CN116724376A - 声学喷射质谱法的动态喷射延迟时间 - Google Patents

Abstract

一种从孔板喷射多个样品的方法包括接收与孔板的第一孔中的第一样品相关联的第一样品强度预测。还接收与第二孔中的第二样品相关联的第二样品强度预测。第二样品强度预测小于第一样品强度预测。至少部分地基于第二样品强度预测来确定用于第一样品和第二样品的后续分析的喷射时间延迟值。此后，从第一孔声学喷射第一样品，以及从第二孔声学喷射第二样品。

Description

声学喷射质谱法的动态喷射延迟时间

相关申请的交叉引用

本申请于2021年12月22日作为PCT国际专利申请提交，并要求于2020年12月22日提交的美国临时申请第63/128,940号的权益和优先权，该申请由此通过引用并入本文。

背景技术

高通量样品分析对药物发现过程至关重要。基于质谱法(MS)的方法可以实现对广泛范围的分析物的无标记、通用质量检测，并具有出色的灵敏度、选择性和特异性。因此，人们对提高用于药物发现的基于MS的分析的通量有着浓厚的兴趣。特别是，许多用于基于MS的分析的样品引入系统已经得到改进，以提供更高的通量。声学液滴喷射(ADE)已与开放端口接口(OPI)相结合，为高通量质谱法提供了样品引入系统。当ADE设备和OPI耦合到质谱仪时，该系统可称为声学喷射质谱(AEMS)系统。AEMS系统的分析性能(灵敏度、重现性、通量等)取决于ADE设备和OPI的性能。ADE设备和OPI的性能取决于为这些设备选择操作条件或参数。

AEMS技术将快速、精确控制、小体积的采样带到了转移到ESI而没有残留的直接高流量液体，以实现这种具有高重现性和广泛化合物覆盖的高通量分析平台。AEMS系统的分析通量在考虑能够从相邻喷射的潜在干扰中准确识别和量化化合物的情况下由来自不同采样事件的喷射之间的延迟时间确定。

发明内容

在一方面，本技术涉及一种从孔板喷射多个样品的方法，该方法包括：接收与孔板的第一孔中的第一样品相关联的第一样品强度预测；接收与孔板的第二孔中的第二样品相关联的第二样品强度预测，其中第二样品强度预测小于第一样品强度预测；至少部分地基于第二样品强度预测来确定用于第一样品和第二样品的后续分析的喷射时间延迟值；从第一孔声学喷射第一样品；以及在声学喷射第一样品后，从第二孔声学喷射第二样品。在示例中，该方法包括将孔板接纳在质谱设备中。在另一示例中，该方法包括计算调整时间段，其中调整时间段至少部分地基于参考时间段和喷射延迟时间值。在又一示例中，声学喷射第二样品是在调整时间段过去后执行的。在又一示例中，该方法包括接收与孔板的第三孔中的第三样品相关联的第三样品强度预测，其中第三样品强度预测满足大于和等于第二样品强度预测中的至少一种情况。

在上述方面的另一示例中，该方法包括在声学喷射第二样品后，从第三孔声学喷射第三样品，其中喷射第三样品是在参考时间段过去后执行的。在示例中，该方法包括用质谱设备分析第一样品、第二样品和第三样品，以分别获得第一离子强度信号、第二离子强度信号和第三离子强度信号。在又一示例中，该方法包括在耦合到质谱设备的存储器中将第一样品强度预测与第一离子强度信号一起存储。

在另一方面，本技术涉及一种从孔板喷射多个样品的方法，该方法包括：从孔板的第一孔声学喷射第一定时样品；用质谱设备分析第一定时样品以确定第一离子强度信号；在喷射第一定时样品后，从孔板的第二孔声学喷射第二定时样品；用质谱设备分析第二定时样品以确定第二离子强度信号，其中第二离子强度信号小于第一离子强度信号；以及至少部分地基于第二离子强度信号来确定用于对来自第一孔的第一分析样品和来自第二孔的第二分析样品执行后续分析的喷射时间延迟值。在示例中，该方法包括计算调整时间段，其中调整时间段至少部分地基于参考时间段和喷射延迟时间值。在另一示例中，该方法包括：从第一孔声学喷射第一分析样品；以及在声学喷射第一分析样品后，从第二孔声学喷射第二分析样品，其中声学喷射第二分析样品是在调整时间段过去后执行的。在又一示例中，声学喷射第二定时样品是在定时时间段过去后执行的。在又一示例中，定时时间段小于参考时间段。

在上述方面的另一示例中，该方法包括：在喷射第二定时样品后，从孔板的第三孔声学喷射第三定时样品；用质谱设备分析第三定时样品以确定第三离子强度信号，其中第三离子强度信号满足大于和等于第二离子强度信号中的至少一种情况。在另一示例中，该方法包括在声学喷射第二分析样品后，从第三孔声学喷射第三分析样品，其中声学喷射第三分析样品是在参考时间段过去后执行的。

