CN116643461A - 曝光方法以及曝光装置 - Google Patents

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CN116643461A CN202310125591.4A CN202310125591A CN116643461A CN 116643461 A CN116643461 A CN 116643461A CN 202310125591 A CN202310125591 A CN 202310125591A CN 116643461 A CN116643461 A CN 116643461A
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中井一博
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Abstract

本发明提供一种曝光方法，即使在存在因不良情况等而不能曝光的曝光头的情况下，也能够补偿曝光而不降低位置精度。曝光方法包括：从第一曝光头朝向第一曝光区域以第一曝光图案照射光的工序；从第一曝光头朝向第二曝光区域以第二曝光图案照射光的工序；从第二曝光头朝向第三曝光区域以第三曝光图案照射光的工序；以及从第二曝光头朝向第四曝光区域以第四曝光图案照射光的工序。

Description

曝光方法以及曝光装置
技术领域
本发明的说明书所公开的技术涉及基板的曝光。作为处理对象的基板，例如包括半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、有机EL(electroluminescence：电致发光)显示装置等平板显示器(FPD：flat panel display)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩膜用玻璃基板、陶瓷基板、电场排放显示器(field emission display，即FED)用基板或太阳电池用基板等。
背景技术
以往，已知使用多个曝光头对基板上的曝光区域进行曝光的曝光装置(例如，参照专利文献1)。
在这种曝光装置中，分别对多个曝光头负责的曝光区域进行曝光。而且，在任意一个曝光头因不良情况而不能对负责的曝光区域进行曝光的情况下，通过其他曝光头进行追加曝光以进行额外补充。
专利文献1：日本特开2008-116646号公报。
在现有技术中，在存在无法曝光的曝光区域的情况下，进行追加曝光以额外补充，该追加曝光使曝光头进行与通常的曝光动作不同的动作。因此，动作控制变得复杂，曝光的位置精度可能会降低。
发明内容
本发明的说明书所公开的技术是鉴于以上记载的问题而完成的，其是用于即使在存在因不良情况等导致不能曝光的曝光头的情况下，也补偿曝光而不使位置精度降低的技术。
本申请说明书公开的技术的第一方面的曝光方法，使用具有第一曝光头以及第二曝光头的曝光装置，其中，所述曝光装置对设置有多个曝光区域的基板进行曝光，所述第一曝光头能够以与多个所述曝光区域中的第一曝光区域对应的第一曝光图案和与多个所述曝光区域中的第二曝光区域对应的第二曝光图案照射光，所述第二曝光头能够以与多个所述曝光区域中的第三曝光区域对应的第三曝光图案和与多个所述曝光区域中的第四曝光区域对应的第四曝光图案照射光，所述曝光方法包括：使多个所述曝光区域相对于所述第一曝光头和所述第二曝光头相对地移动的工序；在所述第一曝光区域位于所述第一曝光头的曝光位置的状态下，从所述第一曝光头朝向所述第一曝光区域以所述第一曝光图案照射光的工序；在所述第二曝光区域位于所述第一曝光头的所述曝光位置的状态下，从所述第一曝光头朝向所述第二曝光区域以所述第二曝光图案照射光的工序；在所述第三曝光区域位于所述第二曝光头的所述曝光位置的状态下，从所述第二曝光头朝向所述第三曝光区域以所述第三曝光图案照射光的工序；以及在所述第四曝光区域位于所述第二曝光头的所述曝光位置的状态下，从所述第二曝光头朝向所述第四曝光区域以所述第四曝光图案照射光的工序。
本申请说明书公开的技术的第二方面的曝光方法，在第一方面的曝光方法中，从所述第一曝光头向所述第一曝光区域照射的光、从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光、从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光以及从所述第二曝光头向所述第四曝光区域照射的光中的任意一个不对对应的所述曝光区域进行曝光。
本申请说明书公开的技术的第三方面的曝光方法，在第一或第二方面的曝光方法中，从所述第一曝光头向所述第一曝光区域照射的光、从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光、从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光以及从所述第二曝光头向所述第四曝光区域照射的光中的任意一个被阻挡。
本申请说明书公开的技术的第四方面的曝光方法，在第一至第三中的任意一个方面的曝光方法中，所述第一曝光头和所述第二曝光头沿第一方向排列，多个所述曝光区域分别沿所述第一方向排列，使多个所述曝光区域相对移动的工序是使多个所述曝光区域沿所述第一方向移动的工序。
本申请说明书公开的技术的第五方面的曝光方法，在第一至第四中的任意一个方面的曝光方法中，所述第一曝光区域和所述第二曝光区域相邻设置，所述第三曝光区域和所述第四曝光区域相邻设置。
本申请说明书公开的技术的第六方面的曝光方法，在第一至第五中的任意一个方面的曝光方法中，所述第一曝光区域和所述第三曝光区域为同一所述曝光区域。
本申请说明书公开的技术的第七方面的曝光方法，在第四方面的曝光方法中，所述第一曝光头和所述第二曝光头沿所述第一方向相邻排列，所述第二曝光区域和所述第三曝光区域为同一区域，并且按照所述第一曝光区域、所述第二曝光区域、所述第四曝光区域的顺序沿所述第一方向相邻排列，从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光以及从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光中的任意一个被阻挡。
本申请说明书公开的技术的第八方面的曝光装置，具有用于对基板进行曝光的第一曝光头以及第二曝光头，在所述基板上设置有多个曝光区域，所述第一曝光头能够以与多个所述曝光区域中的第一曝光区域对应的第一曝光图案和与多个所述曝光区域中的第二曝光区域对应的第二曝光图案照射光，所述第二曝光头能够以与多个所述曝光区域中的第三曝光区域对应的第三曝光图案和与多个所述曝光区域中的第四曝光区域对应的第四曝光图案照射光，所述曝光装置具有：移动部，使多个所述曝光区域相对于所述第一曝光头和所述第二曝光头相对地移动；以及控制部，用于对所述第一曝光头和所述第二曝光头的曝光动作进行控制，所述控制部在所述第一曝光区域位于所述第一曝光头的曝光位置的状态下，使光从所述第一曝光头朝向所述第一曝光区域以所述第一曝光图案照射，之后，在所述第二曝光区域位于所述第一曝光头的所述曝光位置的状态下，使光从所述第一曝光头朝向所述第二曝光区域以所述第二曝光图案照射，所述控制部在所述第三曝光区域位于所述第二曝光头的所述曝光位置的状态下，使光从所述第二曝光头朝向所述第三曝光区域以所述第三曝光图案照射，之后，在所述第四曝光区域位于所述第二曝光头的所述曝光位置的状态下，使光从所述第二曝光头朝向所述第四曝光区域以所述第四曝光图案照射。
