CN116615056A - 显示面板及其制备方法以及显示装置 - Google Patents

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王纯阳
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Abstract

本发明提出了一种显示面板及其制备方法以及显示装置，所述显示面板包括：基板；像素界定层，所述像素界定层设置在所述基板的一侧，所述像素界定层形成有多个第一开口；像素层，所述像素层包括多个子像素，所述子像素包括两个分割子像素，同一个所述子像素的两个所述分割子像素设置在相邻的两个所述第一开口内，同一个所述子像素的两个所述分割子像素发出相同颜色的光，且同一个所述子像素的两个所述分割子像素完全断开设置。由此，同一个子像素的两个分割子像素之间的电流不会发生串扰，提高防窥效果。

Description

显示面板及其制备方法以及显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体地，涉及显示面板及其制备方法以及显示装置。
背景技术
显示面板为了实现防窥与共享模式的切换，将原本的子像素一分为二形成两个分割子像素，共享模式下，两个分割子像素均点亮；防窥模式下仅一个分割子像素点亮。但是，由于两个分割子像素距离较近，防窥模式下，两个分割子像素之间易发生串扰，极大的影响防窥效果。
因此，目前的显示面板仍需进一步改进。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
本发明的一个方面，提出了一种显示面板，包括：基板；像素界定层，所述像素界定层设置在所述基板的一侧，所述像素界定层形成有多个第一开口；像素层，所述像素层包括多个子像素，所述子像素包括两个分割子像素，同一个所述子像素的两个所述分割子像素设置在相邻的两个所述第一开口内，同一个所述子像素的两个所述分割子像素发出相同颜色的光，且同一个所述子像素的两个所述分割子像素完全断开设置。由此，同一个子像素的两个分割子像素之间的电流不会发生串扰，提高防窥效果。
根据本发明的一些实施例，相邻两个所述子像素完全断开设置。由此，相邻的两个子像素之间的电流不会发生串扰，进一步提高显示面板的显示效果。
根据本发明的一些实施例，同一个所述子像素的两个所述分割子像素之间的所述像素界定层具有贯穿所述像素界定层的第二开口；所述显示面板还包括：第一无机层，所述第一无机层设置在同一个所述子像素的两个所述分割子像素之间的所述像素界定层背离所述基板的表面上，且所述第一无机层上形成有贯穿所述第一无机层的第三开口，所述第三开口在所述基板上的正投影位于所述第二开口在所述基板上的正投影的范围内且不重合。由此，在同一个子像素的两个分割子像素之间形成隔离柱结构，使同一个子像素的两个分割子像素断开设置，防止同一个子像素的两个分割子像素之间的电流发生串扰，提高显示面板的防窥效果。
根据本发明的一些实施例，相邻两个所述子像素之间的所述像素界定层具有贯穿所述像素界定层的第四开口；所述显示面板还包括：第二无机层，所述第二无机层设置在相邻两个所述子像素之间的所述像素界定层背离所述基板的表面上，且所述第二无机层上形成有贯穿所述第二无机层的第五开口，所述第四开口在所述基板上的正投影位于所述第五开口在所述基板上的正投影的范围内且不重合。由此，在相邻两个子像素之间形成隔离柱结构，使相邻两个子像素断开设置，防止相邻两个子像素之间的电流发生串扰，提高显示面板的显示效果。
根据本发明的一些实施例，所述第一无机层和所述第二无机层的材料分别独立地包括绝缘材料或金属材料。由此，第一无机层、第二无机层与像素界定层之间的刻蚀比不同，可以在同一个子像素的两个分割子像素之间和/或相邻两个子像素之间形成隔离柱结构。
根据本发明的一些实施例，所述显示面板还包括：第一隔垫层，所述第一隔垫层设置在同一个所述子像素的两个所述分割子像素之间的所述像素界定层背离所述基板的表面上，所述第一隔垫层朝向所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影位于所述第一隔垫层背离所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影的范围内且不重合。由此，使同一个子像素的两个分割子像素断开设置，防止同一个子像素的两个分割子像素之间的电流发生串扰，提高显示面板的防窥效果。
根据本发明的一些实施例，所述显示面板还包括：第二隔垫层，所述第二隔垫层设置在相邻两个所述子像素之间的所述像素界定层背离所述基板的表面上，所述第二隔垫层朝向所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影位于所述第二隔垫层背离所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影的范围内且不重合。由此，使相邻两个子像素断开设置，防止相邻两个子像素之间的电流发生串扰，提高显示面板的显示效果。
在本发明的另一个方面，提出了一种制备显示面板的方法，包括：提供基板；在所述基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层形成有多个第一开口；形成像素层，所述像素层包括多个子像素，所述子像素包括两个分割子像素，同一个所述子像素的两个所述分割子像素设置在相邻的两个所述第一开口内，同一个所述子像素的两个所述分割子像素发出相同颜色的光，且同一个所述子像素的两个所述分割子像素完全断开设置。由此，可避免同一个子像素的两个分割子像素之间的电流发生串扰，提高显示面板的防窥效果。
根据本发明的一些实施例，同一个所述子像素的两个所述分割子像素完全断开设置的方法包括：在所述像素界定层背离所述基板的一侧形成无机功能层，所述无机功能层在所述基板上的正投影与所述基板重合；对所述无机功能层进行第一次图案化处理，在同一个所述子像素的两个所述分割子像素之间的部分所述无机功能层上形成贯穿所述无机功能层的第三开口；通过干刻工艺对所述第三开口暴露出的所述像素界定层进行刻蚀，以在所述像素界定层上形成贯穿所述像素界定层的第二开口，所述第三开口在所述基板上的正投影位于所述第二开口在所述基板上的正投影范围内且不重合；对形成有所述第三开口的所述无机功能层进行第二次图案化处理，以至少去除与所述第一开口正对应的所述无机功能层，以形成第一无机层。由此，在同一个子像素的两个分割子像素之间形成隔离柱，防止同一个子像素的两个分割子像素之间的电流发生串扰，提高显示面板的防窥效果。
