种曝光设备，包括光学平台和掩模成像系统；所述光学平台包括安装架和设于所述安装架上的面板；掩模成像系统安装于所述光学平台的所述面板上。

本发明技术方案，具有如下优点：

1.本发明提供的掩模成像系统，激光发生器、透镜组件、全息掩模板和显微成像装置沿同一水平轴线依次排列设置，激光发生器发射出成像光束，成像光束沿着水平光轴投射，依次经过透镜组件和全息掩模板的透光区域，投射在所述显微成像装置上成像，透镜组件适于对成像光束进行扩束准直。本发明提出的掩模成像系统，透镜组件、全息掩模板和显微成像装置始终沿水平光轴排列，从而减少了垂直安装架体的布设，此外无须设置反射光路，避免平面镜的设置，降低光路的复杂性，减少光轴角度的变换，使得光轴始终沿水平方向设置，从而克服显微成像装置与全息掩模板的距离、显微成像装置与光轴垂直度调节难度大，容易出现无法成像的缺陷。

2.本发明提供的掩模成像系统，通过激光发生器发出的成像光束具有发散角，通过扩束透镜对成像光束的光束直径和发散角进行调整；准直透镜进一步将发散的成像光束变成准直的光束，使得光束之间相互平行，形成扩束准时光束，提高成像效果和成像质量。

3.本发明提供的掩模成像系统，相机和物镜通过筒镜连接，筒镜固定在调节台上，物镜、筒镜和相机位于同一轴线上，通过调节台调节筒镜与空间像的相对位置，从而使得相机对空间像进行放大，物镜对空间像进行放大，使得成像质量得以提高，调节台便于调节相机与空间像的相对位置，以获得高质量的成像。

4.本发明提供的掩模成像系统，筒镜内设有若干个镜片以及用于调节多个镜片之间的偏转角度及间距的微调结构，以实现对所述空间像进行调整，实现精密姿态位置的调整，从而达到补偿像质的目的。

5.本发明提供的掩模成像系统，安装基台为升降机构、第一水平位移机构、第二水平位移机构和俯仰偏摆旋转机构提供安装基础，通过升降机构实现对筒镜在Y轴方向上的位置调节，通过第一水平位移机构实现对筒镜在Z轴方向上的位置调节，通过第二水平位移机构实现对筒镜在X轴方向上的调节，俯仰偏摆旋转机构可沿X轴方向和/或Z轴转动，以及可沿Y轴方向转动，以实现对筒镜的俯仰偏摆角度以及水平旋转角度进行调节。该调节台可实现相机、筒镜和物镜与空间像的相对位置关系的调节，从而提高成像品质和效率。

6.本发明提供的掩模成像系统，在升降机构、第一水平位移机构和第二水平位移机构内设置位移传感器，从而实现高精度调节，提高调节精度，进而提高成像品质和效率。

7.本发明提供的掩模成像系统，显示器与位移传感器均与控制器通信连接，控制器接收位移传感器测定的位移参数，并反馈至显示器上，实现实时监测，避免过度调节，影响成像质量，且可实现反馈调节，进而提高调节的精度，实现自动化调节，提高成像品质和效率。

8.本发明提供的曝光设备，通过光学平台为掩模成像系统提供安装基础，为成像提供保障。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的一些实施例中提供的掩模成像光路示意图；

图2为本发明的一些实施例中提供的显微成像装置的结构示意图。

附图标记说明：1、显微成像装置；2、全息掩模板；3、准直透镜；4、扩束透镜；5、激光发生器；11、调节台；12、筒镜；13、相机；14、物镜；15、固定套筒；111、安装基台；112、升降机构；113、第一水平位移机构；114、第二水平位移机构；115、转接座；116、俯仰偏摆旋转机构。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

参照图1所示，本发明提出了一种掩模成像系统，应用于芯片制备工艺，掩模成像系统为全息掩模成像系统，包括：沿同一水平光路依次设置的激光发生器5、透镜组件、全息掩模板2和显微成像装置1，激光发生器5适于发射成像光束以形成水平光路，透镜组件沿水平光路设于激光发生器5和全息掩模板2之间，以适于对成像光束进行扩束准直形成扩束准直光束，其中，扩束准直光束经过全息掩模板2的透光区域产生空间像；显微成像装置1适于对空间像进行二次成像。

