CN116634818A - 显示面板、制备方法以及显示装置 - Google Patents
显示面板、制备方法以及显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116634818A CN116634818A CN202310760974.9A CN202310760974A CN116634818A CN 116634818 A CN116634818 A CN 116634818A CN 202310760974 A CN202310760974 A CN 202310760974A CN 116634818 A CN116634818 A CN 116634818A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- light
- display panel
- filter
- light blocking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 10
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 66
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims abstract description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 17
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 228
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
- H10K59/8792—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. black layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/1201—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K59/879—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本申请实施例提供一种显示面板、制备方法以及显示装置，其中，显示面板包括基板、钝化层、滤光层、平坦化层、像素界定层和微透镜阵列，滤光层设置于钝化层的远离基板的一侧，平坦化层设置于钝化层的远离基板的一侧且覆盖滤光层，像素界定层设置于平坦化层的远离基板的一侧且限定出多个发光区域，滤光层包括对应地设置于多个发光区域的多个子滤光层；其中，钝化层设置有光线阻挡层，光线阻挡层位于相邻子滤光层之间，平坦化层包括聚光透镜，光线阻挡层、聚光透镜均与像素界定层存在交叠区域，聚光透镜用于将经过微透镜阵列的至少部分光线汇聚至光线阻挡层。根据本申请的技术，改善了显示面板的漏光问题，提高了显示面板的显示效果。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、制备方法以及显示装置。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Diode，有机电致发光显示器件)产品通常采用微透镜结构，来提升产品亮度和增大视角均匀性。但是由于微透镜结构增加了出射光线的角度，导致原本不用发光的像素发光，因此存在漏光现象。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板、制备方法以及显示装置，以解决或缓解现有技术中的一项或更多项技术问题。
第一方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括基板、钝化层、滤光层、平坦化层、像素界定层和微透镜阵列，滤光层设置于钝化层的远离基板的一侧，平坦化层设置于钝化层的远离基板的一侧且覆盖滤光层，像素界定层设置于平坦化层的远离基板的一侧且限定出多个发光区域，滤光层包括对应地设置于多个发光区域的多个子滤光层；
其中，钝化层设置有光线阻挡层，光线阻挡层位于相邻子滤光层之间，平坦化层包括聚光透镜，在垂直于基板的方向上，光线阻挡层、聚光透镜均与像素界定层存在交叠区域，聚光透镜用于将经过微透镜阵列的至少部分光线汇聚至光线阻挡层。
在一种实施方式中，聚光透镜的材料包括散射粒子，散射粒子的折射率为1.8至2.0。
在一种实施方式中，聚光透镜的折射率大于平坦化层的折射率；和/或，聚光透镜的折射率大于像素界定层的折射率。
在一种实施方式中，平坦化层的折射率为1.4至1.6，像素界定层的折射率为1.5至1.7；其中，聚光透镜的折射率大于或等于1.8。
在一种实施方式中，聚光透镜为椭球体或者棱镜体。
在一种实施方式中，光线阻挡层包括黑色矩阵膜层。