根据本发明的一些实施例，所述方法进一步包括：在相邻两个所述子像素之间的所述无机功能层上形成贯穿所述无机功能层的第五开口；通过干刻工艺对所述第五开口暴露出的所述像素界定层进行刻蚀，以在所述像素界定层上形成贯穿所述像素界定层的第四开口，所述第五开口在所述基板上的正投影位于所述第四开口在所述基板上的正投影范围内且不重合；通过所述第二次图案化处理去除与所述第一开口正对应的所述无机功能层，以形成第二无机功能层。由此，在相邻两个子像素之间形成隔离柱，防止相邻两个子像素之间的电流发生串扰，提高显示面板的显示效果。
根据本发明的一些实施例，同一个所述子像素的两个所述分割子像素完全断开设置的方法还包括：在所述像素界定层背离所述基板的一侧形成负性光刻胶层，所述负性光刻胶层在所述基板上的正投影与所述基板重合；对所述负性光刻胶层的预定区域进行第三次图案化处理，以形成第一隔垫层，所述第一隔垫层朝向所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影位于所述第一隔垫层背离所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影的范围内且不重合。由此，在同一个子像素的两个分割子像素之间形成倒梯形的隔离柱结构，防止同一个子像素的两个分割子像素之间的电流发生串扰，提高显示面板的防窥效果。
根据本发明的一些实施例，通过所述第三次图案化处理形成第二隔垫层，所述第二隔垫层朝向所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影位于所述第二隔垫层背离所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影的范围内且不重合。由此，在相邻两个子像素之间形成倒梯形的隔离柱结构，防止相邻两个子像素之间的电流发生串扰，提高显示面板的显示效果。
在本发明的又一个方面，提出了一种显示装置，包括前述的显示面板。由此，该显示装置具有前述的显示面板所具有的全部特征以及优点，在此不再赘述。总的来说，至少具有防窥效果好的优点。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1显示了本发明一个实施例的显示面板的结构示意图；
图2显示了分割子像素的一种排布方式示意图；
图3显示了分割子像素的另一种排布方式示意图；
图4显示了本发明另一个实施例的显示面板的结构示意图；
图5显示了相邻两个子像素的示意图；
图6显示了本发明另一个实施例的显示面板的结构示意图；
图7显示了本发明另一个实施例的显示面板的结构示意图；
图8显示了本发明另一个实施例的显示面板的结构示意图；
图9显示了本发明另一个实施例的显示面板的结构示意图；
图10显示了本发明另一个实施例的显示面板的结构示意图；
图11显示了本发明一个实施例的制备显示面板的流程示意图；
图12显示了本发明另一个实施例的制备显示面板的过程示意图；
图13显示了本发明另一个实施例的制备显示面板的过程示意图；
图14显示了本发明另一个实施例的制备显示面板的过程示意图；
图15显示了本发明另一个实施例的制备显示面板的过程示意图。
附图标记：
1：显示面板；11：基板；12：像素界定层；121：第一开口；122：第二开口；123：第四开口；131：子像素；1311：分割子像素；1312：阳极；1313：空穴功能层；1314：发光功能层；1315：电子功能层；1316：阴极；140：无机功能层；141：第一无机层；1411：第三开口；142：第二无机层；1421：第五开口；150：负性光刻胶层；151：第一隔垫层；152：第二隔垫层；16：缓冲层；171：有源层；172：第一栅绝缘层；173：栅极；174：第二栅绝缘层；175：层间介质层；176：源极；177：漏极；178：平坦化层；18：封装层；19：黑矩阵；20：保护层；21：彩色滤光片。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。
在本发明的一个方面，提出了一种显示面板1，参考图1，所述显示面板1包括：基板11、像素界定层12和像素层。
其中，所述像素界定层12设置在所述基板11的一侧，所述像素界定层12形成有多个第一开口。
所述像素层包括多个子像素131，所述子像素131包括两个分割子像素1311。具体地，参考图2和图3，所述像素层包括红色子像素131、绿色子像素131和蓝色子像素131，红色子像素131包括两个可发出红光的分割子像素1311，绿色子像素131包括两个可发出绿光的分割子像素1311，蓝色子像素131包括两个可发出蓝光的分割子像素1311。显示面板1为共享模式时，所述子像素131的两个分割子像素1311均点亮；显示面板1为防窥模式时，仅一个分割子像素1311点亮，例如，参考图2和图3，防窥模式时仅虚线圈出的区域内的分割子像素1311点亮，也可以是未被虚线圈出的分割子像素1311点亮。
同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311设置在相邻的两个所述第一开口121内，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311发出相同颜色的光，且同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311完全断开设置。具体地，所述分割子像素1311的具体结构不受特别限制，根据本发明的一些实施例，所述分割子像素1311可以包括阳极1312、发光功能层1314和阴极1316。根据本发明的另一些实施例，参考图1，所述分割子像素1311包括阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315和阴极1316，其中，空穴功能层1313可以包括空穴注入层和空穴传输层，电子功能层1315可以包括电子注入层和电子传输层。同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间完全断开设置，是指所述分割子像素1311包括的所有膜层结构均断开，以所述分割子像素1311包括阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315和阴极1316为例，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315和阴极1316完全断开设置(参考图1)。