具体说明，激光发生器5、透镜组件、全息掩模板2和显微成像装置1沿水平方向依次排列设置，激光发生器5发射出成像光束，成像光束沿着水平投射形成水平光路，成像光束依次经过透镜组件和全息掩模板2的透光区域后，形成空间像，投射在显微成像装置1上进行二次成像，透镜组件适于对成像光束进行扩束准直。

可以理解的是，本发明提出的掩模成像系统，透镜组件、全息掩模板2和显微成像装置1始终沿水平光路排列，从而减少了垂直安装架体的布设，此外无须设置反射光路，避免平面镜的设置，降低光路的复杂性，减少光轴角度的变换，使得光轴始终沿水平方向设置，从而克服显微成像装置1与全息掩模板2的距离、显微成像装置1与光轴垂直度调节难度大，容易出现无法成像的缺陷。

可以理解的是，在本发明的一些实施例中，激光发生器5发射出波长193nm的成像光束。

在本发明的一些实施例中，透镜组件包括沿水平方向排列设置的扩束透镜4和准直透镜3，成像光束依次经过扩束透镜4和准直透镜3，以实现成像光束的扩束准直，形成扩束准直光束。

具体说明，通过激光发生器5发出的成像光束具有发散角，通过扩束透镜4对成像光束的光束直径和发散角进行调整；准直透镜3进一步将发散的成像光束变成准直的光束，使得光束之间相互平行，进而提高成像效果和成像质量。

可以理解的是，扩束透镜4和准直透镜3的中心均位于水平光轴上，扩束透镜4和准直透镜3的底部均设有调节支架，以便于对扩束透镜4和准直透镜3的设置高度精确调节。成像光束沿水平光路依次经过扩束透镜4和准直透镜3，以使得成像光束的光束直径增大，光束之间相互平行，形成扩束准直光束，提高成像质量。扩束透镜4和准直透镜3均为凸透镜，扩束透镜4和准直透镜3的规格不作为本发明的限制。

参照图2所示，在本发明的一些实施例中，显微成像装置1包括：调节台11、筒镜12、相机13和物镜14；筒镜12固定设于调节台11上，调节台11适于调节筒镜12与空间像的相对位置；物镜14与筒镜12靠近全息掩模板2的一端连接，物镜14适于对经全息掩模板2透光区域投射出的空间像进行放大；相机13与筒镜12远离全息掩模板2的一端连接，相机13适于对放大后的空间像进行采集；筒镜12、物镜14和相机13的中心位于同一水平光路的同一光轴上。

具体说明，相机13和物镜14通过筒镜12连接，筒镜12固定在调节台11上，物镜14、筒镜12和相机13的中心位于同一光轴上，通过调节台11调节筒镜12与空间像的相对位置，从而使得相机13对空间像进行采集后二次成像。物镜14对空间像进行放大，使得成像质量得以提高，调节台11便于调节相机13与空间像的相对位置，以获得高质量的成像。

在本发明的一些实施例中，筒镜12包括筒体，设于筒体内的若干个镜片以及用于调节多个镜片之间的偏转角度及间距的微调结构，镜片与微调结构固定连接，微调结构在筒体内转动或滑移以实现对空间像进行调整。

具体说明，在传统的筒镜12中，筒体内的镜片相互固定，因此无法实现调节功能，本发明的一些实施例中，通过在筒体内设置微调结构，微调结构上设有多个安装位，镜片设置于安装位上，通过调节微调结构的多个安装位的相对位置及角度，对多个镜片之间的间距及偏转角度进行精密调节，从而达到补偿像质的目的，提高成像的清晰度。

参照图2所示，在本发明的一些实施例中，调节台11包括：安装基台111、升降机构112、第一水平位移机构113、第二水平位移机构114和俯仰偏摆旋转机构116，升降机构112设置于安装基台111上，升降机构112沿Y轴方向做升降运动；第一水平位移机构113设于升降机构112上，第一水平位移机构113沿Z轴方向与升降机构112相对滑移；第二水平位移机构114设于第一水平位移机构113上，第二水平位移机构114沿X轴方向与第一水平位移机构113相对滑移；俯仰偏摆旋转机构116设于第二水平位移机构114上，筒镜12固定安装在俯仰偏摆旋转机构116上，俯仰偏摆旋转机构116绕X轴和/或Z轴方向转动以调节筒镜12的俯仰偏摆角度，俯仰偏摆旋转机构116绕Y轴方向转动以调节筒镜12水平旋转角度。