在一种实施方式中，显示面板还包括红光辅助滤光层、绿光辅助滤光层和蓝光辅助滤光层，其中，光线阻挡层包括层叠设置的红光辅助滤光层、绿光辅助滤光层和蓝光辅助滤光层中的至少两种。
在一种实施方式中，钝化层在相邻的子滤光层之间开设有容纳凹槽，容纳凹槽用于沉积形成光线阻挡层。
第二方面，本申请实施例还提供了一种显示面板的制备方法，应用于本申请上述任一种实施方式的显示面板，该制备方法包括：
在基板上形成钝化层；
在钝化层的背离基板的一侧形成滤光层，滤光层包括间隔设置的多个子滤光层；
在钝化层的位于相邻两个子滤光层之间的区域开设容纳凹槽，以及在容纳凹槽内沉积形成光线阻挡层；
在钝化层的背离基板的一侧形成覆盖光线阻挡层和滤光层的平坦化层；
在平坦化层内通过曝光显影工艺或者干刻工艺制备聚光透镜，聚光透镜用于将经过微透镜阵列处理后的至少部分光线汇聚至光线阻挡层；
在光线阻挡层以及平坦化层上形成像素界定层，其中，在垂直于基板的方向上，光线阻挡层、聚光透镜均与像素界定层存在交叠区域。
在一种实施方式中，聚光透镜通过曝光显影工艺或者干刻工艺加工成型。
第三方面，本申请实施例还提供了一种显示装置，包括本申请上述任一种实施方式的显示面板。
根据本申请实施例的技术，通过在相邻两个子滤光层之间设置与像素界定层正对的光线阻挡层和聚光透镜，微透镜阵列分散射出的可能会进入目标子滤光层相邻的其他子滤光层的光线经过聚光透镜的折射后，能够使其会聚至光线阻挡层，从而减少进入与目标子滤光层相邻的其他子滤光层的光线，进而改善显示面板的漏光问题，提高显示面板的显示效果。
上述概述仅仅是为了说明书的目的，并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外，通过参考附图和以下的详细描述，本申请进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。
附图说明
在附图中，除非另外规定，否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解，这些附图仅描绘了根据本申请公开的一些实施方式，而不应将其视为是对本申请范围的限制。
图1示出相关技术中的显示面板的一种结构示意图。
图2示出相关技术中的显示面板的另一种结构示意图。
图3示出本申请实施例的显示面板的一种结构示意图。
图4示出本申请实施例的显示面板的聚光透镜的工作原理图。
图5示出本申请实施例的显示面板的另一种结构示意图。
图6示出本申请实施例的显示面板的制备方法的流程图。
具体实施方式
在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本申请的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。
在本说明书的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
相关技术中提出了一种采用底发射结构的OLED显示面板1’。如图1所示，该OLED显示面板1’在制备滤光层30’之后，需要在滤光层30’上沉积形成平坦化层40’，且平坦化层40’的表面呈凹凸不平的形状，然后在平坦化层40’上沉积像素界定层50’。其中，像素界定层50’的折射率大于平坦化层40’的折射率。如图2所示，在像素界定层50’制备微透镜结构60’后，可以增大光线发射角度并提高光取出的效率。以红色光线为例，其中的光线1从微透镜结构60’射出后，直接进入与红光滤光层相邻的绿光滤光层或者蓝光滤光层；其中的光线2依次经过像素界定层50’和平坦化层40’，由于像素界定层50’的折射率大于平坦化层40’的折射率，光线2在经过二者的交界面时发生折射且出射角度增大，导致光线2容易进入与红光滤光层相邻的绿光滤光层或者蓝光滤光层。
基于此，在红光像素发光时，绿光像素或者蓝光像素同样也会发光，从而造成显示面板漏光的现象，影响显示效果。
针对相关技术中存在的上述技术问题，本申请实施例提供了一种显示面板、制备方法以及显示装置，旨在改善显示面板的漏光问题。下面参照图3和图4描述根据本申请实施例的显示面板。
图3示出根据本申请实施例的显示面板1的结构示意图。如图3所示，本申请实施例的显示面板1包括基板10、钝化层20、滤光层30、平坦化层40、像素界定层50和微透镜阵列60。
具体地，滤光层30设置于钝化层20的远离基板10的一侧，平坦化层40设置于钝化层20的远离基板10的一侧且覆盖滤光层30，像素界定层50设置于平坦化层40的远离基板10的一侧且限定出多个发光区域，滤光层30包括对应地设置于多个发光区域的多个子滤光层30a。其中，钝化层20设置有光线阻挡层70，光线阻挡层70位于相邻子滤光层30a之间，平坦化层40包括聚光透镜80，在垂直于基板10的方向上，光线阻挡层70、聚光透镜80均与像素界定层50存在交叠区域，聚光透镜80用于将经过微透镜阵列60的至少部分光线汇聚至光线阻挡层70。