由此，即可避免电流经空穴功能层1313、电子功能层1315以及阴极1316在同一个子像素131的两个分割子像素1311之间传递，防止同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高显示面板1的防窥效果。
需要说明的是，两个分割子像素1311的排布方式不受特别限制，例如，红色子像素131、绿色子像素131和蓝色子像素131在显示面板1的行方向和列方向阵列排布时，同一个子像素131的两个分割子像素1311可在显示面板1的行方向间隔排布(参考图3)，或在显示面板1的列方向间隔排布(参考图2)。
需要说明的是，图1是图2中的显示面板沿AA’方向的截面图，为了清楚地示出各个膜层的结构，图1中仅示出了同一个子像素131和两个分割子像素1311的结构。
根据本发明的一些实施例，参考图4，相邻两个所述子像素131完全断开设置。为了清楚地示出分割子像素1311中各个膜层的结构，图4中仅示出了一个子像素1311的两个分割子像素和与所述子像素131相邻的两个子像素1311的各一个分割子像素1311(参考图5)。也即是说，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间完全断开设置，相邻两个所述子像素131之间也完全断开设置。具体地，当分割子像素1311包括阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315和阴极1316时，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311完全断开设置是指同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315和阴极1316完全断开设置，相邻两个所述子像素131之间完全断开设置是指相邻两个所述子像素131之间的阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315和阴极1316完全断开设置。由此，防窥模式时，可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高显示面板1的防窥效果；共享模式时，可避免相邻两个子像素131之间的相邻两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高显示面板1的显示效果。
下面，以分割子像素1311包括阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315和阴极1316为例对显示面板1的具体结构进行详细说明：
根据本发明的一些实施例，参考图6，当同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间完全断开设置时，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的所述像素界定层12具有贯穿所述像素界定层12的第二开口122；所述显示面板1还可以包括：第一无机层141，所述第一无机层141设置在同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的所述像素界定层12背离所述基板11的表面上，且所述第一无机层141上形成有贯穿所述第一无机层141的第三开口1411，所述第三开口1411在所述基板11上的正投影位于所述第二开口122在所述基板11上的正投影的范围内且不重合。具体地，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的第三开口1411小于第二开口122，同一个子像素131的两个分割子像素1311的阳极1312分别形成在两个分割子像素1311对应的第一开口内，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313在第三开口1411处断开，同一个子像素131的两个分割子像素1311的发光功能层1314分别形成在两个分割子像素1311对应的第一开口内，且位于阳极1312背离基板11的一侧，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电子功能层1315在第三开口1411处断开，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的阴极1316在第三开口1411处断开。由此，可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高显示面板1的防窥效果。同时，通过在同一个子像素的两个分割子像素之间设置第一无机层141，可简化同一个子像素的两个分割子像素1311之间断开设置的制备方法，降低显示面板1的制作成本。