具体说明，在本发明的一些实施例中，Z轴方向为与光轴相互平行的方向，Y轴方向为垂直于光轴的竖直方向，X轴方向为垂直于光轴的水平方向。

安装基台111为升降机构112、第一水平位移机构113、第二水平位移机构114和俯仰偏摆旋转机构116提供安装基础，通过升降机构112实现对筒镜12在Y轴方向上的位置调节，通过第一水平位移机构113实现对筒镜12在Z轴方向上的位置调节，通过第二水平位移机构114实现对筒镜12在X轴方向上的调节，俯仰偏摆旋转机构116可沿X轴和/或Z轴方向转动，以及可沿Y轴方向转动，以实现对筒镜12的俯仰偏摆角度以及水平旋转角度进行调节。该调节台11可实现相机13、筒镜12和物镜14与空间像的相对位置关系的调节，从而提高成像品质和效率。

在本发明的一些实施例中，第二水平位移机构114和俯仰偏摆旋转机构116之间设有转接座115。

具体说明，通过在第二水平位移机构114和俯仰偏摆旋转机构116之间设置转接座115，从而避免了当俯仰偏摆旋转机构116进行俯仰偏摆角度调节时，部件之间相互干涉，从而导致相机13无法成像。转接座115的设置增大了俯仰偏摆旋转机构116的活动范围，提高显微成像装置1的稳定性和可靠性。

在本发明的一些实施例中，俯仰偏摆旋转机构116的上端面设有固定套筒15，筒镜12固定穿设于固定套筒15上。

可以理解的是，固定套筒15设有两个，筒镜12穿设于两个固定筒体上，以实现筒镜12与俯仰偏摆旋转机构116的固定连接，从而使得俯仰偏摆旋转机构116在运动时带动筒镜12运动，避免筒镜12的脱落，影响成像质量。保证显微成像装置1的稳定性和可靠性，保障成像质量。

在本发明的一些实施例中，升降机构112、第一水平位移机构113和第二水平位移机构114均内置有位移传感器，以分别实时检测升降机构112、第一水平位移机构113和第二水平位移机构114的位移参数。

具体说明，在升降机构112、第一水平位移机构113和第二水平位移机构114内均设置有位移传感器，从而实现高精度调节，提高调节精度，进而提高成像品质和效率。

可以理解的是，位移传感器的精度为纳米级精度，以实现高精度的参数检测。升降机构112、第一水平位移机构113、第二水平位移机构114和俯仰偏摆旋转机构116可通过电动调节或手动调节。

电动调节的好处在于实现自动化，可提高调节精度，降低调节误差，电动调节的驱动器为驱动机构或电机。

手动调节的好处在于可减少电路布设，减少检测装置的设置，降低安装难度和维修成本。

在本发明的一些实施例中，俯仰偏摆旋转机构116采用手动调节的方式，由于俯仰偏摆旋转姿态位置不易控制，当使用电动调节时，需要增加检测装置，从而增加安装难度和维修成本，通过手动调节，可降低设备制造成本。

在本发明的一些实施例中，调节台11还包括设于安装基台111上的控制器和显示器，控制器与位移传感器通信连接，显示器与控制器通信连接，控制器接收位移传感器发出的位移参数并反馈至显示器，以实现对升降机构112、第一水平位移机构113和第二水平位移机构114的反馈调节。

本发明提供的掩模成像系统，显示器与位移传感器均与控制器通信连接，控制器接收位移传感器测定的位移参数，并反馈至显示器上，实现实时监测，避免过度调节，影响成像质量，且可实现反馈调节，进而提高调节的精度，实现自动化调节，提高成像品质和效率。

本发明还提出了一种曝光设备，包括光学平台和掩模成像系统；光学平台包括安装架和设于安装架上的面板；掩模成像系统安装于面板上。

可以理解的是，本发明提供的光学平台，为掩模成像系统提供安装基础，为成像提供保障。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无须也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (6)

1.一种掩模成像系统，应用于芯片制备工艺，其特征在于，所述掩模成像系统为全息掩模成像系统，包括：沿同一水平光路依次设置的激光发生器（5）、透镜组件、全息掩模板（2）和显微成像装置（1）；

