CN116745671A - 可变射束调制 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种设备(10)和方法，该设备和方法用于以简单的方式将多个光学元件(18a‑c)引入射束路径、尤其是引入EUV产生系统的射束路径。在此，设备(10)优选具有梯级盘(32)，该梯级盘具有至少一个梯级，该至少一个梯级构造用于将光学元件(18a‑c)间接或直接地移动到射束路径中。进一步优选地，设有弹簧(36a‑c)，当光学元件(18a‑c)没有被(多个)梯级间接或直接地操作时，这些弹簧将光学元件(18a‑c)间接或直接地从射束路径移出。梯级盘(32)尤其能够间接或直接地通过柔性轴(28)被旋转。可以设有操纵杆(34a‑c)，这些操纵杆各自在一端能够被(多个)梯级操作并且在另一端具有光学元件(18a‑c)。光学元件(18a‑c)的光学效应的强度就这些光学元件(18a‑c)中的另一个光学元件而言优选相应地增大相同的倍数、尤其是增大为两倍。

Description

可变射束调制
技术领域
本发明涉及一种用于进行射束调制的设备和方法。
背景技术
已知的是，对射束、尤其激光射束的特性进行调制。为此使用如下光学元件，这些光学元件通常必须被安装及拆卸以改变射束调制。然而，这繁琐又耗时并且需要详尽的专业知识。
发明目的
因此，本发明的目的在于，提供一种用于显著简化地进行可变射束调制的设备和方法。
发明内容
根据本发明，该目的通过根据权利要求1的设备和根据权利要求15的方法来实现。从属权利要求给出优选的改进方案。
因此，根据本发明的目的通过一种用于进行射束调制的设备来实现，其中通过使光学元件移入和移出射束路径来进行射束调制。设备具有带第一光学元件的第一操纵杆(Hebel)以及带第二光学元件的第二操纵杆。设备还具有调节装置。调节装置构造用于移动第一操纵杆和第二操纵杆。由此，可以将第一光学元件和第二光学元件移入和移出射束路径。
避免了费时费力地安装和拆卸光学元件。装配设备的时间可以减少到5％以下。第一光学元件优选布置或构造于第一操纵杆的光学框架中。第二光学元件优选布置或构造于第二操纵杆的光学框架中。
为了能够更好地调制射束特性，设备可以具有带第三光学元件的第三操纵杆。在这种情况下，调节装置可以构造用于将第三光学元件移入和移出射束路径。换言之，设备可以构造用于将第一光学元件、第二光学元件和第三光学元件引入射束路径以及将其从射束路径移出，而不必采取费时费力的安装和拆卸措施。第三光学元件优选布置或构造于第三操纵杆的光学框架中。
优选地，多个操纵杆、尤其是所有操纵杆支承在设备的两端被固持的轴件上。
在本发明的特别优选的构造方案中，调节装置具有梯级盘(Stufenscheibe)，通过该梯级盘的至少一个梯级能够移动操纵杆。下面，为了简单起见，梯级盘在其优选的实施方式中被描述为具有多个梯级。然而，其还可以仅具有一个梯级。
梯级可以布置在梯级盘上，或者优选地与梯级盘一件式地构造。梯级盘或凸轮盘构造了结构简单的用于移动操纵杆的机械设备。优选地，操纵杆可以通过梯级盘的梯级摆动。在此优选地，梯级盘的梯级布置在端侧，而不是(像在齿圈中那样)沿梯级盘的周面表面布置。操纵杆可以各自具有带光学元件的(尤其长的)操纵杆臂、以及(尤其短的)操纵杆臂，其中(尤其短的)操纵杆臂可以被梯级或凸轮操作，以便使操纵杆围绕旋转点进行摆动。
梯级盘优选以围绕其主轴线可旋转的方式被支承。根据本发明，“可旋转”在此还包括小于360°的摆动运动。
进一步优选地，操纵杆可以各自通过在梯级盘上径向偏移的梯级被移动。因此，操纵杆可以彼此独立地被操作。
替代于此或附加于此，多个梯级可以在周向上偏移，使得至少在梯级盘部分地旋转时，仅换入一个光学元件。由此，在操作调节装置时实现了特别均匀的负载。替代于此或附加于此，梯级还可以以这样的方式在梯级盘上沿周向偏移地布置，即，使得在梯级盘部分地旋转时，同时换入两个或更多个光学元件。以这种方式，可以将两个或更多个光学元件特别高效地引入射束路径。
在此，梯级可以被布置或者被构造成，使得操纵杆实施以下运动：
a)将第一光学元件换入射束路径；
b)第一光学元件从射束路径中换出，并且将第二光学元件换入；
c)将第一光学元件换入。
这些运动优选被实施为摆动运动。
在至少三个操纵杆的情况下，梯级可以被布置或者被构造成，使得第三光学元件在上述步骤a)至c)中被换出，并且操纵杆在步骤a)至c)之后实施以下步骤：
d)将第一光学元件换出，将第二光学元件换出并且将第三光学元件换入；
e)将第一光学元件换入；
f)将第一光学元件换出并且第二光学元件换入；