本申请说明书公开的技术的第九方面的曝光装置，在第八方面的曝光装置中，所述曝光装置还具有：遮光部，基于所述控制部的控制，能够选择性地阻挡所述第一曝光头和所述第二曝光头照射的光；以及传感器，构成为检测所述第一曝光头和所述第二曝光头的状态，所述移动部构成为使所述多个曝光区域相对于所述第一曝光头和所述第二曝光头沿第一方向移动，所述第一曝光头和所述第二曝光头沿所述第一方向相邻排列，所述第二曝光区域和所述第三曝光区域为同一区域，并且按照所述第一曝光区域、所述第二曝光区域、所述第四曝光区域的顺序沿所述第一方向相邻排列，所述控制部构成为基于来自所述传感器的信息检测所述第一曝光头和所述第二曝光头的不良情况的有无，所述控制部构成为，当未检测到所述第一曝光头和所述第二曝光头的不良情况时，通过所述遮光部阻挡从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光以及从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光中的一个，并且，当检测到所述第一曝光头的不良情况时，至少不进行由所述遮光部对从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光的阻挡，当检测到所述第二曝光头的不良情况时，至少不进行由所述遮光部对从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光的阻挡。
根据本申请说明书公开的技术的至少第一、第八方面，通过使用多个曝光头分别进行多次光的照射，能够使用多个曝光头实现各种变化的曝光动作。因此，即使在多个曝光头中的任意一个因不良情况等不能曝光的状态下，通过事先预定的其他曝光头多次照射光，也能够补偿曝光而不降低曝光的位置精度。
另外，通过以下所示的详细说明和附图，与本申请说明书中公开的技术相关的目的、特征、方面和优点将变得更加清楚。
附图说明
图1是表示本实施方式的曝光装置的结构的侧视图。
图2是表示本实施方式的曝光装置的结构的俯视图。
图3是表示正常动作时的基板上的曝光区域与多个曝光头的关系的例子的图。
图4是概念性地表示多个曝光头的结构的图。
图5是概念性地表示曝光装置的各驱动部与控制部之间的连接结构的图。
图6是将以控制部为中心的曝光装置的结构按其功能表示的图。
图7是表示曝光装置的动作的流程的例子的流程图。
图8是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图9是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图10是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图11是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图12是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图13是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图14是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图15是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图16是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图17是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图18是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图19是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图20是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图21是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
图22是表示曝光装置的动作的状态的俯视图。
附图标记的说明：
1曝光装置
9基板
32a曝光头
32b曝光头
32c曝光头
32d曝光头
32e曝光头
50控制部
Aa曝光区域
Ab曝光区域
Ac曝光区域
Ad曝光区域
Ae曝光区域
具体实施方式
以下，参照附图说明实施方式。在以下的实施方式中，为了说明技术，还示出了详细的特征等，但它们是示例，它们并非全部都是为了能够实施实施方式的必须的特征。
需求说明的是，附图是概略性示出的，为了便于说明，适当省略结构、或者在附图中使结构简化。另外，在不同附图中分别示出的结构等的大小及位置的相互关系并不一定准确地记载，可以进行适当的改变。另外，在不是剖视图的俯视图等附图中，为了便于理解实施方式的内容，有时也标注阴影。
另外，在以下所示的说明中，对相同的构成单元标注相同的附图标记进行图示，它们的名称和功能也相同。因此，有时为了避免重复而省略关于它们的详细说明。
另外，在本申请说明书记载的说明中，当某个构成单元被记载为“具备”、“包括”或“具有”等时，除非特别说明，并不是排除其他构成单元的存在的排他性表述。
另外，在本申请说明书记载的说明中，即使在使用“第一”或“第二”等序号的情况下，这些用语是为了便于理解实施方式的内容而使用的，实施方式的内容并不限定于由这些序号可能产生的顺序等。
另外，在本申请说明书记载的说明中，“……轴正方向”或“……轴负方向”等的表述以沿着图示的……轴的箭头的方向作为正方向，以沿着图示的……轴的箭头的相反侧的方向作为负方向。
此外，在本申请说明书的说明中，即使有时使用“上”、“下”、“左”、“右”、“侧”、“底”、“表”或“里”等表示特定位置或方向的用语，这些用语也是为了便于理解实施方式的内容而使用的，与实施方式实际实施时的位置或方向无关。
<实施方式>
以下，对本实施方式的曝光装置以及曝光方法进行说明。
<关于曝光装置的结构>
图1是表示本实施方式的曝光装置1的结构的侧视图。另外，图2是表示本实施方式的曝光装置1的结构的俯视图。曝光装置1是用于例如在制造液晶显示装置的滤色器的工序中在滤色器用的玻璃基板(以下，也简称为“基板”)的上表面描画规定的图案的装置。
如图1及和图2的例子所示，曝光装置1具有：用于保持基板9的载物台10；与载物台10连结的载物台驱动部20；具有沿X轴方向排列的多个曝光头(曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e)的头部30；以及用于对装置中的各驱动部的动作进行控制的控制部50。另外，曝光装置1能够还具有用于拍摄从各曝光头照射的光(照射光)的照射光拍摄部40。
