CN116763261B - 肾盂内温度监测控制方法、系统及灌注吸引平台 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种肾盂内温度监测控制方法，用于灌注吸引系统，包括：采集并监测当前腔内温度数据和与当前腔内温度数据对应的各影响因子数据；启动工作后，判断当前腔内温度数据是否大于预设温度阈值；在当前腔内温度数据大于预设温度阈值的情况下，通过智能控制中心发出第一温度信号提示信息；基于第一温度信号提示信息确定当前温度信号的改变状态，根据温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制灌注流量和吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内温度阈值范围下腔内压力的稳定性。解决因温度因素引起的腔内压力不稳定而导致的手术不安全性问题，维持腔内压力稳定，保障手术安全。
Description
技术领域
本发明涉及医疗器械技术领域，特别涉及一种肾盂内温度监测控制方法、系统及灌注吸引平台。
背景技术
随着近年来外科手术发展的微创化趋势，经皮肾镜碎石和输尿管镜碎石等微创手术已经成为结石治疗的首选方式。但在实际应用中，在实施上述手术时，仅考虑肾盂腔内压力或灌注进肾盂的流量或吸引出肾盂的流量。但对手术时腔压安全的考虑不是线性问题，需要综合考虑多种影响因素。
现有技术中采用的灌注吸引平台大多采用激光碎石，激光碎石的作用机理是激光经过光纤维，将激光束能量打到结石的表面，滤光部分被结石表面吸收，在结石表面形成等离子体，等离子体在吸收不可见红外光后，将激光能量瞬间转换为机械冲击波粉碎结石。此时，腔内压力安全影响因素如下：1、从临床角度来说，肾内液体温度越高，会对组织有热损伤的风险。形成热损伤最大的原因也是因为术中灌注和引流不足导致的。2、肾盂内压增高引起肾实质返流肾实质返流极限压力30mmHg。有研究显示，当肾盂压大于35mmHg时，会引起持续的肾盂静脉及淋巴管逆流。而当感染存在时,15～18mmHg的压力即可造成逆流。低压灌注相比较高压灌注，并发症明显降低证明压力越高感染率越高。3、形成热损伤和肾盂高压最大的原因也是因为术中灌注和引流的配合不足导致的。
综上所述，现有技术在有必要提出一种肾盂内温度监测控制方法及系统，解决因温度因素引起的腔内压力不稳定而导致的手术不安全性问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种肾盂内温度监测控制方法、系统及灌注吸引平台，解决因温度因素引起的腔内压力不稳定而导致的手术不安全性问题，维持腔内压力稳定，保障手术安全。
本发明提供了一种肾盂内温度监测控制方法，用于灌注吸引系统，包括如下步骤：
采集并监测当前腔内温度数据和与当前所述腔内温度数据对应的各影响因子数据，所述腔内温度数据对应的影响因子数据包括向腔内流入的灌注流量、向腔外流出的吸引流量以及腔内压力数据；
启动工作后，判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值；
在当前所述腔内温度数据大于所述预设温度阈值的情况下，通过智能控制中心发出第一温度信号提示信息；
基于所述第一温度信号提示信息确定当前温度信号的改变状态，根据所述温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内温度阈值范围下腔内压力的稳定性。
作为优选地，所述判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值包括：
在当前所述腔内温度数据小于等于所述预设温度阈值的情况下，启动平衡模式；
控制所述吸引流量和所述灌注流量恒定在预设流量范围内以确保所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内压力范围内的腔压信息。
作为优选地，所述判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值之前包括：
启动的工作状态划分为碎石模式和非碎石模式；
当控制进程处于碎石模式时，腔内液体在激光作用下，获取到的所述温度信号从初始温度信号转变成异常温度信号；
判断所述异常温度信号是否在预设的温度范围内，发出对应的温度信号提示信息；
当控制进程处于非碎石模式时，监控所述初始温度信号能够控制在预设的温度阈值范围内。
作为优选地，所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡包括：
启动调整模式；
