CN116547606A - 确定曝光时间和/或曝光强度以用于获得凸版结构的期望特征的方法和系统 - Google Patents

确定曝光时间和/或曝光强度以用于获得凸版结构的期望特征的方法和系统 Download PDF

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Abstract

一种确定曝光时间和/或曝光强度以用于获得凸版结构的期望特征的方法，该期望特征特别地是期望底板厚度，所述方法包括：用电磁辐射曝光凸版前体的第一侧，其中，所述曝光在具有第一位置A和第二位置B的区域中进行，并以已知值的曝光时间和曝光强度对所述第一位置A和所述第二位置B之间的多个点执行，并且所述曝光时间和/或曝光强度被自动控制以在所述多个点处改变；确定所述多个点中的代表所述期望特征的一个或更多个点；并且基于所确定的所述一个或更多个点和所述已知值来确定所述期望特征所需的曝光时间和/或曝光强度。

Description

确定曝光时间和/或曝光强度以用于获得凸版结构的期望特 征的方法和系统
技术领域
本发明的领域涉及一种用于确定曝光条件(特别是曝光时间和/或曝光强度)的方法和系统，以用于获得凸版结构的期望特征，该期望特征更具体地是印刷板或印刷套筒的期望底板厚度。
背景技术
凸版结构可以通过将图像信息转移到可成像层上并去除部分可成像层来制备。然后所形成的凸版可以在印刷步骤中用于将信息转印到基底上。
凸版前体的示例是印刷板前体或印刷套筒前体。可数字成像的柔性印刷前体是已知的，并且通常至少包含尺寸稳定的支撑层、光敏层和可数字成像层。在常规印刷前体的情况下，可数字成像层是附到光敏层的掩模层。在数字图像板中，所述可数字成像层可以是例如可激光烧蚀层。
为了制造凸版结构，将凸版前体暴露于电磁辐射并通过去除未暴露的材料而显影。
用于印刷前体的曝光系统是已知的。曝光系统可以包括用于正面曝光的辐射装置和/或用于背面曝光的辐射装置。背面曝光通过尺寸稳定的支撑件执行，并导致底板永久地固定到支撑件上。通常使用一组UV光管进行背面曝光。背面曝光产生固体层(底板)，其上可以产生凸版特征。还可以使用一组UV光管来进行正面曝光，或者可以使用可移动的UV辐射源(例如可移动的激光器或LED条)来进行正面曝光。
然而，需要知道正确的曝光条件，特别是对于凸版前体的背面曝光，更特别是为了获得期望底板厚度。用于确定曝光条件的现有技术方法通常依赖复杂、易出错且花费时间长的外部装置。因此，本领域需要改进所述确定方法。
发明内容
本发明的实施例的目的是提供一种确定凸版前体的曝光条件(特别是曝光时间和/或曝光强度)以用于获得凸版结构的期望特征的改善的方法和系统，该期望特征特别地是印刷板或印刷套筒的期望底板厚度。更具体地，本发明的目的是提供一种方法和系统，该方法和系统允许更快和更可靠地确定曝光条件以获得期望特征，而不需要复杂的工具或繁琐地处理凸版前体。
根据本发明的第一方面，提供了一种确定曝光时间和/或曝光强度以用于获得凸版结构的期望特征的方法，该期望特征特别地是期望底板厚度。该方法包括以下步骤：
-用电磁辐射曝光凸版前体的第一侧，其中，所述曝光在具有第一位置A和第二位置B的区域中进行，并且所述曝光以已知值的曝光时间和曝光强度对所述第一位置A和所述第二位置B之间的多个点执行，并且其中，所述曝光时间和/或曝光强度被自动控制以对于所述多个点处不同；
-可选地在第一位置A和第二位置B之间的部分中曝光凸版前体的第二侧；
-可选地通过去除凸版前体的未曝光材料来对凸版前体进行显影；
-可选地干燥已显影的凸版前体；
-可选地固化已显影的凸版前体；
-确定所述多个点中的代表期望特征的一个或更多个点；并且
-基于所确定的一个或更多个点和已知值来确定期望特征所需的曝光时间和/或曝光强度。
与现有技术的方法相比，这种方法以更可靠且更不易于产生测量误差的方式来确定曝光条件。通过以不同的曝光时间和/或曝光强度来曝光一系列点，获得曝光后的分布，其允许准确地识别已显影的凸版前体中的期望特征(例如期望底板厚度)，并使用相关联的已知值来进行凸版前体的后续曝光。而且，该方法可以简单地由曝光系统执行，并且所述确定代表期望特征的一个或更多个点的步骤可以使用简单的装置来进行。
期望特征所需的曝光时间和/或曝光强度的确定可以通过以下方式中的任何一个或其组合来完成：选择、计算或导出。例如，如果所确定的一个或更多个点中的一个点正好与期望特征相对应，则可以选择与该点相对应的已知值。在另一个例子中，如果有两个点接近期望特征，则可以计算与这两个点相对应的已知值的平均值。
优选地，所述确定多个点中的代表期望特征的一个或更多个点的步骤在对凸版前体进行显影之后进行。另外，可以在所述确定多个点中的代表期望特征的一个或更多个点的步骤之前执行其它步骤，例如预处理和/或后处理步骤。该预处理步骤可以包括例如印刷板的预洗涤。后处理步骤可以是漂洗步骤、干燥步骤、后曝光步骤(例如使用UVA和/或UVC光)、热处理步骤及其组合。更一般地，在制造凸版前体时通常执行的任何步骤也可以在校准方法的执行期间执行，该校准方法用于确定用来获得凸版结构的期望特征的曝光时间和/或曝光强度。
还应注意到，各种显影条件(例如所使用的溶剂、温度、冲洗速度等)将影响已显影的凸版前体的特征。当这些条件中的任何一个改变时，可以重复校准方法。
根据优选实施例，凸版前体的第一侧是前体的背面，并且期望特征是已显影的凸版前体的底板厚度。
根据示例性实施例，曝光在位置A和位置B之间的方向上连续地进行，优选在沿凸版前体的长度方向延伸的方向上连续地进行，从而在第一位置A和第二位置B之间形成连续曝光区域。连续的曝光区域导致更有效地利用凸版前体上可用的区域进行曝光。此外，精度可以更高。由于能以单个凸版前体获得高精确度，从而就凸版前体而言形成了更少的废物，并且随后未曝光材料的残余物更少，特别是在显影步骤中去除未曝光材料时。
根据示例性实施例，曝光时间和/或曝光强度被自动控制以对于所述多个点处不同。以这种方式，通过减少需要手动操作的步骤实现了更高效和更快的过程。本领域技术人员理解的是，可以对所述多个点制定曝光时间和/或曝光强度的几种组合。对于所述多个点，控制曝光时间和/或曝光强度的值进行变化。优选地，控制曝光时间和曝光强度，使得它们沿着连接第一位置A和第二位置B的线来看是不同的。自动控制曝光时间和/或曝光强度以使对于所述多个点处不同，这意味着该步骤可以基于编程的指令来执行，而不需要操作者在曝光期间手动执行动作。例如，可以使用计算机指令自动调整强度和/或可以使用计算机指令自动调整曝光时间。
根据示例性实施例，曝光时间和曝光强度作为沿着第一位置A和第二位置B之间的线的位置的函数而已知，优选地为连续函数。没有中断或间断的连续曝光区域导致了凸版前体的可用的可曝光区域的有效使用。
