CN116564778A - 一种多等级真空腔室结构 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 115
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 27
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 208000035388 Ring chromosome 22 syndrome Diseases 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 7
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 6
- 239000011553 magnetic fluid Substances 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000013072 incoming material Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000011554 ferrofluid Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
- H01J37/185—Means for transferring objects between different enclosures of different pressure or atmosphere
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
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Abstract
本发明属于真空设备技术领域的多等级真空腔室结构。腔室主体(6)内设置NIP密封(1)、roller密封(2)、弧形体(3)、腔室门(4)、tunnel密封(5),腔室主体(6)一侧设置NIP密封(1),腔室主体(6)内按间隙设置多道roller密封(2)和多道tunnel密封(5),NIP密封(1)和roller密封(2)设置一组弧形体(3),相邻roller密封(2)之间设置一组弧形体(3),每道tunnel密封(5)安装在一组弧形体(3)上。本发明所述的多等级真空腔室结构,能够根据要求实现从大气压到指定级别以上真空跳跃,使得每一个腔室保持一个真空等级,实现维持真空等级跳跃过程中不会中断正常生产。
Description
技术领域
本发明属于真空设备技术领域,更具体地说,是涉及一种多等级真空腔室结构。
背景技术
现有真空设备主要采用大气到进片室到缓冲室再到工艺腔的结构,逐级提升腔室的真空度,进而实现设备真空度从大气状态到中/高真空环境,但此设计要求腔室与腔室间有隔离门阀,当产品进行腔室后关闭门阀进行抽真空达到更高的真空度,再打开门阀让产品进入更高真空度的下一级腔室,这要求产品为单片式不能连续性且产品尺寸有设定要求,这样的设计让设备工作有很大部分无效工作时间也阻碍设备节拍时间的下降,影响设备的产能。
在真空设备中,涉及到以下的技术名词:
机械泵——即机械真空泵,是制造真空的一种机械,它可以把一个密闭的或半密闭的空间中空气排出或者吸收,达到局部空间的相对真空。
干泵——腔内无任何润滑油,四对断面相同的转子,分别在它们各自的泵腔内固定在两个平行的轴上,用一对时限齿轮把它们连接并调整到使它们相互不接触,有一定的间隙。
分子泵——是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空泵。
X-Ring——形状为X型的氟橡胶密封圈。
Roller——圆形的金属锟。
磁流体,又称磁性液体、铁磁流体或磁液,是一种新型的功能材料,它既具有液体的流动性又具有固体磁性材料的磁性。是由直径为纳米量级(10纳米以下)的磁性固体颗粒、基载液(也叫媒体)以及界面活性剂三者混合而成的一种稳定的胶状液体。该流体在静态时无磁性吸引力,当外加磁场作用时,才表现出磁性,正因如此,它才在实际中有着广泛的应用,在理论上具有很高的学术价值。用纳米金属及合金粉末生产的磁流体性能优异,可广泛应用于各种苛刻条件的磁性流体密封、减震、医疗器械、声音调节、光显示、磁流体选矿等领域。