接收并根据所述第一温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行一次调节；
根据所述调节灌注流量的控制指令调整第一目标电机的转速以增加向腔内流入的灌注流量；
当灌注流量的增加使得腔内压力升高时，将升高状态的腔内压力数据传输至智能控制中心；
基于升高状态的腔内压力数据发出调节吸引流量的控制指令；
根据所述调节吸引流量的控制指令调整第二目标电机的转速以增加吸引强度使得腔内吸引流量与灌注流量达到动态平衡。
作为优选地，所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡进一步包括：
当所述第一温度信号下降至第二温度信号，且所述第一温度信号呈下降趋势变化；
根据所述第二温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行二次调节；
根据所述调节灌注流量的控制指令调整第一目标电机的转速以减少向腔内流入的灌注流量；
根据所述调节吸引流量的控制指令调整第二目标电机的转速以减少吸引流量使得腔内吸引流量与灌注流量同步调整并运行。
作为优选地，所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡进一步包括：
配置对灌注流量的初始灌注流量设定值；
配置对吸引流量的初始吸引流量设定值；
当所述第一温度信号下降至预设的温度阈值范围内，同步对灌注流量和吸引流量的流量控制；
按照所述初始灌注流量设定值运行对流量向腔内灌注的控制并按照所述初始吸引流量设定值运行对腔内流量向腔外流出的控制。
作为优选地，所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡进一步包括：
在控制进程进入调整模式时，调节产生负压吸引的第二目标电机的占空比来控制吸引流量，直至到达预设的吸引流量最大阈值，得到当前腔内压力数据；
若当前所述腔内压力数据大于预设的腔内压力最大阈值，调整灌注流量以降低向腔内流量的灌注或者暂停向腔内流量的灌注；
若当前所述腔内压力数据大于腔内压力设定值，将第一目标电机正转运行转换成反转运行对灌注流量的调节，从而进行泄压确保所述腔内压力能够控制在预设的腔内压力阈值范围内。
本发明还提供了一种肾盂内温度监测控制系统，包括：
数据采集模块，用于采集当前腔内温度数据和与当前所述腔内温度数据对应的各影响因子数据，所述腔内温度数据对应的影响因子数据包括向腔内流入的灌注流量、向腔外流出的吸引流量以及腔内压力数据；
温度判断模块，用于启动工作后，判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值；
预警模块，用于在当前所述腔内温度数据大于所述预设温度阈值的情况下，通过智能控制中心发出第一温度信号提示信息；
第一控制模块，用于基于所述第一温度信号提示信息确定当前温度信号的改变状态，根据所述温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内压力阈值范围内的腔压信息。
作为优选地，所述腔内温度判断模块包括：
第一控制模块，用于在当前所述腔内温度数据小于等于所述预设温度阈值的情况下，启动平衡模式；控制所述吸引流量和所述灌注流量恒定在预设流量范围内以确保所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内压力范围内的腔压信息。
本发明还提供了一种灌注吸引平台，包括如本发明实施例所述的肾盂内温度监测控制方法。
本发明由于采用以上技术方案，使其与现有技术相比具有以下的优点和积极效果：
1、本发明通过对腔内温度是否在合理范围内的判断，根据对应的温度信号提示信息，进入对应的平衡模式和调整模式，调整各因子间的关系平衡并控制在预设范围内，解决因温度因素引起的腔内压力不稳定而导致的手术不安全性问题，维持腔内压力稳定，保障手术安全。
2、本发明确定温度因子与各腔内温度安全相关的影响因子之间的关系，吸引流量随着腔内压力的变化而变化，灌注流量随着腔内温度变化而变化，通过灌注水流和吸引流量的同步改变，使得灌注流量与吸引流量保持动态平衡，保持腔内压力稳定不变，有效的保证手术空间，从而保证手术的顺利进行。
3、本发明有效控制灌注流量和吸引流量达到动态平衡，减少因为术中灌注和引流的配合不足导致并发症的产生。
附图说明
图1为本发明实施例中肾盂内温度监测控制方法流程示意图；
图2为本发明实施例中肾盂内温度监测控制系统原理图。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
如图1所示，本发明提供了一种肾盂内温度监测控制方法，用于灌注吸引系统，包括如下步骤：