根据本发明的一些实施例，参考图7，相邻两个所述子像素131之间的所述像素界定层12具有贯穿所述像素界定层12的第四开口123；所述显示面板1还包括：第二无机层142，所述第二无机层142设置在相邻两个所述子像素131之间的所述像素界定层12背离所述基板11的表面上，且所述第二无机层142上形成有贯穿所述第二无机层142的第五开口1421，所述第四开口123在所述基板11上的正投影位于所述第五开口1421在所述基板11上的正投影的范围内且不重合。具体地，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间形成有所述第一无机层141，相邻两个所述子像素131之间形成有所述第二无机层142。同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315和阴极1316的结构如前所述，在此不再赘述。相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的阳极1312分别形成相应的第一开口内，相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的空穴功能层1313在第五开口1421处断开，相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的发光功能层1314分别形成在对应的第一开口内，且位于阳极1312背离基板11的一侧，相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的电子功能层1315在第五开口1421处断开，相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的阴极1316在第五开口1421处断开。由此，当显示面板1为防窥模式时，可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高显示面板1的防窥效果；当显示面板1为共享模式时，可避免相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的电流发生串扰，提高显示面板1的显示效果。同时，通过设置第一无机层141和/或第二无机层142，可简化同一个子像素的两个分割子像素1311之间断开设置和或相邻两个子像素之间断开设置的制备方法，降低显示面板1的制作成本。
根据本发明的一些具体实施例，所述第一无机层141和所述第二无机层142的材料分别独立地包括绝缘材料或金属材料。由此，即可利用第一无机层141和像素界定层12的刻蚀比不同，在同一个子像素131的两个分割子像素1311之间形成所述第二开口122和所述第三开口1411，利用第二无机层142和像素界定层12的刻蚀比不同，在第二无机层142和像素界定层12上形成所述第四开口123和所述第五开口1421，进而使同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313、电子功能层1315和阴极1316完全断开设置和/或相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311之间的空穴功能层1313、电子功能层1315和阴极1316完全断开设置。
根据本发明的一些实施例，参考图8，显示面板1还可以包括：第一隔垫层151，所述第一隔垫层151设置在同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的所述像素界定层12背离所述基板11的表面上，所述第一隔垫层151朝向所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影位于所述第一隔垫层151背离所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影的范围内且不重合。具体地，同一个子像素131的两个分割子像素1311的阳极1312分别形成在两个分割子像素1311对应的第一开口内，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313在第一隔垫层151处断开，同一个子像素131的两个分割子像素1311的发光功能层1314分别形成在两个分割子像素1311对应的第一开口内，且位于阳极1312背离基板11的一侧，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电子功能层1315在第一隔垫层151处断开，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的阴极1316在第一隔垫层151处断开。由此，可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高显示面板1的防窥效果。同时，通过在同一个子像素的两个分割子像素之间设置第一隔垫层151，可简化同一个子像素的两个分割子像素1311之间断开设置的制备方法，降低显示面板1的制作成本。
根据本发明的一些实施例，参考图9，所述显示面板1还包括：第二隔垫层152，所述第二隔垫层152设置在相邻两个所述子像素131之间的所述像素界定层12背离所述基板11的表面上，所述第二隔垫层152朝向所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影位于所述第二隔垫层152背离所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影的范围内且不重合。具体地，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315、阴极1316和第一隔垫层151的结构如前所述，在此不再赘述。相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的阳极1312分别形成相应的第一开口内，相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的空穴功能层1313在第二隔垫层152处断开，相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的发光功能层1314分别形成在对应的第一开口内，且位于阳极1312背离基板11的一侧，相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的电子功能层1315在第二隔垫层152处断开，相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311的阴极1316在第二隔垫层152处断开。由此，当显示面板1为防窥模式时，可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高显示面板1的防窥效果；当显示面板1为共享模式时，可避免相邻两个子像素131的两个相邻的分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高显示面板1的显示效果。同时，通过设置第一隔垫层151和/或第二隔垫层152，可简化同一个子像素的两个分割子像素1311之间断开设置和或相邻两个子像素之间断开设置的制备方法，降低显示面板1的制作成本。