在本申请实施例中，显示面板1具体可以为采用底发射结构的OLED显示面板1。钝化层20、平坦化层40和像素界定层50以及微透镜阵列60在远离基板10的方向上依次层叠设置。其中，微透镜阵列60在远离基板10的一侧还制备有发光器件，更为具体地，发光器件可以为OLED。此外，钝化层20中还设有薄膜晶体管90(Thin Film Transistor，TFT)，用于驱动显示面板1的发光器件。薄膜晶体管90通过设置于平坦化层40中的ITO(氧化铟锡)导电层与发光器件电导通。
可以理解的是，微透镜阵列60是一种微纳光学元件，由许多微小的透镜组成，通常排列成规则的阵列。这些透镜可以将光线聚焦或分散，从而实现对光线的控制和调节。为了提高光取出率，本申请实施例的微透镜阵列60用于将发光器件发出的光线沿朝向基板10的方向分散射出。
需要说明的是，光线阻挡层70、聚光透镜80均与像素界定层50存在交叠区域，指的是光线阻挡层70在基板上的正投影区域与像素界定层50在基板上的正投影区域之间的至少部分重叠，且二者相重叠的部分形成交叠区域。优选地，光线阻挡层70和聚光透镜80正对设置，即二者的正投影区域完全重叠。并且，光线阻挡层70和聚光透镜80的交叠区域位于像素界定层在基板的正投影区域内。
在本申请实施例中，多个子滤光层30a可以包括红光子滤光层、绿光子滤光层以及蓝光子滤光层，多个子滤光层30a相互间隔设置。可以理解的是，红光子滤光层、绿光子滤光层和蓝光子滤光层用于分别供红光、绿光和蓝光通过，以组成显示面板1发光显示的三原色。
在本申请实施例中，像素界定层50所限定出的多个发光区域中，任意相邻的两个发光区域之间均设有与像素界定层50对应的光线阻挡层70和聚光透镜80，换而言之，任意相邻的两个子滤光层30a之间的区域均设有光线阻挡层70和聚光透镜80。光线阻挡层70和聚光透镜80沿背离基板10的方向排列，且在与基板10相垂直的方向上正对设置。
可以理解的是，显示面板1的发光器件发出的光线经过微透镜阵列60分散射出后，其中的一部分光线直接进入正对设置的目标子滤光层30a，然后经目标子滤光层30a过滤后发出相应颜色的光线，其中的另一部分光线直接进入聚光透镜80或者经过像素界定层50的折射后进入聚光透镜80。
示例性地，聚光透镜80可以为凸透镜，用于将进入其的光线汇聚至对应的光线阻挡层70。光线阻挡层70具有遮光作用，能够阻止光线通过。可以理解的是，凸透镜具有聚光作用，在前述的另一部分光线依次经过凸透镜的两个界面发生两次折射后，光线的出射角度减小。举例而言，如图4所示，大于凸透镜焦距的光线经过凸透镜后，能够朝向凸透镜主光轴上一点会聚射出，小于凸透镜焦距的光线经过凸透镜后，能够以小于入射角度的出射角度射出。
由此可见，根据本申请实施例的显示面板1，通过在相邻两个子滤光层30a之间设置与像素界定层50正对的光线阻挡层70和聚光透镜80，微透镜阵列60分散射出的朝向目标子滤光层30a相邻的其他子滤光层30a的光线经过聚光透镜80的折射后，能够使其会聚至光线阻挡层70，从而减少进入与目标子滤光层30a相邻的其他子滤光层30a的光线，进而改善显示面板1的漏光问题，提高显示面板1的显示效果。
在一种实施方式中，聚光透镜80的材料包括丙烯酸类材料。其中，丙烯酸类材料可以理解为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)及其共聚物。
示例性地，聚光透镜80的材料可以包括甲基丙烯酸甲酯与苯乙烯、顺丁橡胶共聚物，即顺丁橡胶的大分子链上接枝甲基丙烯酸甲酯和苯乙烯的接枝共聚物。由此，能够提升聚光透镜80的光泽度、高明性以及韧性，且具有较高的透光率。
在一种实施方式中，聚光透镜80的材料包括散射粒子，散射粒子的折射率为1.8至2.0。
示例性地，散射粒子的材料可以包括氧化钛或者氧化锆。
通过上述实施方式，能够进一步提升聚光透镜80对光线的散射效果，从而提高聚光透镜80的光线通过率，进而提升光取出效果。
可选地，聚光透镜80的制备材料包括感光基团、催化基团和表面活性剂。
其中，感光基团在吸收光线后，在相应波长的光能作用下能够引起电子跃迁从而成为激发态，处于激发态的分子通过分子内火分子间的能量转移发生异构化作用，从而引起分子构型的变化，促使聚光透镜80的材料内部发生物理性质或者化学性质的变化，产生一定的响应性。
在一种实施方式中，聚光透镜80的折射率大于平坦化层40的折射率；和/或，聚光透镜80的折射率大于像素界定层50的折射率。
优选地，聚光透镜80的折射率既大于平坦化层40的折射率，也大于像素界定层50的折射率。可以理解的是，光线从低折射率的介质进入高折射率的介质时会发生折射，且出射角度小于入射角度。基于此，经微透镜阵列60分散后的由平坦化层40直接进入聚光透镜80的光线在发生折射时，进入聚光透镜80后的出射角度小于入射角度，从而对光线起到一定程度的会聚作用，提高光线被会聚至光线阻挡层70的概率。同理，经微透镜阵列60分散后的依次经过平坦化层40、像素界定层50以及聚光透镜80的光线，在经过像素界定层50和聚光透镜80的界面发生折射时，光线进入聚光透镜80后的出射角度小于入射角度，同样能够对光线起到一定程度的会聚作用，提高光线被会聚至光线阻挡层70的概率。