S1：采集并监测当前腔内温度数据和与当前所述腔内温度数据对应的各影响因子数据，所述腔内温度数据对应的影响因子数据包括向腔内流入的灌注流量、向腔外流出的吸引流量以及腔内压力数据；本实施例中可以确定温度因子与腔内各安全影响因子之间的关系；
S2：启动工作后，判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值；本实施例所述预设温度阈值根据实际人体能够承受的温度情况设置。
S3：在当前所述腔内温度数据大于所述预设温度阈值的情况下，通过智能控制中心发出第一温度信号提示信息；
S4：基于所述第一温度信号提示信息确定当前温度信号的改变状态，根据所述温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内温度阈值范围下腔内压力的稳定性。本领域技术人员可以理解，本实施肾盂内温度监测控制方法的影响因素有4个：灌注流量，吸引流量、腔内温度和腔内压力。
具体地，所述步骤S2中判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值包括：
S210：在当前所述腔内温度数据小于等于所述预设温度阈值的情况下，启动平衡模式；可以理解为，当前所述腔内温度数据小于等于所述预设温度阈值即此时腔内温度在正常范围内，例如30度以下，平衡模式即腔内温度控制在该范围内，灌注流量与吸引流量处于平衡状态。
S211：控制所述吸引流量和所述灌注流量恒定在预设流量范围内以确保所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内压力范围内的腔压信息。
本领域技术人员可以理解，平衡模式开启，在温度在正常范围的情况下，腔内压力为判断腔内温度安全的唯一标准，此时，灌注流量、吸引流量及腔内压力三种数据均比较稳定，或者数据波动比较小，保持灌注流量与吸引流量间的动态平衡，减少灌注流量和吸引流量在肾盂腔内形成水循环时水流产生的波动。
本实施例中，所述步骤S2中判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值之前包括：
启动的工作状态划分为碎石模式和非碎石模式；本实施例碎石模式会开启激光操作，引起腔内温度的改变，逐渐升高温度；而非碎石模式包括清石模式、入镜模式，不会发生引起温度升高的操作或在该模式下，温度升高的时间短，可忽略不计。
当控制进程处于碎石模式时，腔内液体在激光作用下，获取到的所述温度信号从初始温度信号转变成异常温度信号；可以理解为，当腔内液体温度在激光的作用下，温度逐渐升高，当达到40度时，智控中心接受到温度传感器发出的异常温度信号。
判断所述异常温度信号是否在预设的温度范围内，发出对应的温度信号提示信息；本实施例所述的异常温度信号是指腔内温度值超出人体承受的温度范围，如上述达到40度，输出异常温度信号的提示信息。
当控制进程处于非碎石模式时，监控所述初始温度信号能够控制在预设的温度阈值范围内。启动工作后，任何时候当温度超过46度都会提示报警；当温度达到46度以上时，需要增加流速来迅速降温。
本发明的技术难点是腔内压力基本稳定不变的情况下，增加流速，因为灌注水流和吸引流量要同时同步改变，而且这两种流量一直都是处于一个波动很小的不断变化的动态平衡，才能基本保持腔内压力稳定不变，才能有效的保证手术空间，才能保证手术的顺利进行。因此在腔内温度因素改变时，需要进入调整模式。
所述步骤S4中根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡包括：
S410：启动调整模式；该调整模式下，腔内温度发生改变，也为本实施例中监测控制方法下的变量。
S411：接收并根据所述第一温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行一次调节；本实施例在灌注方式下，第一目标电机可以采用伺服电机、步进电机或无刷电机。
S412：根据所述调节灌注流量的控制指令调整第一目标电机的转速以增加向腔内流入的灌注流量；根据从流量传感器中获取对灌注流量变化量的反馈数据获取当前腔内压力数据；
S413：当灌注流量的增加使得腔内压力升高时，将升高状态的腔内压力数据传输至智能控制中心；
S414：基于升高状态的腔内压力数据发出调节吸引流量的控制指令；
S415：根据所述调节吸引流量的控制指令调整第二目标电机的转速以增加吸引强度使得腔内吸引流量与灌注流量达到动态平衡。可以理解为，理论上达到动态平衡时，吸引流量与灌注流量相同，但二者设定的参数略有差异，由于吸引流量存在空气补偿，吸引流量会大些，在此基础上满足动态平衡需求。本实施例在吸引方式下第二目标电机可以采用直流电机控制吸引流量。