载物台10具有平板状的外形，其为用于在其上表面以水平姿势配置基板9并保持的保持部。在载物台10的上表面形成有多个吸引孔(此处，省略了图示)。因此，在载物台10上配置了基板9时，通过吸引孔的吸引压使基板9固定于载物台10的上表面。需要说明的是，在保持在载物台10上的基板9的表面形成有彩色抗蚀剂等感光材料层。
载物台驱动部20是用于使载物台10沿主扫描方向(Y轴方向)、副扫描方向(X轴方向)以及旋转方向(绕Z轴的旋转方向)移动的机构。载物台驱动部20具有：旋转机构21，使载物台10旋转；支撑板22，以能够旋转的方式支撑载物台10；副扫描机构23，使支撑板22沿副扫描方向移动；基座板24，经由副扫描机构23支撑支撑板22；以及主扫描机构25，使基座板24沿主扫描方向移动。
旋转机构21具有线性马达21a，该线性马达21a由安装于载物台10的Y轴负方向侧的端部的移动件以及铺设于支撑板22的上表面的固定件构成。另外，在载物台10的中央部下表面侧与支撑板22之间设置有旋转轴21b。因此，在使线性马达21a动作时，移动件沿着固定件在X轴方向上移动，载物台10以支撑板22上的旋转轴21b为中心在规定角度的范围内旋转。
副扫描机构23具有线性马达23a，该线性马达23a由安装于支撑板22的下表面的移动件以及铺设于基座板24的上表面的固定件构成。另外，在支撑板22与基座板24之间设置有沿副扫描方向延伸的一对引导部23b。因此，在使线性马达23a动作时，支撑板22沿着基座板24上的引导部23b在副扫描方向上移动。
主扫描机构25具有线性马达25a，该线性马达25a由安装于基座板24的下表面的移动件以及铺设于曝光装置1的基台60上的固定件构成。另外，在基座板24与基台60之间设置有沿主扫描方向延伸的一对引导部25b。因此，在使线性马达25a动作时，基座板24沿着基台60上的引导部25b在主扫描方向上移动。
头部30是用于向保持在载物台10上的基板9的上表面照射规定图案的脉冲光的机构。头部30具有：横跨载物台10以及载物台驱动部20而架设在基台60上的框架31；以及沿着副扫描方向等间隔地安装于框架31的5个曝光头(曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e)。各曝光头经由照明光学系统33与一个激光振荡器34连接。另外，激光振荡器34与激光驱动部35连接。
因此，在使激光驱动部35动作时，从激光振荡器34振荡脉冲光，振荡的脉冲光经由照明光学系统33被导入至各曝光头内。
在各曝光头的内部设置有用于向下方射出从照明光学系统33导入的脉冲光的射出部36、用于部分地遮挡脉冲光的光圈单元37、以及用于使脉冲光在基板9的上表面上成像的投影光学系统38。在光圈单元37中设置有作为形成有规定的遮光图案的玻璃板的光圈AP。从射出部36射出的脉冲光在通过设置于光圈单元37的光圈AP时被部分地遮挡，作为规定图案的光束向投影光学系统38入射。然后，通过了投影光学系统38的脉冲光被照射到基板9的上表面，从而在基板9上的感光材料上描画规定的图案。
另外，如图1概念性中示例所示，在各曝光头中设置有用于调整设置于光圈单元37的光圈AP的位置的光圈驱动部39。通过光圈驱动部39调整光圈AP的水平位置(包括水平面内的倾斜度)，能够选择投影到基板9上的图案或者调整图案的投影位置。另外，光圈驱动部39也能够通过利用光圈AP的遮光部遮挡脉冲光的整个照射区域，来禁止脉冲光的照射。光圈驱动部39例如能够将多个线性马达结合来构成。
图3是表示正常动作时基板9上的曝光区域与多个曝光头的关系的例子的图。如图3中示例所示，多个曝光头沿着副扫描方向(X轴方向)以等间隔(例如，以200mm间隔)排列。在进行曝光处理(描画处理)时，一边使载物台10沿主扫描方向移动，一边从各曝光头照射脉冲光。由此，在基板9的上表面上，沿主扫描方向以规定的曝光宽度W(例如，50mm宽)描画多条图案。
在沿主扫描方向的一次描画结束时，曝光装置1使载物台10沿副扫描方向移动曝光宽度W，一边再次使载物台10沿主扫描方向移动，一边从各曝光头照射脉冲光。如此地，曝光装置1一边使基板9沿副扫描方向偏移曝光头的曝光宽度W，一边沿主扫描方向反复进行规定次数(例如4次)的描画，从而在基板9上形成滤色器用的图案。
如此地，基板9上的曝光区域被分割为与各曝光头(曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e)对应的5个条状的曝光区域Aa、曝光区域Ab、曝光区域Ac、曝光区域Ad以及曝光区域Ae，沿X轴方向排列。需要说明的是，曝光头的个数与曝光区域的个数并不一定需要一致，也可以为任意个数多的情况。
各曝光头能够对多个曝光区域进行曝光。例如，曝光头32a能够对曝光区域Aa以及曝光区域Ab进行曝光，曝光头32b能够对曝光区域Aa、曝光区域Ab以及曝光区域Ac进行曝光，曝光头32c能够对曝光区域Ab、曝光区域Ac以及曝光区域Ad进行曝光，曝光头32d能够对曝光区域Ac、曝光区域Ad以及曝光区域Ae进行曝光，曝光头32e能够对曝光区域Ad以及曝光区域Ae进行曝光。需要说明的是，能够曝光的曝光区域并不限于如上所述那样与各曝光头对应的位置的曝光区域以及与其相邻的曝光区域的情况。在图3中示例的情况下，对上述中的与各曝光头对应的位置的曝光区域(即，相对于曝光头32a的曝光区域Aa、相对于曝光头32b的曝光区域Ab、相对于曝光头32c的曝光区域Ac、相对于曝光头32d的曝光区域Ad、相对于曝光头32e的曝光区域Ae)进行曝光。
图4是概念性地表示多个曝光头的结构的图。如图4中的示例所示，曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e由光圈AP、光圈驱动部39、投影光学系统38等多个结构部件构成。而且，通过这些结构部件全部正常动作，从而在基板9上照射正常的脉冲光。
返回至图1和图2，照射光拍摄部40是用于拍摄从各曝光头照射的脉冲光的机构。照射光拍摄部40具有CCD摄像头41、导轨42以及由线性马达等构成的摄像头驱动机构43。CCD摄像头41配置为拍摄方向朝向上方。另外，在使摄像头驱动机构43动作时，CCD摄像头41沿着安装于基座板24的Y轴正方向侧的侧边的导轨42在副扫描方向上移动。
在使用CCD摄像头41时，首先，使主扫描机构25动作，对基座板24进行定位，以使CCD摄像头41位于头部30的下方(图1以及图2的状态)。接着，一边使摄像头驱动机构43动作并使CCD摄像头41沿副扫描方向移动，一边用CCD摄像头41对从各曝光头照射的脉冲光进行拍摄。通过拍摄获取的图像数据从CCD摄像头41被传输至控制部50。传输的图像数据例如用于判定对应的曝光头的不良情况的有无等。
控制部50是用于对曝光装置1内的各驱动部的动作进行控制的处理部。图5是概念性地表示曝光装置1的各驱动部与控制部50之间的连接结构的图。
如图5中示例所示，控制部50与旋转机构21、副扫描机构23、主扫描机构25、激光驱动部35、照明光学系统33、投影光学系统38、光圈驱动部39、CCD摄像头41以及摄像头驱动机构43电连接，对它们的动作进行控制。需要说明的是，控制部50例如由具有CPU或存储器的计算机构成，计算机按照安装于计算机的程序进行动作来进行上述控制。
<关于曝光装置的功能>