在另一方面，本技术涉及一种质量分析仪器，包括：开放端口接口(OPI)；流体泵，被配置为将传输流体泵入OPI中；电喷雾电离(ESI)源，与OPI流体连通；检测器，被配置为检测从ESI源发射的离子；可移动台，用于接纳孔板，其中可移动台被配置为选择性地将孔板的各个孔与OPI对准；处理器；以及存储指令的存储器，所述指令当由处理器执行时使质量分析仪器执行包括以下操作的一组操作：在可移动台定位于相对于OPI的第一位置的情况下，从孔板的第一孔声学喷射第一样品；将可移动台移动到相对于OPI的第二位置；在可移动台定位于相对于OPI的第二位置的情况下，从孔板的第二孔声学喷射第二样品，其中第一样品的声学喷射和第二样品的声学喷射之间的时间段至少部分地基于第一样品的预测强度或实际强度中的至少一个和第二样品的预测强度或实际强度中的至少一个。在示例中，该组操作还包括接收第一样品的预测强度和第二样品的预测强度。在另一示例中，该组操作还包括在第一样品和第二样品的声学喷射之前的定时操作中用检测器检测第一样品的实际强度和第二样品的实际强度。在又一示例中，移动台包括在所述时间段期间执行移动操作和等待操作，其中移动操作长于等待操作。在又一示例中，移动台包括在所述时间段期间执行移动操作和等待操作，其中移动操作短于等待操作。

附图说明

图1是将声学液滴喷射(ADE)与开放端口接口(OPI)采样接口和电喷雾电离(ESI)源相结合的示例系统的示意图。

图2描绘了来自孔板的多次样品喷射的离子强度信号。

图3A-图3C描绘了以不同延迟时间进行的八次样品喷射的离子强度信号。

图4描绘了来自孔板的多次样品喷射的离子强度信号。

图5描绘了从孔板喷射多个样品的方法。

图6描绘了来自孔板的多次样品喷射的离子强度信号。

图7描绘了从孔板喷射多个样品的另一方法。

图8描绘了操作质谱设备的方法。

图9描绘了可以在其中实现本示例中的一个或多个示例的合适的操作环境的示例。

具体实施方式

图1是将ADE 102与OPI采样接口104和ESI源114结合的示例系统100的示意图。系统100可以是质量分析仪器，诸如用于对接收在采样OPI的开放端内的分析物进行电离和质量分析的质谱设备。这样的系统100例如在美国专利第10,770,277号中有描述，该美国专利的公开内容通过引用整体并入本文。ADE 102包括声学喷射器106，该声学喷射器被配置为将液滴108从贮存器112喷射到采样OPI 104的开放端中。如图1所示，示例系统100总体包括：与ESI源114液体连通的采样OPI 104，用于将包含一种或多种样品分析物的液体(例如，经由电喷雾电极116)排放到电离室118中；以及与电离室118连通的质量分析器检测器(总体描绘在120处)，用于下游处理和/或检测由ESI源114生成的离子。由于ESI源114的电喷雾电极116和雾化器探头138的配置，从其喷射的样品处于气相。液体处理系统122(例如，包括一个或多个泵124和一个或多个导管125)提供从溶剂贮存器126到采样OPI 104和从采样OPI 104到ESI源114的液体流动。溶剂贮存器126(例如，包含液体、解吸溶剂)可以经由供应导管127液体地耦合到采样OPI 104，液体可以由泵124(例如，往复泵，正排量泵诸如旋转泵、齿轮泵、柱塞泵、活塞泵、蠕动泵、隔膜泵，或其他泵诸如重力泵、脉冲泵、气动泵、电动泵和离心泵)以选定的体积速率通过供应导管127传送，所有这些都是非限制性示例。与本文所述的某些方法相关的测试液体接口129也被描绘为耦合到供应导管127。如下文详细讨论的，液体流入和流出采样OPI 104发生在开放端处可访问的样品空间内，使得一个或多个液滴108可以被引入到样品顶端处的液体边界128中并且随后被传送到ESI源114。

系统100包括被配置为生成声能的ADE 102，声能被施加到包含在贮存器110内的液体，这导致一个或多个液滴108从贮存器110喷射到采样OPI 104的开放端中。控制器130可以操作地耦合到ADE 102并且可以被配置为操作ADE 102的任何方面(例如，聚焦结构、声学喷射器106、用于移动可移动台134以便将贮存器110定位为与声学喷射器106对准的自动化元件132等)。这使得ADE 106能够将液滴108注入采样OPI 104中，如本文另外讨论的那样，作为非限制性示例，注入基本上连续地进行或针对实验方案的选定部分进行。控制器130可以是但不限于微控制器、计算机、微处理器或任何能够发送和接收控制信号和数据的设备。控制器130与系统100的其余元件之间的有线或无线连接未被描绘，但对于本领域技术人员而言将是清楚的。