本领域技术人员可以理解，当腔内液体温度在激光的作用下，温度逐渐升高，当达到40度时，智控中心接受到温度传感器发出的信号，然后做出加大流速的指令给控制灌注流量的伺服电机，增加转速，灌注流量就不断增加，这个可以从流量传感器中得到流量增加的反馈，同时因为灌注流量的增加，打破了原来的灌注流量和吸引流量的动态平衡，腔内压力就会升高，当腔内压力升高时，智控中心得到反馈，需要增加吸引流量来达到新的动态平衡，吸引需要一个新的流量需要满足跟灌注流量变化带来的新的动态平衡。
当腔内温度下降时，灌注流量和吸引流量也得跟着下降到设定的流量范围内。因为灌注流量和吸引流量过大会对患者产生副作用，如肾盂扩大容易导致肾功能受到损伤；高灌注会加重肾脏的负荷导致肾功能下降等问题，对术后恢复时间产生影响。所以在能满足手术要求的情况下，流量尽量减小。
即所述步骤S4中进一步采取如下方案：
S420：当所述第一温度信号下降至第二温度信号，且所述第一温度信号呈下降趋势变化；
S421：根据所述第二温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行二次调节；
S422：根据所述调节灌注流量的控制指令调整第一目标电机的转速以减少向腔内流入的灌注流量；
S423：根据所述调节吸引流量的控制指令调整第二目标电机的转速以减少吸引流量使得腔内吸引流量与灌注流量同步调整并运行。
因此，在腔内温度降低到合理的范围内，灌注流量和吸引流量也会逐渐同步回落到开始设定的数值上运行。即所述步骤S4中进一步采取如下方案：
S430：配置对灌注流量的初始灌注流量设定值；
S431：配置对吸引流量的初始吸引流量设定值；
S432：当所述第一温度信号下降至预设的温度阈值范围内，同步对灌注流量和吸引流量的流量控制；
S433：按照初始灌注流量设定值运行对流量向腔内灌注的控制并按照初始吸引流量设定值运行对腔内流量向腔外流出的控制。
进一步地，所述步骤S4中根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡进一步包括：
S440：在控制进程进入调整模式时，调节产生负压吸引的第二目标电机的占空比来控制吸引流量，直至到达预设的吸引流量最大阈值，得到当前腔内压力数据；这边产生的负压吸引实际上就是调节吸引流量，通过第二目标电机调节占空比调整吸引流量大小，本实施采用的第二目标电机调节负压吸引，如直流电机。第一目标电机调节灌注流量，如伺服电机，步进电机，无刷电机等。
S441：若当前所述腔内压力数据大于预设的腔内压力最大阈值，调整灌注流量以降低向腔内流量的灌注或者暂停向腔内流量的灌注；
S442：若当前所述腔内压力数据大于腔内压力设定值，将第一目标电机正转运行转换成反转运行对已灌注流量进行泄压调节，从而确保所述腔内压力能够控制在预设的腔内压力阈值范围内。
可以理解为，该方案与控制肾盂压力安全的不同之处在于，控制肾盂压力是灌注流量基本不变的情况下，调整负压吸引的占空比。灌注流量只有在腔内压力用负压吸引已经到达最大值时还是无法降低腔内压力，这个时候灌注流量才会逐渐减小，停下来，甚至长时超过设定压力5mmHg以上时进行反转运行来泄压。当实际腔压超过设定值5mmHg以上，负压吸引强度会变得更大，同时灌注会反转泄压，迫使压力快速下降，使得实际腔压与设置腔压达到动态平衡。
本发明的工作过程如下：随着激光碎石过程中，腔内水流的温度开始上升，灌注流量增加，从而腔内压力增加，因此腔内压力上升，吸引流量增加，吸引流量随着腔内压力的变化而变化，灌注流量随着腔内温度变化而变化，因为灌注流量此时已经在设定值的范围内的，比如当实际腔压过高时，灌注暂停，负压吸引会根据压力差自动调整增加强度，当实际腔压过压时，压差大抽吸的力度会变大，压差小抽吸的力度会变小，压差大小决定了从肾盂中抽吸的生理盐水多少，迫使肾盂压力将逐步降低，一旦实际腔压下降到设置值时，灌注恢复，这样肾盂腔压实现动态平衡。当实际腔压超过设定值5mmHg以上，负压吸引强度会变得更大，同时灌注会反转泄压，迫使压力快速下降，使得实际腔压与设置腔压达到动态平衡。；当腔内温度发生改变，如当前腔内温度达40度，那么灌注流量就会持续增加，脉冲上升，灌注流量上升，在灌注流量上升时，灌注流量的初始设定值在50毫升，此时灌注流量上升可能已经到了60毫升或70毫升，甚至到100毫升，相应的腔内压力就会上升，由初始的11mmHg上升至15mmHg或其他范围内的腔内压力值，所以当开始就是压力开始持续往上升的时候，它吸引的流量就要开始增加。由于温度还大于预设温度阈值，则灌注流量和吸引流量持续增加，腔内水流变大，灌注流量可能达到100毫升，吸引流量也到达100毫升，而腔内压力还在10mmHg，而采用温度控制就能很快下降以控制腔内压力下降。即原理在于：随着腔内温度的增加，腔内压力、灌注流量和吸引流量都在增加，增加到一个新的平衡，即将腔内温度降下来，持续对灌注流量增加，吸引流量增加，然后在腔内压力保持低的情况下，还需要将降低腔内温度采取的流量加大的措施进行反向运行，即在腔内温度降下来后，灌注的流量也开始下降，那么吸引的流量也开始下降。由于灌注流量下降以后，肾盂的腔内压力也下降，吸引的流量必须要下降去保证肾盂腔内压力控制预设腔内压力范围内，如10mmHg，若已经降到5mmHg，那这个手术的空间就不多了，