图6是将以控制部50为中心的控制部50的曝光装置1的结构按功能表示的图。如图6中示例所示，在控制部50中设置有载物台位置调整部53、照射控制部(照射控制部54a、照射控制部54b、照射控制部54c、照射控制部54d以及照射控制部54e)以及控制切换判定部55，作为通过CPU或存储器动作来实现的处理部。
载物台位置调整部53是用于调整载物台10的位置的处理部。载物台位置调整部53通过向载物台驱动部20发送控制信号，使载物台10移动，以使各曝光头位于负责的曝光区域的上方。
照射控制部(照射控制部54a、照射控制部54b、照射控制部54c、照射控制部54d以及照射控制部54e)是用于控制脉冲光照射作为曝光对象的多个曝光区域的照射动作的处理部。
另外，控制切换判定部55是用于将从照射控制部54a、照射控制部54b、照射控制部54c、照射控制部54d以及照射控制部54e分别输出的照射控制信号Sa、照射控制信号Sb、照射控制信号Sc、照射控制信号Sd以及照射控制信号Se，分别分配给曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e的处理部。控制切换判定部55分别将照射控制信号Sa、照射控制信号Sb、照射控制信号Sc、照射控制信号Sd以及照射控制信号Se中的至少2个信号(表示曝光图案的信号)分配给曝光头。由此，各曝光头能够通过多次曝光动作对多个曝光区域进行曝光。
<关于曝光装置的动作>
然后，对曝光装置1的动作进行说明。图7是表示曝光装置1的动作的流程的例子的流程图。另外，图8、图9以及图10是表示曝光装置1的动作的状态的俯视图。需要说明的是，以下说明的一系列动作通过控制部50对旋转机构21、副扫描机构23、主扫描机构25、激光驱动部35、照明光学系统33、投影光学系统38、光圈驱动部39、CCD摄像头41、摄像头驱动机构43等进行动作控制来实现。
在载物台10上设置有基板9的状态下，曝光装置1使用曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e对它们负责的多个曝光区域(曝光区域Aa、曝光区域Ab、曝光区域Ac、曝光区域Ad以及曝光区域Ae)进行光的照射(步骤ST1)。即，一边控制载物台驱动部20并使基板9沿主扫描方向以及副扫描方向移动，一边使负责的曝光区域的曝光开始位置位于各曝光头的下方。然后，从多个曝光头(在本实施方式中为全部曝光头)照射对应的曝光图案的脉冲光。
具体而言，如图8中示例所示，曝光区域不位于曝光头32a对应的曝光位置，因此，曝光头32a以虚拟图案等无助于曝光的图案照射光，曝光头32b以基于照射控制信号Sa的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Aa进行曝光，曝光头32c以基于照射控制信号Sb的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ab进行曝光，曝光头32d以基于照射控制信号Sc的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ac进行曝光，曝光头32e以基于照射控制信号Sd的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ad进行曝光。此时，由于曝光区域Ae不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，曝光区域Ae不被曝光。需要说明的是，曝光位置是指从曝光头照射的光到达并且能够适当地进行曝光的位置，例如，相当于各曝光头的正下方的位置。需要说明的是，以无助于曝光的图案照射光是指以在曝光区域上未形成曝光图案那样的方式照射光。在曝光区域上未形成曝光图案那样的方式例如可以为用光圈AP的遮光部遮挡脉冲光的整个照射区域的状态。另外，在照明光学系统33具有空间光调制器(DMD或GLV等)的情况下，在曝光区域上未形成曝光图案那样的方式也可以是空间光调制器被控制为空间光调制器不向曝光区域反射脉冲光的状态的状态。
然后，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第二次光的照射(步骤ST2)。此处，在各曝光头中输入与不同曝光区域对应的照射控制信号(表示曝光图案的信号)，以在多次预定的曝光动作的各次中能够对不同曝光区域进行曝光。因此，在步骤ST2中，位于各曝光头的曝光位置的曝光区域与步骤ST1中的曝光区域不同，从各曝光头适当地照射对应的曝光图案的光。
具体而言，如图9中示例所示，曝光头32a以基于照射控制信号Sa的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Aa进行曝光，曝光头32b以基于照射控制信号Sb的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ab进行曝光，曝光头32c以基于照射控制信号Sc的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ac进行曝光，曝光头32d以基于照射控制信号Sd的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ad进行曝光，曝光头32e以基于照射控制信号Se的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ae进行曝光。
进一步，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第三次光的照射(步骤ST3)。如上所述，在各曝光头中输入与不同曝光区域对应的照射控制信号(表示曝光图案的信号)，以在多次预定的曝光动作的各次中能够对不同曝光区域进行曝光，因此，从各曝光头适当地照射对应的曝光图案的光。
具体而言，如图10中示例所示，曝光头32a以基于照射控制信号Sb的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ab进行曝光，曝光头32b以基于照射控制信号Sc的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ac进行曝光，曝光头32c以基于照射控制信号Sd的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ad进行曝光，曝光头32d以基于照射控制信号Se的曝光图案对位于曝光位置的曝光区域Ae进行曝光，由于曝光区域不位于对应的曝光位置，曝光头32e以虚拟图案等无助于曝光的图案照射光。此时，由于曝光区域Aa不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，曝光区域Aa不被曝光。
这样，能够对曝光区域Aa以及曝光区域Ae进行二次曝光，能够对曝光区域Ab、曝光区域Ac以及曝光区域Ad进行三次曝光。