g)将第一光学元件换入。
这些运动优选被实施为摆动运动。
在方法步骤a)之前和/或在方法步骤g)之后，可以尤其通过无梯级的构造方式/布置方式将光学元件从射束路径中换出。
设备可以具有一个或多个弹簧，以便将处于被换出或被移出状态下的光学元件移动至预定义的位置。
当梯级盘被调节装置的正齿轮减速机构(Stirnraduntersetzung)驱动时，实现了本发明的结构简单的实施方案。
设备可以具有可弯曲的轴。可弯曲的轴可以实现调节装置的灵活定位。
除了光学效应的强度之外，光学元件优选被构造为相同的。光学元件的光学效应的强度优选就这些光学元件中的另一个光学元件而言相应地增大某个倍数、尤其增大为两倍。
在设备的特别优选的构造方案中，光学元件各自具有吸收器。进一步优选地，光学元件各自被构造为呈吸收器的形式。吸收器优选地被构造为呈板状。特别优选地，第二光学元件所具有的厚度是第一光学元件的厚度的两倍。进一步优选地，第三光学元件所具有的厚度是第二光学元件的厚度的两倍。
于是，根据上述步骤a)至c)，单倍的吸收器厚度、随后是双倍的吸收器厚度、随后是三倍的吸收器厚度被移入或换入射束路径。换言之，吸收作用梯级式地增大。
于是，根据上述步骤d)至g)，四倍的吸收器厚度、随后是五倍的吸收器厚度、随后是六倍的吸收器厚度、随后是七倍的吸收器厚度被移入射束路径。
进一步优选地，吸收器各自具有CaF2板。特别优选地，吸收器各自被构造为呈CaF2板的形式。
设备优选具有激光器，该激光器用于产生沿射束路径延伸的射束、即呈激光射束形式的射束。优选地，激光器构造用于发射红外(IR)激光射束。激光器可以被构造为呈CO2激光器的形式。
设备可以具有探测器，用于测量在射束路径中延伸的射束的射束特性。探测器优选被构造为呈光电磁(PEM)探测器的形式。
进一步优选地，设备可以具有极紫外光(EUV)产生装置。在此，EUV产生装置具有用于产生在射束路径中延伸的射束的上述激光器。由激光器产生的射束优选被一个或多个放大器激光器放大，并且优选指向能够在EUV产生装置(“EUV系统”)中产生的锡滴。然后，在锡滴中可以产生发射EUV辐射的等离子体。
此外，根据本发明的目的通过一种用于利用设备、尤其是利用在此描述的设备进行射束调制的方法来实现。设备在此具有至少两个操纵杆，该至少两个操纵杆各自具有光学元件，其中操纵杆相继实施以下运动：
a)将第一光学元件换入射束路径；
b)将第一光学元件从射束路径中换出，并且将第二光学元件换入；
c)将第一光学元件换入。
操纵杆的这些运动优选被实施为摆动运动。
设备可以具有带第三光学元件的至少一个第三操纵杆，其中第三光学元件在方法步骤a)至c)期间被移出，并且该方法具有以下方法步骤：
d)将第一光学元件换出，将第二光学元件换出并且将第三光学元件换入；
e)将第一光学元件换入；
f)将第一光学元件换出并且将第二光学元件换入；
g)将第一光学元件换入。
这些运动优选被实施为摆动运动。
在方法步骤a)之前和/或在方法步骤g)之后，可以尤其通过无梯级的构造方式/布置方式将光学元件从射束路径中移除(光学元件的总强度为零)。
本发明的其他优点从说明书和附图得出。同样，上述以及还将进一步阐述的特征可以根据本发明各自单独地或多个任意组合地使用。所示出的和所描述的实施方式不应理解为穷尽的列举，而是更确切地说对于解说本发明而言具有示例性特征。
附图说明
图1示出根据本发明的用于进行射束调制的设备的等距视图。
图2示出设备的另一视图，其中盖件被取下。
图3示出设备的局部剖视视图，从中可以看出板状的光学元件，这些光学元件被容纳在操纵杆中。
图4示出设备的另一视图，从中可以看出通过梯级盘对操纵杆的操作。
图5示出设备的侧视图，该侧视图进一步展示了通过梯级盘的梯级对操纵杆的操作。
图6示出梯级盘的用于展示梯级的视图。
具体实施方式
图1示出用于对射束12(在此呈激光射束的形式)进行调制的设备10。射束12用于通过EUV(极紫外光)产生系统14来产生EUV辐射。EUV辐射的产生是通过用射束12照射锡滴(未示出)来进行的。在图1所示的设备10的部分中，射束12并不指向锡滴，而是至少部分地被耦合输出以对其进行表征，并且在探测器16中被分析。在此，探测器16优选被构造为呈光电磁(PEM)探测器的形式。
由于射束12由于其高功率而可能损坏探测器16，因此设有在此呈吸收器形式的光学元件18a、18b、18c(在图3中更加清楚可见)。光学元件18a-c可以根据需要被引入射束12的射束路径20。为了引入及引出光学元件18a-c，设有调节装置22。