经过检索,现有技术中涉及的相关技术如下所述:
检索1:专利CN201510071505.1本发明公开并提供了一种工件在清洁后开始蒸镀的过程中,不会有再遭污染的疑虑且可以连续批量生产的连续式物理真空镀膜设备。所述连续式物理真空镀膜设备包含具有复数独立之镀膜腔的真空镀膜装置、具有清洁缓冲腔及缓冲真空腔的缓冲真空装置、具有前置准备腔及完成腔的准备装置、传送装置及包括复数闸门的闸门单元,用于连续产制薄膜太阳能电池。生产时,薄膜太阳能电池连续由所述传送装置输送通过所述前置准备腔、具有线性离子源单元的清洁缓冲腔、所述多源蒸镀单元的镀膜腔、缓冲真空腔及完成腔,且所述闸门会被控制于其中一太阳能电池到达时开启、通过时则关闭,以维持各腔的气压,达到无须再耗费抽真空时间以增加产出。
检索2:专利CN201720763445.4公开了一种对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空系统,包括进片移动架、上片架、回片架、下片架、出片移动架及管道,还包括由安装在底架上的进片真空腔、进片粗真空缓冲腔、进片高真空缓冲腔、进片过渡真空腔、镀膜工艺真空腔、出片过渡真空腔、出片高真空缓冲腔、出片粗真空缓冲腔、出片真空腔依次胶圈密封连接组成,所述每个腔体正面安装有通过胶圈密封的维修门,所述进片真空腔和进片粗真空缓冲腔右侧分别安装有一个进片抽气系统和一个进片粗真空抽气系统;本专利连续镀膜生产线为九段真空结构,可以实现有快速的从大气状态下抽气到真空镀膜真空状态;并实现连续批量生产,生产效率高,故障率小。
检索3:专利CN201320412833.X涉及玻璃镀膜生产技术领域,公开一种磁控阴极溅射镀膜工艺室,包括依次连通的入口气锁室、入口真空缓冲腔室、磁控阴极溅射镀膜真空腔室、出口真空缓冲腔室和出口气锁室,所述入口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室,磁控阴极溅射镀膜真空腔室包括至少16个溅射单元腔室,所述出口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室;本实用新型的磁控阴极溅射镀膜工艺室,在磁控阴极溅射镀膜真空腔室两端设置真空缓冲室和锁定室,可有效降低玻璃基片进出磁控阴极溅射镀膜真空腔室造成的气体泄漏,提高磁控阴极溅射镀膜真空腔室的真空度,并使其维持在稳定的水平,从而提高镀膜质量。
检索4:专利CN201811444807.9涉及一种真空镀膜设备。该真空镀膜设备,包括第一真空腔室排、第二真空腔室排、大气回转装置、真空回转装置、第一驱动机构及第二驱动机构,第一真空腔室排、真空回转装置、第二真空腔室排及大气回转装置顺次排布以形成循环,第一真空腔室排及第二真空腔室排均位于大气回转装置与真空回转装置之间,第一真空腔室排包括多个沿第一方向顺次排布的第一前缓冲真空室,第二真空腔室排包括沿第二方向顺次排布的真空镀膜室及后缓冲真空室,后缓冲真空室设有多个,且沿第二方向顺次排布,各第一前缓冲真空室在第一方向上的延伸长度之和大于各后缓冲真空室在第二方向上的延伸长度之和。
综上所述,现有技术中存在的问题主要是:多个隔离或缓冲腔室通过门阀开合来实现各腔室真空度的提升,会造成预抽真空期间的时间浪费。门阀的开合引起缓冲腔室真空度的大幅度变化,可能会影响到相近工艺腔室制程压力的变化,影响设备的稳定。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种结构简单,能够根据要求实现从大气压到指定级别以上真空跳跃,通过真空值的递减跳跃跨度设置相对应的腔室结构,使得每一个腔室保持一个真空等级,实现维持真空等级跳跃过程中不会中断正常生产的多等级真空腔室结构。
要解决以上所述的技术问题,本发明采取的技术方案为:
