CN116868305A - 电极突出调整以最大化跨液体运输导管的压降 - Google Patents
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Abstract
一种调整电极的尖端相对于质谱装置的雾化器喷嘴的端部的位置的方法,包括提供导管和在导管的第一端处连接到导管的电极。电极尖端部署在相对于雾化器喷嘴端部的第一位置处。压力计连接到导管的第二端。在电极尖端处于第一位置处的情况下,从喷嘴发起气体喷射。在气体喷射期间,电极尖端的位置相对于喷嘴端部从第一位置朝着第二位置调整。当压力计显示压力状况时,终止从第一位置朝着第二位置调整位置。一旦调整终止,电极尖端就处于第二位置处。
Description
相关申请的交叉引用
本申请于2022年1月20日作为PCT专利国际申请提交,并要求于2021年1月20日提交的美国临时申请No.63/139,498的权益和优先权,该申请在此通过引用并入本文。
背景技术
基于质谱法(MS)的方法可以实现对宽范围的分析物的无标记、通用质量检测,具有出色的灵敏度、选择性和特异性。结果,人们对针对许多应用改善基于MS的分析的吞吐量产生了浓厚的兴趣。许多用于基于MS的分析的样本引入系统已经得到改善,以提供更高的吞吐量。声滴喷射(ADE)已与开放端口接口(OPI)相结合,以提供用于高吞吐量质谱法的样本引入系统。样本从电喷雾电离(ESI)源中喷射出来并由MS进行分析。
发明内容
在一个方面中,本技术涉及一种调整电极的尖端相对于质谱装置的雾化器喷嘴的端部的位置的方法,该方法包括:提供导管以及在导管的第一端处连接到导管的电极,其中电极尖端部署在相对于雾化器喷嘴端部的第一位置处;将压力计连接到导管的与第一端相对的第二端;在电极尖端处于第一位置处的情况下发起从雾化器喷嘴的气体喷射;在气体喷射期间,相对于雾化器喷嘴端部从第一位置朝着第二位置调整电极尖端的位置;以及当压力计显示压力状况时,终止从第一位置朝着第二位置调整位置,其中在终止从第一位置朝着第二位置调整位置后,电极尖端处于第二位置处。在示例中,当处于第一位置处时,电极尖端与雾化器喷嘴端部齐平。在另一个示例中,压力状况包括最大压降。在又另一个示例中,压力状况包括低于先前显示的最大压降的压降。在还有另一个示例中,该方法还包括,在终止从第一位置向第二位置调整位置之后,相对于雾化器喷嘴端部从第二位置朝着第三位置调整电极尖端的位置。
在上述方面的另一个示例中,该方法还包括当压力计显示先前显示的最大压降时,终止从第二位置朝着第三位置调整位置,其中在终止从第二位置朝着第三位置调整位置后,电极尖端处于第三位置处。在示例中,第三位置在第一位置与第二位置之间。在另一个示例中,第一位置、第二位置和第三位置中的至少一个位于雾化器喷嘴端部的第一侧,并且其中第一位置、第二位置和第三位置中的至少另一个位于雾化器喷嘴端部的第二侧。在还有另一个示例中,发起气体喷射包括激活气体源。在还有另一个示例中,气体喷射处于恒定流速。
在另一个方面中,本技术涉及一种调整电极的尖端相对于质谱装置的雾化器喷嘴的端部的位置的方法,该方法包括:提供电极,其中该电极在导管的第一端处连接到导管,并且其中电极尖端部署在相对于雾化器喷嘴端部的第一位置处;从雾化器喷嘴喷射雾化器气体;在喷射雾化器气体期间,从连接到导管的第二端的压力计接收多个压力信号,同时相对于雾化器喷嘴端部从第一位置朝着第二位置调整电极尖端的位置;以及至少部分地基于接收到的多个压力信号中的至少一个来终止调整位置,其中在终止调整位置后,电极尖端处于第二位置处。在示例中,该方法还包括至少部分地基于接收到的多个压力信号来计算最大压降,并且当多个接收到的压力信号中的至少一个与计算出的最大压降对应时终止调整位置。在另一个示例中,计算出的最大压降至少部分地基于压力曲线,该压力曲线至少部分地基于接收到的多个压力信号而生成。在还有另一个示例中,计算出的最大压降至少部分地基于压力曲线的斜率的符号改变。在还有另一个示例中,接收到的压力信号中的至少一个与低于先前接收到的最大压降的压降对应。