对调节装置22的操作可以手动进行和/或通过执行器(未示出)、例如电动马达进行。在当前情况下，设置工具接合部24来布置工具(未示出)，以便手动地操作调节装置22。优选地，可以向工具接合部24引入呈多边钥匙(Mehrkantschlüssel)形式的工具。
图2示出设备10，其中盖件26已被移除。从图2可以看出，工具接合部24的操作可以通过(在此为柔性的)轴28进行。柔性轴28允许工具接合部24的灵活定位和操作。
轴28的旋转可以通过正齿轮减速机构30传递至调节装置22的梯级盘32。梯级盘32用于将操纵杆34a、34b、34c移动、尤其摆动到射束路径20中(参见图1)。操纵杆34a-c具有光学元件18a-c。
当操纵杆34a-c没有被梯级盘32操作时，这些操纵杆由弹簧36a、36b、36c移出射束路径20(参见图1)。在此，弹簧36a-c在一端悬挂在操纵杆34a-c的钩38a、38b、38c上。在图2中，出于图示原因，没有示出弹簧36a-c在钩38a-c上的悬挂。弹簧36a-c在另一端布置在支架40上。
图3以局部剖视示图示出设备10。从图3可以看出，光学元件18a-c被容纳或被保持在操纵杆34a-c中。光学元件18a-c被构造为呈(尤其板状的)吸收器的形式。在此，光学元件18a-c被构造为呈CaF2板的形式。在这种情况下，光学元件18b所具有的厚度是光学元件18a的厚度的两倍。光学元件18c所具有的厚度是光学元件18b的厚度的两倍。根据被摆动进入的光学元件18a-c的组合的不同，由于将光学元件18a-c的吸收作用相加而产生了厚度为光学元件18a的厚度的一倍、二倍、三倍、四倍、五倍、六倍或七倍的总吸收器。
图4示出设备10，其中从图4可以看出，操纵杆34a-c可旋转地支承在(尤其共用的)轴件42上。轴件42优选在两端支承在支架40上。操纵杆34a-c各自具有带光学元件18a-c的长操纵杆臂、以及短操纵杆臂。短操纵杆臂由梯级盘32的梯级44操作。梯级44优选与梯级盘32一体式地构造。通过梯级盘32的旋转，梯级44压在操纵杆34a-c的(尤其短的)操纵杆臂上，以便使操纵杆34a-c偏转并且因此将光学元件18a-c移入、尤其摆动到射束路径20中(参见图1)。
图5以侧视图示出设备10。从图5可以看出，操纵杆34a-c彼此径向偏移地布置在梯级盘32上。因此，操纵杆34a-c可以根据梯级44的布置方式或构造方式的不同而彼此独立地被梯级盘32操作。
图6以俯视图示出梯级盘32。虚线表示对操纵杆34a-c的操作，其中操纵杆34a在径向外部被操作，操纵杆34b在径向中心被操作，而操纵杆34c在径向内部被操作(参见图5)。从图5与图3的概览中清楚的是，在梯级盘32旋转时，以下操纵杆34a-c或光学元件18a-c被操作，以便将以下光学元件18a-c的总强度引入射束路径20(参见图1)：
通过根据本发明的梯级盘32，可以逐步线性地增大光学元件18a-c的总有效强度。
在方法步骤a)之前和/或在方法步骤g)之后，可以尤其通过无梯级44的构造方式/布置方式将光学元件18a-c从射束路径20中移除(参见图1)(光学元件的总强度为零)。
优选地，如在当前实施例中，在梯级盘32的旋转过程中，只有一个光学元件18a-c被移动到射束路径20中(参见图1)。当操纵杆34a-c未被操作时，移出通过弹簧36a-c进行。
综观所有附图，本发明涉及一种设备10和方法，用于以简单的方式将多个光学元件18a-c引入射束路径20、尤其是引入EUV产生系统14的射束路径20。在此，设备10优选具有梯级盘32，该梯级盘具有至少一个梯级44，该至少一个梯级构造用于将光学元件18a-c间接或直接地移动到射束路径20中。进一步优选地，设有弹簧36a-c，当光学元件18a-c没有被(多个)梯级44间接或直接地操作时，这些弹簧将光学元件18a-c间接或直接地从射束路径20移出。梯级盘32尤其能够间接或直接地通过柔性轴28旋转。可以设有操纵杆34a-c，这些操纵杆各自在一端能够被(多个)梯级44操作并且另一端具有光学元件18a-c。光学元件18a-c的光学效应的强度就这些光学元件18a-c中的另一个光学元件而言优选相应地增大相同的倍数、尤其增大为两倍。
附图标记列表
10 设备
12 射束
14 EUV产生系统
16 探测器
18a-c光学元件
20 射束路径
22 调节装置
24 工具接合部
26 盖件
28 轴
30 正齿轮减速机构
32 梯级盘
34a-c操纵杆
36a-c弹簧
38a-c钩
40 支架
42 轴件
44 梯级

Claims (15)

1.一种设备(10)，所述设备用于，通过将光学元件(18a-c)移入射束路径(20)和从所述射束路径移出进行射束调制，其中，所述设备(10)具有以下：