根据示例性实施例，函数是线性函数或阶跃函数，其在显影之后分别导致楔形部分或包括多个阶梯的部分。替代性地，该函数是更复杂的函数，其可以导致更复杂的形状，例如波形、双曲线函数形、多项式函数形或一系列斜坡形。此外，应当注意，曝光时间和/或曝光强度可以在第一位置和第二位置之间的区域中在两个维度上变化。以这种方式，可以获得具有更复杂的形状的底板，例如，棱锥形或圆锥形。
根据示例性实施例，该方法还包括在对前体进行显影之前，以预定强度在最大曝光时间期间从第一侧曝光第一参考区域，和/或不从第一侧曝光第二参考区域。第一参考区域将具有完全固化的凸版前体的光敏层，并且底板厚度将对应于光敏层的厚度。第二参考区域将不具有固化材料并且表现出的底板厚度为零。在第二参考区域中存在材料的情况下，则不满足适当的显影条件并且可能需要进行校正。该方法还包括，在对凸版前体进行显影之后，检查第一参考区域和/或第二参考区域，并且可选地可随即如果需要则确定校正因子。
根据示例性实施例，第二参考区域由不透过电磁辐射的层覆盖。这样做的话，凸版前体的被覆盖的区域将不容易受到辐射。由此，在前体的显影过程中，位于第二区域处的未曝光材料将被去除。因此，在所述第二区域不存在材料的情况下，在测量期望特征(优选地，底板厚度)时，可以将其作为参考。
根据示例性实施例，该方法还包括，在显影步骤之前，以预定强度和预定曝光时间从第二侧曝光第三参考区域，并且在显影步骤之后，检查第三参考区域，并且可选地随即如果需要则确定校正因子。
根据示例性实施例，前体的第二侧由不透过电磁辐射的层覆盖，但是第三参考区域不被该层覆盖。或者该层在第三参考区域之上的区域中能够透过电磁辐射，并且该层在覆盖第二侧的其余区域的部分是不透过电磁辐射的。第三参考区域可选地至少部分地与在位置A和位置B之间的曝光区域重叠，和/或与第一参考区域或第二参考区域重叠。
可选地，基于对第一参考区域和/或第二参考区域和/或第三参考区域的检查，确定校正因子。随后，可以使用校正因子来确定和/或校正测量厚度的任何误差或缺陷。当在凸版前体显影之后留下了任何未曝光或未显影的材料时，这将是亟需的。替代性地，当确定所述多个点中的代表期望特征的一个或更多个点时，第一参考区域、第二参考区域和/或第三参考区域可用于校准。
根据示例性实施例，曝光强度是恒定的，并且在曝光步骤期间改变曝光时间。对两个区域来说当强度保持恒定时，与在一个区域曝光时间较短的相比，在另一区域曝光时间较长导致厚度较大。
根据示例性实施例，该方法还包括用曝光单元来曝光凸版前体，该曝光单元包括电磁辐射源和在凸版前体和电磁辐射源之间的可移动光栅，其中在曝光步骤期间，通过光栅相对于凸版前体的相对运动来控制曝光时间，其中所述相对运动优选地平行于凸版前体。
优选地，光栅从起始位置朝第二位置B的方向移动到结束位置，在起始位置，光栅遮蔽第一位置A和第二位置B之间的区域，在结束位置，光栅允许第一位置和第二位置之间的区域完全曝光。以这种方式，改变在所述第一位置A和第二位置B之间的多个点上的曝光时间。光栅可以以恒定的速度移动，从而导致凸版前体具有线性的厚度分布，优选为楔形分布。替代性地，光栅可以在起始位置和结束位置之间保持固定一段时间，从而产生具有阶梯式分布的凸版前体。在其它实施例中，光栅的速度可以在起始位置和结束位置之间以连续或不连续的方式变化。
根据另一示例性实施例，通过以不同的曝光强度对第一位置A和第二位置B之间的不同区域进行曝光来改变曝光强度。这样做的话，与经受较低强度的区域相比，经受较高强度的区域显影出较大的厚度。这可以例如通过使用用于背面曝光的LED条来实现，该LED条移动到在位置A和位置B之间的几个位置，并且该LED条被控制，使得在每个位置处在固定时间内传递不同的强度。另一种可能性是以恒定速度移动LED条并连续地或阶梯式地改变强度。在进一步的设置中，可以使用覆盖前体的整个尺寸的LED阵列或一组灯管，并且控制属于阵列的各区域的那些LED或灯管，使得不同的区域传递不同的强度。
改变强度的另一种方式是使用一个或更多个辐射控制层，这些辐射控制层被配置用于至少部分地阻挡或减少由电磁辐射源向凸版前体发射的辐射。例如，辐射控制层可以被配置为在该层的某些区域中更能透过，而在其它区域中更不能透过。替代性地或附加地，可使用具有不同透过度的多个辐射控制层(例如，在凸版前体上彼此相邻布置的多个片状块)。由此，一个或更多个辐射控制层能够控制凸版前体所经受的曝光强度。辐射控制层可以是具有光密度不同的区域的膜，其中通过不同区域的强度是已知的。这种透过率阶梯楔形件可从例如斯托佛工业、爱克发或柯达获得。当使用具有光密度不同的区域的辐射控制层时，可以在一个单独的曝光步骤中施加更多的不同强度，这节省了时间和材料。辐射控制层的另一种可能性是使用掩膜，其中表现出具有不同透过率值的区域。这种掩膜可以通过烧蚀不透的掩模层或改变层的透过率来获得。这些区域的结构可以是每单位面积具有特定尺寸和数量的透过线或点，使得仅所施加光的限定部分可以通过。这种掩膜可从例如Miraclon(FLEXCEL)或Folex(LADF)来获得。在又一实施例中，使用包括第一片状块和第二片状块的片状块式样，其中第一片状块具有已知的第一透过率，第二片状块具有不同于第一透过率的已知的第二透过率。
根据示例性实施例，通过使用流体处理未曝光材料和/或通过加热已曝光的前体并将未曝光材料转移至另一材料，来对凸版前体进行显影，另一材料优选为非织造网。这样做的话，除去了未曝光的材料，留下已显影的凸版前体，该凸版前体的期望特征(特别是厚度)可以被测量和/或识别。显影步骤可以在顺序配置中执行，其中前体从曝光站自动移动到显影站；或者它可以在独立装置中执行，其中前体被手动移动。清楚的是，在执行校准方法期间，对显影步骤和/或影响期望特征的其它步骤，优选地使用相同的条件进行，所述条件将被用于凸版结构的生产。可能影响期望特征的步骤例如为预处理步骤和/或后处理步骤。
优选地，所述确定所述多个点中的代表期望特征的一个或更多个点的步骤在凸版前体的与经受曝光步骤的位置相同的位置进行。因此，优选地，在曝光步骤之后不需移动凸版前体，通过测量所述一个或更多个点来进行所述确定步骤。
根据示例性实施例，在第一位置A和第二位置B之间的多个点处测量已显影的前体的厚度。由此，获得厚度分布。然后，确定所述多个点中的代表期望特征的一个或更多个点可以基于所述厚度分布。优选地，厚度分布是楔形分布。本领域技术人员可以理解，不同的分布是可能的，例如波形、一系列三角形、阶梯形分布。可以通过以下方法中的任一种来测量厚度：机械的，光学的和/或声学的方法，优选非接触的方法。底板厚度的确定可以在单独的装置中执行，但是在优选的方法中，它在曝光单元中实现。当在曝光单元中实现时，已显影的前体可定位在与曝光期间完全相同的位置，由此厚度值可与确切位置和执行的曝光条件相关。为了获得最佳结果，可以使用前体登记标记或其它定位工具的重新定位。这将减少测量误差。
凸版前体具有长度方向和宽度方向。优选地，第一位置和第二位置对应于在凸版前体的宽度方向上延伸的第一边缘和第二边缘。替代性地，第一位置和第二位置可以对应于在长度方向上延伸的边缘，或在相对于宽度方向成非90°的角度的方向上延伸的边缘。此外，相应的边缘可以是弯曲的。