在上述方面的另一个示例中,该方法还包括,在终止从第一位置向第二位置调整位置之后,相对于雾化器喷嘴端部从第二位置朝着第三位置调整电极尖端的位置。在示例中,该方法还包括当多个接收到的压力信号中的至少一个与先前接收到的压力信号对应时,终止从第二位置朝着第三位置调整位置。在另一个示例中,先前接收到的压力信号与先前接收到的最大压降对应。在还有另一个示例中,该方法还包括将电极尖端的最终位置固定在第二位置。在还有另一个示例中,该方法还包括将电极尖端的最终位置固定在第三位置。
附图说明
图1是将声滴喷射(ADE)与开放端口接口(OPI)采样接口和电喷雾电离(ESI)源相结合的示例系统的示意图。
图2是ESI的局部透视图。
图3描绘了在通过ESI的两种不同流速下由质谱仪测得的信号差异。
图4描绘了基于电极位置的质谱信号改变的图。
图5描绘了在调整电极尖端相对于雾化器喷嘴端部的位置时压降改变的图。
图6描绘了用于调整电极尖端相对于雾化器喷嘴端部的位置的系统的示意图。
图7A-图7C描绘了调整电极尖端相对于雾化器喷嘴端部的位置的方法。
图8A和图8B描绘了调整电极尖端相对于雾化器喷嘴端部的位置的其它方法。
图9描绘了合适的操作环境的示例,在该环境中可以实现本示例中的一个或多个。
具体实施方式
图1是将ADE 102与OPI采样接口104和ESI源114相结合的示例系统100的示意图。系统100可以是质量分析仪器,诸如用于电离和质量分析在采样OPI的开口端内接收的分析物的质谱装置。这种系统100例如在美国专利No.10,770,277中进行了描述,该美国专利的公开通过引用整体并入本文。ADE 102包括被配置为将液滴108从贮存器112喷射到采样OPI104的开口端中的声学喷射器106。如图1中所示,示例系统100一般包括与ESI源114液体连通的采样OPI 104,用于将包含一种或多种样本分析物的液体(例如,经由电喷雾电极116)排放到电离室118中,以及包括与电离室118通信的质量分析器检测器(总体以120描绘),用于下游处理和/或检测由ESI源114生成的离子。由于ESI源114的雾化器喷嘴138和电喷雾电极116的配置,从中喷射的样本被转化为气相。液体处置系统122(例如,包括一个或多个泵124以及一个或多个导管125)提供从溶剂贮存器126到采样OPI 104以及从采样OPI 104到ESI源114的液体流动。溶剂贮存器126(例如,包含液体、解吸溶剂)可以经由供应导管127液体耦合到采样OPI 104,液体可以通过泵124(例如,往复泵、容积泵(诸如旋转泵、齿轮泵、柱塞泵、活塞泵、蠕动泵)、隔膜泵或其它泵(诸如重力泵、脉冲泵、气动泵、电动泵和离心泵))以选择的容积速率通过供应导管127被递送,所有这些都是非限制性示例。如下文详细讨论的,液体流入和流出采样OPI 104发生在开口端可接近的样本空间内,使得一个或多个液滴108可以被引入样本尖端处的液体边界128并随后被递送到ESI源114。
系统100包括ADE 102,该ADE 102被配置为生成声能,该声能被施加到包含在贮存器110内的液体,这使得一个或多个液滴108从贮存器110喷射到采样OPI 104的开口端。控制器130可以可操作地耦合到并且被配置为操作系统100的任何方面。这使得ADE 106能够将液滴108注射到采样OPI 104中,如本文另外讨论的那样基本上连续地,或作为非限制性示例用于实验方案的选择的部分。控制器130可以是但不限于微控制器、计算机、微处理器或能够发送和接收控制信号和数据的任何装置。控制器130与系统100的其余元件之间的有线或无线连接未描绘,但对于本领域技术人员而言将是清楚的。
如图1中所示,ESI源114可以包括加压气体源136(例如,氮气、空气或惰性气体),该加压气体源136将高速雾化气流供应到围绕电喷雾电极116的出口尖端的雾化器喷嘴138。如所描绘的,电喷雾电极116从雾化器喷嘴138的远端突出。加压气体与从电喷雾电极116排出的液体相互作用,以增强样本羽流的形成和羽流内的离子释放,以供质量分析器检测器120采样,例如,经由高速雾化流和液体样本(例如,分析物-溶剂稀释)的射流的相互作用。排出的液体可以包括从孔板112的每个贮存器110接收的液体样本LS。液体样本LS用溶剂S稀释并且通常通过溶剂S的容积与其它样本分开(因此,当溶剂S流将液体样本LS从OPI104移动到ESI源114时,溶剂S在本文中也可以被称为运输液体)。雾化器气体可以以各种流速供应,例如,在从约0.1L/min至约20L/min的范围内,这也可以在控制器130的影响下被控制(例如,经由打开和/或关闭阀140)。