如图1所示，ESI源114可包括加压气体(例如氮气、空气或惰性气体)的源136，其向围绕电喷雾电极116的出口端的雾化器探头138供应高速雾化气流。如所描绘的，电喷雾电极116从雾化器探头138的远端突出。加压气体与从电喷雾电极116排出的液体相互作用以增强样品羽流的形成和羽流内的离子释放以供质量分析器检测器120进行采样，例如，经由高速雾化流和液体样品射流(例如，分析物-溶剂稀释液)的相互作用来采样。排出的液体可包括从孔板112的每个贮存器110接收的离散体积的液体样品LS。离散体积的液体样品LS一般通过溶剂S的体积而彼此分开(因此，由于溶剂流将液体样品LS从OPI 104移动到ESI源114，溶剂在本文中也可称为传输液体)。雾化器气体可以以例如在从约0.1L/min到约20L/min的范围内的各种流速供应，这也可以在控制器130的影响下进行控制(例如，通过打开和/或关闭阀140)。

将理解的是，雾化器气体的流速可以进行调节(例如，在控制器130的影响下)以使得采样OPI 104内的液体的流速可以基于例如在分析物-溶剂稀释液正被从电喷雾电极116喷射时由雾化器气体和分析物-溶剂稀释液的相互作用产生的吸力/抽吸力(例如，由于文丘里效应)来调节。电离室118可保持在大气压，但在一些示例中，电离室118可被抽空至低于大气压的压强。

本领域技术人员还将理解并且根据本文的教导，质量分析器检测器120可以具有各种各样的配置。一般而言，质量分析器检测器120被配置为处理(例如，过滤、分类、解离、检测等)由ESI源114生成的样品离子。作为非限制性示例，质量分析器检测器120可以是三重四极质谱仪，或本领域已知的并根据本文的教导修改的任何其他质量分析器。可以根据本文公开的系统、设备和方法的各个方面进行修改的其他非限制性的示例性质谱仪系统可以在例如由James W.Hager和J.C.Yves Le Blanc所写并发表于《质谱快讯》(2003；17:1056-1064)的题为“使用Q-q-Q线性离子阱(Q TRAP)质谱仪进行产物离子扫描”的文章中、以及名称为“用于质谱仪的碰撞池”的美国专利第7,923,681号中找到，它们的公开内容由此通过引用整体并入本文。

其他配置，包括但不限于本文描述的那些配置和本领域技术人员已知的其他配置，也可以与本文公开的系统、设备和方法结合使用。例如，其他合适的质谱仪包括单重四极、三重四极、ToF、阱和混合分析器。还将理解，系统100中可以包括任何数量的附加元件，包括例如离子迁移率谱仪(例如，微分迁移率谱仪)，其被设置在电离室118和质量分析器检测器120之间并被配置为根据离子在高场和低场之间的迁移率差异来分离离子。另外，将理解的是，质量分析器检测器120可以包括如下检测器，该检测器可以检测通过分析器检测器120的离子并且可以例如提供指示每秒检测到的离子数量的信号。

在图1的质谱设备的使用期间，声学喷射之间的延迟时间会影响分析一组样品(诸如孔板中的样品)的吞吐率。因此，通过减少喷射(其可以是声学喷射、按需滴定喷射等)之间的延迟时间，可以提高吞吐率。然而，延迟时间的减少会导致样品之间的干扰。例如，如果来自第一样品的离子在第二样品的离子到达检测器的同时仍在被检测，则所得分析可能会不准确。避免样品间干扰的最短延迟时间取决于多种因素，包括峰形(例如峰宽、前延/拖尾等)以及相邻喷射之间的信号动态范围(来自浓度和/或喷射体积和/或样品基质的差异)。在本申请中测试的喷射可以是来自单个孔的单滴喷射或来自同一孔的重复喷射。这种喷射(单次或多次)导致质谱分析中的单个信号峰。

本技术尤其提供了减少声学喷射之间的延迟时间同时减少样品间干扰的可能性的解决方案。为此，本技术利用样品信号之间的预测或实际强度关系，并相应地调整喷射之间的延迟时间。预测强度信号可以基于一个或多个因素，诸如测量的浓度、相对浓度(例如，高或低)、样品喷射体积或样品基质。该信息可以在质谱分析之前例如由准备样品盘的技术人员传送至质谱设备。基于关于样品的此类信息，可以调整样品之间的延迟时间。例如，喷射已知高浓度样品和已知低浓度样品之间的延迟时间可以大于喷射低浓度样品和高浓度样品之间的延迟时间。对于无法获得预测特性的样品，可以通过快速喷射和分析样品来确定实际强度信号，以确定是否需要附加的延迟时间。尽管这些快速喷射会需要附加的时间，但通过对完整质谱分析所需的喷射之间所要求的时间进行调整，可以节省总体处理时间。