根据本发明的一些实施例，参考图10，显示面板1还可以进一步包括：缓冲层16，缓冲层16设置在基板11的一个表面上；背板电路结构，背板电路结构设置在缓冲层16背离基板11的一个表面上，具体地，背板电路结构可以包括有源层171、第一栅绝缘层172、栅极173、第二栅绝缘层174、层间介质层175、源极176、漏极177以及平坦化层178，背板电路结构可用于构成薄膜晶体管以及电容。进一步地，第一栅金属可用于形成薄膜晶体管中的栅极173以及栅线(图中未示出)，以及电容的第一电极，第二栅金属可以用于形成电容的第二电极，二者之间间隔有第二栅绝缘层174，从而构成电容结构。
根据本发明的一些实施例，参考图10，显示面板1还可以包括：封装层18，封装层18设置在像素层背离基板11的一侧，且填充第二开口122和/或第四开口123；黑矩阵19，所述黑矩阵19设置在所述封装层18背离所述像素层的一侧；保护层20，所述保护层20设置在所述黑矩阵19背离所述封装层18的一侧；彩色滤光片21，所述彩色滤光片21设置在所述保护层20背离所述黑矩阵19的一侧，所述彩色滤光片21上形成有多个黑矩阵19。
在本申请的另一个方面，提出了一种制备显示面板1的方法，包括：提供基板11；在所述基板11的一侧形成像素界定层12，所述像素界定层12形成有多个第一开口；形成像素层，所述像素层包括多个子像素131，所述子像素131包括两个分割子像素1311，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311设置在相邻的两个所述第一开口内，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311发出相同颜色的光，且同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311完全断开设置。由此，可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高显示面板1的防窥效果。
下面对该方法的各个步骤进行详细说明，参考图11，该方法包括：
S10：提供基板
具体地，基板11的种类不受特别限制，例如，可以为玻璃基板11或柔性基板11。
S20：形成像素界定层
具体地，像素界定层12形成在基板11的一侧，所述像素界定层12上形成有多个第一开口。
S30：形成像素层
在此步骤中，形成的像素层包括多个子像素131，所述子像素131包括两个分割子像素1311，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311设置在相邻的两个所述第一开口121内，同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311发出相同颜色的光，且同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311完全断开设置。
根据本发明的一些实施例，参考图12，形成像素层的方法可以包括：
S311：在像素界定层背离基板的一侧形成无机功能层
在此步骤中，所述无机功能层140在所述基板11上的正投影与所述基板11重合。需要说明的是，无机功能层140的制备方法不受特别限制，例如可以通过等离子体增强气相化学沉积形成所述无机功能层140。
S312：对无机功能层进行第一次图案化处理
在此步骤中，通过所述第一次图案化处理，在同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的部分所述无机功能层140上形成贯穿所述无机功能层140的第三开口1411。具体地，所述第一次图案化处理可利用曝光、显影刻蚀等工艺，将同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的部分无机功能层140去除。
S313：对第三开口暴露出的像素界定层进行刻蚀
在此步骤中，可以通过干刻工艺对所述第三开口1411暴露出的所述像素界定层12进行刻蚀，以在所述像素界定层12上形成贯穿所述像素界定层12的第二开口122，由于刻蚀比不同，所述第三开口1411在所述基板11上的正投影位于所述第二开口122在所述基板11上的正投影范围内且不重合。具体地，干刻过程中的气体可以为氧气。
S314：对无机功能层进行第二次图案化处理
在此步骤中，对形成有所述第三开口1411的所述无机功能层140进行第二次图案化处理，以至少去除与所述第一开口121正对应的所述无机功能层140，以形成第一无机层141。具体地，第二次图案化处理的过程中，去除与所述第一开口121正对应的所述无机功能层140，和与相邻两个所述子像素131之间的像素界定层12正对应的所述无机功能层140。需要说明的是，此处所指的“正对应”，是指去除第一开口121内的全部无机功能层140和相邻两个子像素131之间的像素界定层12背离基板11的一侧的全部无机功能层140，仅保留同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的像素界定层12背离基板11的一侧的无机功能层140，以形成第一无机层141。
S315：形成像素层的其他功能层
根据本发明的一些实施例，分割子像素1311的具体结构不受特别限制，以分割子像素1311包括阳极1312、空穴功能层1313、发光功能层1314、电子功能层1315和阴极1316为例进行说明。