根据示例性实施例，进行曝光以获得基本上具有楔形形状的已显影的凸版前体。所述形状是容易操作和方便的形状，该形状在楔形的顶部和底部位置之间的多个点处具有不同厚度。由此，提供了具有大量不同厚度的形状，从其可以导出相应的曝光条件。
根据示例性实施例，所述确定所述多个点中的代表期望特征的一个或更多个点的步骤包括通过以下方法中的任一种来测量已显影的凸版前体的厚度：机械的，光学的和/或声学的方法，优选非接触的方法。替代性地，可以在不对凸版前体进行显影的情况下测量厚度。后者可以例如通过检测密度差的非接触声学方法来实现。
根据前面步骤的结果，可以为期望底板厚度选择曝光条件。然后将这些选定的条件用于生产具有期望底板厚度的凸版结构。
根据本发明的另一个方面，提供了一种用于制造凸版结构的方法，其包括执行上述方法的任一实施例，包括为了期望特征(诸如期望底板厚度)来确定(例如，选择)曝光时间和/或曝光强度，以及使用所选择的曝光时间和/或曝光强度来制造凸版结构。
优选地，所述凸版结构是柔性版印刷板、活字板、凸版印刷板、(柔性)印刷电路板、电子元件、微流体元件、微反应器、电泳池、光子晶体、光学元件或菲涅耳透镜。
根据本发明的另一个方面，提供了一种系统，其被配置为确定在凸版前体的曝光中使用的曝光时间和/或曝光强度，以便获得凸版结构的期望特征，特别是期望底板厚度。该系统包括保持装置、曝光单元、控制模块、测量单元和确定模块。该保持装置被配置为支撑凸版前体，该凸版前体的第一侧将由曝光单元利用电磁辐射在前体的第一位置A和第二位置B之间进行曝光。可选地，曝光单元被配置为在所述位置之间曝光前体的第二侧。控制模块被配置为控制第一位置和第二位置之间的多个点的曝光值(特别是曝光时间和/或曝光强度)，使得对于所述多个点自动改变曝光时间和/或曝光强度。可选的显影单元被配置成对已曝光的凸版前体进行显影以便去除未曝光的材料。测量单元被配置为测量已显影的凸版前体，以便确定所述多个点中的代表期望特征的一个或更多个点。确定模块被配置为基于所确定的所述一个或更多个点和由控制模块设置的值来确定所需的曝光时间和/或强度，以便获得期望特征。另外，该系统可以包括预处理和/或后处理装置，其被设置用于例如通过预洗涤对凸版前体进行预处理和/或后处理。
该系统允许更快和更可靠地确定要使用的曝光条件，以便获得期望特征(优选为期望底板厚度)，而不需要复杂的工具或繁琐地处理凸版前体。此外，该系统可用于跟进凸版前体(优选为聚合物印刷板或套筒)的显影过程的显影稳定性和/或曝光效率。
曝光可以是用于固化聚合物印刷板或套筒前体的背面曝光，以便实现稳定的背面底板结构。期望实现具有恒定的选定厚度的背面底板结构，因此需要知道适当的曝光条件(例如曝光强度和曝光时间)。通过提供确定模块以基于由测量单元测量的一个或更多个点以及由控制模块设置的相关联的一个或更多个值来确定所述条件，从而可以导出实现期望特征的曝光条件。这样做的话，可以提高导出期望特征的精度。
根据优选实施例，曝光单元包括背面曝光装置，该背面曝光装置被配置为曝光凸版前体的背面，期望特征是期望底板厚度。
根据示例性实施例，控制模块被配置为控制曝光单元，使得所述曝光在第一位置和第二位置之间的方向上连续地进行，优选在沿凸版前体的长度方向L延伸的方向上连续地进行，从而在第一位置和第二位置之间形成连续曝光区域。本领域技术人员可以理解，控制模块还可以被配置为控制曝光单元在其它方向上曝光，例如宽度方向或相对于宽度方向成非90°的角度的方向。连续的曝光导致更有效地利用凸版前体上可用的可曝光区域。这样做的话，浪费的凸版前体的区域更小，更具体地，需要去除更少的未曝光材料(特别是在显影步骤中去除未曝光材料时)。
根据示例性实施例，确定模块被配置为接收作为沿着前体的第一位置和第二位置之间的线的位置的函数的曝光时间和曝光强度。以这种方式，曝光时间和曝光强度的值可以与凸版前体上的位置相关联。
根据示例性实施例，由确定模块接收的函数是线性函数或阶跃函数。本领域技术人员可以理解，可能导致更复杂形状的其它函数也是可能的。例如，该形状可以是波形、一系列三角形或峰形。此外，应当注意，曝光时间和/或曝光强度可以在第一位置和第二位置之间在两个维度上变化，从而导致甚至更复杂的形状，例如棱锥形或圆锥形。
根据示例性实施例，曝光单元包括电磁辐射源和一个或更多个辐射控制层，所述辐射控制层被配置用于至少部分地阻挡或减少由电磁辐射源向一个或更多个辐射控制层发射的辐射。以这种方式，辐射源可以是一种类型的，将一种类型的强度辐射到凸版前体，而同时凸版前体在其多个点处接收不同的强度。例如，可以提供单个辐射控制层，其被配置为在该层的某些区域中更能透过，而在其它区域中更不能透过。替代性地，可使用具有不同透过水平的多个片状块。由此，一个或更多个辐射控制层能够控制凸版前体所经受的曝光强度。辐射控制层可以是具有光密度不同的区域的膜，其中通过不同区域的强度是已知的。这种通光率阶梯楔形件可从例如斯托佛工业、爱克发或柯达获得。辐射控制层的另一种可能性是使用掩膜，其中表现出具有不同透过率值的区域。这种掩膜可以通过烧蚀不透过的掩模层或改变层的透过率来获得。这些区域的结构可以是每单位面积具有特定尺寸和数量的透过线或点，使得仅所施加光的限定部分可以通过。这种掩膜可从例如Miraclon(FLEXCEL)或Folex(LADF)来获得。所述一个或更多个辐射控制层布置在电磁辐射源和凸版前体之间，例如直接抵靠凸版前体或抵靠承载凸版前体的支撑板或距凸版前体一定距离。根据另一种可能性，支撑板可以被实现为辐射控制层。
曝光单元可以包括本领域技术人员已知的任何光源。例如，可以使用荧光灯管、闪光灯、汞灯、氙灯、发光二极管(LED)、发光屏幕(液晶显示器、等离子体显示器、有机发光显示器)、投影系统(微镜投影)、激光器或其组合。
优选地，曝光单元包括辐射源，该辐射源辐射200nm至2000nm的范围内的电磁辐射，优选辐射250nm至900nm的范围内的电磁辐射，更优选辐射250nm至450nm的范围内的电磁辐射，最优选辐射250nm至410nm的范围内的电磁辐射。曝光单元被配置成曝光凸版前体的一个或多个曝光强度在1mW/cm2至2000mW/cm2的范围内，优选在5mW/cm2至1000mW/cm2的范围内，更优选在10mW/cm2至500mW/cm2的范围内，最优选在10mW/cm2至250mW/cm2的范围内。
优选地，辐射源基本上在旨在平行于凸版前体的平面内延伸。然而，在其它实施例中，辐射源的平面可以相对于平行于凸版前体的平面倾斜。
根据示例性实施例，控制模块被配置为控制曝光时间，使得曝光时间改变，同时曝光单元被配置为和/或被控制为以基本恒定的曝光强度进行曝光。优选地，强度在前体的区域上基本恒定，偏差小于±10％，优选小于±5％，更优选小于±2％。