本发明为一种多等级真空腔室结构,包括腔室主体6,腔室主体6内设置NIP密封1、roller密封2、弧形体3、腔室门4、tunnel密封5,腔室主体6一侧设置NIP密封1,腔室主体6内按间隙设置多道roller密封2和多道tunnel密封5,NIP密封1和roller密封2设置一组弧形体3,相邻roller密封2之间设置一组弧形体3,每道tunnel密封5安装在一组弧形体3上,多道roller密封2和多道tunnel密封5之间形成多个腔室7,NIP密封1包括一对密封辊,roller密封2包括一对密封辊27,弧形体3的弧面8和密封辊27之间设置缝隙部9,弧形体3还连接密封压条25,密封压条25贴合密封辊27表面,tunnel密封5的tunnel正面板51安装在一组弧形体3的一个弧形体3上,tunnel密封5的tunnel背面板52安装在一组弧形体3的另一个弧形体3上,tunnel正面板51和tunnel背面板52之间设置通道,一组弧形体3的两个弧形体3之间设置通道。
所述的腔室主体6内设置多组腔室门4,每组弧形体3的每个弧形体3连接相邻两组腔室门4的一个腔室门4。
多道roller密封2和多道tunnel密封5之间形成的多个腔室7依次为第一等级腔室A、第一等级腔室B、第一等级腔室C、第一等级腔室D、第一等级腔室E、第一等级腔室F。
所述的腔室7的第一等级腔室A维持真空等级E-1torr,第一等级腔室A连通机械泵或干泵;第二等级腔室B维持真空等级为E-2torr,第二等级腔室B连通机械泵、干泵;第三等级腔室C维持真空等级为E-3torr,第三等级腔室C连通干泵或分子泵。
所述的腔室7的第四等级腔室D维持真空等级为E-4torr,第四等级腔室D连通分子泵;第五等级腔室E维持真空等级为E-5torr,第五等级腔室E连通分子泵;第六等级腔室F维持真空等级为E-6torr,第六等级腔室F连通分子泵。
所述的roller密封2的固定板23一侧连接弧形体3,固定板23另一侧连接固定后板24,X-ring22贴合固定板23,X-ring22卡装在固定板23和固定后板24之间,密封压条25的压条连接体251于固定后板24和固定前板26之间。
所述的roller密封2的密封辊27为金属辊,密封辊27表面镀有硬质金属层,两根密封辊27之间的间隙大于生产材料厚度,roller密封2每侧分别设置密封盖板29,形成真空的腔室7。
所述的密封压条25为氟橡胶材质,密封压条25与密封辊27设置为相互接触实现动态密封的结构。
所述的密封压条25的压条连接体251和压条密封体252的夹角在100°-160°之间。
所述的tunnel正面板51连接tunnel正面板支架53,tunnel背面板52连接tunnel背面板支架54,tunnel正面板支架53上设置正面板支架U型槽55,螺栓穿过正面板支架U型槽55与一个弧形体3连接,tunnel背面板支架54上设置背面板支架U型槽57,螺栓穿过背面板支架U型槽57与一个弧形体3连接。
采用本发明的技术方案,工作原理及有益效果如下所述:
本发明所述的多等级真空腔室结构,采用动态密封的原理,实现从大气到制程所需的高真空环境,整个腔室连通形成连续性产品/半成产品(来料)的持续通过,有效提高设备的利用率,可将设备产能最大化,弥补传统缓冲腔室需逐级隔离造成设备生产节拍受限的缺陷。采用roller结构密封实现对低真空段腔室连通但足够的真空密封性,来实施相邻两个腔室的真空压差。结构设置时,Roller密封结构和tunnel密封结构可以多样搭配,实现不同材料不同本底真空需求的缓冲腔室。部分腔室采用roller密封,部分腔室采用tunnel密封,不同密封形式配合形成腔室结构,实现不同腔室对真空压差的要求。
附图说明
下面对本说明书各附图所表达的内容及图中的标记作出简要的说明:
图1为本发明所述的多等级真空腔室结构的整体剖视结构示意图;
图2为本发明所述的多等级真空腔室结构的roller密封的剖视结构示意图;
图3为本发明所述的多等级真空腔室结构的roller密封的局部剖视结构示意图;
图4为本发明所述的多等级真空腔室结构的roller密封的结构示意图;
图5为本发明所述的多等级真空腔室结构的roller密封的爆炸结构示意图;
图6为本发明所述的多等级真空腔室结构的tunnel密封的整体结构示意图;
图7为本发明所述的多等级真空腔室结构的roller密封多个组合时的剖视结构示意图;
图8为本发明所述的多等级真空腔室结构的tunnel密封多个组合时的剖视结构示意图;
图9为现有技术中的专利CN201510071505.1的结构示意图;