所述激光发生器（5）适于发射成像光束以形成所述水平光路；

所述透镜组件沿所述水平光路设于所述激光发生器（5）和所述全息掩模板（2）之间，以适于对所述成像光束进行扩束准直形成扩束准直光束；其中，所述扩束准直光束经过所述全息掩模板（2）的透光区域产生空间像；

所述显微成像装置（1）适于对所述空间像进行二次成像，所述显微成像装置（1）包括：调节台（11）、筒镜（12）、物镜（14）和相机（13）；所述筒镜（12）固定设于所述调节台（11）上，所述调节台（11）适于调节所述筒镜（12）与所述空间像的相对位置；所述物镜（14）与所述筒镜（12）靠近所述全息掩模板（2）的一端连接，所述物镜（14）适于对经所述全息掩模板（2）透光区域形成的所述空间像进行放大；所述相机（13）与所述筒镜（12）远离所述全息掩模板（2）的一端连接，所述相机（13）适于对放大后的所述空间像进行采集；所述筒镜（12）、所述物镜（14）和所述相机（13）位于所述水平光路的同一光轴上；其中，所述筒镜（12）包括筒体，设于所述筒体内的若干个镜片以及用于调节多个所述镜片之间的偏转角度及间距的微调结构，所述镜片与所述微调结构固定连接，所述微调结构在所述筒体内转动或滑移以实现对所述空间像进行调整，筒体内设置微调结构，微调结构上设有多个安装位，镜片设置于安装位上，通过调节微调结构的多个安装位的相对位置及角度，对多个镜片之间的间距及偏转角度进行精密调节，从而达到补偿像质的目的，提高成像的清晰度；

所述调节台（11）包括：安装基台（111）、升降机构（112）、第一水平位移机构（113）、第二水平位移机构（114）、俯仰偏摆旋转机构（116）；所述升降机构（112）设置于所述安装基台（111）上，所述升降机构（112）沿Y轴方向做升降运动；所述第一水平位移机构（113）设于所述升降机构（112）上，所述第一水平位移机构（113）沿Z轴方向与所述升降机构（112）相对滑移；所述第二水平位移机构（114）设于所述第一水平位移机构（113）上，所述第二水平位移机构（114）沿X轴方向与所述第一水平位移机构（113）相对滑移；所述俯仰偏摆旋转机构（116）设于所述第二水平位移机构（114）上，所述筒镜（12）固定安装在所述俯仰偏摆旋转机构（116）上，所述俯仰偏摆旋转机构（116）绕X轴和/或Y轴方向转动以调节所述筒镜（12）的俯仰偏摆角度，所述俯仰偏摆旋转机构（116）绕所述Z轴方向转动以调节所述筒镜（12）水平旋转角度；所述升降机构（112）、所述第一水平位移机构（113）和所述第二水平位移机构（114）均内置有位移传感器，以分别实时检测所述升降机构（112）、所述第一水平位移机构（113）和所述第二水平位移机构（114）的位移参数，位移传感器的精度为纳米级精度，从而实现高精度调节。

2.根据权利要求1所述的掩模成像系统，其特征在于，所述透镜组件包括沿水平方向排列设置的扩束透镜（4）和准直透镜（3）；

所述成像光束依次经过所述扩束透镜（4）和所述准直透镜（3），以实现所述成像光束的扩束准直，形成所述扩束准直光束。

3.根据权利要求1所述的掩模成像系统，其特征在于，所述第二水平位移机构（114）和所述俯仰偏摆旋转机构（116）之间设有转接座（115）。

4.根据权利要求1所述的掩模成像系统，其特征在于，所述俯仰偏摆旋转机构（116）的上端面设有固定套筒（15），所述筒镜（12）固定穿设于所述固定套筒（15）上。

5.根据权利要求1所述的掩模成像系统，其特征在于，所述调节台（11）还包括设于所述安装基台（111）上的控制器和显示器，所述控制器与所述位移传感器通信连接，所述显示器与所述控制器通信连接，所述控制器接收所述位移传感器发出的位移参数并反馈至所述显示器，以实现对所述升降机构（112）、所述第一水平位移机构（113）和所述第二水平位移机构（114）的反馈调节。

6.一种曝光设备，应用于芯片制备工艺，其特征在于，包括：

光学平台，所述光学平台包括安装架和设于所述安装架上的面板；

权利要求1至5任一项所述掩模成像系统，安装于所述光学平台的所述面板上。