此处，由于在各曝光头中输入表示曝光图案的照射控制信号以能够对多个曝光区域进行曝光，因此，只要对位于曝光位置的曝光区域照射对应的曝光图案的光即可，也可以不是如上所述的对应关系。即，并不限于在一个曝光头中输入与彼此相邻的多个曝光区域对应的照射控制信号(表示曝光图案的信号)的情况，也可以是与不相邻的多个曝光区域对应的照射控制信号被输入至一个曝光头的情况。但是，在对一个曝光头输入与彼此相邻的多个曝光区域对应的照射控制信号的情况下，能够将用于对多个曝光区域进行曝光的曝光头与对应的曝光区域之间的相对移动抑制为最小限度。因此，由于能够减小曝光头的动作量，因而，能够减少曝光所需要的时间，另外，能够维持曝光的位置精度较高。
另外，曝光头与曝光区域之间的位置关系只要通过头部30与基板9相对移动来改变即可。即，既可以为头部30移动的情况，也可以为双方移动的情况。
另外，从各曝光头照射光的次数不限于上述3次，只要是多次即可。
通过如上所述的多次光的照射，能够实现包括双重曝光以及三重曝光的曝光。另外，只要阻挡至少一部分曝光头的光的照射，就能够实现与上述不同的各种曝光。即，即使在多个曝光头中的任意一个因不良情况等不能曝光的状态下，仅通过由图8至图16所示那样的通常的动作改变光圈AP的遮光部的动作，就能够通过其他曝光头多次照射光来补偿曝光。因此，既能够维持与进行用于额外补充的曝光动作的情况相比更高的位置精度，又能够提高曝光动作的自由度。
然后，对曝光装置1的动作的变形例进行说明。图11、图12以及图13是表示曝光装置1的动作的状态的俯视图。
在载物台10上设置有基板9的状态下，曝光装置1使用曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e对它们负责的曝光区域(曝光区域Aa、曝光区域Ab、曝光区域Ac、曝光区域Ad以及曝光区域Ae)进行光的照射。
具体而言，如图11中示例所示，曝光头32a以虚拟图案等无助于曝光的图案照射光，曝光头32b基于照射控制信号Sa向曝光区域Aa照射光，曝光头32c基于照射控制信号Sb向曝光区域Ab照射光，曝光头32d基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光，曝光头32e基于照射控制信号Sd向曝光区域Ad照射光。此时，由于曝光区域Ae不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，光不会朝向曝光区域Ae照射。
此处，在各曝光头中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从各曝光头照射光。其结果，在图11中示例的动作中，并不对各曝光区域进行曝光。需要说明的是，既可以像图11所示那样通过遮光部而不进行曝光，也可以在不用遮光部阻挡光的情况下以虚拟图案等无助于曝光的图案照射光，从而不进行曝光。
然后，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第二次光的照射。
具体而言，如图12中示例所示，曝光头32a基于照射控制信号Sa对曝光区域Aa进行曝光，曝光头32b基于照射控制信号Sb对曝光区域Ab进行曝光，曝光头32c基于照射控制信号Sc对曝光区域Ac进行曝光，曝光头32d基于照射控制信号Sd对曝光区域Ad进行曝光，曝光头32e基于照射控制信号Se对曝光区域Ae进行曝光。
进一步，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第三次光的照射。
具体而言，如图13中示例所示，曝光头32a基于照射控制信号Sb向曝光区域Ab照射光，曝光头32b基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光，曝光头32c基于照射控制信号Sd向曝光区域Ad照射光，曝光头32d基于照射控制信号Se向曝光区域Ae照射光，曝光头32e以虚拟图案等无助于曝光的图案照射光。此时，由于曝光区域Aa不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，不向曝光区域Aa照射光。
此处，在各曝光头中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从各曝光头照射光。其结果，在图13中示例的动作中，不对各曝光区域进行曝光。需要说明的是，既可以像图13所示那样通过遮光部而不进行曝光，也可以在不用遮光部阻挡光的情况下以虚拟图案等无助于曝光的图案照射光，从而不进行曝光。
这样，能够对全部曝光区域进行一次曝光。
然后，对曝光装置1的动作的其他变形例进行说明。图14、图15以及图16是表示曝光装置1的动作的状态的俯视图。
在载物台10上设置有基板9的状态下，曝光装置1使用曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e对它们负责的曝光区域(曝光区域Aa、曝光区域Ab、曝光区域Ac、曝光区域Ad以及曝光区域Ae)进行光的照射。
具体而言，如图14中示例所示，曝光头32a以虚拟图案等无助于曝光的图案照射光，曝光头32b基于照射控制信号Sa向曝光区域Aa照射光，曝光头32c基于照射控制信号Sb向曝光区域Ab照射光，曝光头32d基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光，曝光头32e基于照射控制信号Sd向曝光区域Ad照射光。此时，由于曝光区域Ae不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，不向曝光区域Ae照射光。
此处，在曝光头32a以及曝光头32c中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从曝光头32a和曝光头32c照射光。其结果，在图14中示例的动作中，不对曝光区域Ab进行曝光。需要说明的是，通过阻挡从曝光头32a照射光，能够抑制朝向基板9外的多余的光。
然后，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第二次光的照射。
具体而言，如图15中示例所示，曝光头32a基于照射控制信号Sa向曝光区域Aa照射光，曝光头32b基于照射控制信号Sb向曝光区域Ab照射光，曝光头32c基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光，曝光头32d基于照射控制信号Sd向曝光区域Ad照射光，曝光头32e基于照射控制信号Se向曝光区域Ae照射光。
此处，在曝光头32c中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从曝光头32c照射光。其结果，在图15中示例的动作中，不对曝光区域Ac进行曝光。
进一步，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第三次光的照射。
具体而言，如图16中示例所示，曝光头32a基于照射控制信号Sb向曝光区域Ab照射光，曝光头32b基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光，曝光头32c基于照射控制信号Sd向曝光区域Ad照射光，曝光头32d基于照射控制信号Se向曝光区域Ae照射光，曝光头32e以虚拟图案等无助于曝光的图案照射光。此时，由于曝光区域Aa不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，不向曝光区域Aa照射光。