图10为现有技术中的专利CN201720763445.4的结构示意图;
图11为现有技术中的专利CN201811444807.9的结构示意图;
附图标记:1、NIP密封;2、roller密封;3、弧形体;4、腔室门;5、tunnel密封;6、腔室主体;7、腔室;8、弧面;9、缝隙部。
具体实施方式
下面对照附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明:
如附图1-附图8所示,本发明为一种多等级真空腔室结构,包括腔室主体6,腔室主体6内设置NIP密封1、roller密封2、弧形体3、腔室门4、tunnel密封5,腔室主体6一侧设置NIP密封1,腔室主体6内按间隙设置多道roller密封2和多道tunnel密封5,NIP密封1和roller密封2设置一组弧形体3,相邻roller密封2之间设置一组弧形体3,每道tunnel密封5安装在一组弧形体3上,多道roller密封2和多道tunnel密封5之间形成多个腔室7,NIP密封1包括一对密封辊,roller密封2包括一对密封辊27,弧形体3的弧面8和密封辊27之间设置缝隙部9,弧形体3还连接密封压条25,密封压条25贴合密封辊27表面,tunnel密封5的tunnel正面板51安装在一组弧形体3的一个弧形体3上,tunnel密封5的tunnel背面板52安装在一组弧形体3的另一个弧形体3上,tunnel正面板51和tunnel背面板52之间设置通道,一组弧形体3的两个弧形体3之间设置通道。上述结构,针对现有技术中的不足,提出改进的技术方案。采用动态密封的原理,实现从大气到制程所需的高真空环境,且整个腔室连通形成连续性产品/半成产品(来料)的持续通过,有效提高设备的利用率,可将设备产能最大化,弥补传统缓冲腔室需逐级隔离造成设备生产节拍受限的缺陷。采用roller结构密封可实现对低真空段腔室连通但足够的真空密封性,来实施相邻两个腔室的真空压差。结构设置时,Roller密封结构和tunnel密封结构多样搭配,实现不同材料不同本底真空需求的缓冲腔室。部分腔室采用roller密封,部分腔室采用tunnel密封,不同密封形式配合形成腔室结构,实现不同腔室对真空压差的要求。本发明所述的多等级真空腔室结构,结构简单,能够根据要求实现从大气压到指定级别以上真空跳跃,通过真空值的递减跳跃跨度设置相对应的腔室结构,使得每一个腔室保持一个真空等级,实现维持真空等级跳跃过程中不会中断正常生产。
本发明所述的多等级真空腔室结构,所述的腔室主体6内设置多组腔室门4,每组弧形体3的每个弧形体3连接相邻两组腔室门4的一个腔室门4。NIP密封(NIP即为全称,取英语“夹”之意,NIP密封的中文年全称是夹紧密封装置)为一种特殊的机构,实现大气到真空的初级隔离,本发明优选的是一种辊对辊真空隔离结构。NIP密封包括一个不锈刚辊和一个橡胶辊形成辊对辊的形式,夹紧来料,并且不锈刚辊/橡胶辊上下端面有密封条动态密封,不锈刚辊/橡胶辊与腔体连接间隙用橡胶条来实施动态密封,此结构需要在大功率机械泵工作下实现真空环境。roller密封2为辊对辊非完全密封结构,辊与辊之间有足够的间隙通过加工材料,辊的上下部未进行真空密封,辊与弧形体3连接部位有橡胶压条密封,此结构主要用于真空环境中起隔离效果,可实现两侧一个数量级的压差。弧形体3为设置于腔室主机6上与辊结构匹配的结构,主要用于roller密封结构的安装及两侧真空压差的实施。腔室门4为安装于缓冲腔室外侧,实现腔室内部真空环境与外部大气环境的隔离及密封。tunnel密封5为间隙式机械结构,实现腔室两侧只有设计间隙为连通机构,非间隙为密封结构,控制间隙的大小可控制腔室两侧的压差。腔室主机6为设备的机身,提供缓冲腔室一个稳定的固定架及真空腔。