应该认识到的是,可以调整雾化器气体的流速(例如,在控制器130的影响下),使得可以例如基于当雾化器气体从电喷雾电极116排出时(例如,由于Venturi效应)由雾化器气体与分析物-溶剂稀释的相互作用生成的吸力/抽吸力,来调整采样OPI 104内的液体流速。电离室118可以维持在大气压,但在一些示例中,电离室118可以被抽空至低于大气压的压力。
本领域技术人员根据本文的教导还将认识到的是,质量分析器检测器120可以具有多种配置。一般而言,质量分析器检测器120被配置为处理(例如,过滤、分类、离解、检测等)由ESI源114生成的样本离子。作为非限制性示例,质量分析器检测器120可以是三重四极杆质谱仪,或本领域已知的并根据本文的教导修改后的任何其它质量分析器。可以根据本文公开的系统、装置和方法的各个方面进行修改的其它非限制性示例性质谱仪系统可以在例如由James W.Hager和J.C.Yves Le Blanc撰写并发表于Rapid Communications inMass Spectrometry(2003;17:1056-1064)的标题为“Product ion scanning using a Q-q-Q linear ion trap(Q TRAP)mass spectrometer”以及标题为“Collision Cell forMass Spectrometer”的美国专利No.7,923,681中找到,所述文献的公开在此通过引用整体并入本文。
其它配置,包括但不限于本文描述的那些和本领域技术人员已知的其它配置,也可以与本文公开的系统、装置和方法结合使用。例如,其它合适的质谱仪包括单重四极杆、三重四极杆、ToF、阱(trap)和混合分析器。还应该认识到的是,系统100中可以包括任何数量的附加元件,包括例如部署在电离室118与质量分析器检测器120之间并被配置为基于离子在高场与低场中的迁移率差异来分离离子的离子迁移率谱仪(例如,差分迁移率谱仪)。此外,应该认识到的是,质量分析器检测器120可以包括检测器,该检测器可以检测通过分析器检测器120的离子并且可以例如供应指示每秒检测到的离子的数量的信号。
图2是ESI源200,即,雾化器喷嘴202和内部电喷雾电极204的局部透视图。雾化器喷嘴202包括外导管206,该外导管206包括远端208,液体可以从远端208排放到电离室中,如上所述。壳体210可以用于将雾化器喷嘴202固定在质谱装置内。壳体210限定中央通道212,电喷雾电极204穿过该中央通道212。电喷雾电极204可以连接到螺纹基座214,该螺纹基座214可以被接纳在中心通道212的配合螺纹部分中。在螺纹基座214内,电喷雾电极204可以流体耦合到质谱装置的液体处置系统的导管216。套圈218可以围绕螺纹基座214的一部分并可以旋转,以便将雾化器喷嘴202的外导管206内的电喷雾电极204的尖端(未示出)朝着远端208推进A。可压缩的O形环或垫圈215可以部署在套圈218与壳体210之间,以便无论螺纹基座214在中央通道212内的深度如何都维持气体密封。在相反方向上旋转套圈218可以使电喷雾电极204的尖端远离远端208缩回。在另一个示例中,除了手动旋转的套圈218之外或代替手动旋转的套圈218,马达220可以用于推进或缩回电喷雾电极204。
电喷雾电极204相对于雾化器喷嘴202的位置(例如,部署在其中或从其中突出的位置)与Venturi抽吸力的强度(例如,电极尖端处的压降)直接相关,从而确定了分析灵敏度和重现性、吞吐量和矩阵容差。此外,位置直接影响数据可重现性。在示例中,如果突出仅偏离一小段距离(在一个示例中,大约40微米),那么数据变异系数显著增加,尤其是在同时监视多个组件时。通常,在制造过程期间正确地设置电喷雾电极204相对于雾化器喷嘴202的位置是具有挑战性的,这导致性能的降低。
在标准系统中,电极调整是使用质谱仪信号改变作为迭代调整电极突出的指导直到获得期望的质谱仪信号来执行的。对于OPI生成的峰,信号质量和吞吐量取决于运输流速,其中访问更高流速的能力导致信号和吞吐量改善。要求更大的动力来维持更高的流量。对于OPI,力来自从ESI排出的运输气流所经历的压降。膨胀雾化器气体内电极出口的位置确定了运输液体所经历的压降。因此,性能的一方面涉及电极尖端相对于雾化器喷嘴的端部的位置,在那里压降处于或接近最大值。