此处，在曝光头32c以及曝光头32e中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从曝光头32c和曝光头32e照射光。其结果，在图16中示例的动作中，不对曝光区域Ad进行曝光。需要说明的是，通过阻挡从曝光头32e照射光，能够抑制朝向基板9外的多余的光。
这样，能够对全部曝光区域进行二次曝光。另外，由于使排列的不同曝光头的曝光位置依次位于一个曝光区域来进行双重曝光，因此，在使用同一曝光头进行双重曝光的情况下，不需要将曝光头返回至所需的曝光开始位置的动作，即不需要朝向X轴正方向的驱动动作。因此，能够减少曝光头的动作量，能够减少曝光所需要的时间，另外，能够维持曝光的位置精度较高。
然后，对曝光装置1的动作的其他变形例进行说明。在该变形例中，假定曝光头32a因不良情况而不能照射光的情况。对于曝光头32a的不良情况的判定，例如，控制部50从图像数据中获取通过CCD摄像头41(传感器)拍摄的从各曝光头照射的脉冲光的位置、线宽或光量等信息。然后，通过将这些信息与理想的照射图案的信息进行比较，能够判定是否从曝光头照射适当的脉冲光。需要说明的是，图17、图18以及图19是表示曝光装置1的动作的状态的俯视图。
在载物台10上设置有基板9的状态下，曝光装置1使用曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e分别对负责的曝光区域(曝光区域Aa、曝光区域Ab、曝光区域Ac、曝光区域Ad以及曝光区域Ae)进行光的照射。
具体而言，如图17中示例所示，曝光头32b基于照射控制信号Sa向曝光区域Aa照射光，曝光头32c基于照射控制信号Sb向曝光区域Ab照射光，曝光头32d基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光，曝光头32e基于照射控制信号Sd向曝光区域Ad照射光。此时，由于曝光区域Ae不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，不向曝光区域Ae照射光。
需要说明的是，因不良情况导致从曝光头32a不照射光，在曝光头32a中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从曝光头32a照射光。
然后，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第二次光的照射。
具体而言，如图18中示例所示，曝光头32b基于照射控制信号Sb向曝光区域Ab照射光，曝光头32c基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光，曝光头32d基于照射控制信号Sd向曝光区域Ad照射光，曝光头32e基于照射控制信号Se向曝光区域Ae照射光。
此处，在曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c以及曝光头32d中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c以及曝光头32d照射光。其结果，在图18中示例的动作中，不对曝光区域Aa、曝光区域Ab、曝光区域Ac以及曝光区域Ad进行曝光。
进一步，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第三次光的照射。
具体而言，如图19中示例所示，曝光头32b基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光，曝光头32c基于照射控制信号Sd向曝光区域Ad照射光，曝光头32d基于照射控制信号Se向曝光区域Ae照射光，曝光头32e以虚拟图案等无助于曝光的图案照射光。此时，由于曝光区域Aa不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，不向曝光区域Aa照射光。
此处，在各曝光头中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从各曝光头照射光。其结果，在图19中示例的动作中，不对全部曝光区域进行曝光。
这样，在曝光头32a因不良情况而不能照射光的情况下，仅通过由图8至图16所示那样的通常的动作改变光圈AP的遮光部的动作，就能够对全部曝光区域进行一次曝光。
然后，对曝光装置1的动作的其他变形例进行说明。在该变形例中，假定曝光头32a、曝光头32c以及曝光头32e因不良情况而不能照射光的情况。图20、图21以及图22是表示曝光装置1的动作的状态的俯视图。
在载物台10上设置有基板9的状态下，曝光装置1使用曝光头32b以及曝光头32d对它们分别负责的曝光区域(曝光区域Aa、曝光区域Ab、曝光区域Ac、曝光区域Ad以及曝光区域Ae)进行光的照射。
具体而言，如图20中示例所示，曝光头32b基于照射控制信号Sa向曝光区域Aa照射光，曝光头32d基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光。此时，由于曝光区域Ae不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，不向曝光区域Ae照射光。
需要说明的是，因不良情况导致从曝光头32a、曝光头32c以及曝光头32e不照射光，在曝光头32a、曝光头32c以及曝光头32e中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从曝光头32a、曝光头32c以及曝光头32e照射光。其结果，在图20中示例的动作中，不对曝光区域Ab以及曝光区域Ad进行曝光。
然后，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第二次光的照射。
具体而言，如图21中示例所示，曝光头32b基于照射控制信号Sb向曝光区域Ab照射光，曝光头32d基于照射控制信号Sd向曝光区域Ad照射光。
此处，在曝光头32a、曝光头32c以及曝光头32e中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从曝光头32a、曝光头32c以及曝光头32e照射光。其结果，在图21中示例的动作中，不对曝光区域Aa、曝光区域Ac以及曝光区域Ae进行曝光。
进一步，一边沿副扫描方向(X轴负方向)移动一个曝光区域，一边对位于各曝光头的曝光位置的曝光区域以对应的曝光图案进行第三次光的照射。
具体而言，如图22中示例所示，曝光头32b基于照射控制信号Sc向曝光区域Ac照射光，曝光头32d基于照射控制信号Se向曝光区域Ae照射光。此时，由于曝光区域Aa不位于任何的曝光头的曝光位置，因此，不向曝光区域Aa照射光。
此处，在曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c以及曝光头32e中，由于光圈驱动部39的驱动，脉冲光的整个照射区域被光圈AP的遮光部遮挡。即，阻挡从曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c以及曝光头32e照射光。其结果，在图22中示例的动作中，不对曝光区域Ab、曝光区域Ac以及曝光区域Ad进行曝光。