多道roller密封2和多道tunnel密封5之间形成的多个腔室7依次为第一等级腔室A、第一等级腔室B、第一等级腔室C、第一等级腔室D、第一等级腔室E、第一等级腔室F。所述的腔室7的第一等级腔室A维持真空等级E-1torr,第一等级腔室A连通机械泵或干泵;第二等级腔室B维持真空等级为E-2torr,第二等级腔室B连通机械泵、干泵;第三等级腔室C维持真空等级为E-3torr,第三等级腔室C连通干泵或分子泵。所述的腔室7的第四等级腔室D维持真空等级为E-4torr,第四等级腔室D连通分子泵;第五等级腔室E维持真空等级为E-5torr,第五等级腔室E连通分子泵;第六等级腔室F维持真空等级为E-6torr,第六等级腔室F连通分子泵。上述结构,多个腔室为不同的密封形式,形成腔室组合,满足不同真空差需求。上述结构中,主要是不同腔室的压力可以存在差值。每个腔室的真空度并不是一个定值,而是根据不同需求而进行设置,从而通用性强。因此,本发明中的E-1torr-E-6torr,是几个存在差值的数值。
所述的roller密封2的固定板23一侧连接弧形体3,固定板23另一侧连接固定后板24,X-ring22贴合固定板23,X-ring22卡装在固定板23和固定后板24之间,密封压条25的压条连接体251于固定后板24和固定前板26之间。roller密封2的密封辊27为金属辊,密封辊27表面镀有硬质金属层,两根密封辊27之间的间隙大于生产材料(来料)厚度,roller密封2每侧分别设置密封盖板29,形成真空的腔室7。所述的密封压条25为氟橡胶材质,密封压条25与密封辊27设置为相互接触实现动态密封的结构。所述的密封压条25的压条连接体251和压条密封体252的夹角在100°-160°之间。
所述的tunnel正面板51连接tunnel正面板支架53,tunnel背面板52连接tunnel背面板支架54,tunnel正面板支架53上设置正面板支架U型槽55,螺栓穿过正面板支架U型槽55与一个弧形体3连接,tunnel背面板支架54上设置背面板支架U型槽57,螺栓穿过背面板支架U型槽57与一个弧形体3连接。上述结构,通过螺栓穿过正面板支架U型槽55与一个弧形体3连接,通过螺栓位于正面板支架U型槽55不同位置,实现tunnel正面板51与弧形体的相对位置变化,通过螺栓穿过背面板支架U型槽57与一个弧形体3连接,通过螺栓位于背面板支架U型槽57不同位置,实现tunnel背面板51与弧形体的相对位置变化,这样,实现tunnel正面板51和tunnel背面板52的相对距离调节,实现两者间隙调节,满足不同的要求。
本发明所述的多等级真空腔室结构,具体实施例说明如下:
第一等级腔室A,是与大气压接触的腔室,使用机械泵进行排大气压,维持真空度在E-1torr等级(选择机械泵的原因是因为机械泵泵能够直排大气,且抽速快,稳定腔室在E-1torr真空等级)。第二/三等级腔室采用相同过渡结构,与上一个腔室的链接处都是使用一对密封钢锟装置作为主要防止气压回流装置并使用干泵进行排气。固定板23与X-Ring22配合,对钢锟底座213、密封压条25以及腔体进行真空密封;利用密封压条25与密封辊27进行真空密封,再利用压条固定块锁死固定处密封压条,防止密封压条25与固定板23、X-Ring22密封不良;采用密封压条25的结构,且包裹成朝向真空度等级高的一次,主要是利用大气压流向的原理对密封压条进行一个固定作用,使得密封压条能够和钢锟贴合更紧;对密封辊两侧边进行包裹密封的作用是为了是气压回流只能通过钢锟间隙,减缓大气压的回流作用,使得该等级的腔室能够更好的稳定在一个真空值范围;在第四等级腔室以后可以依旧可以选择使用密封钢锟装置作为主要防止气压回流装置,但是因E-3torr至E-6torr真空等级差距不大可以直接使用分子泵进行排气,所以可以选择tunnel减缓回流作用。
所述轴承21可选用深沟滚珠轴承。所述X-ring22为形状为X形密封圈,对比圆形密封圈,其密封性更佳,多用于动态密封。所述23固定板23为金属板料,其上设置有X-ring密封槽,用于安装X-ring。所述固定板23与2X-ring22配合实施对roller固定底座213(上/下共两个)侧面的密封,防止缓冲腔室从213roller固定底座侧面串气,影响腔室的真空值。所述固定后板24,其与所述固定前板26将所述密封压条25置于中间,通过螺栓进一步提升压紧程度,促使固定后板24与密封压条25实现真空密封,固定前板与密封压条25也实现真空密封。密封压条25为氟橡胶材质,与密封辊27接触,实现动态的密封。所述密封压条25还具有特殊角度,角度为100-160°。所述密封辊为圆形金属材料内部中空或实心的辊,表面需做硬化处理,如镀硬质金属。所述两根密封辊27之间间隙略大于生产材料(来料)厚度。