根据另一示例性实施例，曝光单元可以包括电磁辐射源和在凸版前体和辐射源之间的可移动光栅。控制模块被配置成控制光栅和凸版前体之间的相对运动，从而控制曝光时间，其中所述相对运动优选地平行于凸版前体。
根据另一示例性实施例，控制模块被配置成控制光栅从起始位置朝第二位置的方向到结束位置的运动，在起始位置，光栅遮蔽第一位置和第二位置之间的区域，在结束位置，光栅允许第一位置和第二位置之间的区域完全曝光。
该相对运动优选以0.2mm/sec至50mm/sec的范围内的一个或更多个速度发生。这可以允许0.5秒至15分钟之间的曝光时间。
根据示例性实施例，控制模块被配置为改变第一位置和第二位置之间的不同区域之间的曝光强度。例如，辐射源可以是包括多个子集的LED阵列，每个子集为一个或更多个LED，每个子集是可单独控制的。控制模块可以被配置为单独地控制所述多个子集，并且使得预定表面区域中的辐射强度变化在预定范围内。关于这样的示例性实施例的更多细节可以在申请人名下的专利申请NL 2023537中找到，该专利申请通过引用被包括在本文中。
根据示例性实施例，可选的显影单元被配置为使用流体处理凸版前体的未曝光材料和/或加热已曝光的前体并将未曝光材料转移至另一材料，所述另一材料优选为非织造网。
根据示例性实施例，测量单元被配置为在第一位置和第二位置之间的多个点处测量已显影的前体的厚度，以便获得厚度分布，并且确定模块被配置为基于获得的所述厚度分布，确定所述多个点中的代表期望特征的一个或更多个点。测量单元可以能够相对于凸版前体移动，优选地在平行于前体的平面内移动。然而，在倾斜或垂直于前体的平面内移动也是可能的。这样做的话，可以在凸版前体上的多个点处进行多次测量。测量单元的移动可以通过移动装置来进行。替代性地，凸版前体可以与测量单元相反地移动。例如，移动装置可以相对于测量单元移动保持装置和/或凸版前体。
优选地，曝光单元包括以下中的至少一者：一组灯管，优选为一组荧光灯、多个LED，以及它们的组合。
在示例性实施例中，该系统可以包括具有入口和出口的壳体，并且可选地，凸版前体可以通过入口自动进给到承载结构上的位置，曝光，然后通过出口从系统中移除。换句话说，本发明的实施例允许构建完全自动化的顺序系统。入口和出口可以在同一侧或相对两侧。入口和出口可以被配置为连接到其他单元。
该系统可以包括输送系统，其用于将凸版前体沿输送方向自动输送。输送系统可以包括输送装置，该输送装置从包括环形带、一对链条或带(具有推块)、一对导螺杆、蠕变驱动器、摩擦驱动器及其组合的组中选择。
输送系统还可以包括至少一个附接装置，以将凸版前体附接到输送装置上。附接装置可以是具有多个销的输送条，销延伸穿过凸版前体的边缘。替代性地，可以使用用于夹紧凸版前体的夹紧装置。输送条可以构造成联接至凸版前体的前缘，其中，输送系统构造成拉动带有联接的凸版前体的输送条穿过壳体。当输送系统包括两个导螺杆时，输送条的端部可以设置有适于联接到导螺杆的联接装置。
在示例性实施例中，该系统还包括冷却装置，冷却装置被配置为冷却凸版前体和/或曝光单元。例如，至少一个冷却装置可以冷却电磁辐射源和/或保持装置(例如透明板)和/或凸版前体的表面和/或光栅。冷却装置可以使用用于冷却的液体或气体，例如水或空气。
附加部件可以是系统的一部分。这样的附加部件可以从包括电源、附加电磁辐射源、冷却系统、夹紧装置、附加输送装置、马达、传感器及其组合的组中选择。附加辐射源可以从包括LED、荧光灯、闪光灯、以线性方式布置的一组光管、(扫描)激光器、LCD屏幕、投影系统(例如，具有可动反射镜)、激光器及其组合(这些器件可以是固定的和/或可移动的)的组中选择。附加辐射源能够照射凸版前体的一个或两个表面的至少部分区域，优选照射整个区域。附加辐射源可被布置使得辐射源可在附加辐射源与凸版前体之间移动。可选地，可以在凸版前体的任一侧上提供额外的辐射源。可以控制附加辐射源以在第一辐射源进行曝光之前、期间或之后曝光凸版前体。
可选地，控制模块控制系统的部件以及工艺链中的其他单元的部件。以这种方式，可以协调需要在凸版前体上执行的各种操作。控制模块可以是单个集中式控制器，或者是具有多个控制单元的分布式控制模块。
可选地，可以提供一个或更多个传感器，例如光传感器、磁传感器、接近传感器、温度传感器、过热传感器、流量传感器、强度传感器、压力传感器、厚度传感器等。然后可以根据由一个或更多个传感器测量的传感器数据来进一步控制辐射源的移动和辐射源的驱动。所述一个或更多个传感器中的传感器能够检测凸版前体的尺寸和/或厚度，并且这些数据可以用于控制例如曝光区域的尺寸、曝光时间和/或曝光强度。
可选地，该系统可包括一个或更多个另外的处理单元，所述一个或更多个另外的处理单元从包括装载和卸载单元、成像单元、液体显影单元、热显影单元、干燥单元、后处理单元、预处理单元、储存单元及其组合的组中选择。
根据本发明的又一方面，提供了一种包括计算机可执行指令的计算机程序，当该程序在计算机上运行时，控制第一位置和第二位置之间的多个点的曝光值(特别是曝光时间和/或曝光强度)，使得对于所述多个点自动改变曝光时间和/或曝光强度。曝光值(特别是曝光时间和/或强度)的控制可以根据上面公开的任一实施例来完成。
根据本发明的又一方面，提供了一种计算机设备或其它硬件设备，其被编程为控制第一位置和第二位置之间的多个点的曝光值(特别是曝光时间和/或曝光强度)，使得对于所述多个点自动改变曝光时间和/或曝光强度。根据另一方面，提供了一种以机器可读和机器可执行的形式对程序进行编码的数据存储设备，以控制用于第一位置和第二位置之间的多个点的曝光值(特别是曝光时间和/或曝光强度)，使得对于所述多个点自动改变曝光时间和/或曝光强度。曝光值(特别是曝光时间和/或强度)的控制可以根据上面公开的任一实施例来完成。
附图说明
附图用于说明本发明的系统和方法的当前优选的非限制性示例性实施例。当结合附图阅读以下详细描述时，本发明的特点和目的的上述和其它优点将变得更加明显，并且将更好地理解本发明，其中：
图1示意性地示出了确定曝光条件(特别是曝光时间和/或曝光强度)以用于获得期望特征的系统的示例性实施例，该期望特征更具体地是印刷板或印刷套筒的底板厚度。
图2是凸版前体的示意性俯视图，该凸版前体具有在第一位置A和第二位置B之间的曝光区域。
图3是本发明的示例性实施例的简化示意性侧视图，其中，曝光单元包括辐射控制层。
图4是本发明的示例性实施例的简化示意性侧视图，其中，曝光单元包括可移动光栅。
图5是本发明的另一示例性实施例的示意性侧视图，示出了具有可移动辐射源的曝光单元。
图6是本发明的另一示例性实施例的示意性侧视图，示出了具有辐射源的曝光单元，该辐射源以不同强度辐射。
图7A至图7E是凸版前体的示意性侧视图，示出了不同的可能的厚度分布。
图8A至图8C是已曝光的凸版前体的示意性俯视图，示出了在不同曝光条件下曝光的不同区域。
图9示出了用于曝光凸版前体并确定凸版前体的曝光条件的系统的示例性实施例的示意性透视图；