因此，我们始终需要维持一个平衡状态，即在温度不发生改变的情况下，肾盂腔内压力、灌注流量和吸引流量平衡；当温度发生改变的情况下，灌注流量、吸引流量同时改变，可以是同时增加或者同时减少，保证肾盂内有比较大的手术空间。
本实施例中所提供的一种肾盂内温度监测控制方法的工作流程如下：
首先，做激光碎石手术时，激光高能量冲击结石后，产生的小颗粒粉末会浑浊摄像头视野，不利于手术观察患处；而且碎石过程中的激光能量会使肾盂温度逐渐升高，一旦温度过高会对肾盂造成严重损伤；还需控制肾盂腔内压力，超压也会对肾盂造成损伤。为解决此问题，本实施例设计了碎石工作模式。
在碎石模式下，灌注常规流量设置为50mL/min,可以根据实际情况修改灌注流量。吸引流量通常设置为适配档位。可以根据实际情况修改吸引流量。腔压设置通常为20mmHg,可以根据实际情况修改压力值。
激光碎石时，启动灌注操作和吸引操作后，机器按设置流量灌注，将生理盐水注入肾盂，此时流入生理盐水冲刷浑浊的颗粒粉末，负压吸引能将浑浊颗粒水吸出，这样使得摄像头视野变得清晰；同时灌注的进水和负压吸引的出水的循环，从而能将激光碎石产生的高能量带走，保护肾盂处在安全温度。
本实施例采用的内窥镜带有压力传感器，MCU会根据实际检测的腔压与设置的腔压比较，进行智能运算：
当实际腔压过高时，灌注暂停，负压吸引会根据压力差自动调整增加强度，当实际腔压过压时，压差大抽吸的力度会变大，压差小抽吸的力度会变小，压差大小决定了从肾盂中抽吸的生理盐水多少，迫使肾盂压力将逐步降低，一旦实际腔压下降到设置值时，灌注恢复，这样肾盂腔压实现动态平衡。当实际腔压超过设定值5mmHg以上，负压吸引强度会变得更大，同时灌注会反转泄压，迫使压力快速下降，使得实际腔压与设置腔压达到动态平衡。
当实际腔压过低时，负压吸引会根据压力差自动调整减少强度，这样从肾盂中抽走的生理盐水变少，而灌注仍旧按设置流量运行，肾盂腔压又会逐步上升，使得实际腔压与设置腔压达到动态平衡。
负压吸引力脉冲式间歇性吸引，是通过实际腔压与设置腔压之间压差智能模糊算法，自动调整实际腔压、设置腔压与负压抽吸力度的关系，确保肾盂灌入与流出的生理盐水循环起来，使得肾盂腔压快速下降，控制实际腔压在设置值范围。通过以上设计，灌注注入与吸引流出的循环水解决腔内采集装置，如摄像头视野模糊的问题；同时循环水带走碎石产生热量，降低肾盂温度；智能控压维持了肾盂腔压的安全；灌注流入和吸引流出生理盐水的平衡。
如图2所示，本发明还提供了一种肾盂内温度监测控制系统，包括：
数据采集模块，用于采集当前腔内温度数据和与当前所述腔内温度数据对应的各影响因子数据，所述腔内温度数据对应的影响因子数据包括向腔内流入的灌注流量、向腔外流出的吸引流量以及腔内压力数据；
温度判断模块，用于启动工作后，判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值；
预警模块，用于在当前所述腔内温度数据大于所述预设温度阈值的情况下，通过智能控制中心发出第一温度信号提示信息；
第一控制模块，用于基于所述第一温度信号提示信息确定当前温度信号的改变状态，根据所述温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内温度阈值范围下腔内压力的稳定性。
具体地，所述腔内温度判断模块包括：
第二控制模块，用于在当前所述腔内温度数据小于等于所述预设温度阈值的情况下，启动平衡模式；控制所述吸引流量和所述灌注流量恒定在预设流量范围内以确保所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内压力范围内的腔压信息。
本发明还提供了一种灌注吸引平台，包括如本发明实施例所述的肾盂内温度监测控制方法。
基于相同的发明构思，本发明提供一种计算机设备，包括：存储器，所述存储器用于存储处理程序；处理器，所述处理器执行所述处理程序时实现所述的肾盂内温度监测控制方法。
基于相同的发明构思，本发明提供一种可读存储介质，所述可读存储介质上存储有处理程序，所述处理程序被处理器执行时实现所述的肾盂内温度监测控制方法。