可选地，平坦化层40的折射率为1.4至1.6，像素界定层50的折射率为1.5至1.7；其中，聚光透镜80的折射率大于或等于1.8。
示例性地，平坦化层40的材料可以包括硅系材料或者丙烯酸系材料。其中，硅系材料或者丙烯酸系材料的折射率为1.4至1.6。
在一种实施方式中，聚光透镜80为椭球体或者棱镜体。
在一个示例中，聚光透镜80可以为椭球形的凸透镜，即聚光透镜80的外表面为椭球面，可以对经过其的光线进行聚焦。与球面透镜相比，椭球形透镜具有更高的成像质量和更大的视场角。
在另一个示例中，聚光透镜80可以为棱镜型的非球面透镜，即聚光透镜80的外表面为棱形，可以对经过其的光线进行聚焦。与椭球形的凸透镜相比，棱镜型透镜具有更高的成像质量和更大的视场角，并且能够实现对光线进行特定的偏转，从而将光线更好地会聚至光线阻挡层70。
在一种实施方式中，如图3所示，光线阻挡层70包括黑色矩阵膜层。
示例性地，黑色矩阵膜层可以采用黑色有机材料，例如可以采用铬(Cr)、氧化铬(CrOx)、黑色树酯(Black Resin)或者石墨烯等。
在一种实施方式中，如图5所示，显示面板1还包括红光辅助滤光层71、绿光辅助滤光层72和蓝光辅助滤光层73。其中，光线阻挡层70包括层叠设置的红光辅助滤光层71、绿光辅助滤光层72和蓝光辅助滤光层73中的至少两种。可以理解的是，红光辅助绿光层71、绿光辅助绿光层72以及蓝光辅助绿光层73分别用于供红光、绿光和蓝光通过。通过将红光辅助绿光层71、滤光辅助滤光层30以及蓝光辅助绿光层73叠层设置，从而形成复合滤光层30组，由此，能够实现对任何颜色光线的阻挡，从而起到遮光的作用。
在本申请实施例中，红光辅助滤光层71、绿光辅助滤光层72以及蓝光辅助滤光层73分别与颜色对应的子滤光层30a可以相同也可以不同。举例而言，辅助滤光层可以与颜色对应的子滤光层30a的材料相同，但辅助滤光层的厚度小于颜色对应的子滤光层30a的厚度。
在一种实施方式中，钝化层20在相邻的子滤光层30a之间开设有容纳凹槽，容纳凹槽用于沉积形成光线阻挡层70。
示例性地，在基板10上形成钝化层20以及滤光层30之后，可以通过曝光显影的方式在钝化层20的位于相邻的子滤光层30a之间的区域形成容纳凹槽。之后，在容纳凹槽内沉积遮光材料，以形成光线阻挡层70。
本申请实施例的对于容纳凹槽的深度不做具体限制，本领域技术人员可以根据实际需求进行相应设置。
第二方面，本申请实施例还提供了一种显示面板的制备方法，应用于本申请上述任一种实施方式的显示面板。
图6示出本申请实施例的显示面板的制备方法的流程图。如图6所示，该制备方法包括如下步骤：
S101：在基板上形成钝化层；
S102：在钝化层的背离基板的一侧形成滤光层，滤光层包括间隔设置的多个子滤光层；
S103：在钝化层的位于相邻两个子滤光层之间的区域开设容纳凹槽，以及在容纳凹槽内沉积形成光线阻挡层；
S104：在钝化层的背离基板的一侧形成覆盖光线阻挡层和滤光层的平坦化层；
S105：在平坦化层内通过曝光显影工艺或者干刻工艺制备聚光透镜，聚光透镜用于将经过微透镜阵列处理后的至少部分光线汇聚至光线阻挡层；
S106：在光线阻挡层以及平坦化层上形成像素界定层和微透镜阵列，其中，在垂直于基板的方向上，光线阻挡层、聚光透镜均与像素界定层存在交叠区域。
在本申请实施例中，显示面板的发光器件发出的光线经过微透镜阵列分散射出后，其中的一部分光线直接进入正对设置的目标子滤光层，然后经目标子滤光层过滤后发出相应颜色的光线，其中的另一部分光线直接进入聚光透镜或者经过像素界定层的折射后进入聚光透镜。
在申请实施例中，在步骤S101之前，本申请实施例的制备方法还包括在基板制备绝缘层以及薄膜晶体管阵列。在步骤S101中，形成的钝化层覆盖于薄膜晶体管阵列的上侧。
示例性地，聚光透镜可以为凸透镜，用于将进入其的光线汇聚至对应的光线阻挡层。光线阻挡层具有遮光作用，能够阻止光线通过。可以理解的是，凸透镜具有聚光作用，在前述的另一部分光线依次经过凸透镜的两个界面发生两次折射后，光线的出射角度减小。举例而言，如图4所示，大于凸透镜焦距的光线经过凸透镜后，能够朝向凸透镜主光轴上一点会聚射出，小于凸透镜焦距的光线经过凸透镜后，能够以小于入射角度的出射角度射出。
示例性地，聚光透镜的材料包括丙烯酸类材料，且聚光透镜的折射率大于平坦化层以及像素界定层的折射率。其中，聚光透镜的形状可以为椭球形或者棱镜形。
根据本申请实施例的显示面板的制备方法，通过在相邻的字滤光层之间制备光线阻挡层和聚光透镜，微透镜阵列分散射出的朝向目标子滤光层相邻的其他子滤光层的光线经过聚光透镜的折射后，能够使其会聚至光线阻挡层，从而减少进入与目标子滤光层相邻的其他子滤光层的光线，进而改善显示面板的漏光问题，提高显示面板的显示效果。