图10A、图10B和图10C示出了辐射控制层的三个实施例的俯视图。
图11示出了使用示例性实施例进行校准的示例。
具体实施方式
图1示意性地示出了确定曝光时间和/或曝光强度的系统以用于获得凸版结构P的期望特征，该期望特征特别地是印刷板或印刷套筒的期望底板厚度t。该系统包括保持装置10、曝光单元20、控制模块30、可选的显影单元40、测量单元50和确定模块60。
保持装置10被构造成支撑凸版前体P，凸版前体P的背面将由曝光单元20用电磁辐射在前体P的第一位置A和第二位置B之间进行曝光，具体是在曝光区域的第一边缘A和曝光区域的第二边缘B之间进行曝光。保持装置10可以是透明板、玻璃板、框架、悬挂式抱索器、夹具或其组合，以保持和/或支撑凸版前体。移动装置(未示出)可构造成相对于曝光单元20移动凸版前体P。移动装置也可以由控制模块30控制。
曝光单元20包括背面曝光装置20a，该背面曝光装置20a被构造成优选地在所述位置之间曝光前体P的背面。附加地或替代地，曝光单元20可以包括被构造成曝光凸版前体P的正面的正面曝光装置20b。优选地，曝光单元20包括以下中的任何之一：多个LED、一组灯管、荧光灯、闪光灯、汞灯、氙灯、一组灯管、激光器、发光屏(例如LCD屏、OLED屏或等离子体屏)、具有可动反射镜的光投影系统、太阳光收集系统及其组合。
控制模块30被配置为控制第一位置A和第二位置B之间的多个点的曝光参数(特别是曝光时间和/或曝光强度)，使得对于所述多个点改变曝光时间和/或曝光强度。控制模块还可以被配置成控制系统的其它部件，例如用于可移动光源或前体的移动装置、光栅、LED阵列、传感器、测量单元50和/或显影单元40。
显影单元40被配置成对凸版前体进行显影以去除未曝光的材料。显影单元40被配置为使用流体清洗凸版前体的未曝光材料和/或加热已曝光的前体并将未曝光材料转移至另一材料(优选为非织造网)。从已曝光的前体中去除材料可以通过加热并用显影材料(例如与前体接触的网或膜)去除液化材料来进行。附加地或替代地，显影单元40可以被配置成通过刷洗、漂洗、干燥和/或加热、用气体或液体处理凸版前体、或其组合，来对凸版前体进行显影。
测量单元50被配置为测量已显影的凸版前体，以便确定所述多个点中的代表期望特征的一个或更多个点。测量单元50可以使用不同的方法来测量例如已显影的凸版前体的厚度，该方法例如是机械、光学和/或声学方法。优选地，使用非接触测量方法。测量单元50可以使用一个或更多个传感器，例如接近传感器、压力传感器、密度传感器，优选厚度传感器。机械传感器的实例是移动轮、移动针或板、弹簧或其组合。非接触式传感器的实例是光谱分析传感器、光谱反射分析传感器、色共焦传感器、单通道或双通道传感器、非接触式激光测厚仪等。可选地，可以提供附加的或替代的传感器，例如光传感器、磁传感器、温度传感器、过热传感器、流量传感器、强度传感器等。
确定模块60被配置为基于所确定的一个或更多个点和由控制模块30设置的值来确定所需的曝光时间和/或强度，以便获得期望特征。
凸版前体P具有在第一位置A和第二位置B之间的曝光区域，其中该位置之间的曝光区域的厚度分布为楔形。该楔形的厚度在从第一位置A到第二位置B的方向上减小。替代性地，也可能是不同的形状，如结合图2至图8C所描述的。
图2示出了具有长度L和宽度W的凸版前体P的示意性俯视图。第一位置A和第二位置B在凸版前体的宽度方向上延伸。替代性地，第一位置和第二位置可以在长度方向上延伸，或在相对于凸版前体的宽度方向成非90°的角度的方向上延伸。而且，位置A和B可以是弯曲的。
示出了第一位置A和第二位置B之间的曝光区域，以展示出上面结合图1讨论的楔形的俯视图。与第二位置B相比，第一位置A经受了更长的曝光时间和/或更高的曝光强度。如在从A到B的长度方向上所见，由于更短的曝光时间和/或更低的曝光强度，厚度逐渐减小。
前体的长度L可以在10mm至2000mm的范围内，优选地在20mm至1500mm的范围内，更优选地在50mm至1000mm的范围内，最优选地在50mm至350mm的范围内。
测量单元50可以沿着长度L对多个点测量位置A和B之间的厚度分布。另外，测量单元50可以沿着位于所述多个点处并在宽度方向上延伸的线来测量厚度，使得可以使用沿着该线所测量的平均值来产生在位置A和位置B之间厚度分布。在图7A至7E中示出了可能的厚度分布，其中这些厚度分布在凸版前体的截面图中示出。替代性地，测量单元可以测量曝光区域的整个上表面的厚度。以这种方式，获得了所测量的二维的厚度分布。
确定模块60可以被配置为接收作为沿着第一位置和第二位置之间的线的位置的函数的曝光时间和曝光强度。以这种方式，对于所述位置之间的多个点，曝光时间和曝光强度可以与测量的厚度分布相关联。
图3示出了与图1的实施例类似的示例性实施例的示意性侧视图。相同或相似的部件用相同的附图标记表示。曝光单元20包括辐射源23和可选的辐射控制层24。替代性地，保持装置10可以包括辐射控制层24。辐射源23辐射200nm至2000nm的范围内的电磁辐射，优选辐射250nm至900nm的范围内的电磁辐射，更优选辐射250nm至450nm的范围内的电磁辐射，最优选辐射250nm至410nm的范围内的电磁辐射。辐射源23被配置成曝光凸版前体的曝光强度在1mW/cm2至2000mW/cm2的范围内，优选在5mW/cm2至1000mW/cm2的范围内，更优选在10mW/cm2至500mW/cm2的范围内，最优选在10mW/cm2至250mW/cm2的范围内。辐射源23可以以基本上恒定的曝光强度进行辐射，或者可以改变辐射源23的曝光强度。电磁辐射源23优选地从包括LED、荧光灯、闪光灯、以线性方式布置的一组灯管、(扫描)激光器、LCD屏幕、光投影系统(具有可移动反射镜)和/或其组合的组中选择。
辐射控制层24可用于改变凸版前体所经受的曝光强度。辐射控制层24可以被配置为在第一位置A附近更能透过电磁辐射，其中控制层24的透过率在位置B附近逐渐降低。替代性地，辐射控制层24的透过率可以不同地变化，例如透过率可以阶梯式降低。
图10A、图10B和图10C示出了辐射控制层的三个实施例。在图10C的例子中，辐射控制层24被配置为在该层的某些区域中更能透过，而在其它区域中更不能透过。例如，辐射控制层24可以是具有光密度不同的区域的膜，其中通过不同区域的强度是已知的。这种通光率阶梯楔形件可从例如斯托佛工业、爱克发或柯达获得。例如，透过率可以在一个方向上逐渐增加。
在图10A的例子中，提供了形为片状块的多个辐射控制层24，这些片状块具有不同透过程度。这些片状块可以例如靠着凸版前体的第一侧和/或第二侧布置，这取决于哪一侧将被曝光。片状块24的式样可以包括例如具有四个不同透过程度的四个片状块。