-第一操纵杆(34a-c)，所述第一操纵杆具有第一光学元件(18a-c)；
-第二操纵杆(34a-c)，所述第二操纵杆具有第二光学元件(18a-c)；
-调节装置(22)，所述调节装置用于移动所述第一操纵杆(34a-c)，以便将所述第一光学元件(18a-c)移入所述射束路径(20)以及从所述射束路径(20)移出，并且所述调节装置用于移动所述第二操纵杆(34a-c)，以便将所述第二光学元件(18a-c)移入所述射束路径(20)以及从所述射束路径(20)移出。
2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述设备(10)具有第三操纵杆(34a-c)，所述第三操纵杆具有第三光学元件(18a-c)，其中，所述调节装置(22)构造用于移动所述第三操纵杆(34a-c)，以便将所述第三光学元件(18a-c)移入所述射束路径(20)以及从所述射束路径(20)移出。
3.根据权利要求1或2所述的设备，其中，所述调节装置(22)具有梯级盘(32)，其中，所述操纵杆(34a-c)能够通过所述梯级盘(32)的梯级(44)被移动。
4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述操纵杆各自能够通过在所述梯级盘(32)上径向偏移的梯级(44)被移动。
5.根据权利要求3或4所述的设备，其中，多个梯级(44)在周向上偏移，使得至少在所述梯级盘(32)部分地旋转时，只有一个光学元件(18a-c)被移入所述射束路径(20)。
6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述梯级(44)被布置或者被构造成，使得具有所述光学元件(18a-c)的所述操纵杆(34a-c)相继实施以下运动：
a)将第一光学元件(18a-c)移入所述射束路径(20)；
b)将第一光学元件(18a-c)从所述射束路径(20)移出，并且将第二光学元件(18a-c)移入；
c)将第一光学元件(18a-c)移入。
7.根据权利要求6结合权利要求2所述的设备，其中，所述梯级(44)被布置或者被构造成，使得所述第三光学元件(18a-c)在步骤a)至c)中被移出，并且具有所述光学元件(18a-c)的所述操纵杆相继实施以下运动：
d)将第一光学元件(18a-c)移出，将第二光学元件(18a-c)移出并且将第三光学元件(18a-c)移入；
e)将第一光学元件(18a-c)移入；
f)将第一光学元件(18a-c)移出并且将第二光学元件(18a-c)移入；
g)将第一光学元件(18a-c)移入。
8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述设备(10)具有一个或多个弹簧(36-c)，以便将处于没有被所述调节装置(22)操作的状态下的所述操纵杆(34a-c)移动至预定义的位置。
9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述梯级盘(32)由所述调节装置(22)的正齿轮减速机构(30)驱动。
10.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述调节装置(22)具有可弯曲的轴(28)。
11.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述光学元件(18a-c)各自具有吸收器。
12.根据权利要求11所述的设备，其中，所述吸收器各自具有CaF2板。
13.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述设备(10)具有激光器，所述激光器用于产生在所述射束路径(20)中延伸的射束(12)。
14.根据权利要求13所述的设备，其中，所述设备(10)具有极紫外光(EUV)产生装置(14)。
15.一种方法，所述方法用于借助尤其根据前述权利要求中任一项所述的设备(10)来对射束(12)进行调制，其中，所述设备(10)具有至少两个操纵杆(34a-c)，所述至少两个操纵杆各自具有光学元件(18a-c)，所述方法具有以下方法步骤：
a)将第一光学元件(18a-c)移入所述射束路径(20)；
b)将第一光学元件(18a-c)从所述射束路径(20)移出，并且将第二光学元件(18a-c)移入；
c)将第一光学元件(18a-c)移入。
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