所述密封盖板29设置于roller其上连接于腔体上,实施真空密封。所述2密封圈210为氟橡胶材料,安装于腔体上预留的槽内,配合磁流体28和密封盖板29实现roller结构的密封辊内部两部分的真空隔离。所述roller盖板211,实施对roller底座213及内部部件的定位。所述卡簧212为固定轴承21防止其在密封辊27两侧安装位滑动。所述垫片100调整密封辊27上下安装位置,避免密封辊(金属辊)位置过高过低,两侧金属辊需同样高度。实现此结构需要先将roller密封2以及tunnel密封5安装至6腔室主体上,进一步使用密封圈41安装在腔室主体6的密封槽上,最后再安装上腔室门,使得腔室两边真空密封完善。其安装方法为先在底部安装roller固定底座213,将轴承21安装至roller固定底座213上,并将密封辊27安装至轴承21上。安装好密封辊(roller)27后,在顶部先后安装好roller固定底座213、轴承21、卡簧212、roller盖板211,卡簧214、密封圈210密封o-ring22、29腔室盖板29、28磁流体28,至此完成整个密封锟装置的主体安装。X-ring22安装至固定板23上,组合后将固定板23固定在腔室上并将X-ring22压紧roller固定底座213。进一步将密封压条25安装至固定后板24和固定前板26,将安装好的密封压条装置安装至X-ring23,并且将密封压条25的密封面与密封辊27贴紧,使得气流只能通过一对密封辊之间的缝隙通过。至此roller密封装置安装完毕。
本发明所述的多等级真空腔室结构,采用动态密封的原理,实现从大气到制程所需的高真空环境,整个腔室连通形成连续性产品/半成产品(来料)的持续通过,有效提高设备的利用率,可将设备产能最大化,弥补传统缓冲腔室需逐级隔离造成设备生产节拍受限的缺陷。采用roller结构密封实现对低真空段腔室连通但足够的真空密封性,来实施相邻两个腔室的真空压差。结构设置时,Roller密封结构和tunnel密封结构可以多样搭配,实现不同材料不同本底真空需求的缓冲腔室。部分腔室采用roller密封,部分腔室采用tunnel密封,不同密封形式配合形成腔室结构,实现不同腔室对真空压差的要求。
上面结合附图对本发明进行了示例性的描述,显然本发明具体的实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种改进,或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其他场合的,均在本发明的保护范围内。
Claims (10)
1.一种多等级真空腔室结构,其特征在于:包括腔室主体(6),腔室主体(6)内设置NIP密封(1)、roller密封(2)、弧形体(3)、腔室门(4)、tunnel密封(5),腔室主体(6)一侧设置NIP密封(1),腔室主体(6)内按间隙设置多道roller密封(2)和多道tunnel密封(5),NIP密封(1)和roller密封(2)设置一组弧形体(3),相邻roller密封(2)之间设置一组弧形体(3),每道tunnel密封(5)安装在一组弧形体(3)上,多道roller密封(2)和多道tunnel密封(5)之间形成多个腔室(7),NIP密封(1)包括一对密封辊,roller密封(2)包括一对密封辊(27),弧形体(3)的弧面(8)和密封辊(27)之间设置缝隙部(9),弧形体(3)还连接密封压条(25),密封压条(25)贴合密封辊(27)表面,tunnel密封(5)的tunnel正面板(51)安装在一组弧形体(3)的一个弧形体(3)上,tunnel密封(5)的tunnel背面板(52)安装在一组弧形体(3)的另一个弧形体(3)上,tunnel正面板(51)和tunnel背面板(52)之间设置通道,一组弧形体(3)的两个弧形体(3)之间设置通道(10)。
2.根据权利要求1所述的多等级真空腔室结构,其特征在于:所述的腔室主体(6)内设置多组腔室门(4),每组弧形体(3)的每个弧形体(3)连接相邻两组腔室门(4)的一个腔室门(4)。
3.根据权利要求1或2所述的多等级真空腔室结构,其特征在于:多道roller密封(2)和多道tunnel密封(5)之间形成的多个腔室(7)依次为第一等级腔室(A)、第一等级腔室(B)、第一等级腔室(C)、第一等级腔室(D)、第一等级腔室(E)、第一等级腔室(F)。