在此步骤中，在第一开口121中形成阳极1312，在像素界定层12背离基板11的一侧形成整层空穴功能层1313，由于同一个子像素131的两个分割子像素1311之间形成有第二开口122和第三开口1411，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313在第三开口1411处断开；在第一开口121内的阳极1312背离基板11的表面上形成发光功能层1314；在空穴功能层1313背离像素界定层12的表面上形成整层电子功能层1315，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电子功能层1315在第三开口1411处断开；在电子功能层1315背离空穴功能层1313的表面上形成整层阴极1316，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的阴极1316在第三开口1411处断开。由此，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313、电子功能层1315和阴极1316断开，即可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高防窥效果。
根据本发明的另一些实施例，参考图13，形成像素层的方法还可以包括：
S321：在像素界定层背离基板的一侧形成无机功能层
在此步骤中，所述无机功能层140在所述基板11上的正投影与所述基板11重合。需要说明的是，无机功能层140的制备方法不受特别限制，例如可以通过等离子体增强气相化学沉积形成所述无机功能层140。
S322：对无机功能层进行第一次图案化处理
在此步骤中，通过所述第一次图案化处理，在同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的部分所述无机功能层140上形成贯穿所述无机功能层140的第三开口1411，在相邻两个所述子像素131之间的所述无机功能层140上形成贯穿所述无机功能层140的第五开口1421。具体地，所述第一次图案化处理可利用曝光、显影刻蚀等工艺，将同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的部分无机功能层140和相邻两个子像素131之间的部分无机功能层140去除。
S323：对第三开口和第五开口暴露出的像素界定层进行刻蚀
在此步骤中，可以通过干刻工艺对所述第三开口1411和所述第五开口1421暴露出的所述像素界定层12进行刻蚀，以在同一个所述子像素131的两个所述分割子像素1311之间的所述像素界定层12上形成贯穿所述像素界定层12的第二开口122，在相邻两个所述子像素131之间的所述像素界定层12上形成贯穿所述像素界定层12的第四开口123，由于刻蚀比不同，所述第三开口1411在所述基板11上的正投影位于所述第二开口122在所述基板11上的正投影范围内且不重合，所述第五开口1421在所述基板11上的正投影位于所述第四开口123在所述基板11上的正投影范围内且不重合。具体地，干刻过程中的气体可以为氧气。
S324：对无机功能层进行第二次图案化处理
在此步骤中，对形成有所述第三开口1411和所述第五开口1421的所述无机功能层140进行第二次图案化处理，仅去除与所述第一开口121正对应的所述无机功能层140，以形成第二无机层142。
S325：形成像素层的其他功能层
在此步骤中，在第一开口121中形成阳极1312，在像素界定层12背离基板11的一侧形成整层空穴功能层1313，由于同一个子像素131的两个分割子像素1311之间形成有第二开口122和第三开口1411，相邻两个子像素131之间形成有第四开口123和第五开口1421，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313在第三开口1411处断开，相邻两个子像素131之间的空穴功能层1313在第五开口1421处断开；在第一开口121内的阳极1312背离基板11的表面上形成发光功能层1314；在空穴功能层1313背离像素界定层12的表面上形成整层电子功能层1315，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电子功能层1315在第三开口1411处断开，相邻两个子像素131之间的电子功能层1315在第五开口1421处断开；在电子功能层1315背离空穴功能层1313的表面上形成整层阴极1316，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的阴极1316在第三开口1411处断开，相邻两个子像素131之间的阴极1316在第五开口1421处断开。由此，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313、电子功能层1315和阴极1316断开，即可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高防窥效果；相邻两个子像素131之间的空穴功能层1313、电子功能层1315和阴极1316断开，即可避免相邻两个子像素131之间的电流发生串扰，提高显示效果。
根据本发明的一些实施例，所述第一无机层141和所述第二无机层142的材料分别独立地包括绝缘材料或金属材料。具体地，第一无机层141和第二无机层142的材料可以包括SiO2、SiNx、Mo、Ag和Al中的至少一种。
根据本发明的一些实施例，参考图14，形成像素层的方法还可以包括：
S331：在像素界定层背离基板的一侧形成负性光刻胶层
在此步骤中，在所述像素界定层12背离所述基板11的一侧形成负性光刻胶层150，所述负性光刻胶层150在所述基板11上的正投影与所述基板11重合。
S332：对负性光刻胶层进行第三次图案化处理
在此步骤中，对所述负性光刻胶层150的预定区域进行第三次图案化处理，具体地，刻蚀罩覆盖同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的部分负性光刻胶层150，对未被刻蚀罩覆盖的负性光刻胶层150进行曝光显影，以去除未被刻蚀罩覆盖的负性光刻胶层150，以在同一个子像素131的两个分割子像素1311之间形成第一隔垫层151，所述第一隔垫层151朝向所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影位于所述第一隔垫层151背离所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影的范围内且不重合，所述第一隔垫层151仅覆盖同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的部分像素界定层12。