这样，在曝光头32a、曝光头32c以及曝光头32e因不良情况而不能照射光的情况下，仅通过由图8至图16所示那样的通常的动作改变光圈AP的遮光部的动作，就能够对全部曝光区域进行一次曝光。
<关于以上记载的实施方式产生的效果>
然后，示出了以上记载的实施方式产生的效果的例子。需要说明的是，在以下的说明中，基于以上记载的实施方式中示例的具体的结构记载了该效果，在产生相同效果的范围内，也可以替换为本申请说明书中示例的其他具体的结构。即，以下，为了方便，有时仅代表性地记载对应的具体结构中的任意一个，代表性地记载的具体的结构也可以替换为对应的其他具体的结构。
根据以上记载的实施方式，在曝光方法中，第一曝光头能够以与多个曝光区域中的第一曝光区域对应的第一曝光图案和与多个曝光区域中的第二曝光区域对应的第二曝光图案照射光。此处，第一曝光头例如与曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e中的一个对应。另外，第一曝光区域以及第二曝光区域例如分别与曝光区域Aa、曝光区域Ab、曝光区域Ac、曝光区域Ad以及曝光区域Ae中的不同的2个对应。另外，第一曝光图案以及第二曝光图案例如分别与基于照射控制信号Sa的曝光图案、基于照射控制信号Sb的曝光图案、基于照射控制信号Sc的曝光图案、基于照射控制信号Sd的曝光图案以及基于照射控制信号Se的曝光图案中的不同的2个对应。第二曝光头能够以与多个曝光区域中的第三曝光区域对应的第三曝光图案和与多个曝光区域中的第四曝光区域对应的第四曝光图案照射光。此处，第二曝光头例如与曝光头32a、曝光头32b、曝光头32c、曝光头32d以及曝光头32e中的与第一曝光头不同的1个对应。另外，第三曝光区域以及第四曝光区域例如分别与曝光区域Aa、曝光区域Ab、曝光区域Ac、曝光区域Ad以及曝光区域Ae中的不同的2个对应。另外，第三曝光图案以及第四曝光图案例如分别与基于照射控制信号Sa的曝光图案、基于照射控制信号Sb的曝光图案、基于照射控制信号Sc的曝光图案、基于照射控制信号Sd的曝光图案以及基于照射控制信号Se的曝光图案中的不同的2个对应。然后，使多个曝光区域相对于曝光头32a和曝光头32b相对地移动。然后，在曝光区域Aa位于曝光头32a的曝光位置的状态下，从曝光头32a向曝光区域Aa以基于照射控制信号Sa的曝光图案照射光，并且，在曝光区域Ab位于曝光头32a的曝光位置的状态下，从曝光头32a向曝光区域Ab以基于照射控制信号Sb的曝光图案照射光。然后，在曝光区域Ac位于曝光头32b的曝光位置的状态下，从曝光头32b向曝光区域Ac以基于照射控制信号Sc的曝光图案照射光，并且，在曝光区域Ad位于曝光头32b的曝光位置的状态下，从曝光头32b向曝光区域Ad以基于照射控制信号Sd的曝光图案照射光。
根据这种结构，通过使用多个曝光头分别进行多次光的照射，能够使用多个曝光头实现各种变化的曝光动作。因此，在多个曝光头中的任意一个因不良情况等不能曝光的状态下，仅通过由图8至图16所示那样的通常的动作改变光圈AP的遮光部的动作，就能够通过其他曝光头的事先预定的多次光的照射来补偿曝光，因此，能够一边维持曝光的高位置精度，一边提高曝光动作的自由度。
另外，在上述结构中适当地追加了本申请说明书中示例的其他结构的情况下，即，在适当追加作为上述结构未提及的本申请说明书中的其他结构的情况下，也能够产生相同的效果。
另外，根据以上记载的实施方式，从曝光头32a分别向不同曝光区域照射的光以及从曝光头32b分别向不同曝光区域照射的光中的任意一个不对对应的曝光区域进行曝光。根据这种结构，通过多个曝光头中分别多次照射的光中的任意一个不进行曝光(例如，虚拟图案等)，能够使用多个曝光头实现各种变化的曝光动作(例如，对全部曝光区域进行通常曝光(一重曝光)的情况或对全部曝光区域进行双重曝光的情况等)。另外，通过改变从曝光头照射的光的图案使其不曝光而不进行关闭曝光头的电源的操作，能够节约直至达到能够再次曝光的状态(例如，照射光的强度稳定的状态)为止的时间。
另外，根据以上记载的实施方式，从曝光头32a分别向不同曝光区域照射的光以及从曝光头32b分别向不同曝光区域照射的光中的任意一个被阻挡。根据这种结构，通过阻挡多个曝光头中分别多次照射的光中的任意一个，能够实现使用多个曝光头进行各种变化的曝光动作(例如，对全部曝光区域进行通常曝光(一重曝光)的情况或对全部曝光区域进行双重曝光的情况等)。即，在多个曝光头中的任意一个因不良情况等不能曝光的状态下，也能够实现各种变化的曝光动作。另外，通过阻挡从曝光头照射的光而不进行关闭曝光头的电源的操作，能够节约直至达到能够再次曝光的状态(例如，照射光的强度稳定的状态)为止的时间。
另外，根据以上记载的实施方式，曝光头32a和曝光头32b沿第一方向排列。此处，第一方向例如与X轴方向对应。多个曝光区域分别沿X轴方向排列。而且，使多个曝光区域相对地移动的工序为使多个曝光区域沿X轴方向移动的工序。根据这种结构，通过使多个曝光头沿着曝光区域排列的方向排列，并且使该曝光头沿着曝光区域排列的方向移动，能够使一个曝光头的曝光位置高效地位于多个曝光区域。因此，由于能够将曝光头的动作方向限定为一个方向来减少动作量，因此，减少曝光所需要的时间，另外，能够维持曝光的位置精度较高。
另外，根据以上记载的实施方式，曝光区域Aa和曝光区域Ab相邻设置。另外，曝光区域Ac和曝光区域Ad相邻设置。根据这种结构，能够将用于对多个曝光区域进行曝光的曝光头与对应的曝光区域之间的相对移动抑制为最小限度。由此，能够减少曝光头的动作量，因此，能够减少曝光所需要的时间，另外，能够维持曝光的位置精度较高。
另外，根据以上记载的实施方式，第一曝光区域和第三曝光区域为同一曝光区域。根据这种结构，能够使用不同曝光头对一个曝光区域进行双重曝光。因此，例如，如果使排列的两个曝光头的曝光位置依次位于一个曝光区域并进行双重曝光，则在使用同一曝光头进行双重曝光的情况下，不需要将曝光头返回至所需的曝光开始位置的驱动动作、即用于曝光的副扫描方向的驱动动作(向X轴负方向的驱动动作)的相反侧的驱动动作。由此，能够减少曝光头的动作量，因此，能够减少曝光所需要的时间，另外，能够维持曝光的位置精度较高。
根据以上记载的实施方式，曝光装置具有：曝光头32a和曝光头32b，用于对基板9进行曝光；移动部，使多个曝光区域相对于曝光头32a和曝光头32b相对地移动；以及控制部50，用于对曝光头32a和曝光头32b的曝光动作进行控制。此处，移动部例如与载物台驱动部20等对应。此处，在基板9上设置有多个曝光区域。另外，曝光头32a能够以与多个曝光区域中的曝光区域Aa对应的基于照射控制信号Sa的曝光图案和与多个曝光区域中的曝光区域Ab对应的基于照射控制信号Sb的曝光图案照射光。另外，曝光头32b能够以与多个曝光区域中的曝光区域Ac对应的基于照射控制信号Sc的曝光图案和与多个曝光区域中的曝光区域Ad对应的基于照射控制信号Sd的曝光图案照射光。而且，在曝光区域Aa位于曝光头32a的曝光位置的状态下，控制部50从曝光头32a向曝光区域Aa以基于照射控制信号Sa的曝光图案照射光，并且，在曝光区域Ab位于曝光头32a的曝光位置的状态下，从曝光头32a向曝光区域Ab以基于照射控制信号Sb的曝光图案照射光。另外，控制部50在曝光区域Ac位于曝光头32b的曝光位置的状态下，使光从曝光头32b向曝光区域Ac以基于照射控制信号Sc的曝光图案照射，并且，在曝光区域Ad位于曝光头32b的曝光位置的状态下，使光从曝光头32b向曝光区域Ad以基于照射控制信号Sd的曝光图案照射。