4.根据权利要求1或2所述的多等级真空腔室结构,其特征在于:所述的腔室(7)的第一等级腔室(A)维持真空等级E-1torr,第一等级腔室(A)连通机械泵或干泵;第二等级腔室(B)维持真空等级为E-2torr,第二等级腔室(B)连通机械泵、干泵;第三等级腔室(C)维持真空等级为E-3torr,第三等级腔室(C)连通干泵或分子泵。
5.根据权利要求4所述的多等级真空腔室结构,其特征在于:所述的腔室(7)的第四等级腔室(D)维持真空等级为E-4torr,第四等级腔室(D)连通分子泵;第五等级腔室(E)维持真空等级为E-5torr,第五等级腔室(E)连通分子泵;第六等级腔室(F)维持真空等级为E-6torr,第六等级腔室(F)连通分子泵。
6.根据权利要求1或2所述的多等级真空腔室结构,其特征在于:所述的roller密封(2)的固定板(23)一侧连接弧形体(3),固定板(23)另一侧连接固定后板(24),X-ring(22)贴合固定板(23),X-ring(22)卡装在固定板(23)和固定后板(24)之间,密封压条(25)的压条连接体(251)于固定后板(24)和固定前板(26)之间。
7.根据权利要求6所述的多等级真空腔室结构,其特征在于:所述的roller密封(2)的密封辊(27)为金属辊,密封辊(27)表面镀有硬质金属层,两根密封辊(27)之间的间隙大于生产材料厚度,roller密封(2)每侧分别设置密封盖板(29),形成真空的腔室(7)。
8.根据权利要求7所述的多等级真空腔室结构,其特征在于:所述的密封压条(25)为氟橡胶材质,密封压条(25)与密封辊(27)设置为相互接触实现动态密封的结构。
9.根据权利要求8所述的多等级真空腔室结构,其特征在于:所述的密封压条(25)的压条连接体(251)和压条密封体(252)的夹角在100°-160°之间。
10.根据权利要求1或2所述的多等级真空腔室结构,其特征在于:所述的tunnel正面板(51)连接tunnel正面板支架(53),tunnel背面板(52)连接tunnel背面板支架(54),tunnel正面板支架(53)上设置正面板支架U型槽(55),螺栓穿过正面板支架U型槽(55)与一个弧形体(3)连接,tunnel背面板支架(54)上设置背面板支架U型槽(57),螺栓穿过背面板支架U型槽(57)与一个弧形体(3)连接。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211711029.1A CN116564778A (zh) | 2022-12-29 | 2022-12-29 | 一种多等级真空腔室结构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211711029.1A CN116564778A (zh) | 2022-12-29 | 2022-12-29 | 一种多等级真空腔室结构 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116564778A true CN116564778A (zh) | 2023-08-08 |
Family
ID=87484983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202211711029.1A Pending CN116564778A (zh) | 2022-12-29 | 2022-12-29 | 一种多等级真空腔室结构 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116564778A (zh) |
-
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- 2022-12-29 CN CN202211711029.1A patent/CN116564778A/zh active Pending
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