S333：形成像素层的其他功能层
在此步骤中，在第一开口121中形成阳极1312，在像素界定层12背离基板11的一侧形成整层空穴功能层1313，由于同一个子像素131的两个分割子像素1311之间形成有第一隔垫层151，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313在第一隔垫层151处断开；在第一开口121内的阳极1312背离基板11的表面上形成发光功能层1314；在空穴功能层1313背离像素界定层12的表面上形成整层电子功能层1315，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电子功能层1315在第一隔垫层151处断开；在电子功能层1315背离空穴功能层1313的表面上形成整层阴极1316，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的阴极1316在第一隔垫层151处断开。由此，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313、电子功能层1315和阴极1316断开，即可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高防窥效果。
根据本发明的一些实施例，参考图15，形成像素层的方法还可以包括：
S341：在像素界定层背离基板的一侧形成负性光刻胶层
在此步骤中，在所述像素界定层12背离所述基板11的一侧形成负性光刻胶层150，所述负性光刻胶层150在所述基板11上的正投影与所述基板11重合。
S342：对负性光刻胶层进行第三次图案化处理
在此步骤中，对所述负性光刻胶层150的预定区域进行第三次图案化处理，具体地，刻蚀罩覆盖同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的部分负性光刻胶150层，以及相邻两个子像素131之间的部分负性光刻胶层150，对未被刻蚀罩覆盖的负性光刻胶层150进行曝光显影，以去除未被刻蚀罩覆盖的负性光刻胶层150，以在同一个子像素131的两个分割子像素1311之间像素界定层12背离基板11的表面上形成第一隔垫层151，在相邻两个子像素131之间的像素界定层12背离基板11的表面上形成第二隔垫层152，所述第一隔垫层151朝向所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影位于所述第一隔垫层151背离所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影的范围内且不重合，所述第一隔垫层151仅覆盖同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的部分像素界定层12，所述第二隔垫层152朝向所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影位于所述第二隔垫层152背离所述像素界定层12的表面在所述基板11上的正投影的范围内且不重合，所述第二隔垫层152仅覆盖相邻两个子像素131之间的部分像素界定层12。
S333：形成像素层的其他功能层
在此步骤中，在第一开口121中形成阳极1312，在像素界定层12背离基板11的一侧形成整层空穴功能层1313，由于同一个子像素131的两个分割子像素1311之间形成有第一隔垫层151，相邻两个子像素131之间形成有第二隔垫层152，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313在第一隔垫层151处断开，相邻两个子像素131之间的空穴功能层1313在第二隔垫层152处断开；在第一开口121内的阳极1312背离基板11的表面上形成发光功能层1314；在空穴功能层1313背离像素界定层12的表面上形成整层电子功能层1315，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电子功能层1315在第一隔垫层151处断开，相邻两个子像素131之间的电子功能层1315在第二隔垫层152处断开；在电子功能层1315背离空穴功能层1313的表面上形成整层阴极1316，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的阴极1316在第一隔垫层151处断开，相邻两个子像素131之间的阴极1316在第二隔垫层152处断开。由此，同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的空穴功能层1313、电子功能层1315和阴极1316断开，即可避免同一个子像素131的两个分割子像素1311之间的电流发生串扰，提高防窥效果；相邻两个子像素131之间的空穴功能层1313、电子功能层1315和阴极1316断开，即可避免相邻两个子像素131之间的电流发生串扰，提高显示效果。
根据本发明的一些实施例，制备显示面板1的方法还可以包括形成缓冲层16、有源层171、第一栅绝缘层172、栅极173、第二栅绝缘层174、层间介质层175、源极176、漏极177以及平坦化层178、封装层18、黑矩阵19、保护层20以及彩色滤光片21的步骤。具体地，形成上述膜层的具体方法不受特别限制，本领域技术人员可根据显示面板1的具体结构以及制备过程进行选择。
在本发明的又一个方面，提出了一种显示装置，包括前述的显示面板1。由此，该显示装置具有前述的显示面板1所具有的全部特征以及优点，在此不再赘述。总的来说，至少具有防窥效果好的优点。
本发明中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (13)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；