在图10B的例子中，辐射控制层24是掩膜，其中表现出了具有不同透过率值的区域S1、区域S2、区域S3和区域S4。这种掩膜可以通过烧蚀不能透过的掩模层或通过改变层的透过率来获得。例如，区域S1可以是孔(完全透过)，而区域S2、S3和S4可以具有不同的烧蚀深度。这种掩膜可从例如Miraclon(FLEXCEL)或Folex(LADF)来获得。
图4示出了与图1的实施例类似的示例性实施例的示意性侧视图。相同或相似的部件用相同的附图标记表示。曝光单元20包括可移动的光栅25和辐射源23。
可移动的光栅25优选地对上文公开的范围内的电磁辐射是不能透过的和/或不反射的。光栅25优选地是平面结构，例如片材、幕帘、折叠片材或其组合，其通过移动装置(未示出)来移动。移动装置可以包括以下组中的任何一个，该组包括：环形带、链条、导螺杆、马达(例如线性马达)、活塞、带齿的轮(例如具有齿轨的带齿的轮)、摩擦轮、齿轮、以及它们的组合。
光栅25的相对运动导致位置A和位置B之间的多个点经受不同的曝光时间。可移动的光栅25可以以恒定的速度从起始位置朝第二位置B的方向移动到结束位置。在起始位置，光栅遮蔽第一位置A和第二位置B之间的区域，在结束位置，光栅允许第一位置和第二位置之间的区域完全曝光。以这种方式，产生了楔形。该相对运动也可以逐步完成，从而产生具有阶梯式厚度分布的固化区域。替代性地，可以改变运动，从而形成更复杂的形状。
优选地，光栅25以0.2mm/sec至50mm/sec范围内的速度移动，以允许凸版前体P的曝光时间在0.5秒至15分钟之间。对于相对运动的轨迹的不需要曝光的部分，速度可以更高。替代性地，辐射源23和凸版前体P之间的另一和/或不同的相对运动可以通过移动保持装置10和/或凸版前体P本身来提供。
图5示出了与图1的实施例类似的示例性实施例的示意性侧视图。相同或相似的部件用相同的附图标记表示。图5中的辐射源23是可移动的。辐射源23和凸版前体P之间的相对运动导致不同的曝光时间，由此导致不同的厚度。相对运动可以以恒定的加速度进行，以便在位置A和位置B之间引起厚度的逐渐减小。替代性地，辐射源23的移动可以是逐步的，以导致阶梯状的厚度。辐射源23的强度可以保持基本恒定或是变化的，以产生更复杂的形状。
图6示出了与图1的实施例类似的实施例。相同或相似的部件用相同的附图标记表示。曝光单元20包括三个辐射源23，它们被配置为以不同的强度辐射，从而产生具有阶梯式厚度分布的固化区域。通过以不断减小的强度曝光凸版前体P，可以获得楔形。替代性地，曝光单元20可以包括三个以上的辐射源23。
图7A至图7B示出了各种可能的厚度分布。图7A示出了阶梯式厚度分布。图7B示出了楔形厚度分布。图7C至图7E示出了由于位置A和位置B之间的多个点经受了不同的曝光时间和/或曝光强度而产生的更复杂形状的示例。
图8A示出了具有长度L和宽度W的凸版前体P的俯视图，其中曝光区域90、91、92具有不同的厚度分布。区域90示出了从位置A到位置B的厚度的阶梯式减小。区域91示出了厚度的逐渐减小。参考区域92是未曝光的区域或完全曝光的区域，以便用作测量的厚度可以参考的和/或在测量单元50的校准中使用的对照。
如图8B和图8C所示，由于还在长度方向以外的方向上变化曝光条件，厚度可以在两个维度上阶梯式或逐渐地变化。在图8B中，位置A和位置B之间的曝光区域形成栅格，其中某些区域经受了较高的强度和/或较长的曝光时间。参考区域92可以用作测量的厚度可以参考的对照。如图8C所示，从第一位置A上的一个点朝向第二位置B上的一个点来看厚度逐渐减小。
图9示意性地示出了实现上述系统和方法的教导的系统1000。
系统1000包括输送系统210、220、230，其中至少一个，优选地至少两个，甚至更优选地至少三个输送条100用于联接到凸版前体。例如，如图9所示，可以将四个输送条100提供给输送系统210、220、230。进一步看，输送条100联接到凸版前体P的前缘3，并且优选地延伸超过前缘的整个长度，使得输送条100的端部可以联接到输送系统210、220的输送机构。注意，也可以将多个凸版前体联接到输送条100。优选地，输送条100的长度在100mm和1000mm之间，更优选地在1000mm和4000mm之间。
系统1000包括印版联接站300，以及曝光和显影部400。印版联接站300被配置用于将凸版前体P联接到输送条100，曝光和显影部400被配置用于曝光凸版前体和对凸版前体进行显影。曝光和显影部400包括如上所述(特别是结合图1和图3至图6所述的)的曝光单元20和显影单元40。
例如使用控制模块800来控制输送系统210，使得带有联接的凸版前体的输送杆100移动通过曝光和显影部400，在该部分中凸版板前体P被曝光和显影。
图11示出了使用类似于图1的实施例的示例性实施例进行校准的示例。在图11的示例中，首先设定期望的显影条件，例如冲洗速度为350mm/min，温度为35℃，溶剂为等，然后在板的不同位置使用可变曝光时间曝光板的背面。曝光时间线性变化并测量凸版深度(其对应于板厚度减去底板高度)。结果示于图11的曲线图中。可以看出，凸版深度随着曝光时间减小。或者换言之，底板高度随着曝光时间增加而增加。在该示例中，目标凸版深度为550微米，使得要选择的曝光时间大约为16秒。
在未示出的实施例中，可以提供后处理单元以对凸版前体进行后处理，例如干燥、后曝光、加热、冷却等。此外，在未示出的实施例中，可以提供预处理单元以对凸版前体进行预处理，所述预处理从包括切割、烧蚀、暴露于电磁辐射及其组合的组中选择。
可选地，进行预曝光或后曝光所使用的辐射源可以从包括LED、荧光灯、闪光灯、以线性方式布置的一组灯管、(扫描)激光器、LCD屏幕、光投影系统(具有可移动反射镜)和其组合的组中选择。在预曝光步骤期间，可以以图像形成的方式改变凸版前体的层。
凸版前体通常包括支撑层和至少一个光敏层。支撑层可以是柔性金属、天然聚合物或人造聚合物、纸或其组合。优选地，支撑层是柔性金属或聚合物膜或片材。在柔性金属的情况下，支撑层可以包括薄膜、筛状结构、网状结构、织造结构或非织造结构或其组合。钢片、铜片、镍片或铝片是优选的并且可以是约50μm至1000μm厚。在聚合物膜的情况下，膜是尺寸稳定但可弯曲的，并且可以例如由聚烯烃(polyalkylenes)、聚酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺和聚碳酸酯、用织造、非织造或层状纤维(例如玻璃纤维、碳纤维、聚合物纤维)增强的聚合物或其组合制成。优选地，使用聚乙烯箔和聚酯箔，并且它们的厚度可以在约100μm至300μm的范围内，优选地在100μm至200μm的范围内。
凸版前体可以承载至少一个附加层。例如，附加层可以是以下项中的任何一种：(例如通过激光)可直接雕刻层、可溶剂或水显影层、可热显影层、光敏层、光敏层和掩模层的组合。可选地，可以在附加层顶部设置一个或更多个另外的附加层。这样的一个或更多个另外的附加层可以包括在所有其他层的顶部的覆盖层，在可成像层成像之前将覆盖层去除。所述一个或更多个附加层可以包括浮雕层和在支撑层与浮雕层之间或在支撑层的与浮雕层相对的一侧的防光晕层。所述一个或更多个附加层可以包括浮雕层、可成像层和在浮雕层与可成像层之间的一个或更多个阻挡层，所述阻挡层防止氧的扩散。在上述不同层之间可以设置一个或更多个粘合层，以确保不同层的适当粘合。