图2中描绘了示例信号图线，其中示出了来自从样品孔进行的八次声学喷射的离子强度信号。沿x轴描绘时间，并沿y轴描绘信号强度(以每秒离子计数测量)。每次喷射之间的延迟时间是在相邻峰的峰顶之间测量的。每次喷射由质量分析器检测器分析并且可以由对应的峰顶P(信号的高点)和对应的面积(由峰的形状界定的部分)表征。此处，峰形不会为特定测定(例如，以固定目标分析物、基质、载体溶剂、喷射体积和流速为特征的测定)而改变。相邻喷射之间的信号动态范围(例如，相邻峰高之间的差异)是确定喷射之间的最小必要喷射延迟时间的另一个因素。导致最高分析通量的最短延迟时间应满足准确量化所有喷射的要求。这种所要求的延迟时间可取决于相邻喷射之间的信号动态范围，甚至基于相同的峰形。图2描绘了目标分析物的浓度在相邻喷射之间相似的情况。在这种情况下，相邻喷射之间的一致时间延迟(例如，大约1秒延迟)将足以准确量化来自不同喷射的样品，因为其允许每个峰被清楚地定义并与相邻峰分开。

然而，经常存在相邻或连续喷射的强度信号可能显著偏离的情况。当相邻喷射之间的信号动态范围为50、100、1000倍或更多时，此类条件可能特别具有挑战性。图3A中描绘了这种情况，其中描绘了来自相邻喷射的六次喷射1-6的离子强度信号，喷射速率为每个样品1.09秒。六次喷射可以表征为高、低、低、低、低、高，从而产生特定的显示信号。信号还显示拖尾峰形(在喷射3处用T描绘，与在喷射4处描绘的急剧增加I形成对照)，但并非所有质谱分析都是这种情形。然而，拖尾峰形可能需要在样品之间要求附加的时间延迟以适应拖尾峰形。如果信号表征为既有高浓度又有显著拖尾峰，则会加剧此问题，如在喷射1和2的信号之间的干扰处出现的情况所描绘的。也就是说，当诸如喷射1之类的高浓度的样品(并且具有拖尾峰形)在诸如喷射2之类的低浓度的样品之前被喷射，其间没有足够的延迟时间会导致不能区分信号。例如，喷射2的峰与喷射1的峰几乎不可区别。因此，应在喷射之间引入更长的延迟时间以准确量化样品。根据本文所描述的多个标准，此类延迟时间可以是约0.5秒、约1.0秒或约1.5秒。当分析物与管表面之间的相互作用可能导致峰拖尾更严重时，可能需要更加长的延迟时间。

图3B描绘了喷射1-6之间的增加的延迟时间(喷射速率为每个样品1.37秒)，这在喷射2-5之间是足够的，但在喷射1和2之间仍然不足，其中喷射1的信号的拖尾形状仍然影响喷射2的信号的峰面积积分结果。例如，对应于喷射1的峰与对应于喷射2的峰仍然有部分重叠。因为强度信号在喷射1和喷射2之间没有下降到其基线水平，所以质量分析仪器的检测器很可能在检测来自喷射1的离子的同时检测器也在检测来自喷射2的离子。因此，由于这种重叠或干扰，针对喷射1和喷射2所得到的质量分析结果可能不准确。因此，喷射1和喷射2之间需要更大的延迟时间以防止这种干扰。

在标准AEMS系统中，声学喷射方法对于整个运行是相同的，包括声学校准、载体溶剂流速、喷射体积、喷射延迟时间等。在这样的配置中，延迟时间是基于最差情形被设置为测定中最宽的预期信号动态范围所要求的延迟时间。图3C描绘了这种保守的方法，它可以安全地量化每次喷射，特别是喷射1和2。但是，这种保守的方法在除了喷射1和2以外的那些没有明显信号差异的喷射之间不必要地引入了长延迟。因此，在喷射2、3、4和5之间存在每个样品约1.56秒的显著(虽然不必要)的延迟时间。值得注意的是，即使考虑到喷射5的拖尾峰形，喷射5和6之间的延迟时间也是足够的。

本文描述的技术思考了用于动态调整样品之间的延迟时间的方法，以便减少或消除不必要的等待时间。这可以大大提高质量分析系统的分析通量。延迟时间可根据与每个孔内的样品的浓度相关的相邻喷射的预测或预定信号信息来动态调整。例如，在高预期信号后跟随着低预期信号这样的序列之间将添加较长的喷射延迟时间。较短的喷射延迟时间对于具有相似浓度的相邻喷射，以及对于低预期信号后跟随着较高预期信号来说都将是足够的。由于信号的拖尾峰形的存在，也可以添加更长的喷射延迟时间。