像素界定层，所述像素界定层设置在所述基板的一侧，所述像素界定层形成有多个第一开口；
像素层，所述像素层包括多个子像素，所述子像素包括两个分割子像素，同一个所述子像素的两个所述分割子像素设置在相邻的两个所述第一开口内，同一个所述子像素的两个所述分割子像素发出相同颜色的光，且同一个所述子像素的两个所述分割子像素完全断开设置。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，相邻两个所述子像素完全断开设置。
3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，同一个所述子像素的两个所述分割子像素之间的所述像素界定层具有贯穿所述像素界定层的第二开口；
所述显示面板还包括：第一无机层，所述第一无机层设置在同一个所述子像素的两个所述分割子像素之间的所述像素界定层背离所述基板的表面上，且所述第一无机层上形成有贯穿所述第一无机层的第三开口，所述第三开口在所述基板上的正投影位于所述第二开口在所述基板上的正投影的范围内且不重合。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，相邻两个所述子像素之间的所述像素界定层具有贯穿所述像素界定层的第四开口；
所述显示面板还包括：第二无机层，所述第二无机层设置在相邻两个所述子像素之间的所述像素界定层背离所述基板的表面上，且所述第二无机层上形成有贯穿所述第二无机层的第五开口，所述第四开口在所述基板上的正投影位于所述第五开口在所述基板上的正投影的范围内且不重合。
5.根据权要求4所述的显示面板，所述第一无机层和所述第二无机层的材料分别独立地包括绝缘材料或金属材料。
6.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，还包括：第一隔垫层，所述第一隔垫层设置在同一个所述子像素的两个所述分割子像素之间的所述像素界定层背离所述基板的表面上，所述第一隔垫层朝向所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影位于所述第一隔垫层背离所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影的范围内且不重合。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，还包括：第二隔垫层，所述第二隔垫层设置在相邻两个所述子像素之间的所述像素界定层背离所述基板的表面上，所述第二隔垫层朝向所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影位于所述第二隔垫层背离所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影的范围内且不重合。
8.一种制备显示面板的方法，其特征在于，包括：
提供基板；
在所述基板的一侧形成像素界定层，所述像素界定层形成有多个第一开口；
形成像素层，所述像素层包括多个子像素，所述子像素包括两个分割子像素，同一个所述子像素的两个所述分割子像素设置在相邻的两个所述第一开口内，同一个所述子像素的两个所述分割子像素发出相同颜色的光，且同一个所述子像素的两个所述分割子像素完全断开设置。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，同一个所述子像素的两个所述分割子像素完全断开设置的方法包括：
在所述像素界定层背离所述基板的一侧形成无机功能层，所述无机功能层在所述基板上的正投影与所述基板重合；
对所述无机功能层进行第一次图案化处理，在同一个所述子像素的两个所述分割子像素之间的部分所述无机功能层上形成贯穿所述无机功能层的第三开口；
通过干刻工艺对所述第三开口暴露出的所述像素界定层进行刻蚀，以在所述像素界定层上形成贯穿所述像素界定层的第二开口，所述第三开口在所述基板上的正投影位于所述第二开口在所述基板上的正投影范围内且不重合；
对形成有所述第三开口的所述无机功能层进行第二次图案化处理，以至少去除与所述第一开口正对应的所述无机功能层，以形成第一无机层。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，进一步包括：
在相邻两个所述子像素之间的所述无机功能层上形成贯穿所述无机功能层的第五开口；
通过干刻工艺对所述第五开口暴露出的所述像素界定层进行刻蚀，以在所述像素界定层上形成贯穿所述像素界定层的第四开口，所述第五开口在所述基板上的正投影位于所述第四开口在所述基板上的正投影范围内且不重合；
通过所述第二次图案化处理去除与所述第一开口正对应的所述无机功能层，以形成第二无机功能层。
11.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，同一个所述子像素的两个所述分割子像素完全断开设置的方法还包括：
在所述像素界定层背离所述基板的一侧形成负性光刻胶层，所述负性光刻胶层在所述基板上的正投影与所述基板重合；
对所述负性光刻胶层的预定区域进行第三次图案化处理，以形成第一隔垫层，所述第一隔垫层朝向所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影位于所述第一隔垫层背离所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影的范围内且不重合。
12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，通过所述第三次图案化处理形成第二隔垫层，所述第二隔垫层朝向所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影位于所述第二隔垫层背离所述像素界定层的表面在所述基板上的正投影的范围内且不重合。
13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～7中任一项所述的显示面板。
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