在优选实施例中，凸版前体包括由聚合物材料的聚酯制成的支撑层，以及由可直接雕刻的材料(例如树脂材料)制成的附加层。然后，可选层可以是激光烧蚀层。在一个示例性实施例中，凸版前体可以至少包含尺寸稳定的支撑层、浮雕层和可成像掩模层。可选地，可以存在其它层。在所有其它层的顶部可以有覆盖层，该覆盖层在可成像掩模层成像之前被除去。在支撑层和浮雕层之间可以存在防光晕层，或者防光晕层可以位于支撑层的与浮雕层相对的一侧。在浮雕层和可成像掩模层之间可以存在一个或更多个阻挡层，以防止氧扩散。在上述不同层之间可以设置一个或更多个粘合层，以确保不同层的适当粘合。一个或更多个层可以通过用液体处理来移除。对于不同的层，所使用的液体可以相同或不同。优选地，所使用的液体是不同的。
在优选实施例中，凸版前体包括光敏层和掩模层。掩模层可以在处理过程中被烧蚀或改变透过率，并形成具有透过区域和不透过区域的掩模。优选地，掩模层和/或阻挡层在系统的预洗涤区域中被去除，因为它们可能包括在进一步的工艺步骤中或在最终凸版的使用期间可能引起问题的材料。在掩模的透过区域下面，光敏层在辐照时经历溶解度和/或流动性的变化。该改变用于通过在一个或更多个后续步骤中移除部分光敏层来产生浮雕。溶解度和/或流动性的变化可以通过光诱导的聚合和/或交联来实现，从而使辐照区域不易溶解。在其它情况下，电磁辐射可引起键的断裂或保护基团的分裂，从而使辐照区域更可溶。优选使用用光诱导交联和/或聚合的方法。
可用于从已曝光的前体中去除材料的液体除了别的以外包括：水、水溶液、溶剂及其组合。所用液体的性质由所用前体的性质决定。如果待去除的层在水或水溶液中是可溶的、可乳化的或可分散的，则可以使用水或水溶液。如果该层在有机溶剂或混合物中是可溶的、可乳化的或可分散的，则可以使用有机溶剂或混合物。在有机可显影前体的情况下，可以使用不同的有机溶剂或其混合物。
已曝光的前体中去除未固化材料也可以通过加热和用显影材料去除液化材料来进行。软化材料的去除是通过将其与吸收材料连续接触来实现的。吸收显影剂材料可以是非织造的聚酰胺、聚酯、纤维素或无机纤维，软化的材料粘附在这些非织造物上并随后被除去。例如在US 3,264,103、US 5,175,072、WO 96/14603或WO 01/88615中对这些方法进行了描述。或者，WO 01/90818提出了用热气或流体射流处理已曝光的凸版前体以除去未固化的材料。在EP-A469 735和WO 01/18604中，描述了能够执行上述方法的装置。
虽然上面已经结合特定实施例阐述了本发明的原理，但是应当理解，该描述仅仅是作为示例而不是作为由所附权利要求书确定的保护范围的限制。

Claims (35)

1.一种确定曝光时间和/或曝光强度以用于获得凸版结构的期望特征的方法，所述期望特征特别地是期望底板厚度，所述方法包括以下步骤：
-用电磁辐射曝光凸版前体的第一侧，其中，所述曝光在具有第一位置A和第二位置B的区域中进行，并且所述曝光以已知值的所述曝光时间和所述曝光强度对所述第一位置A和所述第二位置B之间的多个点执行，并且所述曝光时间和/或曝光强度被自动控制以在所述多个点处改变；
-可选地在第一位置A和第二位置B之间的部分中曝光所述凸版前体的第二侧；
-可选地通过去除所述凸版前体的未曝光材料来对所述凸版前体进行显影；
-可选地干燥已显影的所述凸版前体；
-可选地固化已显影的所述凸版前体；
-确定所述多个点中的代表所述期望特征的一个或更多个点；并且
-基于所确定的所述一个或更多个点和所述已知值来确定所述期望特征所需的曝光时间和/或曝光强度。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一侧是背面，并且所述期望特征是期望底板厚度。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述曝光在位置A和位置B之间的方向上连续地进行，优选在沿所述凸版前体的长度方向延伸的方向上连续地进行，从而在所述第一位置A和所述第二位置B之间形成连续曝光区域。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述方法包括所述通过去除所述凸版前体的未曝光材料来对所述凸版前体进行显影的步骤，并且其中，所述确定所述多个点中的代表所述期望特征的一个或更多个点的步骤在所述显影步骤之后进行。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述曝光时间和所述曝光强度作为沿着所述第一位置A和所述第二位置B之间的线的位置的函数而已知。
6.根据前一权利要求所述的方法，其中，所述函数是线性函数或阶跃函数。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括：在所述可选的显影步骤之前，以预定强度在最大曝光时间期间从所述第一侧曝光第一参考区域，和/或不从所述第一侧曝光第二参考区域，以及在所述显影步骤之后，检查所述第一参考区域和/或所述第二参考区域，并且可选地随即如果需要则确定校正因子。
8.根据前一权利要求所述的方法，其中，所述第二参考区域由不透过电磁辐射的层覆盖。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括：在所述可选的显影步骤之前，以预定强度在预定曝光时间期间从所述第二侧曝光第三参考区域，并且在所述显影步骤之后，检查所述第三参考区域，并且可选地随即如果需要则确定校正因子。
10.根据前一权利要求所述的方法，其中，所述前体的所述第二侧由不透过电磁辐射的层覆盖，并且所述第三参考区域未被所述层覆盖，或者所述层在所述第三参考区域之上的区域中能够透过电磁辐射，并且其中可选地，所述第三参考区域至少部分地与在位置A和位置B之间的所述曝光区域重叠，和/或与所述第一参考区域或所述第二参考区域重叠。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，在所述曝光步骤期间，所述曝光强度是恒定的，并且所述曝光时间是变化的。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述曝光步骤由曝光单元完成，所述曝光单元包括电磁辐射源和在所述凸版前体和所述电磁辐射源之间的可移动光栅，并且其中，在所述曝光步骤期间，通过所述光栅相对于所述凸版前体的相对运动来控制所述曝光时间，其中，所述相对运动优选地平行于所述凸版前体。