本文描述的技术提供了一种创新过程来识别膨胀雾化器气体内最大压降的位置。另外,该过程与MS系统中使用的溶剂粘度无关,并基于电极喷嘴几何形状改善性能。本文描述的过程提供了一种相对于雾化器喷嘴的端部定位电极尖端的更系统、稳健且可重复的方法,该方法减少了用户偏差、由于喷雾质量的目视检查而引起的误差或质谱仪信号改变的不正确读取。通过直接测量雾化器喷嘴处的压降,本文描述的过程也可以被自动化,而不需要生成质谱仪信号。一旦定位在期望的位置,电极就可以被固定以运送给最终用户。可替代地,本文描述的方法可以由最终用户在从制造商收到电极之后现场执行。
图3描绘了由质谱仪测得的信号差异,其中电极尖端定位在相对于雾化器喷嘴端部的两个不同位置处。在这两个位置处,雾化器气体流速相同(在这个示例中为9.5L/min),液滴体积(大约~18nL液滴)和操作温度(400℃)也相同。点线图指示电极位置不太理想,这导致通过电极导管的液体流量较低(约80μL/min),在OPI处没有溢出。这由较宽的峰来描绘,其中基部处的全宽度约为2.0秒并且喷射频率与2.5秒周期对应。作为对照,实线图指示更理想的电极位置,这导致通过电极导管的液体流量更高(约600μL/min)。这由较窄的峰来描绘,其中基部处的全宽度约为0.5秒并且喷射频率与1.5秒周期对应。流速的改善指示电极尖端定位在膨胀雾化器气体的最低压力区域,从而改善了样本吞吐量。实线图的较低峰高是由于操作温度(喷雾脱溶剂温度)保持恒定在针对较低流速优化的水平处。
图4描绘了基于电极位置的质谱信号改变的图。在所描绘的图中,流速是恒定的;更具体而言,将其设置为电极突出和雾化器气流所允许的最高流速。操作温度针对这个流速进行优化。仅改变电极位置。区域A描绘了样本递送的优选流态,如所描绘的窄峰所指示的。因此,区域A指示最大拉力下的最大雾化器气流(由雾化器喷嘴端部处的压降引起)。此处,OPI内部的液体表面偏向OPI的样本去除导管。当电极位置改变时,例如,当位置离开优选位置时,压降减小并且OPI开始填充和溢出。这损害质谱样本信号,导致峰变宽并最终随着OPI溢出而合并(这也可能造成一些样本溢出)。更具体而言,区域B描绘了电极尖端移离最大压降的位置时的状况。降低的压降使液体移动的能力减弱,并且OPI开始填充,导致峰变宽。区域C描绘了电极尖端进一步远离最大压降的位置时的状况。这进一步降低了抽吸力,从而导致OPI溢出。这导致信号峰的合并,当一些样本溢出OPI时进一步减少信号。
图5描绘了在调整质谱装置的涡轮离子喷雾电极(TIS)(可从AB Sciex获得)的位置时压降改变的图。一般而言,图5描绘了作为电极尖端相对于雾化器喷嘴移动的函数的电极尖端处的压降。这三条曲线表示三种不同的雾化器气体驱动压力及其通过雾化器喷嘴的相关联气体流速。针对声波喷嘴膨胀的压降图内第一个最小值的计算出的位置对于曲线A是0.5mm,对于曲线B是0.7mm,并且对于曲线C是1.0mm。尽管对于喷嘴直径使用了近似值,但是计算出的值一般与每条相应曲线中所示的观察到的第一个最小值对应。“Pr”是欠膨胀比,因为喷嘴在欠膨胀模式下操作。在图5中,曲线A的Pr为1.78,曲线B的Pr为3.57,并且曲线C的Pr为7.0。
图6描绘了用于调整电喷雾电极602相对于雾化器喷嘴604的位置的系统600的示意图。为了说明的目的,电极602和喷嘴604都被描绘为破损的,并且没有描绘电极602、喷嘴604和允许任一组件的定位或操作的其它相关组件的进一步特征,但是对于本领域技术人员来说是清楚的。电极602包括可相对于雾化器喷嘴604的端部608线性定位的尖端606。另外,电极602经由传送导管612流体耦合到高分辨率压力计610,例如测压计,传送导管612可以与图1中的导管125对应。在连接压力计610的情况下,OPI 104不连接到导管612。雾化器气体源614流体耦合到雾化器喷嘴604的内部,用于向其递送雾化器气体。