本领域普通技术人员可以理解：实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成，前述的程序可以存储于计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤；而前述的存储介质包括：移动存储设备、只读存储器(Read Only Memory，ROM)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
上面结合附图对本发明的实施方式作了详细说明，但是本发明并不限于上述实施方式。即使对本发明做出各种变化，倘若这些变化属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则仍落入在本发明的保护范围之中。
Claims (9)
1.一种肾盂内温度监测控制系统，其特征在于，包括：
数据采集模块，用于采集并监测当前腔内温度数据和与当前所述腔内温度数据对应的各影响因子数据，所述腔内温度数据对应的影响因子数据包括向腔内流入的灌注流量、向腔外流出的吸引流量以及腔内压力数据；
温度判断模块，用于启动工作后，判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值；
预警模块，用于在当前所述腔内温度数据大于所述预设温度阈值的情况下，通过智能控制中心发出第一温度信号提示信息；
第一控制模块，用于基于所述第一温度信号提示信息确定当前温度信号的改变状态，根据所述温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内温度阈值范围下腔内压力的稳定性；
所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡包括：
启动调整模式；
接收并根据所述第一温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行一次调节；
根据所述调节灌注流量的控制指令调整第一目标电机的转速以增加向腔内流入的灌注流量，根据从流量传感器中获取对灌注流量变化量的反馈数据获取当前腔内压力数据；
当灌注流量的增加打破了原来的灌注流量和吸引流量的动态平衡使得腔内压力升高时，将升高状态的腔内压力数据传输至智能控制中心，基于升高状态的腔内压力数据发出调节吸引流量的控制指令，该控制指令为增加吸引流量来达到新的动态平衡；
根据所述调节吸引流量的控制指令调整第二目标电机的转速以增加吸引强度使得腔内吸引流量与灌注流量达到动态平衡；在控制进程进入调整模式时，调节产生负压吸引的第二目标电机的占空比来控制吸引流量，直至到达预设的吸引流量最大阈值，得到当前腔内压力数据；
若当前所述腔内压力数据大于预设的腔内压力最大阈值，调整灌注流量以降低向腔内流量的灌注或者暂停向腔内流量的灌注；若当前所述腔内压力数据大于腔内压力设定值，将第一目标电机正转运行转换成反转运行对已灌注流量进行泄压调节，从而确保所述腔内压力能够控制在预设的腔内压力阈值范围内。
2.根据权利要求1所述的肾盂内温度监测控制系统，其特征在于，所述第一控制模块，还用于在当前所述腔内温度数据小于等于所述预设温度阈值的情况下，启动平衡模式；控制所述吸引流量和所述灌注流量恒定在预设流量范围内以确保所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内压力范围内的腔压信息。
3.一种灌注吸引平台，其特征在于，包括：
采集并监测当前腔内温度数据和与当前所述腔内温度数据对应的各影响因子数据，所述腔内温度数据对应的影响因子数据包括向腔内流入的灌注流量、向腔外流出的吸引流量以及腔内压力数据；
启动工作后，判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值；
在当前所述腔内温度数据大于所述预设温度阈值的情况下，通过智能控制中心发出第一温度信号提示信息；
基于所述第一温度信号提示信息确定当前温度信号的改变状态，根据所述温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内温度阈值范围下腔内压力的稳定性；
所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡包括：
启动调整模式；
接收并根据所述第一温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行一次调节；
根据所述调节灌注流量的控制指令调整第一目标电机的转速以增加向腔内流入的灌注流量，根据从流量传感器中获取对灌注流量变化量的反馈数据获取当前腔内压力数据；