根据这种结构，通过使用多个曝光头分别进行多次光的照射，能够使用多个曝光头实现各种变化的曝光动作。因此，在多个曝光头中的任意一个因不良情况等不能曝光的状态下，仅通过由图8至图16所示那样的通常的动作改变光圈AP的遮光部的动作，就能够通过其他曝光头的事先预定的多次光的照射来补偿曝光，因此，能够一边维持曝光的高位置精度一边提高曝光动作的自由度。
需要说明是，在上述结构中适当追加了本申请说明书中示例的其他结构的情况下，即，在适当追加了作为上述结构未提及的本申请说明书中的其他结构的情况下，也能够产生相同的效果。
<关于以上记载的实施方式的变形例>
在以上记载的实施方式中，有时也记载各构成单元的尺寸、形状、相对的配置关系或实施的条件等，但这些在所有方面都是一个例子，不是限定性的。

Claims (9)

1.一种曝光方法，使用具有第一曝光头以及第二曝光头的曝光装置，其中，
所述曝光装置对设置有多个曝光区域的基板进行曝光，
所述第一曝光头能够以与多个所述曝光区域中的第一曝光区域对应的第一曝光图案和与多个所述曝光区域中的第二曝光区域对应的第二曝光图案照射光，
所述第二曝光头能够以与多个所述曝光区域中的第三曝光区域对应的第三曝光图案和与多个所述曝光区域中的第四曝光区域对应的第四曝光图案照射光，
所述曝光方法包括：
使多个所述曝光区域相对于所述第一曝光头和所述第二曝光头相对地移动的工序；
在所述第一曝光区域位于所述第一曝光头的曝光位置的状态下，从所述第一曝光头朝向所述第一曝光区域以所述第一曝光图案照射光的工序；
在所述第二曝光区域位于所述第一曝光头的所述曝光位置的状态下，从所述第一曝光头朝向所述第二曝光区域以所述第二曝光图案照射光的工序；
在所述第三曝光区域位于所述第二曝光头的所述曝光位置的状态下，从所述第二曝光头朝向所述第三曝光区域以所述第三曝光图案照射光的工序；以及
在所述第四曝光区域位于所述第二曝光头的所述曝光位置的状态下，从所述第二曝光头朝向所述第四曝光区域以所述第四曝光图案照射光的工序。
2.如权利要求1所述的曝光方法，其中，
从所述第一曝光头向所述第一曝光区域照射的光、从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光、从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光以及从所述第二曝光头向所述第四曝光区域照射的光中的任意一个不对对应的所述曝光区域进行曝光。
3.如权利要求1或2所述的曝光方法，其中，
从所述第一曝光头向所述第一曝光区域照射的光、从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光、从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光以及从所述第二曝光头向所述第四曝光区域照射的光中的任意一个被阻挡。
4.如权利要求1或2所述的曝光方法，其中，
所述第一曝光头和所述第二曝光头沿第一方向排列，
多个所述曝光区域分别沿所述第一方向排列，
使多个所述曝光区域相对移动的工序是使多个所述曝光区域沿所述第一方向移动的工序。
5.如权利要求1或2所述的曝光方法，其中，
所述第一曝光区域和所述第二曝光区域相邻设置，
所述第三曝光区域和所述第四曝光区域相邻设置。
6.如权利要求1或2所述的曝光方法，其中，
所述第一曝光区域和所述第三曝光区域为同一所述曝光区域。
7.如权利要求4所述的曝光方法，其中，
所述第一曝光头和所述第二曝光头沿所述第一方向相邻排列，所述第二曝光区域和所述第三曝光区域为同一区域，并且按照所述第一曝光区域、所述第二曝光区域、所述第四曝光区域的顺序沿所述第一方向相邻排列，
从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光以及从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光中的任意一个被阻挡。
8.一种曝光装置，其中，
所述曝光装置具有用于对基板进行曝光的第一曝光头以及第二曝光头，
在所述基板上设置有多个曝光区域，
所述第一曝光头能够以与多个所述曝光区域中的第一曝光区域对应的第一曝光图案和与多个所述曝光区域中的第二曝光区域对应的第二曝光图案照射光，
所述第二曝光头能够以与多个所述曝光区域中的第三曝光区域对应的第三曝光图案和与多个所述曝光区域中的第四曝光区域对应的第四曝光图案照射光，
所述曝光装置具有：
移动部，使多个所述曝光区域相对于所述第一曝光头和所述第二曝光头相对地移动；以及
控制部，用于对所述第一曝光头和所述第二曝光头的曝光动作进行控制，
所述控制部在所述第一曝光区域位于所述第一曝光头的曝光位置的状态下，使光从所述第一曝光头朝向所述第一曝光区域以所述第一曝光图案照射，之后，在所述第二曝光区域位于所述第一曝光头的所述曝光位置的状态下，使光从所述第一曝光头朝向所述第二曝光区域以所述第二曝光图案照射，
所述控制部在所述第三曝光区域位于所述第二曝光头的所述曝光位置的状态下，使光从所述第二曝光头朝向所述第三曝光区域以所述第三曝光图案照射，之后，在所述第四曝光区域位于所述第二曝光头的所述曝光位置的状态下，使光从所述第二曝光头朝向所述第四曝光区域以所述第四曝光图案照射。
9.如权利要求8所述的曝光装置，其中，
所述曝光装置还具有：
遮光部，基于所述控制部的控制，能够选择性地阻挡所述第一曝光头和所述第二曝光头照射的光；以及
传感器，构成为检测所述第一曝光头和所述第二曝光头的状态，
所述移动部构成为使所述多个曝光区域相对于所述第一曝光头和所述第二曝光头沿第一方向移动，
所述第一曝光头和所述第二曝光头沿所述第一方向相邻排列，
所述第二曝光区域和所述第三曝光区域为同一区域，并且按照所述第一曝光区域、所述第二曝光区域、所述第四曝光区域的顺序沿所述第一方向相邻排列，
所述控制部构成为基于来自所述传感器的信息检测所述第一曝光头和所述第二曝光头的不良情况的有无，
所述控制部构成为，
当未检测到所述第一曝光头和所述第二曝光头的不良情况时，通过所述遮光部阻挡从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光以及从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光中的一个，并且，
当检测到所述第一曝光头的不良情况时，至少不进行由所述遮光部对从所述第二曝光头向所述第三曝光区域照射的光的阻挡，当检测到所述第二曝光头的不良情况时，至少不进行由所述遮光部对从所述第一曝光头向所述第二曝光区域照射的光的阻挡。
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