出于说明目的,图6中描绘了尖端606的三个示例位置X、Y和Z。电极602的尖端606可以定位在这些位置中的任何一个位置或未描绘的其它位置。示例位置X与尖端606的部署在雾化器喷嘴604内且在雾化器喷嘴604的端部608的第一侧的位置对应。相反,示例位置Z与尖端606的部署在雾化器喷嘴604的外部的位置对应。由于它位于雾化器喷嘴604的外部,因此它也部署在雾化器喷嘴604的端部608的第二侧。示例位置Y与尖端606的与雾化器喷嘴604的端部608基本齐平的位置对应。另外,位置Y部署在位置X与Z之间。在本文描述的方法的示例中,所描述的所有尖端606位置可以全部部署在端部608的第一侧,所有尖端606位置可以全部部署在端部608的第二侧,或者数个尖端606位置中的一个或多个可以在端部608的相对侧。在执行本文描述的方法期间,传送导管612是干燥的(例如,其中不存在运输流体、样本或其它流体)。在膨胀雾化器气体内调整尖端606相对于雾化器喷嘴604的端部608的位置,同时压力计610监视压力状况的改变(例如,系统600中的压降的改变,如在压力计610处测得的)。
如图6中所描绘的,压力计读数616可以包括压力读数、压力曲线、压力曲线的斜率等中的任何一个或多个。如果读数全部或部分显示在连接的计算装置或连接到处理器的显示器上,那么压力曲线还可以将压力读数与尖端606的位置相关联。这里,压力曲线包括作为尖端606的位置(以mm为单位)的函数的检测到的压降(以psi为单位)。尖端606的位置可以根据基准D(例如,尖端606在喷嘴604内最深的位置)测量。利用雾化器喷嘴端部608距已知的基准的距离,可以容易地确定尖端606相对于端部608的位置。可以随着压力改变绘制压力曲线(并更新斜率)——图6的压力图的点线部分仅用于说明目的。因此,可以针对在电极的线性运动范围的两个终端位置之间的电极的整个位置范围绘制压力曲线。对于任何特定喷嘴,可以存在压降的多个“局部最大值”——即,相关联的压力曲线上可以存在多于单个峰。本文描述的技术可以用于确定这些局部最大值,其中之一将与给定喷嘴的最大压降对应。在其它示例中,从压力传感器610发送的信号可以由计算装置根据本文描述的方法进行处理。压力监视可以被手动执行(例如,由用户或技术人员),可以是自动过程(例如,其中来自压力计610的压力信号被发送到最终可以控制定位电极602的致动器(例如,马达220,图2)的控制器,或其组合。调整可以包括通过旋转其安装螺母(例如,套圈218,图2)来调整电极位置。
图7A-图7C描绘了调整电极的尖端相对于质谱装置的雾化器喷嘴的端部的位置的方法700。方法700在附图的顶部部分中进行描绘。全都在图6中描绘的电极、喷嘴、雾化器气体源和压力计以及读数的表示在图7A-图7C的底部部分中进行描绘(未编号)。当执行方法700的操作时,描绘了电极尖端的位置的对应改变和读数的改变。位置1、2和3以及压力曲线、曲线斜率和压力读数仅用于说明目的。为了清楚起见,方法700和尖端的状况以及读数的改变被并行地描述。
在方法700开始时,压力计与导管和电极流体连通,雾化器气体从气体源流出,并且电极的尖端处于第一位置。这个第一位置被描绘为图7A的底部部分中的位置1。另外,以5.0psi的第一压降读数的形式的压力状况被描绘在显示器上。出于说明目的,显示器还描绘了压降斜率;这种斜率曲线通常是在接收到第二压力读数后生成的;为了说明目的,这里在方法700开始时描绘了斜率。从压力计接收到的信号可以是根据需要或期望的任何分辨率,但是较高的分辨率增加准确性。方法700开始于操作702,接收第一压力状况,该第一压力状况可以是在压力计处检测到的雾化器喷嘴处的压降。随着雾化器气体流动,尖端的位置在第一方向(例如,在远离基准D的方向)上被调整。这导致接收到的压力状况发生正改变,操作704。在这个状态下,读数指示较高的压降(7.0psi),并且曲线的斜率开始趋于平缓,但仍为正。在雾化器气体仍然流动的情况下,继续在第一方向上调整尖端的位置。
方法700的流程继续到操作706(图7B),接收最大压降状况。当读数改变为最大压降(此处为8.0psi)和/或曲线的斜率变平时,确定这个状况。但是,最大压降状况和压力曲线的平坦化都不一定能够确定地确定,除非随后接收到的压降状况读数下降,或者曲线的斜率改变为负。这样,雾化器气体继续流动,并且尖端的位置继续在第一方向上被调整。在操作708中,接收负改变的压降状况。在这个上下文中,负改变的压力状况指示比操作706中的压力状况低的压力状况。即,检测到压降降低(此处为7.5psi)或斜率改变为负。在这个状态下,尖端处于第二位置。接下来,在与第一方向相反的第二方向上(例如,在朝着基准D的方向上)调整尖端的位置并且雾化器气体继续流动。
方法700继续到操作710(图7C),其中接收先前的最大压力状况。如上所述,当读数改变为先前接收到的最大压降(此处为8.0psi)和/或曲线的平坦斜率时,确定这个状况。这个第三位置是最大压降的位置。上述方法700假设在第一方向上调整电极尖端期间压降初始增加。但是,清楚的是,电极尖端在第一方向上的位置的改变可能导致压力状况的降低。在此类情形下,方向的改变可以反转,并且方法700如上面所指示地那样执行。另外,虽然基准D被描述为尖端在喷嘴内的位置,但是基准也可以是尖端在从喷嘴延伸的最远可能位置处的位置,或者在两个极端之间的某个其它任意位置处的位置。
图8A和图8B描绘了调整电极的尖端相对于质谱装置的雾化器喷嘴的端部的位置的其它方法800、850。方法800开始于操作802,提供导管和在导管的第一端处连接到导管的电极。电极尖端部署在相对于雾化器喷嘴端部的第一位置处,电极尖端可以与雾化器喷嘴端部齐平、位于雾化器本身内,或者从中突出。在操作804中,压力计连接到导管的与第一端相对的第二端,并且在操作806中,在电极尖端处于第一位置处的情况下发起从雾化器喷嘴喷射气体。气流的发起可以包括操作808,激活气体源。气体的流动可以是恒定速率,并且持续进行方法800的其余部分,如虚线809所描绘的。气体的流动导致压力计检测到压力状况。可以是雾化器喷嘴处的压降的该状况由压力计检测,并且可以显示或作为信号发送到处理装置以供进一步分析、显示等,如本文别处所述的。
方法800继续到操作810,相对于雾化器喷嘴端部从第一位置朝着第二位置调整电极尖端的位置。这个调整继续,直到操作812,操作812包括当压力计显示压力状况时终止从第一位置朝着第二位置调整位置。这个压力状况可以是最大压降或低于先前显示的最大压降的压降,如以上关于图7B的方法700的操作708所述的。这发生在第二位置处。一旦到达第二位置,方法800就继续操作814,相对于雾化器喷嘴端部从第二位置朝着第三位置调整电极尖端的位置。朝着这个第三位置的调整是与从第一位置到第二位置的方向相反的方向。流程继续到操作816,当压力计显示先前显示的最大压降时,终止从第二位置朝着第三位置调整位置。当显示这个状况时,电极尖端处于第三位置处,该第三位置在第一位置与第二位置之间。第一、第二和第三位置可以是相对于雾化器喷嘴端部的任何位置,例如,其中至少一个可以在雾化器喷嘴端部的第一侧,并且任何其余位置可以在雾化器喷嘴端部的第二侧。在另一个示例中,所有位置可以在雾化器喷嘴端部的单侧。
方法850开始于操作852,提供在导管的第一端处连接到导管的电极。电极尖端部署在相对于雾化器喷嘴端部的第一位置处,电极尖端可以与雾化器喷嘴端部齐平、位于雾化器本身内或者从中突出。然后执行操作854,从雾化器喷嘴喷射雾化器气体,和操作856,从连接到导管的第二端的压力计接收多个压力信号,并且在该方法的其余部分期间持续这些操作,如虚线框857所指示的。方法850继续到操作858,相对于雾化器喷嘴端部从第一位置朝着第二位置调整电极尖端的位置。方法850可以包括可选操作860,至少部分地基于接收到的多个压力信号来计算最大压降。如本文其它地方所指出的,可以处理接收到的压力信号并且可以基于例如压力曲线斜率从正斜率到基本平坦的斜率的改变、与特定雾化器喷嘴相关联的算法或其它因素来计算最大压降。无论如何,流程都从操作858或860继续到操作862,操作862包括至少部分地基于接收到的多个压力信号中的至少一个来终止调整位置。在这个状态下,电极尖端处于第二位置处。如果执行了操作860,那么第二位置可以是最终位置并且不需要执行进一步的调整。在那种情况下,可以执行操作864,固定电极尖端的最终位置。
在未执行操作860的方法850的示例中,流程从操作862继续到操作866,其中执行相对于雾化器喷嘴端部从第二位置朝着第三位置调整电极尖端的位置。如上所述,朝着这个第三位置的调整是与从第一位置到第二位置的方向相反的方向。流程继续到操作868,当多个接收到的压力信号中的至少一个与先前接收到的压力信号对应时,终止从第二位置朝着第三位置调整位置。先前接收到的压力信号可以与先前接收到的最大压降对应,指示电极尖端已经到达第三且最终位置。此时,可以执行将电极尖端固定在最终位置的操作870。
图9描绘了其中可以实现本示例中的一个或多个的合适操作环境900的一个示例。这个操作环境可以直接结合到质谱系统的控制器中,例如诸如图1中描绘的控制器。这仅是合适的操作环境的一个示例,并且并非旨在对使用或功能的范围暗示任何限制。其它众所周知的可以适合使用的计算系统、环境和/或配置包括但不限于个人计算机、服务器计算机、手持式或膝上型装置、多处理器系统、基于微处理器的系统、可编程消费电子产品,诸如智能电话、网络PC、小型计算机、大型计算机、平板电脑、包括上述任何系统或装置的分布式计算环境等。鉴于本文描述的处理系统的便携性,膝上型或平板电脑可以理想地经由有线或无线连接而连接到诸如图1中描绘的控制器,并且可以在电极位置设置事件之前、期间和之后发送适当的控制信号,以便控制系统的各个组件的操作。
在其最基本的配置中,操作环境900通常包括至少一个处理单元902和存储器904。取决于计算装置的确切配置和类型,存储器904(除其它外,还存储控制运输液体泵、传感器、阀、气体源等或执行本文公开的其它方法的指令)可以是易失性的(诸如RAM)、非易失性的(诸如ROM、闪存等)或两者的某种组合。在图9中用虚线906图示了这种最基本的配置。此外,环境900还可以包括存储装置(可移除装置908和/或不可移除装置910),该存储装置包括但不限于磁或光盘或带。类似地,环境900也可以具有(一个或多个)输入装置914,诸如触摸屏、键盘、鼠标、笔、语音输入等,和/或(一个或多个)输出装置916,诸如显示器、扬声器、打印机等。环境中还可以包括一个或多个通信连接912,诸如LAN、WAN、点对点、蓝牙、RF等。
操作环境900通常包括至少某种形式的计算机可读介质。计算机可读介质可以是可以由处理单元902或具有操作环境的其它装置访问的任何可用介质。作为示例而非限制,计算机可读介质可以包括计算机存储介质和通信介质。计算机存储介质包括以用于存储诸如计算机可读指令、数据结构、程序模块或其它数据之类的信息的任何方法或技术实现的易失性和非易失性、可移除和不可移除介质。计算机存储介质包括RAM、ROM、EEPROM、闪存或其它存储器技术、CD-ROM、数字多功能盘(DVD)或其它光学存储装置、磁盒、磁带、磁盘存储装置或其它磁性存储装置、固态存储装置或任何其它可以用于存储期望信息的有形介质。通信介质在诸如载波或其它运输机制之类的调制数据信号中实施计算机可读指令、数据结构、程序模块或其它数据,并且包括任何信息递送介质。术语“调制数据信号”是指具有以将信息编码在信号中的方式来设置或改变其一个或多个特性的信号。作为示例而非限制,通信介质包括诸如有线网络或直接有线连接之类的有线介质,以及诸如声学、RF、红外和其它无线介质之类的无线介质。以上任何的组合也应包括在计算机可读介质的范围内。计算机可读装置是结合计算机存储介质的硬件装置。
操作环境900可以是使用到一台或多台远程计算机的逻辑连接在联网环境中操作的单个计算机。远程计算机可以是个人计算机、服务器、路由器、网络PC、对等装置或其它公共网络节点,并且通常包括上述许多或所有元件以及未提及的其它元件。逻辑连接可以包括由可用通信介质支持的任何方法。这样的联网环境在办公室、企业范围的计算机网络、内联网和互联网中是常见的。
在一些示例中,本文描述的组件包括可由计算机系统900执行的此类模块或指令,其可以被存储在计算机存储介质和其它有形介质上并在通信介质中传输。计算机存储介质包括以用于存储诸如计算机可读指令、数据结构、程序模块或其它数据之类的信息的任何方法或技术实现的易失性和非易失性、可移除和不可移除介质。以上任何的组合也应包括在可读介质的范围内。在一些示例中,计算机系统900是将数据存储在远程存储介质中以供计算机系统900使用的网络的一部分。
本公开参考附图描述了本技术的一些示例,其中仅示出了一些可能的示例。但是,其它方面可以以许多不同的形式实施,并且不应被解释为限于本文阐述的示例。相反,提供这些示例是为了使本公开透彻和完整,并将可能示例的范围充分传达给本领域技术人员。
虽然本文描述了具体示例,但是本技术的范围不限于那些具体示例。本领域技术人员将认识到在本技术的范围内的其它示例或改善。因此,仅作为说明性示例公开了具体的结构、动作或介质。除非本文另有说明,否则根据本技术的示例还可以组合一般公开但没有明确组合例示的元件或组件。本技术的范围由所附权利要求及其中的任何等同形式限定。
Claims (20)
1.一种调整电极的尖端相对于质谱装置的雾化器喷嘴的端部的位置的方法,该方法包括:
提供导管以及在导管的第一端处连接到导管的电极,其中电极尖端部署在相对于雾化器喷嘴端部的第一位置处;
将压力计连接到导管的与第一端相对的第二端;
在电极尖端处于第一位置处的情况下发起从雾化器喷嘴的气体喷射;
在气体喷射期间,相对于雾化器喷嘴端部从第一位置朝着第二位置调整电极尖端的位置;以及
当压力计显示压力状况时,终止从第一位置朝着第二位置调整位置,其中在终止从第一位置朝着第二位置调整位置后,电极尖端处于第二位置处。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,当处于第一位置处时,电极尖端与雾化器喷嘴端部齐平。
3.根据权利要求1-2中的任一项所述的方法,其中,压力状况包括最大压降。
4.根据权利要求1-2中的任一项所述的方法,其中,压力状况包括低于先前显示的最大压降的压降。
5.根据权利要求4所述的方法,还包括,在终止从第一位置朝着第二位置调整位置之后,相对于雾化器喷嘴端部从第二位置朝着第三位置调整电极尖端的位置。
6.根据权利要求5所述的方法,还包括当压力计显示先前显示的最大压降时,终止从第二位置朝着第三位置调整位置,其中在终止从第二位置朝着第三位置调整位置后,电极尖端处于第三位置处。
7.根据权利要求5-6中的任一项所述的方法,其中,第三位置在第一位置与第二位置之间。
8.根据权利要求5-7中的任一项所述的方法,其中,第一位置、第二位置和第三位置中的至少一个位于雾化器喷嘴端部的第一侧,并且其中第一位置、第二位置和第三位置中的至少另一个位于雾化器喷嘴端部的第二侧。
9.根据权利要求1-8中的任一项所述的方法,其中,发起气体喷射包括激活气体源。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,气体喷射处于恒定流速。
11.一种调整电极的尖端相对于质谱装置的雾化器喷嘴的端部的位置的方法,该方法包括:
提供电极,其中该电极在导管的第一端处连接到导管,并且其中电极尖端部署在相对于雾化器喷嘴端部的第一位置处;
从雾化喷嘴喷射雾化器气体;
在喷射雾化器气体期间,从连接到导管的第二端的压力计接收多个压力信号,同时相对于雾化器喷嘴端部从第一位置朝着第二位置调整电极尖端的位置;以及
至少部分地基于接收到的多个压力信号中的至少一个压力信号来终止调整位置,其中在终止调整位置后,电极尖端处于第二位置处。
12.根据权利要求11所述的方法,还包括至少部分地基于接收到的多个压力信号来计算最大压降,并且当多个接收到的压力信号中的至少一个压力信号与计算出的最大压降对应时,终止调整位置。
13.根据权利要求12所述的方法,其中计算出的最大压降至少部分地基于压力曲线,该压力曲线至少部分地基于接收到的多个压力信号生成。
14.根据权利要求13所述的方法,其中,计算出的最大压降至少部分地基于压力曲线的斜率的符号改变。
15.根据权利要求11-14中的任一项所述的方法,其中,接收到的压力信号中的至少一个压力信号与低于先前接收到的最大压降的压降对应。
16.根据权利要求11-15中的任一项所述的方法,还包括,在终止从第一位置向第二位置调整位置之后,相对于雾化器喷嘴端部从第二位置朝着第三位置调整电极尖端的位置。
17.根据权利要求16所述的方法,还包括当多个接收到的压力信号中的至少一个压力信号与先前接收到的压力信号对应时,终止从第二位置朝着第三位置调整位置。
18.根据权利要求17所述的方法,其中,先前接收到的压力信号与先前接收到的最大压降对应。
19.根据权利要求11-18中的任一项所述的方法,还包括将电极尖端的最终位置固定在第二位置。
20.根据权利要求11-18中的任一项所述的方法,还包括将电极尖端的最终位置固定在第三位置。
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