思考了几种实现这些结果的方法来生成关于相邻喷射的预测或实际信号关系的信息。例如，对于一些稳定性测定和剂量响应活性筛选，样品板典型地被布置为从低浓度到高浓度，或者至少在给定组内具有相似的浓度。图4描绘了在样品组内抑制药物浓度从高变为低的情况。仅当高信号后跟随着明显较低的信号时才需要增加延迟时间。典型地，这将发生在组切换点，或紧接在零百分比效应(ZPE)对照样品后，如图4在位置Z处所描绘的。在其他测定中，ZPE和百分百效应(HPE)被放置在板的两个单独的列中作为内置对照。

图5中更详细地描述了控制从孔板的样品喷射的方法500。该方法思考了上述情况，其中可以预测每个样品孔的信号强度(例如，从孔板的制备)。这些信号强度可以是相对的或测量的。出于说明的目的，方法500思考第一样品的信号强度高于第二样品的信号强度，以及第三样品的信号强度大于或等于第二样品的信号强度。然而，根据该方法500的修改版本可以分析具有任何特定顺序的预测样品信号强度的孔盘，如本领域技术人员在阅读以下描述后将清楚的。

方法500开始于操作502，接收与孔板的第一孔中的第一样品相关联的第一样品强度预测。该样品强度预测可以由将被用来分析孔板中的样品的质谱设备的用户输入。在操作504中，接收与孔板的第二孔中的第二样品相关联的第二样品强度预测。同样，如上所述，出于说明的目的，第二样品强度预测小于第一样品强度预测。利用这样高的第一样品强度预测和相对低的第二样品强度预测，在操作506，可以确定用于第一样品和第二样品的后续分析的喷射时间延迟值。该确定至少部分基于第一样品强度预测和第二样品强度预测。例如，如果使用三个、四个或更多样品，则可以执行其他可选操作。例如，操作508包括接收与孔板的第三孔中的第三样品相关联的第三样品强度预测，并且如上所述，第三样品强度预测大于或等于第二样品强度预测。在已知这三个样品强度预测的情况下，可以执行第一样品、第二样品(和第三或更多样品，如果存在的话)的后续分析。

该分析开始于操作510，其中包含第一样品、第二样品和第三样品(分别在第一孔、第二孔和第三孔中)的孔板被接纳在质谱设备中。在准备处理具有第一样品、第二样品和第三样品的孔板时，操作512包括计算调整时间段。调整时间段至少部分地基于参考时间段和从操作506确定的喷射延迟时间值。参考时间段可以是不需要附加延迟时间(确定的喷射延迟时间)的样品喷射之间所需的最短延迟时间；也就是说，已知样品强度的样品后跟随着样品强度大于或等于该已知样品强度的样品。方法500继续进行操作514，从第一孔声学喷射第一样品。由于在喷射第二样品之前需要增加的延迟时间，所以该方法包括操作516，等待调整时间段过去。此后，执行操作518，从第二孔声学喷射第二样品。在此示例中，由于已知第三样品具有大于或等于第二样品强度的样品强度，因此执行操作520，等待参考时间段过去。此后，方法500继续进行操作522，执行从第三孔声学喷射第三样品。

对于来自孔盘的附加孔的附加样品，可以重复另外的喷射。每个喷射之间的延迟时间由包括如下项的因素决定：相邻喷射之间的相对样品强度或拖尾峰形状的存在。关于后者，作为示例，高浓度喷射后跟随着低浓度需要由调整时间段表征的延迟，而低浓度喷射后跟随着相等或更高浓度的喷射需要仅由参考时间段表征的延迟。继续方法500，然后在操作524分析第一样品、第二样品和第三样品(以及任何附加的样品)。可以从分析中获得相应的离子强度信号。还可以执行操作526，其包括存储从分析中获得的信息。该信息可以包括(一个或多个)样品强度预测、参考时间段、喷射时间延迟、调整时间段、(一个或多个)所得离子强度信号等。所有这些信息都可以被保存和存储以供将来参考和质量控制。例如，如果信息指示接收到的信息(例如，低的第二样品强度预测和高的第三样品强度预测之间)与分析的离子强度信号(指示高的第二样品强度预测和低的第三样品强度预测)之间不一致，可以重新分析孔板。