13.根据前一权利要求所述的方法，其中，在曝光期间，所述光栅从起始位置朝第二位置B的方向移动到结束位置，在所述起始位置，所述光栅遮蔽所述第一位置A和所述第二位置B之间的区域，在所述结束位置，所述光栅允许所述第一位置和所述第二位置之间的区域完全曝光。
14.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，在所述曝光步骤期间，通过以不同的曝光强度对所述第一位置A和所述第二位置B之间的不同区域进行曝光来改变所述曝光强度。
15.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，通过一个或更多个辐射控制层(24)执行用电磁辐射进行曝光，所述辐射控制层(24)被配置用于至少部分地阻挡或减少由所述电磁辐射源(23)向所述凸版前体P发射的辐射。
16.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，通过使用流体处理所述未曝光材料和/或通过加热已曝光的所述前体并将所述未曝光材料转移至另一材料，来对所述凸版前体进行显影，其中所述另一材料优选为非织造网。
17.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，在所述第一位置A和所述第二位置B之间的所述多个点处测量已显影的所述前体的厚度，以便获得厚度分布，并且其中所述确定所述多个点中的代表所述期望特征的一个或更多个点的步骤基于获得的所述厚度分布。
18.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述凸版前体具有长度方向和宽度方向，并且其中，所述第一位置和所述第二位置对应于在所述凸版前体的所述宽度方向上延伸的第一边缘和第二边缘。
19.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，执行所述曝光步骤，以获得基本上具有楔形形状的已显影的凸版前体。
20.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述确定所述多个点中的代表所述期望特征的一个或更多个点的步骤包括：通过以下方法中的任一种来测量已显影的所述凸版前体的厚度：机械的、光学的和/或声学的方法，优选非接触的方法。
21.一种用于制造凸版结构的方法，其包括前述权利要求中任一项所述的方法，以及使用所确定的所述曝光时间和/或所述曝光强度来制造凸版结构。
22.根据前一权利要求所述的方法，其中，所述凸版结构是柔性版印刷板、活字板、凸版印刷板、(柔性)印刷电路板、电子元件、微流体元件、微反应器、电泳单元、光子晶体、光学元件或菲涅耳透镜。
23.一种被配置为确定曝光时间和/或曝光强度以用于获得凸版结构的期望特征的系统，所述期望特征特别地是期望底板厚度，所述系统包括：
-保持装置(10)，其被配置为支撑凸版前体P；
-曝光单元(20)，其被配置为在所述前体的第一位置A和第二位置B之间用电磁辐射曝光所述凸版前体的第一侧，并且可选地被配置为在所述第一位置A和所述第二位置B之间的部分中曝光所述凸版前体的第二侧；
-控制模块(30)，其被配置为控制所述第一位置A和所述第二位置B之间的至少多个点的曝光时间和/或曝光强度的值，使得所述曝光时间和/或所述曝光强度沿着所述多个点改变；
-可选的显影单元(40)，其被配置用于对已曝光的所述凸版前体进行显影以去除未曝光的材料；
-测量单元(50)，其被配置为测量可选地已显影的所述凸版前体，以便确定所述多个点中的代表所述期望特征的一个或更多个点；和
-确定模块(60)，其被配置为基于所确定的所述一个或更多个点和由所述控制模块设置的所述值来确定所述期望特征所需的曝光时间和/或曝光强度。
24.根据前一权利要求所述的系统，其中，所述曝光单元包括背面曝光装置(20)，所述背面曝光装置(20)被配置为曝光所述凸版前体的背面，并且其中所述期望特征是期望底板厚度。
25.根据权利要求23或24所述的系统，其中，所述控制模块(30)被配置为控制所述曝光单元(20)，使得所述曝光在所述第一位置和所述第二位置之间的方向上连续地进行，优选在沿所述凸版前体的长度方向L延伸的方向上连续地进行，从而在所述第一位置和所述第二位置之间形成连续曝光区域(15)。
26.根据权利要求23至25中任一项所述的系统，其中，所述确定模块(60)被配置为接收作为沿着所述第一位置A和所述第二位置B之间的线的位置的函数的所述曝光时间和/或所述曝光强度。
27.根据前一权利要求所述的系统，其中，由所述确定模块(60)接收的所述函数是线性函数或阶跃函数。
28.根据权利要求23至27中任一项所述的系统，其中，所述曝光单元(20)包括电磁辐射源(23)和一个或更多个辐射控制层(24)，所述辐射控制层(24)被配置用于至少部分地阻挡或减少由所述电磁辐射源(23)向所述凸版前体P发射的辐射。
29.根据权利要求23至28中任一项所述的系统，其中，所述控制模块(30)被配置为控制所述曝光时间，使得所述曝光时间改变，其中所述曝光单元(20)被配置为以恒定的曝光强度进行曝光。
30.根据权利要求23至29中任一项所述的系统，其中，所述曝光单元包括电磁辐射源(23)和在所述凸版前体P和所述辐射源(23)之间的可移动光栅(25)，其中，所述控制模块(30)被配置成控制所述光栅(25)和所述凸版前体之间的相对运动M，从而控制所述曝光时间，其中所述相对运动优选地平行于所述凸版前体。
31.根据前一权利要求所述的系统，其中，所述控制模块(30)被配置成控制所述光栅(25)从起始位置朝所述第二位置B的方向到结束位置的运动，在所述起始位置，所述光栅遮蔽所述第一位置A和所述第二位置B之间的区域，在所述结束位置，所述光栅允许所述第一位置和所述第二位置之间的区域(15)完全曝光。
32.根据权利要求23至31中任一项所述的系统，其中，所述控制模块(30)被配置为改变所述第一位置和所述第二位置之间的不同区域之间的曝光强度。
33.根据权利要求23至32中任一项所述的系统，其中，所述系统包括所述显影单元，并且其中，所述显影单元(40)被配置为使用流体处理所述凸版前体的未曝光材料和/或加热已曝光的所述前体并将所述未曝光材料转移至另一材料，其中，所述另一材料优选为非织造网。
34.根据权利要求23至33中任一项所述的系统，其中，所述测量单元(50)被配置为在所述第一位置A和所述第二位置B之间的多个点处测量已显影的所述前体的厚度，以便获得厚度分布，并且所述确定模块(60)被配置为基于获得的所述厚度分布，确定所述多个点中的代表所述期望特征的一个或更多个点。
35.根据权利要求23至34中任一项所述的系统，其中，所述曝光单元(20)包括以下中的至少一者：一组灯管，优选为一组荧光灯、多个LED，以及它们的组合。
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