当灌注流量的增加打破了原来的灌注流量和吸引流量的动态平衡使得腔内压力升高时，将升高状态的腔内压力数据传输至智能控制中心，基于升高状态的腔内压力数据发出调节吸引流量的控制指令，该控制指令为增加吸引流量来达到新的动态平衡；
根据所述调节吸引流量的控制指令调整第二目标电机的转速以增加吸引强度使得腔内吸引流量与灌注流量达到动态平衡；在控制进程进入调整模式时，调节产生负压吸引的第二目标电机的占空比来控制吸引流量，直至到达预设的吸引流量最大阈值，得到当前腔内压力数据；
若当前所述腔内压力数据大于预设的腔内压力最大阈值，调整灌注流量以降低向腔内流量的灌注或者暂停向腔内流量的灌注；若当前所述腔内压力数据大于腔内压力设定值，将第一目标电机正转运行转换成反转运行对已灌注流量进行泄压调节，从而确保所述腔内压力能够控制在预设的腔内压力阈值范围内。
4.根据权利要求3所述的灌注吸引平台，其特征在于，所述判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值包括：
在当前所述腔内温度数据小于等于所述预设温度阈值的情况下，启动平衡模式；
控制所述吸引流量和所述灌注流量恒定在预设流量范围内以确保所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到动态平衡，从而得到能够控制在预设腔内压力范围内的腔压信息。
5.根据权利要求3所述的灌注吸引平台，其特征在于，所述判断当前所述腔内温度数据是否大于预设温度阈值之前包括：
启动的工作状态划分为碎石模式和非碎石模式；
当控制进程处于碎石模式时，腔内液体在激光作用下，获取到的所述温度信号从初始温度信号转变成异常温度信号；
判断所述异常温度信号是否在预设的温度范围内，发出对应的温度信号提示信息；
当控制进程处于非碎石模式时，监控所述初始温度信号能够控制在预设的温度阈值范围内。
6.根据权利要求3所述的灌注吸引平台，其特征在于，所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡包括：
启动调整模式；
接收并根据所述第一温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行一次调节；
根据所述调节灌注流量的控制指令调整第一目标电机的转速以增加向腔内流入的灌注流量；
当灌注流量的增加使得腔内压力升高时，将升高状态的腔内压力数据传输至智能控制中心；
基于升高状态的腔内压力数据发出调节吸引流量的控制指令；
根据所述调节吸引流量的控制指令调整第二目标电机的转速以增加吸引强度使得腔内吸引流量与灌注流量达到动态平衡。
7.根据权利要求3所述的灌注吸引平台，其特征在于，所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡进一步包括：
当所述第一温度信号下降至第二温度信号，且所述第一温度信号呈下降趋势变化；
根据所述第二温度信号向第一目标电机发送调节灌注流量的控制指令进行二次调节；
根据所述调节灌注流量的控制指令调整第一目标电机的转速以减少向腔内流入的灌注流量；
根据所述调节吸引流量的控制指令调整第二目标电机的转速以减少吸引流量使得腔内吸引流量与灌注流量同步调整并运行。
8.根据权利要求3所述的灌注吸引平台，其特征在于，所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡进一步包括：
配置对灌注流量的初始灌注流量设定值；
配置对吸引流量的初始吸引流量设定值；
当所述第一温度信号下降至预设的温度阈值范围内，同步对灌注流量和吸引流量的流量控制；
按照所述初始灌注流量设定值运行对流量向腔内灌注的控制并按照所述初始吸引流量设定值运行对腔内流量向腔外流出的控制。
9.根据权利要求6所述的灌注吸引平台，其特征在于，所述根据所述第一温度信号的改变状态对所述灌注流量和所述吸引流量进行同步调整以控制所述灌注流量和所述吸引流量在运行过程中达到新的动态平衡进一步包括： 在控制进程进入调整模式时，调节产生负压吸引的第二目标电机的占空比来控制吸引流量，直至到达预设的吸引流量最大阈值，得到当前腔内压力数据；
若当前所述腔内压力数据大于预设的腔内压力最大阈值，调整灌注流量以降低向腔内流量的灌注或者暂停向腔内流量的灌注；
若当前所述腔内压力数据大于腔内压力设定值，将第一目标电机正转运行转换成反转运行对已灌注流量进行泄压调节，从而确保所述腔内压力能够控制在预设的腔内压力阈值范围内。
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