虽然图5的方法500对于可以预测测量强度或相对强度的孔板很有用，但这种情况并不总是存在。由此，另一种预测相对信号水平关系的方法是预运行具有高得多的通量(例如，每秒3-4次喷射)的孔板。此预运行的一个目的是快速扫描和识别高信号后跟随着明显较低信号的情况(另外还对于拖尾峰形情况)，在这样的情况下将需要在实际分析运行中添加更长的喷射延迟时间。对于预运行，因为目的不在于实际量化来自每个孔的分析物的质量特征，所以在每秒3次喷射、每秒4次喷射或更多的速率下来自相邻喷射的离子强度信号的部分重叠是可以接受的。图6中描绘了来自每秒3次喷射的预运行的离子强度信号。此外，虽然这种预运行方法除了分析运行外还消耗了一些分析时间，但对于某些具有明显拖尾峰形的测定来说，总通量可能会更快。根据来自预运行的结果，可以在高信号S后跟随着低信号L的样品喷射之间添加额外的延迟时间。替代地，可以重新安排用于完全分析的喷射序列，其中低信号孔在高信号孔之前喷射，从而允许在所有喷射之间只使用短延迟时间。

图7描绘了这样的方法700，该方法执行从孔板喷射多个样品的方法，例如作为快速预运行。方法700开始于操作702，从孔板的第一孔声学喷射第一定时样品。该方法继续到操作704，用质谱设备分析第一定时样品以确定第一离子强度信号。在图7的方法700的上下文中，术语“定时样品”及其“分析”指的是从孔板喷射的样品，该样品未作为分析工作的一部分而被分析；事实上，在为从孔板喷射思考的3-4Hz(或更高)喷射频率下，这种快速喷射可明显短于实际将要分析的样品喷射之间过去的时间。相反，执行定时样品的分析是为了计算从同一孔板喷射的后续“分析样品”之间的延迟时间。该分析样品可经历完全的分析工作。该方法继续进行操作706，从孔板的第二孔声学喷射第二定时样品，这是在喷射第一定时样品后执行的。在操作708中，用质谱设备分析该第二定时样品以确定第二离子强度信号。与图5的说明性方法500一样，第二离子强度信号小于第一离子强度信号，离子强度信号指示每个孔中的样品的浓度。此后，操作710包括确定用于对来自第一孔的第一分析样品和来自第二孔的第二分析样品执行后续分析的喷射时间延迟值。喷射时间延迟值可以至少部分地基于第二离子强度信号。在操作712，利用该喷射时间延迟值，可计算调整时间段。调整时间段可基于参考时间段和喷射延迟时间值，在一个示例中可以是参考时间段和喷射延迟时间值的和。参考时间段可以是典型用于孔板分析的预定时间段，并且可以由制造商或用户基于样品孔的内容物、最佳实践等来设置。

虽然仅描绘了在操作714从孔板的第三孔声学喷射第三定时样品和在操作716用质谱设备分析第三定时样品以确定第三离子强度信号，但可以喷射和分析附加的定时样品。与图5的方法500一样，第三离子强度信号大于或等于第二离子强度信号，因此不需要喷射时间延迟。因此，在第二分析样品和第三分析样品之间确定的时间段可以仅对应于参考时间段。在喷射并分析了来自孔板的孔的定时样品的情况下，现在可以进行详细的分析工作。

方法700的分析方面开始于操作718，从第一孔声学喷射第一分析样品。在操作720，延迟随后的喷射直到调整时间段过去；在之后的操作722，从第二孔声学喷射第二分析样品。此后，方法700在操作724等待参考时间段过去，然后从第三孔声学喷射第三分析样品。然后可以进行每个分析样品的各种离子强度信号的生成、分析、评估、存储等。

图1中描绘的质谱设备包括可移动台，该可移动台相对于ADE和OPI移动孔板。可以调整台的移动以适应适当分析孔板样品所需的各种延迟时间。图8描绘了思考台的移动以适应这些延迟时间的方法800。方法800开始于操作802或804。操作802包括用检测器检测第一样品的实际强度和第二样品的实际强度。这可以在诸如上文在图7中所描绘的定时操作中执行。然而，操作804包括接收第一样品的强度预测和第二样品的强度预测。这与诸如在图5中所描绘的预测强度信号的孔盘一致。该方法继续操作806，在可移动台定位于相对于OPI的第一位置的情况下从孔板的第一孔声学喷射第一样品。此后，在操作808，台移向相对于OPI的第二位置。该移动操作可以包括两个子操作，即，在操作810执行移动操作，和在操作812执行等待操作。在其他示例中，等待操作812可以在移动操作810之前执行。该移动可发生在喷射之间所需的时间段的过程中，如果从较高强度信号的孔移动到较低强度信号的孔则该时间段可更长，或如果从较低强度信号的孔移动到相等或较高强度信号的孔则该时间段可更短。声学喷射之间的该时间段至少部分地基于第一样品的强度信号和第二样品的强度信号。在一个示例中，移动操作比等待操作长；在另一示例中，移动操作比等待操作短。此后在操作814，在孔板处于第二位置的情况下执行从孔板的第二孔声学喷射第二样品。

图9描绘了可以在其中实现本示例中的一个或多个示例的合适的操作环境900的一个示例。该操作环境可以直接合并到质谱系统的控制器中，例如诸如图1中描绘的控制器。这只是合适的操作环境的一个例子，并不意味着对功能或使用范围暗示有任何限制。可以适合使用的其他众所周知的计算系统、环境和/或配置包括但不限于个人计算机、服务器计算机、手持或膝上型设备、多处理器系统、基于微处理器的系统、诸如智能手机之类的可编程消费者电子设备、网络PC、小型计算机、大型计算机、平板电脑、包括上述系统或设备中的任一者的分布式计算环境，等等。

在其最基本的配置中，操作环境900典型地包括至少一个处理单元902和存储器904。根据计算设备的确切配置和类型，存储器904(尤其存储用于控制样品喷射、移动台，或执行本文公开的其他方法的指令)可以是易失性的(诸如RAM)、非易失性的(诸如ROM、闪存等)，或两者的某种组合。这种最基本的配置在图9中由虚线906图示。此外，环境900还可以包括存储设备(可移动的存储设备908，和/或不可移动的存储设备910)，包括但不限于磁性或光学的盘或带。类似地，环境900还可以具有(一个或多个)输入设备914(诸如触摸屏、键盘、鼠标、笔、语音输入等)和/或(一个或多个)输出设备916(诸如显示器、扬声器、打印机等)。该环境中还可以包括一个或多个通信连接912，诸如LAN、WAN、点对点、蓝牙、RF等。

操作环境900典型地包括至少某种形式的计算机可读介质。计算机可读介质可以是处理单元902或具有操作环境的其他设备可以访问的任何可用介质。作为示例而非限制，计算机可读介质可以包括计算机存储介质和通信介质。计算机存储介质包括以任何方法或技术实现的易失性和非易失性、可移动和不可移动介质，用于存储诸如计算机可读指令、数据结构、程序模块或其他数据之类的信息。计算机存储介质包括RAM、ROM、EEPROM、闪存或其他存储器技术、CD-ROM、数字多功能磁盘(DVD)或其他光学存储、磁带盒、磁带、磁盘存储或其他磁性存储设备，固态存储，或任何其他可用于存储所需信息的有形介质。通信介质包含计算机可读指令、数据结构、程序模块或调制数据信号(诸如载波或其他传输机制)中的其他数据，并且包括任何信息传送介质。术语“调制数据信号”是指其特性中的一个或多个特性以编码信号中的信息这样的方式设置或改变的信号。作为示例而非限制，通信介质包括诸如有线网络或直接有线连接之类的有线介质，以及诸如声学、RF、红外和其他无线介质之类的无线介质。上述任一者的组合也应包括在计算机可读介质的范围内。计算机可读设备是合并了计算机存储介质的硬件设备。

操作环境900可以是使用对一个或多个远程计算机的逻辑连接而在联网环境中操作的单个计算机。远程计算机可以是个人计算机、服务器、路由器、网络PC、对等设备或其他公共网络节点，并且典型地包括上述元素中的许多或全部以及未提及的其他元素。逻辑连接可以包括可用通信介质所支持的任何方法。这样的网络环境在办公室、企业范围的计算机网络、内联网和因特网中很常见。

在一些示例中，本文描述的部件包括可由计算机系统900执行的此类模块或指令，其可存储在计算机存储介质和其他有形介质上并在通信介质中传输。计算机存储介质包括以任何方法或技术实现的易失性和非易失性、可移动和不可移动介质以用于存储诸如计算机可读指令、数据结构、程序模块或其他数据之类的信息。上述任一者的组合也应包括在可读介质的范围内。在一些示例中，计算机系统900是将数据存储在远程存储介质中以供计算机系统900使用的网络的一部分。

本公开参考附图描述了本技术的一些示例，其中仅示出了可能示例中的一些。然而，其他方面可以以许多不同的形式来体现，并且不应被解释为限于在此阐述的示例。相反，提供这些示例是为了使本公开透彻和完整，并将可能示例的范围完全地传达给本领域技术人员。此外，以上参考根据本公开的各方面的系统和方法的框图和/或操作图示描述了本公开的一些方面。框中注明的功能、操作和/或动作可以不按任何相应流程图中所示的顺序发生。例如，根据所涉及的功能和实现方式，连续示出的两个框实际上可以基本上同时或以相反顺序执行或进行。

虽然本文描述了具体示例，但是本技术的范围不限于那些具体示例。本领域技术人员将认识到在本技术的范围内的其他示例或改进。因此，具体结构、动作或介质仅作为说明性示例公开。除非本文另有说明，否则根据本技术的示例还可以组合总体上公开但未明确以组合来例示的那些元素或部件。本技术的范围由所附权利要求及其中的任何等同方案限定。

Claims (20)

1.一种从孔板喷射多个样品的方法，所述方法包括：

接收与孔板的第一孔中的第一样品相关联的第一样品强度预测；

接收与孔板的第二孔中的第二样品相关联的第二样品强度预测，其中第二样品强度预测小于第一样品强度预测；

至少部分地基于第二样品强度预测来确定用于第一样品和第二样品的后续分析的喷射时间延迟值；

从第一孔声学喷射第一样品；以及

在声学喷射第一样品后，从第二孔声学喷射第二样品。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括将孔板接纳在质谱设备中。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的方法，还包括计算调整时间段，其中调整时间段至少部分地基于参考时间段和喷射延迟时间值。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中声学喷射第二样品是在调整时间段过去后执行的。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，还包括：

接收与孔板的第三孔中的第三样品相关联的第三样品强度预测，其中第三样品强度预测满足大于和等于第二样品强度预测中的至少一种情况。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的方法，还包括在声学喷射第二样品后，从第三孔声学喷射第三样品，其中喷射第三样品是在参考时间段过去后执行的。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，还包括用质谱设备分析第一样品、第二样品和第三样品，以分别获得第一离子强度信号、第二离子强度信号和第三离子强度信号。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的方法，还包括在耦合到质谱设备的存储器中将第一样品强度预测与第一离子强度信号一起存储。

9.一种从孔板喷射多个样品的方法，所述方法包括：

从孔板的第一孔声学喷射第一定时样品；

用质谱设备分析第一定时样品以确定第一离子强度信号；

在喷射第一定时样品后，从孔板的第二孔声学喷射第二定时样品；

用质谱设备分析第二定时样品以确定第二离子强度信号，其中第二离子强度信号小于第一离子强度信号；以及

至少部分地基于第二离子强度信号来确定用于对来自第一孔的第一分析样品和来自第二孔的第二分析样品执行后续分析的喷射时间延迟值。

10.根据权利要求9所述的方法，还包括计算调整时间段，其中调整时间段至少部分地基于参考时间段和喷射延迟时间值。

11.根据权利要求9-10中任一项所述的方法，还包括：

从第一孔声学喷射第一分析样品；以及

在声学喷射第一分析样品后，从第二孔声学喷射第二分析样品，其中声学喷射第二分析样品是在调整时间段过去后执行的。

12.根据权利要求9-10中任一项所述的方法，其中，声学喷射第二定时样品是在定时时间段过去后执行的。

13.根据权利要求12所述的方法，其中定时时间段小于参考时间段。

14.根据权利要求9-11中任一项所述的方法，还包括：

在喷射第二定时样品后，从孔板的第三孔声学喷射第三定时样品；

用质谱设备分析第三定时样品以确定第三离子强度信号，其中第三离子强度信号满足大于和等于第二离子强度信号中的至少一种情况。

15.根据权利要求14所述的方法，还包括在声学喷射第二分析样品后，从第三孔声学喷射第三分析样品，其中声学喷射第三分析样品是在参考时间段过去后执行的。

16.一种质量分析仪器，包括：

开放端口接口OPI；

流体泵，被配置为将传输流体泵入OPI中；

电喷雾电离ESI源，与OPI流体连通；

检测器，被配置为检测从ESI源发射的离子；

可移动台，用于接纳孔板，其中可移动台被配置为选择性地将孔板的各个孔与OPI对准；

处理器；以及

存储指令的存储器，所述指令当由处理器执行时使质量分析仪器执行包括以下操作的一组操作：

在可移动台定位于相对于OPI的第一位置的情况下，从孔板的第一孔声学喷射第一样品；

将可移动台移动到相对于OPI的第二位置；

在可移动台定位于相对于OPI的第二位置的情况下，从孔板的第二孔声学喷射第二样品，其中第一样品的声学喷射和第二样品的声学喷射之间的时间段至少部分地基于第一样品的预测强度或实际强度中的至少一个和第二样品的预测强度或实际强度中的至少一个。

17.根据权利要求16所述的质量分析仪器，其中所述一组操作还包括接收第一样品的预测强度和第二样品的预测强度。

18.根据权利要求16-17中任一项所述的质量分析仪器，其中所述一组操作还包括在第一样品和第二样品的声学喷射之前的定时操作中用检测器检测第一样品的实际强度和第二样品的实际强度。

19.根据权利要求16-18中任一项所述的质量分析仪器，其中移动台包括在所述时间段期间执行移动操作和等待操作，其中移动操作长于等待操作。

20.根据权利要求16-19中任一项所述的质量分析仪器，其中移动台包括在所述时间段期间执行移动操作和等待操作，其中移动操作短于等待操作。