此外，在步骤S106之后，本申请实施例的制备方法还包括如下步骤：S107：在微透镜阵列以及像素界定层的远离基板的一侧依次形成发光器件的第一电极、有机层组以及第二电极；S108：在发光器件的远离基板的一侧形成封装层。
在一种实施方式中，聚光透镜通过曝光显影工艺或者干刻工艺加工成型。
可以理解的是，曝光显影是一种光刻工艺，该工艺的基本原理是在光敏感材料表面覆盖一层光掩膜，然后将光掩膜暴露在紫外线或可见光下，使得光掩膜上的图案被投影到光敏感材料表面上，形成图案的曝光区域和未曝光区域。之后，将光敏感材料进行显影处理，使得未曝光区域的光敏感材料被溶解掉，而曝光区域的光敏感材料得以保留下来，形成所需的遮光透镜。干刻工艺是一种的微纳加工工艺，该工艺的基本原理是利用高能离子束或等离子体对材料表面进行加工，形成所需的图案或结构。本申请实施例具体可以采用物理干刻工艺或者化学干刻工艺加工形成聚光透镜。
第三方面，本申请实施例还提供了一种显示装置，包括本申请上述任一种实施方式的显示面板。
此外，上述实施例的显示装置的其他构成可以采用于本领域普通技术人员现在和未来知悉的各种技术方案，这里不再详细描述。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
上文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，上文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。
以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到其各种变化或替换，这些都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，包括基板、钝化层、滤光层、平坦化层、像素界定层和微透镜阵列，所述滤光层设置于所述钝化层的远离所述基板的一侧，所述平坦化层设置于所述钝化层的远离所述基板的一侧且覆盖所述滤光层，所述像素界定层设置于所述平坦化层的远离所述基板的一侧且限定出多个发光区域，所述滤光层包括对应地设置于多个所述发光区域的多个子滤光层；
其中，所述钝化层设置有光线阻挡层，所述光线阻挡层位于相邻所述子滤光层之间，所述平坦化层包括聚光透镜，在垂直于所述基板的方向上，所述光线阻挡层、所述聚光透镜均与所述像素界定层存在交叠区域，所述聚光透镜用于将经过所述微透镜阵列的至少部分光线汇聚至所述光线阻挡层。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述聚光透镜的材料包括散射粒子，所述散射粒子的折射率为1.8至2.0。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述聚光透镜的折射率大于所述平坦化层的折射率；和/或，所述聚光透镜的折射率大于所述像素界定层的折射率。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述平坦化层的折射率为1.4至1.6，所述像素界定层的折射率为1.5至1.7；其中，所述聚光透镜的折射率大于或等于1.8。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述聚光透镜为椭球体或者棱镜体。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光线阻挡层包括黑色矩阵膜层。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括红光辅助滤光层、绿光辅助滤光层和蓝光辅助滤光层，其中，所述光线阻挡层包括层叠设置的所述红光辅助滤光层、所述绿光辅助滤光层和所述蓝光辅助滤光层中的至少两种。
8.根据权利要求1至7任一项所述的显示面板，其特征在于，所述钝化层在相邻的所述子滤光层之间开设有容纳凹槽，所述容纳凹槽用于沉积形成所述光线阻挡层。
9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，应用于权利要求1至8任一项所述的显示面板，所述方法包括：
在基板上形成钝化层；
在所述钝化层的背离所述基板的一侧形成滤光层，所述滤光层包括间隔设置的多个子滤光层；
在所述钝化层的位于相邻两个所述子滤光层之间的区域开设容纳凹槽，以及在所述容纳凹槽内沉积形成光线阻挡层；
在所述钝化层的背离所述基板的一侧形成覆盖所述光线阻挡层和所述滤光层的平坦化层；
在所述平坦化层内通过曝光显影工艺或者干刻工艺制备聚光透镜，所述聚光透镜用于将经过所述微透镜阵列处理后的至少部分光线汇聚至所述光线阻挡层；
在所述光线阻挡层以及所述平坦化层上形成像素界定层，其中，在垂直于所述基板的方向上，所述光线阻挡层、所述聚光透镜均与所述像素界定层存在交叠区域。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的显示面板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310760974.9A CN116634818A (zh) | 2023-06-26 | 2023-06-26 | 显示面板、制备方法以及显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310760974.9A CN116634818A (zh) | 2023-06-26 | 2023-06-26 | 显示面板、制备方法以及显示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116634818A true CN116634818A (zh) | 2023-08-22 |
Family
ID=87597493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310760974.9A Pending CN116634818A (zh) | 2023-06-26 | 2023-06-26 | 显示面板、制备方法以及显示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116634818A (zh) |
-
2023
- 2023-06-26 CN CN202310760974.9A patent/CN116634818A/zh active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8792174B2 (en) | Array of microlenses with integrated illumination | |
| JP5971903B2 (ja) | 表示装置およびそれを用いた映像情報処理装置 | |
| JP4806220B2 (ja) | 画像表示装置 | |
| US7321349B2 (en) | Display element, display device, and microlens array | |
| CN109633965B (zh) | 彩膜结构、显示基板及其制造方法、显示装置 | |
| JP4547157B2 (ja) | 光抽出素子を備えて提供される電界発光パネル | |
| CN110534664B (zh) | 一种显示面板、显示面板的制作方法以及显示装置 | |
| CN109166903B (zh) | 一种oled显示面板及其制作方法，以及显示装置 | |
| JP2006065333A (ja) | ブラックマトリクスが具備されたマイクロレンズアレイシート及びその製造方法 | |
| US20120268042A1 (en) | Display apparatus | |
| CN109935726B (zh) | 有机发光显示面板、其制造方法及显示装置 | |
| JP2004103507A (ja) | 有機ｅｌディスプレイ装置及び該ディスプレイ装置を有する電子機器 | |
| JP2007035550A (ja) | エレクトロルミネッセンス素子用基板 | |
| JP2007165331A (ja) | 発光型表示素子 | |
| CN109378404B (zh) | 一种3d显示面板及其制作方法，以及显示装置 | |
| US7463275B2 (en) | Light source for image writing apparatus and production method for light source | |
| CN114981715A (zh) | 对置基板、显示面板和显示设备 | |
| US20120256562A1 (en) | Display apparatus | |
| JP2005099592A (ja) | 光屈折素子アレイ基板、画像表示素子および画像表示装置 | |
| US20120313501A1 (en) | Display apparatus | |
| US20150146132A1 (en) | Surface light source device, display device, and lighting device | |
| US11740389B2 (en) | Low reflection structure, display panel, display device and manufacturing method of a display panel | |
| CN116634818A (zh) | 显示面板、制备方法以及显示装置 | |
| US10998387B2 (en) | Light emitting device | |
| CN112599705A (zh) | 显示面板及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |