CN116457336A - 用于体布拉格光栅的取代丙烷核单体及其聚合物 - Google Patents

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Abstract

本公开提供了包括用于体布拉格光栅的丙烷衍生单体和聚合物的记录材料，该体布拉格光栅包括但不限于用于全息应用的体布拉格光栅。公开了用于布拉格光栅应用的丙烷衍生单体和聚合物的几种结构，其导致材料具有较高折射率、低双折射率和高透明度。所公开的丙烷衍生单体及其聚合物可以用于任何体布拉格光栅材料，包括两级聚合物材料，该两级聚合物材料在第一步骤中固化基质，然后通过单体的第二固化步骤写入体布拉格光栅。

Description

用于体布拉格光栅的取代丙烷核单体及其聚合物
相关申请的交叉引用
本申请要求2020年11月13日提交的美国临时专利申请第63/113,738号的优先权。
技术领域
本文描述了用于体全息图、体全息元件、体全息光栅等的记录材料，以及通过写入或记录这种记录材料而产生的体全息图、体全息元件、体全息光栅。
背景技术
在全息记录介质领域中公开了聚合物基底，包括例如光敏聚合物薄膜。例如，参见SMothers等人的“Photopolymers for Holography,”SPIE OE/Laser Conference,1212-03,Los Angeles,Calif.,1990。本文中描述的全息记录介质包含可光成像系统(photoimageable system)，该可光成像系统包含液体单体材料(光活性单体)和光引发剂(其在光处曝光时促进单体的聚合)，其中可光成像系统在对曝光的光是基本上惰性的有机聚合物主体基质中。在(通过使记录光穿过表示数据的阵列)将信息写入(记录)到材料中的过程中，单体在曝光区域中聚合。由于通过聚合引起的单体浓度的降低，来自材料的暗的、未曝光区域的单体扩散到曝光区域。例如，参见Colburn和Haines的“Volume HologramFormation in Photopolymer Materials,”Appl.Opt.10,1636-1641,1971。聚合和由此产生的扩散产生折射率变化(称为Δn)，从而形成表示数据的全息图(全息光栅)。
在用于常规应用(诸如，涂料、密封剂、粘合剂等)的光聚合物体系中，链长和聚合度通常通过使用高光强度、多功能单体、高浓度单体、热等来最大化并驱动至完成。通过使用高单体浓度的有机光聚合物制剂，在本领域中已知的全息记录介质中使用了类似的方法。例如，参见美国专利号5,874,187和5,759,721，它们公开了“单组分”有机光聚合物体系。然而，如果这样的单组分体系没有在一定程度上用光预固化，则它们典型地具有大的布拉格失谐值(Bragg detuning value)。
通过将聚合物基质的形成与用于记录全息信息的光化学分离，已经对全息光聚合物介质进行了改进。例如，请参阅美国专利号6,103,454和6,482,551，它们公开了“双组分”有机光聚合物体系。双组分有机光聚合物体系允许更均匀的起始条件(例如，针对记录过程)、更方便的处理和封装选择，以及以更少的收缩或布拉格失谐来获得更高的动态范围介质的能力。
这样的双组分体系具有多种需要改进的问题。例如，全息光聚合物的性能在很大程度上通过聚合期间物质如何扩散来确定。通常，聚合和扩散在曝光区域内以相对不受控的方式同时发生。这导致了若干不期望的影响：例如，在聚合引发或终止反应后没有结合至基质的聚合物自由地从膜的曝光区域扩散到未曝光区域，这使产生的条纹“模糊”，降低了最终全息图的Δn和衍射效率。在曝光期间Δn的积累意味着后续曝光可以散射来自这些光栅的光，从而导致噪声光栅的形成。这在最终的波导显示器中产生了雾度和清晰度的损失。如本文所描述的，对于具有恒定剂量/曝光的一系列多路复用曝光，第一次曝光将消耗大部分单体，这导致在每次曝光的情况下、衍射效率呈指数下降。为了平衡所有全息图的衍射效率，需要复杂的“剂量时间表”程序。
通常，全息介质的存储容量与介质的厚度成正比。将包含可光成像系统的预成型基质材料沉积到基底上典型地需要使用溶剂，并且材料的厚度因此被限制在例如不超过约150μm，以允许溶剂充分蒸发，从而获得稳定的材料并减少空隙形成。因此，去除溶剂的需要抑制了介质的存储容量。
相反地，在体全息术(volume holography)中，介质厚度通常大于条纹间距，并且Klein-Cook Q参数大于1。参见Klein和Cook的“Unified approach to ultrasonic lightdiffraction,”IEEE Transaction on Sonics and Ultrasonics,SU-14,123-134,1967。还已知通过由有机低聚物基质前体和可光成像系统的流体混合物原位聚合基质材料而形成的记录介质。因为沉积这些基质材料典型地只需要很少的溶剂或不需要溶剂，因此可以获得更大的厚度，例如200μm及以上。然而，尽管通过这种工艺获得了有用的结果，但在基质聚合物的前体与光活性单体之间存在反应的可能性。这种反应将降低基质与聚合的光活性单体之间的折射率对比度，从而在一定程度上影响存储的全息图的强度。
发明内容
在第一方面，本公开提供了一种式I的化合物：
其中，在式I中：R在各自独立存在时为氢或包括选自以下的一个或多个基团的取代基：任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基、任选取代的杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、任选取代的环氧化物、任选取代的缩水甘油基、任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、
-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)ORa、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa、-S(O)tRa、-S(O)tORa、-S(O)tN(Ra)2、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra、-O(O)P(ORa)2和-O(S)P(ORa)2；t为1或2；Ra在每次存在时独立地选自氢、任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基和任选取代的杂芳基烷基；并且其中式I的化合物包括至少一个R取代基，该R取代基包括至少一个聚合性基团或交联性基团。
在一实施方案中，取代基包括选自以下的一个或多个连接基团(linkinggroup)：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-和(S)P(O-)3。在一实施方案中，取代基至少包括芳基Ar，其中Ar选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的菲基、取代的非那烯基、取代的并四苯基、取代的基(chrysenyl)、取代的三亚苯基和取代的芘基。在一实施方案中，取代基包括选自以下的一个或多个基团：
在一实施方案中，取代基包括选自以下的一个或多个基团：
在一实施方案中，化合物包括选自以下的一个或多个基团：
在一实施方案中，化合物包括选自以下的一个或多个基团：
在一实施方案中，本公开提供了式IIa或式IIb的化合物：
其中，在式IIa和式IIb中：R20为包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合的取代基；R21和R22各自独立地为任选取代的芳基或C(R23)3；并且R23在各自独立存在时为任选取代的芳基。
在一实施方案中，式IIa或式IIb的化合物选自：
在一实施方案中，本公开提供了一种具有式III的化合物：
其中，在式III中：R30为烷基；R31和R32各自独立地是包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合的取代基；R33独立地是一个、两个、三个、四个或五个独立选择的-SRa取代基的基团；并且L为选自以下的连接基团：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-、-(S)P(O-)3及它们的组合。
在一实施方案中，式III化合物选自
在一实施方案中，本公开提供了一种具有式IV的化合物：
其中，在式IV中：是CR43或各R40、R41和R42独立地为一个、二个、三个、四个或五个独立选择的取代基的基团；其中一个或多个取代基包括且一个或多个取代基包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合；和/或其中，一个或多个取代基包括R43为氢或烷基；R44为选自以下的连接基团：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-和(S)P(O-)3以及它们的组合；R45、R46和R48各自独立地为任选取代的芳基；并且R47为包括至少一个聚合性基团或交联性基团的取代基。
在一实施方案中，式IV的化合物选自：
在一实施方案中，本公开提供了一种具有式V的化合物：
其中，在式V中：R50和R51各自独立地选自氢和烷基；R52、R54、R55和R57各自独立地为卤素；并且R53和R56各自独立地为包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合的取代基。
在一实施方案中，式V的化合物为：
在一实施方案中，本公开提供一种用于写入体布拉格光栅的记录材料，该材料包括树脂混合物，所述树脂混合物包括含有权利要求1所描述的化合物的第一聚合物前体，其中，所述第一聚合物前体部分地或全部地聚合或交联。
在一实施方案中，本公开还提供一种记录在本文公开的记录材料上的体布拉格光栅，其中，该光栅的特征在于Q参数等于或大于1，其中
且其中λ0为记录波长，d为记录材料的厚度，n0为记录材料的折射率，并且Λ为光栅常数。
附图说明
当结合附图阅读时，将更好地理解本公开的前述发明内容以及以下的详细描述。
图1示出了用于形成体布拉格光栅(volume Bragg grating，VBG)的通用步骤。原料可以通过混合两种不同的前体(例如，基质前体和光聚合性成像前体)来形成。原料可以通过使基质前体固化或交联化、或部分固化或交联化而形成为膜。最后，全息曝光引发光聚合性前体的固化或交联，这是制造VBG的全息记录工艺的主要步骤。
图2为示出了在用于全息术应用的受控基团聚合中包括的多个步骤的示意图。用于这种应用的通用目标是设计一种光聚合物材料，该光聚合物材料对可见光敏感、产生大的Δn响应并控制光聚合物的反应/扩散，从而减少或抑制链转移反应和链终止反应。在传统的光聚合材料内部发生的聚合反应被称为自由基聚合，该自由基聚合具有几个特性：在曝光时立即产生自由基物质，自由基通过向链末端添加单体来引发聚合并传播，自由基还通过脱氢反应(hydrogen abstraction)和链转移反应与基质反应，并且自由基可以通过与其他自由基结合或与抑制物质(例如，O2)反应而终止。
图3A至图3C大体上示出了使用用于体布拉格光栅的两级光聚合物记录材料的概念，该材料包括聚合物基质(交叉线)和记录的光聚合性单体(圆)。当材料在光源处曝光时(箭头，图3A)，单体开始反应并聚合。理想地，聚合只发生在曝光区域中，这导致单体浓度的下降。随着单体聚合，产生单体浓度的梯度，导致单体从高单体浓度区域朝向低单体浓度区域扩散(图3B)。随着单体扩散到曝光区域中，随着基质聚合物膨胀并“扩散”到暗区域，应力在周围的基质聚合物中积累(图3C)。如果基质应力变得太大，且无法膨胀以容纳更多的单体，即使对于未反应的单体存在浓度梯度，向曝光区域的扩散也将会停止。这典型地会限制光聚合物的最大动态范围，因为Δn的积累依赖于未反应的单体扩散到亮区域中。
图4示出了使用包括光学合路器(optical combiner)的波导显示器的光学透视增强现实系统的示例。
图5A示出了体布拉格光栅的示例。图5B示出了用于图5A中所示的体布拉格光栅的布拉格条件。
图6A示出了用于记录体布拉格光栅的记录光束。图6B为示出了记录光束和重构光束的波矢量以及所记录的体布拉格光栅的光栅矢量的全息动量图的示例。
图7示出了用于记录全息光学元件的全息记录系统的示例。
具体实施方式
体光栅通常由全息技术产生并且被称为体全息光栅(volume holographicgrating，VHG)、体布拉格光栅(VBG)或体全息图，体光栅是一种基于在材料的整个体积内具有周期性相位或吸收调制的材料的衍射光学元件。当入射光满足布拉格条件时，它被光栅衍射。衍射发生在波长和入射角范围内。反过来，光栅对非布拉格角和光谱范围内的光没有影响。这些光栅还具有多路复用能力。由于这些性质，VHG/VBG对于在光学中的各种应用引起了人们的极大兴趣，这些光学中的应用诸如为用于显示器、光纤通信、光谱学等的数据存储和衍射光学元件。
衍射光栅的布拉格方案的实现通常由Klein参数Q确定：
其中，d为光栅的厚度，λ为光的波长，Λ为光栅周期，并且n为记录介质的折射率。通常，如果Q>>1，典型地Q≥10，则满足布拉格条件。因此，为了满足布拉格条件，衍射光栅的厚度必须大于由光栅、记录介质和光的参数确定的某些值。正因为如此，VBG也被称为厚光栅。相反地，具有Q<1的光栅被认为是薄的，其典型地表现出许多衍射级(拉曼-奈斯衍射区(Raman-Nath diffraction regime))。
定义
除非另有定义，否则本文使用的所有技术和科学术语具有与本公开所属领域的技术人员通常理解的含义相同的含义。本文提及的所有专利和出版物通过引用全文并入本文。
当在本文使用范围来描述例如诸如分子量或化学式的物理或化学性质时，旨在包括范围和其中的具体实施方案的所有组合和子组合。当提及数字或数字范围时，使用术语“约”意味着所指的数字或数字范围是在实验变异性内(或在统计学实验误差范围内)的近似值，因此该数字或数字范围可以变化。该变化典型地为所陈述的数字或数值范围的0％至15％、或0％至10％、或0％至5％。术语“包括(including)”(以及诸如“包括(comprise)”或“包括(comprises)”或“具有(having)”或“包括(including)”等相关术语)包括那些实施方案，例如，“由”或“基本上由”所描述的特征构成的物质、方法或工艺的任何组成的实施方案。
如本文所使用的，术语“光源”是指任何波长的任何电磁辐射源。在一些示例中，光源可以是特定波长的激光器。
如本文所使用的，术语“光引发光源”是指激活光引发剂、光活性聚合性材料或两者的光源。光引发光源包括记录光，但不限于此。
如本文所使用的，术语“空间光强度”是指在给定空间体积内变化光强度的光强度分布或图案。
如本文所使用的，术语“体布拉格光栅”、“体全息光栅”、“全息栅格”和“全息图”可互换地用于指当信号光束和参考光束彼此干涉时形成的记录干涉图案。在一些示例中，并且在记录数字数据的情况下，用空间光调制器对信号光束进行编码。
如本文所使用的，术语“全息记录”是指在其被记录在全息记录介质中之后的全息光栅。
如本文所使用的，术语“全息记录介质”是指能够以三维方式记录和存储一个或多个全息光栅的制品。在一些示例中，该术语是指能够以三维方式记录和存储一个或多个全息光栅作为一页或多页压印到制品中的变化折射率的图案的制品。
如本文所使用的，术语“数据页”或“页”是指相对于全息术所使用的数据页的常规含义。例如，数据页可以是待记录在全息记录介质(诸如这里描述的制品)中的数据页、一张或多张图片等。
如本文所使用的，术语“记录光”是指用于记录到全息介质中的光源。记录光的空间光强度图案是被记录的。因此，如果记录光是简单的非相干光束，那么可以产生波导，或者如果记录光是两束干涉激光束，那么记录干涉图案。
如本文所使用的，术语“记录数据”是指将一个或多个页的全息再现存储为变化折射率的图案。
如本文所使用的，术语“读取数据”是指检索作为全息再现存储的数据。
如本文所使用的，术语“曝光”是指当全息记录介质在记录光处曝光时，例如，当全息光栅被记录在介质中时。
如本文所使用的，术语“曝光时间段”和“曝光时间”可互换地指代全息记录介质在记录光处曝光多长时间，例如，在全息记录介质中记录全息光栅期间记录光开启多长时间。“曝光时间”可以指在给定体积中记录单个全息图所需的时间或记录多个全息图的累积时间。
如本文所使用的，术语“时间表(schedule)”是指在介质中记录全息光栅时相对于累积曝光时间的曝光的图案、计划、方案、顺序等。通常，该时间表允许在一组多次曝光中预测每一次曝光所需的时间(或光能)，以给出预定的衍射效率。
如本文所使用的，当与术语“时间表”一起使用时，术语“函数”是指定义或描述在记录多个全息光栅时曝光的时间表相对于累积曝光时间的图解或数学表达式。
如本文所使用的，当与术语“时间表”一起使用时，术语“基本上线性函数”是指曝光时间表相对于提供直线或基本上直线的曝光时间的图形曲线。
如本文使用的，术语“支承基质”是指其中溶解、分散、包埋、封闭等聚合性组分的材料、介质、物质等。在一些示例中，支承基质典型地是低Tg的聚合物。聚合物可以是有机的、无机的或两者的混合物。在没有特别限制的情况下，聚合物可以是热固性的或热塑性的。
如本文所使用的，术语“不同形式”是指加工本公开的制品以形成具有不同形式的产品，例如将包括材料块、材料粉末、材料碎片等的制品加工成模制产品、片材、自由柔性膜、硬卡片、柔性卡片、挤出产品、沉积在基底上的膜等。
如本文所使用的，术语“颗粒材料”是指通过将制品研磨、切碎、破碎或以其他方式将制品细分成较小的组分而制成的材料，或者是指由诸如粉末的小组分组成的材料。
如本文所使用的，术语“自由柔性膜”是指不支承在基底上的情况下保持其形状的柔性材料的薄片。自由柔性膜的示例包括但不限于用于食品储存的多种类型的塑料包装。
如本文所使用的，术语“硬制品”是指弯曲时可能破裂或折皱的制品。硬性物品包括但不限于塑料信用卡、DVD、透明胶片、包装纸、运货箱等。
如本文使用的，术语“挥发性化合物”是指具有高蒸汽压和/或沸点低于约150℃的任何化学品。挥发性化合物的示例包括：丙酮、亚甲基氯化物、甲苯等。如果制品、混合物或组分不包括挥发性化合物，则该制品、混合物或组分是“不含挥发性化合物的”。
如本文所使用的，术语“低聚物”是指具有有限数目的重复单元(例如但不限于，约30个或更少的重复单元)的聚合物，或者当溶解在本公开的制品中时能够在室温下在约2分钟内扩散至少约100nm的任何大分子。这种低聚物可以包含一个或多个聚合性基团，从而聚合性基团可以与聚合性组分中的其他可能单体相同或不同。此外，当低聚物上存在多于一个聚合性基团时，它们可以是相同的或不同的。另外，低聚物可以是树枝状的。低聚物在本文被认为是光活性单体，尽管它们有时被称为“光活性低聚物”。
如本文所使用的，术语“光聚合”是指由在光引发光源处曝光而引起的任何聚合反应。
如本文所使用的，术语“抗进一步聚合”是指当没有在光引发光源处曝光时，聚合性组分的未聚合部分具有有意控制的且显著降低的聚合速率，从而使暗反应最小化、降低、减小、消除等。根据本公开，聚合性组分的未聚合部分的聚合速度的显著降低可以通过任何合适的组合物、化合物、分子、方法、机制等或它们的任何组合来实现，包括使用以下中的一种或多种：(1)聚合阻滞剂；(2)聚合抑制剂；(3)链转移剂；(4)亚稳态反应中心；(5)光或热不稳定的光终止剂；(6)光-酸产生剂、光-碱产生剂或光产生的自由基；(7)极性或溶剂化效应；(8)反离子效应；以及(9)单体反应性的变化。
如本文所使用的，术语“显著降低的速率”是指在光引发光源关闭或不存在后的几秒钟内将聚合速率降低到接近于零的速率，并且理想地降低到零。聚合速率典型地应该被降低到足以避免先前记录的全息图的保真度损失。
如本文所使用的，术语“暗反应”是指在没有光引发光源的情况下发生的任何聚合反应。在一些示例中，但不限于此，暗反应可以耗尽未使用的单体、可以引起动态范围的损失、可以引起噪声光栅、可以引起杂散光光栅、或者可以引起用于记录附加全息图的时间表中的不可预测性。
如本文所使用的，术语“自由基聚合”是指由含有一个或多个自由基的任何分子引发的任何聚合反应。
如本文所使用的，术语“阳离子聚合”是指由含有一个或多个阳离子部分的任何分子引发的任何聚合反应。
如本文所使用的，术语“阴离子聚合”是指由包含一个或多个阴离子部分的任何分子引发的任何聚合反应。
如本文所使用的，术语“光引发剂”是指术语光引发剂的常规含义，也指感光剂和染料。通常，当包含光引发剂的材料在活化光引发剂的波长的光(例如，光引发光源)处曝光时，光引发剂引起材料(诸如，光活性低聚物或单体)的光引发聚合。光引发剂可以指组分的组合，其中一些组分不单独地是光敏性的，但其组合能够固化光活性低聚物或单体，这些组分例如包括染料/胺、感光剂/碘鎓盐、染料/硼酸盐等。
如本文所用的，术语“光引发剂组分”是指单个光引发剂或两个或更多个光引发剂的组合。例如，两个或更多个光引发剂可以用于本公开的光引发剂组分中，以允许以两个或更多个不同波长的光进行记录。
如本文所使用的，术语“聚合性组分”是指一种或多种光活性聚合性材料，以及可能是能够形成聚合物的一种或多种附加的聚合性材料，例如单体和/或低聚物。
如本文所使用的，术语“聚合性部分”是指能够以任何水平(例如，引发、传播等)参与聚合反应的化学基团。聚合性部分包括但不限于加成聚合性部分和缩合聚合性部分。聚合性部分包括但不限于双键、三键等。
如本文所使用的，术语“光活性聚合性材料”是指在光引发剂存在的情况下聚合单体、低聚物及它们的组合，光引发剂通过在光引发光源(例如，记录光)处曝光而被激活。关于经历固化的官能团，光活性聚合性材料包括至少一个这样的官能团。还应当理解，存在也是光引发剂的光活性聚合性材料，例如N-甲基马来酰亚胺、衍生的苯乙酮等，并且在这种情况下，应当理解，本公开的光活性单体和/或低聚物也可以是光引发剂。
如本文所使用的，术语“光聚合物”是指由一种或多种光活性聚合性材料以及可能的一种或多种附加的单体和/或低聚物形成的聚合物。
如本文所使用的，术语“聚合阻滞剂”是指能够在光引发光源关闭或不存在的情况下减缓、降低等聚合速率，或能够在光引发光源关闭或不存在的情况下抑制聚合性组分的聚合的一种或多种组合物、化合物、分子等。聚合阻滞剂典型地与自由基缓慢地反应(与抑制剂相比)，因此，在光引发光源开启的情况下，聚合以降低的速率继续进行，因为一些自由基被阻滞剂有效地封端。在一些示例中，在足够高的浓度下，聚合阻滞剂可以潜在地表现为聚合抑制剂。在一些示例中，期望是在允许延迟聚合发生而不是抑制聚合的浓度范围内。
如本文所使用的，术语“聚合抑制剂”是指当光引发光源开启或关闭时，能够抑制或基本上抑制聚合性组分的聚合的一种或多种组合物、化合物、分子等。聚合抑制剂典型地与自由基非常快速地反应，并有效地阻止聚合反应。抑制剂导致一段抑制时间，在此期间很少或没有光聚合物形成，例如，只形成非常小的链。典型地，只有在几乎100％的抑制剂反应后，才会发生光聚合。
如本文所使用的，术语“链转移剂”是能够通过形成新的自由基来中断聚合物分子链的生长的一种或多种组合物、化合物、分子等，该新的自由基可以作为用于形成新的聚合物分子链的新的核进行反应。典型地，与没有链转移剂的情况下发生的聚合反应相比，链转移剂会导致更高比例的较短聚合物链的形成。在一些示例中，如果某些链转移剂不能有效地重新引发聚合，则它们可以表现为阻滞剂或抑制剂。
如本文所使用的，术语“亚稳态反应中心”是指具有利用某些聚合性组分产生假活性自由基聚合的能力的一种或多种化合物、化合物、分子等。还可以理解，红外光或热可以用来激活亚稳态反应中心进行聚合。
如本文所使用的，术语“光或热不稳定光终止剂”是指能够使用光源和/或热经历可逆终止反应的一种或多种组合物、化合物、组分、材料、分子等。
如本文所使用的，术语“光-酸产生剂”、“光-碱产生剂”和“光产生的自由基”是指当在光源处曝光时产生酸性的、碱性的或自由基的一种或多种组合物、化合物、分子等的一种或多种组合物、化合物、分子等。
如本文所使用的，术语“极性或溶剂化效应”是指溶剂或介质的极性对聚合速率具有一种或多种效应。这种效应对于离子聚合最为明显，其中反离子与反应链端的接近程度影响聚合速率。
如本文所使用的，术语“反离子效应”是指离子聚合中反离子对动力学链长具有效应。好的反离子允许非常长的动力学链长，而差的反离子倾向于随着反应链末端而坍塌，从而终止动力学链(例如，导致形成较小的链)。
如本文所使用的，术语“增塑剂”是指术语增塑剂的常规含义。一般而言，增塑剂是一种添加到聚合物中的化合物，其通过聚合物分子的内部改性(溶剂化)来促进加工并增加产品的弹性和/或韧性。
如本文所使用的，术语“热塑性塑料”是指热塑性塑料的常规含义，例如组合物、化合物、物质等，该热塑性塑料表现出材料(例如高聚物)的性质，该材料在暴露于热时变软并且在冷却到室温时通常返回其原始状态。热塑性塑料的示例包括但不限于：聚(甲基乙烯基醚-交替-马来酸酐)、聚(乙酸乙烯酯)、聚(苯乙烯)、聚(丙烯)、聚(环氧乙烷)、线型尼龙、线型聚酯、线型聚碳酸酯、线型聚氨酯等。
如本文所使用的，术语“室温热塑性塑料”是指在室温下是固体(例如在室温下不会冷流)的热塑性塑料。
如本文所使用的，术语“室温”是指通常公认的室温含义。
如本文所使用的，术语“热固性材料(thermoset)”是指热固性的常规含义，例如交联使得其不具有熔融温度的组合物、化合物、物质等。热固性材料的示例为交联型聚(氨基甲酸酯)、交联型聚(丙烯酸酯)、交联型聚(苯乙烯)等。
除非另有说明，否则本文描述的化学结构旨在包括仅在存在一个或多个同位素富原子时不同的化合物。例如，其中一个或多个氢原子被氘或氚取代的化合物，或者其中一个或多个碳原子被13C富集的或14C富集的碳取代的化合物都在本公开的范围内。
“烷基”是指只由碳原子和氢原子单独构成的、不含有不饱和的、具有1-10个碳原子(例如，(C1-10)烷基或C1-10烷基)的直链或支链碳氢链基团。无论何时在本文中出现，数值范围(例如，“1到10”)是指给定范围内的每个整数-例如，“1到10个碳原子”表示烷基可以由1个碳原子、2个碳原子、3个碳原子等、多达并包括10个碳原子组成，尽管该定义也旨在涵盖没有具体指定数值范围的情况下出现的术语“烷基”。典型的烷基包括但不限于甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基、己基、庚基、辛基、壬基和癸基。烷基部分可以通过单键附接到分子的其余部分，例如甲基(Me)、乙基(Et)、正丙基(Pr)、1-甲基乙基(异丙基)、正丁基、正戊基、1,1-二甲基乙基(叔丁基)和3-甲基己基。除非说明书中另有特别说明，否则烷基可以任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“烷基芳基”是指-(烷基)芳基基团，其中芳基和烷基如本文中所描述的，并且任选地被分别描述为芳基和烷基的合适取代基中的一种或多种取代。
“烷基杂芳基”是指-(烷基)杂芳基基团，其中杂芳基和烷基如本文中所描述的，并且任选地被分别描述为芳基和烷基的合适取代基中的一种或多种取代。
“烷基杂环烷基”是指-(烷基)杂环烷基基团，其中烷基和杂环烷基如本文中所描述的，并且任选地被分别描述为杂环烷基和烷基的合适取代基中的一种或多种取代。
“烯烃”部分是指由至少两个碳原子和至少一个碳-碳双键组成的基团，而“炔烃”部分是指由至少两个碳原子和至少一个碳-碳三键组成的基团。无论是饱和的还是不饱和的，烷基部分可以是支链、直链或环状的。
“烯基”是指仅由碳原子和氢原子构成的、含有至少一个双键、并且具有2至10个碳原子(例如，(C2-10)烯基或C2-10烯基)的直链或支链碳氢链基团。无论何时在本文中出现，数值范围(例如，“2至10”)是指给定范围内的每个整数-例如，“2至10个碳原子”表示烯基可以由2个碳原子、3个碳原子等、多达并包括10个碳原子构成。烯基部分可以通过单键附接到分子的其余部分，例如亚乙基(例如，乙烯基)、1-丙烯基(例如，烯丙基)、1-丁烯基、1-戊烯基和戊-1,4-二烯基。除非说明书中另有特别说明，否则烯基任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“烯基-环烷基”是指-(烯基)环烷基基团，其中烯基和环烷基如本文中所公开的，并且任选地被分别描述为烯基和环烷基的合适取代基中的一个或多个取代。
“炔基”是指仅由碳原子和氢原子组成的、含有至少一个三键、并且具有2至10个碳原子(例如，(C2-10)炔基或C2-10炔基)的直链或支链碳氢链基团。无论何时在本文中出现，数值范围，例如“2到10”是指给定范围内的每个整数--例如，“2到10个碳原子”表示炔基可以由2个碳原子、3个碳原子等、多达并包括10个碳原子组成。炔基可以通过单键附接到分子的其余部分，例如乙炔基、丙炔基、丁炔基、戊炔基和己炔基。除非说明书中另有特别说明，否则炔基任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“炔基-环烷基”是指-(炔基)环烷基基团，其中炔基和环烷基如本文所公开的，并且任选地被分别描述为炔基和环烷基的合适取代基中的一种或多种取代。
“甲醛(Carboxaldehyde)”是指-(C＝O)H基团。
“羧基”是指-(C＝O)OH基团。
“氰基”是指-CN基团。
“环烷基”是指只含碳和氢的、并且可以是饱和的或部分不饱和的单环或多环基团。环烷基团包括具有3至10个环原子的基团(例如，(C3-10)环烷基或C3-10环烷基)。无论何时在本文中出现，数值范围(例如，“3至10”)是指给定范围内的每个整数-例如，“3至10个碳原子”表示环烷基可以由3个碳原子等、多达并包括10个碳原子构成。环烷基基团的示例性示例包括但不限于以下部分：环丙基、环丁基、环戊基、环戊烯基、环己基、环己烯基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、降冰片基等。除非说明书中另有特别说明，否则环烷基任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“环烷基-烯基”是指-(环烷基)烯基基团，其中环烷基和烯基如本文所公开的，并且任选地被分别描述为环烷基和烯基的合适取代基中的一个或多个取代。
“环烷基-杂环烷基”是指-(环烷基)杂环烷基基团，其中环烷基和杂环烷基是本文公开的，并且任选地分别被描述为环烷基和杂环烷基的合适取代基中的一种或多种任选地取代。
“环烷基-杂芳基”是指-(环烷基)杂芳基基团，其中环烷基和杂芳基如本文所公开，并且任选地分别被描述为环烷基和杂芳基的合适取代基中的一种或多种任选地取代。
术语“烷氧基”是指-O-烷基，包括通过氧附接到母体结构的1至8个碳原子的直链的、支链的、环状构型的及它们的组合。示例包括但不限于甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、环丙氧基和环己氧基。“低级烷氧基”是指含有1至6个碳的烷氧基基团。
术语“取代的烷氧基”是指烷基组分被取代的烷氧基(例如，-O-(取代的烷基))。除非说明书中另有特别说明，否则烷氧基基团的烷基部分任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
术语“烷氧基羰基”是指通过羰基碳附接的式(烷氧基)(C＝O)-的基团，其中烷氧基基团具有指定数目的碳原子。因此，(C1-6)烷氧基羰基基团是通过其氧附接到羰基接头的、具有1至6个碳原子的烷氧基基团。“低级烷氧基羰基”是指烷氧基基团是低级烷氧基基团的烷氧基羰基基团。
术语“取代的烷氧基羰基”是指(取代的烷基)-O-C(O)-基团，其中该基团通过羰基官能团附接至母体结构。除非说明书中另有特别说明，否则烷氧基羰基基团的烷基部分任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“酰基”是指(烷基)-C(O)-、(芳基)-C(O)-、(杂芳基)-C(O)-、(杂烷基)-C(O)-和(杂环烷基)-C(O)-基团，其中该基团通过羰基官能团附接到母体结构。如果R基团是杂芳基或杂环烷基，则杂环或链原子构成链或环原子的总数。除非说明书中另有特别说明，否则酰基的烷基、芳基或杂芳基部分任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Rb(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“酰氧基”是指R(C＝O)O-基团，其中R是烷基、芳基、杂芳基、杂烷基或杂环烷基，如本文中所描述的。如果R基团是杂芳基或杂环烷基，则杂环或链原子构成链或环原子的总数。除非说明书中另有特别说明，否则酰氧基基团的R任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
除非说明书中另有特别说明，否则“氨基”或“胺”是指-N(Ra)2基团，其中各Ra独立地是氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。当-N(Ra)2基团具有除氢以外的两个Ra取代基时，它们可以与氮原子结合以形成4-元环、5-元环、6-元环或7-元环。例如，-N(Ra)2旨在包括但不限于1-吡咯烷基和4-吗啉基。除非说明书中另有特别说明，否则氨基任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
术语“取代的氨基”各自也指如上所述的-NHRd和-NRdRd基团的N-氧化物。N-氧化物可以通过用例如过氧化氢或间氯过氧苯甲酸处理相应的氨基来制备。
“酰胺”或“酰胺基”是指具有式-C(O)N(R)2或-NHC(O)R的化学部分，其中R选自由以下构成的组：氢、烷基、环烷基、芳基、杂芳基(通过环碳键合)和杂脂环族(通过环碳键合)，每个部分本身可以任选地被取代。酰胺基的-N(R)2的R2可以任选地与它所附接的氮一起形成4-元环、5-元环、6-元环或7-元环。除非说明书中另有特别说明，否则酰胺基可任选地由本文所述的烷基、环烷基、芳基、杂芳基或杂环烷基中的一个或多个取代基独立取代。酰胺可以是附接到本文公开的化合物的氨基酸或肽分子，从而形成前药。制造这种酰胺的方法和特定基团是本领域技术人员所公知的，并且可以容易地在重要来源中找到，诸如Greene和Wuts的Protective Groups in Organic Synthesis,3rd Ed.,John Wiley&Sons,New York,N.Y.,1999，其全文通过引用整体并入本文。
“芳族”或“芳基”或“Ar”是指具有6至10个环原子(例如，C6-C10芳族或C6-C10芳基)的芳族基团，其具有至少一个具有共轭pi电子体系的环，该环为碳环(例如，苯基、芴基和萘基)。由取代的苯衍生物形成的并在环原子上具有自由价的二价基团被称为取代的亚苯基基团。通过从具有自由价的碳原子中去除一个氢原子而衍生自单价多环烃基团(其名称以“-基”结尾)的二价基团通过在相应的单价基团的名称上加上“亚(-idene)”来命名，例如，具有两个附接点的萘基被称为亚萘基。无论何时在本文中出现，数值范围(例如，“6至10”)是指给定范围内的每个整数-例如，“6至10个环原子”表示芳基可以由6个环原子、7个环原子等、多达并包括10个环原子构成。该术语包括单环或稠环多环(例如，共享相邻环原子对的环)基团。除非说明书中另有特别说明，否则芳基部分任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。应当理解，在未指定位置处附接到芳族环上的取代基R(例如：)包括一个或多个、并多达最大数量的可能取代基。
术语“芳氧基”是指-O-芳基。
术语“取代的芳氧基”是指芳基取代基被取代的芳氧基(例如-O-(取代的芳基))。除非说明书中另有特别说明，否则芳氧基基团的芳基部分任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“芳烷基”或“芳基烷基”是指(芳基)烷基基团，其中芳基和烷基如本文中所描述的，并且任选地被分别描述为芳基和烷基的合适取代基中的一种或多种取代。
“酯”指式-COOR的化学基团，其中R选自烷基、环烷基、芳基、杂芳基(通过环碳键合)和杂脂环族(通过环碳键合)。制造酯的方法和特定基团是本领域技术人员所公知的，并且可以容易地在重要来源中找到，诸如Greene和Wuts的Protective Groups in OrganicSynthesis,3rd Ed.,John Wiley&Sons,New York,N.Y.,1999，其全文通过引用整体并入本文。除非说明书中另有特别说明，否则酯基基团任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“氟烷基”是指由如上定义的一种或多种氟基取代的如上定义的烷基基团，例如三氟甲基、二氟甲基、2,2,2-三氟乙基、1-氟化甲基-2-氟乙基等。氟烷基基团的烷基部分任选地被如上定义的烷基取代。
“卤素(halo)”、“卤化物”或可选地“卤素(halogen)”是指氟、氯、溴或碘。术语“卤代烷基”、“卤代烯基”、“卤代炔基”和“卤代烷氧基”包括被一个或多个卤代基团或它们的组合取代的烷基、烯基、炔基和烷氧基结构。例如，术语“氟烷基”和“氟烷氧基”分别包括卤代烷基和卤代烷氧基，其中卤素是氟。
“杂烷基”、“杂烯基”和“杂炔基”是指任选取代的烷基、烯基和炔基，并且它们具有一个或多个选自除碳以外的原子的骨架链原子，例如氧、氮、硫、磷或它们的组合。可以给出的数值范围(例如，C1-C4杂烷基)是指总的链长，在本示例中为4个原子长。杂烷基可以被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、硝基、氧代、硫代、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“杂烷基芳基”是指-(杂烷基)芳基基团，其中杂烷基和芳基如本文中所公开的，并且任选地被分别描述为杂烷基和芳基的合适取代基中的一个或多个取代。
“杂烷基杂芳基”是指-(杂烷基)杂芳基，其中杂烷基和杂芳基如本文中所公开的，并且任选地被分别描述为杂烷基和杂芳基的合适取代基中的一个或多个取代。
“杂烷基杂环烷基”是指-(杂烷基)杂环烷基，其中杂烷基和杂环烷基如本文中所公开的，并且任选地被分别描述为杂烷基和杂环烷基的合适取代基中的一个或多个取代。
“杂烷基环烷基”是指-(杂烷基)环烷基，其中杂烷基和环烷基如本文中所公开的，并且任选地被分别描述为杂烷基和环烷基的合适取代基中的一个或多个取代。
“杂芳基”或“杂芳族”或“HetAr”是指5-至18-元芳香族基团(例如，C5-C13杂芳基)，该5-至18-元芳香族基团包括选自氮、氧和硫的一个或多个环杂原子，并且可以是单环、双环、三环或四环体系。无论何时在本文中出现，数值范围(例如，“5至18”)是指给定范围内的每个整数-例如，“5至18个环原子”表示杂芳基可以由5个环原子、6个环原子等、多达并包括18个环原子组成。通过从具有自由价的原子中去除一个氢原子而衍生自单价杂芳基(其名称以“-基”结尾)的二价基团通过在相应的单价基团的名称上加上“亚(-idene)”来命名，例如，具有两个附接点的吡啶基被称为亚吡啶基。含N的“杂芳族”或“杂芳基”部分是指其中环的至少一个骨架原子是氮原子的芳族基团。多环杂芳基可以是稠合的或非稠合的。杂芳基中的杂原子被任选地氧化。一个或多个氮原子(如果存在)任选地被季铵化。杂芳基可以通过环上的任何原子而附接到分子的其余部分。杂芳基的示例包括但不限于，吖庚因基(azepinyl)、吖啶基、苯并咪唑基、苯并吲哚基、1,3-苯并间二氧杂环戊烯基、苯并呋喃、苯并恶唑基、苯并[d]噻唑基、苯并噻二唑基、苯并[b][1,4]二氧杂环庚烯基(benzo[b][1,4]dioxepinyl)、苯并[b][1,4]恶嗪基、1,4-苯并二氧六环基、苯并萘并呋喃基、苯并恶唑基、苯并间二氧杂环戊烯基、苯并二噁英基(benzodioxinyl)、苯并恶唑基、苯并吡喃基、苯并吡喃酮基、苯并呋喃基、苯并呋喃酮基、苯并呋咱基、苯并噻唑基、苯并噻吩基(苯并苯硫基)、苯并噻吩并[3,2-d]嘧啶基、苯并三唑基、苯并[4,6]咪唑并[1,2-a]吡啶基、咔唑基、噌啉基、环戊烯并[d]嘧啶基、6,7-二氢-5H-环戊烯并[4,5]噻吩并[2,3-d]嘧啶基、5,6-二氢苯并[h]喹唑啉、5,6-二氢苯并[h]噌啉基、6,7-二氢-5H-苯并[6,7]环庚并[1,2-c]哒嗪基、二苯并呋喃基、二苯并苯硫基、呋喃基、呋咱基、呋喃酮基、呋喃并[3,2-c]吡啶基、5,6,7,8,9,10-六氢环辛并[d]嘧啶基、5,6,7,8,9,10-六氢环辛并[d]哒嗪基、5,6,7,8,9,10-六氢环辛并[d]吡啶基、异噻唑、咪唑基、吲唑基、吲哚基、吲唑基、异吲哚基、吲哚啉基、异吲哚啉基、异喹啉基、吲嗪基、异噁唑基、5,8-亚甲基-5,6,7,8-四氢喹唑啉基，萘啶基，1,6-萘啶酮基(1,6-naphthyridinonyl)、恶二唑基、2-氧代吖庚因基、氧氮茂基、环氧乙烷基(oxiranyl)、5,6,6a,7,8,9,10,10a-八氢苯并[h]喹唑啉基、1-苯基-1H-吡咯基、吩嗪基、吩噻嗪基、吩恶嗪基、酞嗪基、蝶啶基、嘌呤基、吡喃基、吡咯基、吡唑基、吡唑并[3,4-d]嘧啶基、吡啶基、吡啶并[3,2-d]嘧啶基、吡啶并[3,4-d]嘧啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、吡咯基、喹唑啉基、喹喔啉基、喹啉基、异喹啉基、四氢喹啉基、5,6,7,8-四氢喹唑啉基、5,6,7,8-四氢喹唑啉基、5,6,7,8-四氢苯并[4,5]噻吩并[2,3-d]嘧啶基、6,7,8,9-四氢-5H-环庚并[4,5]-噻吩并[2,3-d]嘧啶基、5,6,7,8-四氢吡啶并[4,5-c]哒嗪基、噻唑基、噻二唑基、噻吡喃基(thiapyranyl)、三唑基、四唑基、三嗪基、噻吩并[2,3-d]嘧啶基、噻吩并[3,2-d]嘧啶基、噻吩并[2,3-c]吡啶基和苯硫基(例如，噻吩基)。除非说明书中另有特别说明，否则杂芳基部分任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、硝基、氧代、硫代、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
取代的杂芳基还包括用一个或多个氧化物(-O-)取代的环体系，例如吡啶基N-氧化物。
“杂芳基烷基”是指具有连接到本文所述的亚烷基的部分的本文所述的芳基部分的部分，其中与分子的其余部分的连接是通过亚烷基进行的。
“杂环烷基”是指稳定的3-元至18-元非芳族环基团，其包括2至12个碳原子和选自氮、氧和硫的1至6个杂原子。无论何时在本文中出现，数值范围(例如，“3至18”)是指给定范围内的每个整数-例如，“3至18个环原子”表示杂环烷基可以由3个环原子、4个环原子等、多达并包括18个环原子组成。除非说明书中另有特别说明，否则杂环烷基是单环、双环、三环或四环的环体系，该环体系可以包括稠合的或桥接的环体系。杂环烷基团中的杂原子可以任选地被氧化。一个或多个氮原子(如果存在)任选地被季铵化。杂环烷基团是部分或完全饱和的。杂环烷基可以通过环上的任何原子而附接到分子的其余部分。这种杂环烷基的示例包括但不限于，二氧杂环戊烷基、噻吩基[1,3]二噻烷基、十氢异喹啉基、咪唑啉基、咪唑烷基、异噻唑烷基、异恶唑烷基、吗啉基、八氢吲哚基、八氢异吲哚基、2-氧代哌嗪基、2-氧代哌啶基、2-氧代吡咯烷基、恶唑烷基、哌啶基、哌嗪基、4-吡咯酮基、吡咯烷基、吡唑烷基、奎宁环基、四氢噻唑基、四氢呋喃基、三噻烷基(trithianyl)、四氢吡喃基、硫代吗啉基、硫杂吗啉基(thiamorpholinyl)、1-氧代-硫代吗啉基、和1,1-二氧代-硫代吗啉基。除非说明书中另有特别说明，否则杂环烷基部分任选地被取代基中的一种或多种取代，这些取代基独立地为：烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环烷基、芳基、芳基烷基、杂芳基、杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、硝基、氧代、硫代、三甲基硅烷基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tRa(其中t为1或2)、-S(O)tORa(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)2(其中t为1或2)、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra(其中t为1或2)、或PO3(Ra)2，其中各Ra独立地为氢、烷基、氟烷基、碳环基、碳环烷基、芳基、芳基烷基、杂环烷基、杂环烷基烷基、杂芳基或杂芳基烷基。
“杂环烷基”还包括双环体系，其中一个非芳族环通常具有3至7个环原子，除了独立选自氧、硫和氮的1-3个杂原子外，还包含至少2个碳原子以及包括上述至少一个杂原子的组合；并且另一个环通常具有3至7个环原子，任选地包含独立选自氧、硫和氮的1-3个杂原子，并且不是芳族。
“硝基”是指-NO2基团。
“氧杂”是指-O-基团。
“氧代”是指＝O基团。
“异构体”是具有相同分子式的不同化合物。“立体异构体”是仅原子在空间中的排列方式不同的异构体-例如，具有不同的立体化学构型。“对映异构体”是一对立体异构体，它们是彼此不可重叠的镜像。一对对映体的1：1混合物是“外消旋”混合物。术语“(±)”在适当情况下用来表示外消旋混合物。“非对映异构体”是指具有至少有两个不对称原子、但不是彼此镜像的立体异构体。绝对立体化学根据卡恩-英格尔-普雷洛格R-S(Cahn-InGold-Prelog R-S)体系确定。当化合物是纯对映体时，每个手性碳的立体化学可以用(R)或(S)来指定。绝对构型未知的经拆分的化合物可以根据它们在钠D线波长上旋转平面偏振光的方向(右旋或左旋)而被命名为(+)或(-)。本文所描述的某些化合物包含一个或多个不对称中心，因此可以产生根据绝对立体化学定义为(R)或(S)的对映异构体、非对映异构体和其他立体异构体形式。本公开的化学实体、组合物和方法旨在包括所有这种可能的异构体，包括外消旋混合物、光学纯形式和中间体混合物。光学活性的(R)-异构体和(S)-异构体可以使用手性合成子或手性试剂来制备，或者使用传统的技术来拆分。当本文描述的化合物含有烯烃双键或其他几何不对称中心时，除非另有说明，否则旨在化合物应同时包括E几何异构体和Z几何异构体。
如本文所用的，“对映体纯度”是指特定对映体相对于另一对映体存在的相对量，以百分比表示。例如，如果可能潜在地具有(R)-或(S)-异构体构型的化合物作为外消旋混合物存在，则对映体纯度相对于(R)-或(S)-异构体约为约50％。如果化合物具有优于另一种异构体形式的一种异构体形式，例如80％的(S)-异构体和20％的(R)-异构体，则该化合物相对于(S)-异构体形式的对映体纯度为80％。化合物的对映体纯度可以通过本领域中已知的多种方法来确定，包括但不限于使用手性支承物的色谱法、偏振光旋转的偏振测量、使用手性位移试剂的核磁共振光谱分析，该手性位移试剂包括但不限于含镧系元素的手性络合物或Pirkle试剂，或者使用诸如Mosher酸的手性化合物的化合物的衍生作用，然后进行色谱法或核磁共振光谱分析。
在一些实施方案和示例中，富含对映体的组合物具有与该组合物的外消旋混合物不同的性质。可以通过本领域技术人员已知的方法从混合物中分离对映体，该方法包括手性高压液相色谱(high pressure liquid chromatography，HPLC)和手性盐的形成和结晶；或者优选的对映体可以通过不对称合成来制备。例如，参见Jacques等人的Enantiomers,Racemates and Resolutions,Wiley Interscience,New York(1981)；E.L.Eliel的Stereochemistry of Carbon Compounds,McGraw-Hill,New York(1962)；以及E.L.Eliel和S.H.Wilen的Stereochemistry of Organic Compounds,Wiley-Interscience,New York(1994)。
如本文使用的，术语“富含对映体的”和“非外消旋的”是指其中一种对映体的重量百分比大于外消旋组合物的对照混合物中该对映体的量(例如，按重量计大于1：1)的组合物。例如，(S)-对映体的富含对映体的制剂是指相对于(R)-对映体具有大于50重量％、例如至少75重量％、或例如至少80重量％的(S)-对映体的化合物的制剂。在一些实施方案和示例中，富含可以显著大于80重量％，从而提供一种“基本上富含对映体”或“基本上非外消旋”的制剂，它是指相对于另一对映体具有至少85重量％、例如至少90重量％、或至少95重量％的对映体的组合物的制剂。术语“对映体纯的”或“基本上对映体纯的”是指由至少98％的单一对映体和少于2％的相反对映体组成的组合物。
“部分”是指分子中的特定区段或官能团。化学部分通常是嵌入或附加到分子中的公认的化学实体。
“互变异构体”是通过互变异构化而相互转化的结构上不同的异构体。“互变异构化”是异构化的一种形式，并且包括质子异变互变异构化或质子转移互变异构化，后者被认为是酸-碱化学的一个子集。“质子异变互变异构化”或“质子转移互变异构化”涉及质子的迁移，伴随着键级的改变，通常是单键与相邻双键的互换。在可能发生互变异构化的地方(例如，在溶液中)，互变异构体可以达到化学平衡。互变异构化的示例是酮-烯醇互变异构化。酮-烯醇互变异构化的具体示例是戊烷-2,4-二酮和4-羟基戊基-3-烯-2-酮互变异构体的相互转化。互变异构化的另一个示例是苯酚-酮基互变异构化。苯酚-酮互变异构化的具体示例是吡啶-4-醇和吡啶-4(1H)-酮互变异构体的相互转化。
“离去基团或原子”是指在选定的反应条件下，从起始物质上裂解，从而促进在特定位点反应的任何基团或原子。除非另有说明，否者这些基团的示例包括卤素原子和甲磺酰氧基、对硝基苯磺氧基和甲苯磺酰氧基基团。
“保护基团”旨在意指选择性地封闭多官能团化合物中的一个或多个反应位点的基团，使得化学反应可以选择性地在另一个未受保护的反应位点上进行，然后该基团可以在选择反应完成后容易地被去除或去保护。例如，在T.H.Greene和P.G.M.Wuts的Protective Groups in Organic Synthesis,Third Edition,John Wiley&Sons,New York(1999)中公开了各种保护基团。
“溶剂化物”是指与一种或多种药物上可接受的溶剂的分子物理结合的化合物。
“取代的”是指所提及的基团可以具有附接的一个或多个附加的基团、自由基(radical)或部分，这些基团、自由基或部分单独且独立地选自例如酰基、烷基、烷基芳基、环烷基、芳烷基、芳基、碳水化合物、碳酸盐(酯)、杂芳基、杂环烷基、羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、烷基硫代、芳基硫代、氰基、卤素、羰基、酯、硫代羰基、异氰酸基、硫氰酸基、异硫氰酸基、硝基、氧代、全卤烷基、全氟烷基、磷酸酯、甲硅烷基、亚磺酰基、磺酰基、磺酰胺基、亚硫酸基(sulfoxyl)、磺酸酯、尿素和氨基，包括单取代和双取代氨基，及它们的受保护的衍生物。取代基本身可以被取代，例如，环烷基取代基本身可以在其一个或多个环碳上具有卤化物取代基。术语“任选取代的”是指用特定的基团、自由基或部分的任选取代。
“硫烷基(Sulfanyl)”是指包括-S-(任选取代的烷基)、-S-(任选取代的芳基)、-S-(任选取代的杂芳基)和-S-(任选取代的杂环烷基)的基团。
“亚磺酰基”是指包括-S(O)-H、-S(O)-(任选取代的烷基)、-S(O)-(任选取代的氨基)、-S(O)-(任选取代的芳基)、-S(O)-(任选取代的杂芳基)和-S(O)-(任选取代的杂环烷基)的基团。
“磺酰基”是指包括-S(O2)-H、-S(O2)-(任选取代的烷基)、-S(O2)-(任选取代的氨基)、-S(O2)-(任选取代的芳基)、-S(O2)-(任选取代的杂芳基)和-S(O2)-(任选取代的杂环烷基)的基团。
“磺酰胺基”或“磺酰氨基”是指-S(＝O)2-NRR基团，其中各R独立地选自由以下组成的组：氢、烷基、环烷基、芳基、杂芳基(通过环碳键合)和杂脂环族(通过环碳键合)。-S(＝O)2-NRR基团的-NRR中的R基团可以与其附接的氮一起形成4-元环、5-元环、6-元环或7-元环。磺酰氨基基团任选地被分别描述为烷基、环烷基、芳基、杂芳基的一个或多个取代基取代。
“次硫酸基(Sulfoxyl)”是指-S(＝O)2OH基团。
“磺酸酯基”是指-S(＝O)2-OR基团，其中R选自由以下组成的组：烷基、环烷基、芳基、杂芳基(通过环碳键合)和杂脂环族(通过环碳键合)。磺酸酯基团在R上任选地被分别描述的烷基、环烷基、芳基、杂芳基的一个或多个取代基取代。
本公开的化合物还包括这些化合物的结晶和无定形形式，包括，例如，化合物的多晶型物、假多晶型物、溶剂化物、水合物、未溶解的多晶型物(包括无水化合物)、构象多晶型物和无定形化合物，以及它们的混合物。“结晶形式”和“多晶型物”旨在包括化合物的所有的结晶形式和无定形形式，包括例如多晶型物、假多晶型物、溶剂化物、水合物、未溶解的多晶型物(包括无水化合物)、构象多晶型物和无定形形式及它们的混合物，除非是指特定的结晶形式或无定形形式。
为了避免疑问，本文旨在将结合本公开的特定方面、实施方案或示例描述的特定特征(例如，整数、特征、值、用途、疾病、公式、化合物或组)理解为适用于本文描述的任何其他方面、实施方案或示例，除非与其不相容。因此，在适当的情况下，可以结合在本文定义的任何定义、权利要求、实施方案来使用这些特征。本说明书(包括任何随附的权利要求、摘要和附图)中公开的所有特征和/或如此公开的任何方法或工艺的所有步骤可以以任何组合来组合，除非特征和/或步骤中的至少一些是相互排斥的组合。本公开不限于任何公开的实施方案或示例的任何细节。本公开扩展到本说明书(包括所附权利要求、摘要和附图)中公开的特征中的任何新颖特征或新颖特征组合，或扩展至如此公开的任何方法或过程的步骤的任何新颖步骤或任何新颖步骤组合。
体全息术
本文描述的全息记录介质可以用于全息系统中。全息图、波导或其他光学制品的形成依赖于介质的曝光区域与未曝光区域之间的折射率对比度(Δn)。能够在全息介质中存储的信息的量是光记录材料的折射率对比度Δn和光记录材料的厚度d的乘积的函数。折射率对比度Δn通常是已知的，并且被定义为写入平面波、体全息图的材料的折射率的正弦变化的幅度。折射率如下变化：
n(x)＝n0+Δn cos(Kx)
其中n(x)为空间变化的折射率，x为位置矢量，K为光栅波矢量，且n0为介质的基线折射率。参见，例如，P.Hariharan的Optical Holography:Principles,Techniques andApplications,Cambridge University Press,Cambridge,1991,at 44，该文献的公开内容通过引用并入本文。材料的Δn典型地根据记录在介质中的单个体全息图或一组体全息图的多路复用的一个或多个衍射效率来计算。Δn与写入之前的介质相关联，但是通过在记录之后执行的测量来观察。有利的是，本公开的光记录材料表现出3×10-3或更高的Δn。
在一些示例中，这种对比度至少部分是由于单体/低聚物扩散到曝光区域。例如，参见Colburn和Haines的“Volume Hologram Formation in Photopolymer Materials,”Appl.Opt.10,1636-1641,1971；Lesnichii等人的“Study of diffusion in bulk polymerfilms below glass transition:evidences of dynamical heterogeneities,”J.Phys.:Conf.Ser.1062 012020,2018。通常需要高折射率对比度，因为它在读取全息图时提供了改进的信号强度，并且提供了光波在波导中的有效限制。在一些示例中，在本公开中提供高折射率对比度的一种方法是使用具有例如被成为折射率对比部分的部分的光活性单体/低聚物，该部分基本上不存在于支承基质中，并且表现出基本上与支承基质的本体所表现的折射率基本不同的折射率。在一些示例中，可以通过使用主要包含脂族部分或饱和脂环族部分的支承基质和主要由芳族或类似的高折射率部分组成的光活性单体/低聚物来获得高对比度，该脂族部分或饱和脂环族部分具有低浓度的重原子和提供低折射率的共轭双键。
如本文所述，形成全息记录介质，使得可以对该介质进行全息写入和读取。典型地，介质的制造包括在使用例如垫片来包含混合物的两个板之间沉积支承基质/聚合性组分/光引发剂组分的组合、共混物、混合物等，以及任何组合物、化合物、分子等，该组合物、化合物、分子用于在没有光引发光源(例如，聚合阻滞剂)的情况下控制或显著降低聚合速率。板典型地是玻璃的，但也可以使用对用于写入数据的辐射透明的其他材料，例如诸如聚碳酸酯或聚(甲基丙烯酸甲酯)等的塑料。可以在板之间使用间隔物以保持记录介质的期望厚度。在需要光学平坦度的应用中，液体混合物可以在冷却(如果是热塑性塑料)或固化(如果是热固性塑料)期间收缩，从而使物品的光学平坦度变形。为了减少这种影响，将物品放置在包含支架(mount)(例如，真空吸盘)的装置中的板之间是有用的、该支架能够响应于平行度和/或间距的变化而被调节。在这样的装置中，可以通过使用传统的干涉方法来实时监控平行度，并且可以对加热/冷却过程进行任何必要的调节。在一些示例中，本公开的制品或基底可以具有抗反射涂层和/或可以被边缘密封以排除水和/或氧。可以通过诸如化学气相沉积的各种工艺在制品或基底上沉积抗反射涂层，并且可以使用已知的方法对制品或基底进行边缘密封。在一些示例中，光记录材料还能够以其他方式支承。也可以使用更常规的聚合物加工，例如闭模成型或片材挤出。也可以使用分层介质，例如，包含多个基底的介质(例如，玻璃)，其中光记录材料层设置在基底之间。
在一些示例中，本文描述的全息膜是由一个或多个基底膜、一个或多个光聚合物膜和一个或多个保护膜以任何期望的布置构成的膜组合物。在一些示例中，基底层的材料或材料复合物基于聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate，PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、醋酸纤维素、纤维素水合物、硝酸纤维素、环烯烃聚合物、聚苯乙烯、聚环氧化物、聚砜、三醋酸纤维素(cellulosetriacetate，CTA)、聚酰胺、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛或聚双环戊二烯或它们的混合物。此外，材料复合物(诸如膜层压物或共挤出物)可以用作基底膜。材料复合物的示例是具有根据方案A/B、A/B/A或A/B/C中的一种的结构的双重膜和三重膜，例如PC/PET、PET/PC/PET和PC/TPU(TPU＝热塑性聚氨酯)。在一些示例中，PC和PET被用作基底膜。在一些示例中，可以使用光学上透明的(例如，没有雾度的)透明基底膜。雾度可以通过雾度值来测量，该雾度值小于3.5％，或小于1％、或小于0.3％。雾度值描述了透射光的比例，该透射光经由被辐射通过的样品在向前方向上散射。因此，它是对透明材料的不透明度或雾度的测量，并定量材料或干扰透明度的材料表面中的材料缺陷、颗粒、不均匀性或晶相边界。用于测量雾度的方法在标准ASTM D 1003中进行描述。
在一些示例中，基底膜具有不太高的光延迟，例如小于1000nm、或小于700nm或小于300nm的平均光学延迟。利用成像偏振仪实现了对光延迟的自动和客观测量。在垂直入射时测量光延迟。所述基底膜的延迟值是横向平均值。
在一些示例中，包括在一侧或两侧上可能的涂层的基底膜具有5至2000μm、或8至300μm、或30至200μm、或125至175μm、或30至45μm的厚度。
在一些示例中，为了保护膜复合物免受污垢和环境影响，膜复合物可以在光聚合物层上具有一个或多个覆盖层。塑料膜或薄膜复合体系，以及还有透明涂层可以用于这种目的。在一些示例中，覆盖层是类似于在基底膜中使用的材料的膜材料，具有的厚度为5至200μm、或8至125μm、或20至50μm。在一些示例中，优选具有尽可能平滑的表面的覆盖层。粗糙度可以根据DIN EN ISO 4288进行测定。在一些示例中，粗糙度在小于或等于2μm、或小于或等于0.5μm的区域内。在一些示例中，具有20至60μm厚度的PE或PET膜可以用作层压膜。在一些示例中，可以使用40μm厚的聚乙烯膜。在一些示例中，可以使用另外的保护层，例如基底膜的背衬。
在一些示例中，本文描述的制品可以表现出热塑性性质，并且可以加热到高于其熔融温度，并以本文针对支承基质/聚合性组分/光引发剂组分/聚合阻滞剂的组合、共混物、混合物等描述的方式进行加工。
其他光学制品的示例包括光束滤光器、光束导向器或偏转器以及光学耦合器。参见，例如，Solymar和Cooke的“Volume Holography and Volume Gratings,”AcademicPress,315-327,1981，其通过引用并入本文。光束滤光器将沿特定角度行进的入射激光的一部分与光束的其余部分分开。具体地，厚透射式全息图的布拉格选择性能够选择性地衍射沿特定的入射角的光，而沿其他角度的光不偏转地行进通过全息图。例如，参见Ludman等人的“Very thick holographic nonspatial filtering of laser beams,”OpticalEngineering,Vol.36,No.6,1700,1997，其通过引用结合于此。光束导向器是偏转以布拉格角入射的光的全息图。光耦合器典型地是将光从源转向目标的光束偏转器的组合。典型地被称为全息光学元件的这些制品通过对记录介质内的特定光学干涉图案进行成像来制造，如先前相对于数据存储所讨论的。用于这些全息光学元件的介质能够通过本文讨论的针对记录介质或波导的技术来形成。
本文所讨论的材料原理不仅适用于全息图的形成，而且也适用于光学传输装置(例如，波导)的形成。聚合物光波导例如在Booth的“Optical InterconnectionPolymers,”in Polymers for Lightwave and Integrated Optics,Technology andApplications,Hornak,ed.,Marcel Dekker,Inc.(1992)；美国专利号5,292,620(Booth等人),issued Mar.18,1994；以及美国专利号5,219,710(Horn等人),issued Jun.15 1993中进行了描述，它们通过引用并入本文。在一些示例中，本文描述的记录材料以期望的波导图案进行照射，以在波导图案与周围(包层)材料之间提供折射率对比度。例如，可以通过聚焦激光或通过使用具有非聚焦光源的掩模来进行曝光。通常，以这种方式曝光单层以提供波导图案，并且添加附加层以完成包层，从而完成波导。
在本公开的一个示例中，使用常规的模塑技术，可以模制支承基质/聚合性组分/光引发剂组分/聚合阻滞剂的组合、共混物、混合物等，从而通过冷却到室温在制品形成之前实现各种形状。例如，可以将支承基质/聚合性组分/光引发剂组分/聚合阻滞剂的组合、共混物、混合物等模制成脊形波导，其中将多个折射率图案写入模制的结构中。因此，可以容易地形成诸如布拉格光栅的结构。本公开的这种特征增加了使这样的聚合物波导有用的应用范围。
两级光聚合物
光聚合物的目的是准确地记录三维光学图案的相位和振幅。在曝光过程中，光学图案被记录为光聚合物膜的内部折射率的调制。光通过光聚合反应转化为折射率的变化，这导致高折射率物质和低折射率物质分别扩散到亮条纹和暗条纹。
两级光聚合是指“固化”两次的材料(图3A-3C)。它典型地由(至少)以下三种材料构成：i)基质：典型地是低折射率橡胶聚合物(诸如聚氨酯)，其经过热固化(第一级)以在全息曝光期间提供机械支承，并确保折射率调制被永久保持；ii)写入单体：典型地是与光引发剂反应并快速聚合的高折射率丙烯酸酯单体；以及iii)光引发剂(photoinitiator，PI)体系：与光反应并引发写入单体聚合的化合物或化合物的组。对于可见光聚合，PI体系通常由两种共同作用的化合物构成。“染料”或“感光剂”吸收光，并将能量或某些活性物质传递给“共引发剂”，该共引发剂实际上引发了聚合反应。
全息光聚合物的性能在很大程度上通过聚合期间物质如何扩散来确定。通常，聚合和扩散在曝光区域内以相对不受控的方式同时发生。这导致了若干不期望的影响。在开始或终止反应后不与基质结合的聚合物可以自由地从膜的曝光区域扩散到未曝光区域。这使得产生的条纹变得“模糊”，降低了最终全息图的Δn和衍射效率。在曝光期间Δn的积累意味着后续曝光可以散射来自这些光栅的光，从而导致噪声光栅的形成。这在最终的波导显示器中产生了雾度和清晰度的损失。对于具有恒定剂量/曝光的一系列多路复用曝光，第一次曝光将消耗大部分单体，导致在每次曝光的情况下、衍射效率呈指数下降。为了平衡所有全息图的衍射效率，需要复杂的“剂量时间表”程序。
如图2所示，受控的自由基聚合可以用于全息术应用。用于这种应用的一般目标是设计一种光聚合物材料，该光聚合物材料对可见光敏感、产生大的Δn响应并控制光聚合物的反应/扩散，从而减少或抑制链转移反应和终止反应。在传统的光聚合材料内部发生的聚合反应被称为自由基聚合，该自由基聚合具有几个特性：在曝光时立即产生自由基物质，自由基通过向链末端添加单体而引发聚合并传播，自由基还通过脱氢反应和链转移反应与基质反应，并且自由基可以通过与其他自由基结合或与抑制物种(例如O2)反应而终止。可以使用的受控的自由基聚合包括原子转移自由基聚合(Atom Transfer RadicalPolymerization，ATRP)、可逆加成-断裂链转移聚合(Reversible Addition-Fragmentation Chain Transfer Polymerization，RAFT)和氮氧化物介导的聚合(Nitroxide-mediated Polymerization，NMP)。
该基质是由基质前体通过固化步骤(固化表示诱导前体的反应以形成聚合物基质的步骤)原位形成的固体聚合物。前体可以是一种或多种单体、一种或多种低聚物、或单体和低聚物的混合物。此外，在单个前体分子上或在一组前体分子中可能存在多于一种类型的前体官能团。前体官能团是前体分子上的一个或多个基团，它们是在基质固化过程中用于聚合的反应位点。为了促进与光活性单体的混合，在一些示例中，前体在约-50℃和约80℃之间的某个温度下是液体。在一些示例中，基质聚合能够在室温下进行。在一些示例中，聚合能够在少于300分钟(例如，在约5分钟与约200分钟之间)的时间段内进行。在一些实施方案中，光记录材料的玻璃化转变温度(Tg)足够低，以允许光活性单体在全息记录过程中的充分扩散和化学反应。通常，Tg不高于执行全息记录的温度50℃，对于典型的全息记录，这意味着Tg在约80℃与约-130℃之间(如通过常规方法测量的)。在一些示例中，与线性结构相反，该基质呈现三维网络结构，以提供本文描述的期望的模数。
在一些示例中，基质前体(例如，形成基质的一种或多种化合物)以及通过独立反应聚合的光活性单体的使用基本上防止了固化期间光活性单体与基质前体之间的交叉反应，并且抑制后续的单体聚合。形成相容聚合物的基质前体和光活性单体的使用基本上避免了相分离，并且原位形成允许制造具有所需厚度的介质。这些材料特性也可以用于形成各种光学制品(光学制品是依赖于折射率图案的形成或折射率中的调制以控制或改变射向它们的光的制品)。除了记录介质之外，这种制品包括但不限于光波导、光束导向器和滤光器。
在一些示例中，独立反应表明：(a)反应由不同类型的反应中间体(例如，离子对于自由基)进行，(b)中间体或基质聚合的条件都不会引起光活性单体官能团的大量聚合，例如，在图案(例如，全息图)写入过程中用于聚合的反应位点的光活性单体上的一个或多个基团(大量聚合表示超过20％的单体官能团的聚合)，以及(c)无论是中间体还是基质聚合的条件都不会引起单体官能团的非聚合反应，该非聚合反应引起单体官能团与基质之间的交叉反应、或抑制单体官能团随后的聚合。
在一些示例中，如果聚合物的共混物用于形成全息图的波长的90°光散射的特征在于瑞利比(R90°)小于7×10-3cm-1，则认为聚合物是相容的。瑞利比(Rθ)是常规已知的性质，并且被定义为当介质用单位强度的非偏振光照射时，每球面度单位体积在θ方向上散射的能量，如Kerker在“The Scattering of Light and Other ElectromagneticRadiation,”Academic Press,San Diego,1969,at 38中所讨论的。用于测量的光源通常是在光谱的可见部分中具有波长的激光器。通常，使用用于写入全息图的波长。散射测量是在被整片曝光(flood expose)的光记录材料上进行的。典型地由光检测器以与入射光成90°的角度收集散射光。可以在这样的光检测前面放置以激光波长为中心的窄带滤光器来阻挡荧光，尽管这样的步骤不是必需的。瑞利比典型地通过与具有已知瑞利比的参考材料的能量散射进行比较而获得。例如，根据常规测试被认为可混溶的(诸如表现单一玻璃化转变温度的)聚合物典型地也将是相容的。但相容的聚合物不一定是可混溶的。原位表明，基质在可光成像系统存在的情况下被固化。获得了有用的光记录材料，例如基质材料加上光活性单体、光引发剂和/或其他添加剂，该材料能够以大于200μm、在一些示例中大于500μm的厚度形成，并且在整片曝光后表现出光散射特性，使得瑞利比R90小于7×10-3cm-1。在一些示例中，整片曝光是通过在适合于在整个材料中诱导光活性单体基本上完全聚合的波长下的非相干光对整个光记录材料进行曝光。
例如，根据诸如常规测试被认为可混溶的(诸如表现单一玻璃化转变温度的)聚合物共混物典型地也将是相容的，例如，混相性是相容性的一个子集。因此，标准混溶性指南和表格在选择相容的共混物时很有用。然而，根据本文描述的光散射，不混溶的聚合物共混物是可能相容的。
如果通过常规的方法测量的共混物表现出单一的玻璃化转变温度Tg，则聚合物共混物通常被认为是可混溶的。不混溶的共混物通常会表现出与单独聚合物的Tg值相对应的两个玻璃化转变温度。Tg测试通常通过差示扫描量热法(differential scanningcalorimetry，DSC)执行，它将Tg显示为热流(典型地是纵坐标)的阶跃变化。报告的Tg典型地是纵坐标在转变之前和之后达到外推基线之间的中点的温度。也可以使用动态力学分析(Dynamic Mechanical Analysis，DMA)来测量Tg。DMA测量材料的存储模数，该存储模数在玻璃化转变区域下降几个数量级。在某些情况下，共混物的聚合物可能具有彼此接近的单独Tg值。在这种情况下，应该使用用于拆分这样的重叠的Tg的常规方法，如Brinke等人在“The thermal characterization of multi-component systems by enthalpyrelaxation,”Thermochimica Acta.,238,75,1994中所讨论的。
表现出混溶性的基质聚合物和光聚合物能够以多种方式选择。例如，可获得若干已出版的可混溶聚合物的汇编，例如OLabisi等人的“Polymer-Polymer Miscibility,”Academic Press,New York,1979；Robeson的MMI.Press Symp.Ser.,2,177,1982；Utracki的“Polymer Alloys and Blends:Thermodynamics and Rheology,”Hanser Publishers,Munich,1989；和S.Krause in Polymer Handbook,J.Brandrup and E.H.Immergut,Eds.；3rd Ed.,Wiley Interscience,New York,1989,pp.VI 347-370，这些文献通过引用并入本文。即使在这些参考文献中没有发现目标特定聚合物，所指定的方法也允许通过使用对照样品来确定相容的光记录材料。
通过对分子间相互作用的考虑进一步有助于通过典型地驱动混溶性的分子间相互作用来确定可混溶或相容的共混物。例如，因为甲醚基团与苯环之间存在吸引力的相互作用，因此聚苯乙烯和聚(甲基乙烯基醚)是可混溶的。因此，可以通过使用在一种聚合物中的甲醚基团和在另一种聚合物中的苯基来促进两种聚合物的混溶性，或者至少相容性。不混溶的聚合物也可以通过加入可以提供离子作用的适当的官能团来变得可混溶。参见Zhou和Eisenberg的J.Polym.Sci.,Polym.Phys.Ed.,21(4),595,1983；Murali和Eisenberg的J.Polym.Sci.,Part B:Polym.Phys.,26(7),1385,1988；以及Natansohn等人的Makromol.Chem.,Macromol.Symp.,16,175,1988。例如，聚异戊二烯和聚苯乙烯是不混溶的。然而，当聚异戊二烯部分磺化(5％)，且4-乙烯基吡啶与聚苯乙烯共聚时，这两种官能化聚合物的共混物是可混溶的。不希望受到任何特定理论的约束，可以认为磺化基团和吡啶基团之间的离子相互作用(质子转移)是使该共混物可混溶的驱动力。类似地，通常不混溶的聚苯乙烯和聚(丙烯酸乙酯)通过将聚苯乙烯进行轻度磺化而变得可混溶。参见Taylor-Smith和Register的Macromolecules,26,2802,1993。电荷转移也被用来制造原本不混溶的可混溶聚合物。例如，已经证明，尽管聚(甲基丙烯酸酯)和聚(甲基丙烯酸甲酯)是不混溶的，但如果使用适量的供体和受体，聚(甲基丙烯酸酯)与(N-乙基咔唑-3-基)丙烯酸甲酯(电子供体)共聚、且聚(甲基丙烯酸甲酯)与2-[(3,5-二硝基苯甲酰基)氧基)乙酯]乙基甲基丙烯酸酯(电子受体)共聚的共混物是可混溶的。参见Piton和Natansohn的Macromolecules,28,15,1995。使用对应的供体-受体共聚单体也能够使聚(甲基丙烯酸甲酯)和聚苯乙烯混溶。参见Piton和Natansohn的Macromolecules,28,1605,1995。
存在用于评估聚合物的混溶性或相容性的多种测试方法，正如最近发表在Hale和Bair，Ch.4—“Polymer Blends and Block Copolymers,”Thermal Characterization ofPolymeric Materials,2nd Ed.,Academic Press,1997中的概述所反映的。例如，在光学方法领域中，不透明度典型地表示两相材料，而透明度通常表示相容的体系。用于评估混溶性的其他方法包括中子散射、红外光谱(IR)、核磁共振(nuclear magnetic resonance，NMR)、X射线散射和衍射、荧光、布里渊散射、熔化滴定、量热法和化学发光。总体上参见本文中的Robeson；Krause的Chemtracts—Macromol.Chem.,2,367,1991；Vesely in PolymerBlends and Alloys,Folkes and Hope,Eds.,Blackie Academic and Professional,Glasgow,pp.103-125；Coleman等人的Specific Interactions and the Miscibility ofPolymer Blends,Technomic Publishing,Lancaster,Pa.,1991；Garton的InfraredSpectroscopy of Polymer Blends Composites and Surfaces,Hanser,New York,1992；Kelts等人的Macromolecules,26,2941,1993；White和Mirau的Macromolecules,26,3049,1993；White和Mirau的Macromolecules,27,1648,1994；以及Cruz等人的Macromolecules,12,726,1979；Landry等人的Macromolecules,26,35,1993。
在一些示例中，通过将反应性基团合并至聚合物基质中，也促进了在以其他方式不相容的聚合物中的相容性，其中这些基团能够在全息记录步骤期间与光活性单体反应。因此，在记录期间，一些光活性单体将接枝到基质上。如果存在足够的这种接枝，则可以防止或减少记录期间的相分离。然而，如果接枝部分和单体的折射率相对相似，则太多的接枝(例如，超过30％的单体接枝到基质上)将倾向于不希望地降低折射率对比度。
本公开的光学制品通过包括混合基质前体和光活性单体、以及固化混合物以原位形成基质的步骤形成。在一些示例中，在固化期间聚合基质前体的反应独立于在写入图案(例如，数据或波导形式)期间随后聚合光活性单体的反应，并且此外，基质聚合物和由光活性单体聚合产生的聚合物(例如，光聚合物)彼此相容。当光记录材料表现出至少约105Pa的弹性模量时，则认为形成了基质。在一些示例中，当光记录材料(例如，基质材料加上光活性单体、光引发剂和/或其他添加剂)表现出至少约105Pa的弹性模量时，则认为形成了基质。在一些示例中，当光记录材料(例如，基质材料加上光活性单体、光引发剂和/或其他添加剂)表现出约105Pa至约109Pa的弹性模量时，则认为形成了基质。在一些示例中，当光记录材料(例如，基质材料加上光活性单体、光引发剂和/或其他添加剂)表现出约106Pa至约108Pa的弹性模量时，则认为形成了基质。
在一些示例中，这里描述的光学制品包含三维交联聚合物基质和一种或多种光活性单体。至少一种光活性单体含有基本上不存在于聚合物基质中的一个或多个部分(不包括单体官能团)。基本上不存在表示可以在光活性单体中找到部分，使得光记录材料中的所有这些部分中以不超过20％存在于基质中，例如共价键合。主体基质与单体之间由此产生的独立性在全息介质中提供了有用的记录特性，并且在波导中提供了所需的特性，例如能够在不需要高浓度的光活性单体的情况下形成折射率的大调制。另外，可以在没有溶剂显影的情况下形成该材料。
在一些示例中，可以使用利用通过非独立反应聚合的基质前体和光活性单体的介质，从而在基质固化期间产生前体与光活性单体之间的基本交叉反应(例如，固化后多于20％的单体附接到基质上)，或者抑制光活性单体的聚合的其他反应。交叉反应倾向于降低基质与光活性单体之间的折射率对比度，并能够影响光活性单体的后续聚合，而单体聚合的抑制显然会影响写入全息图的过程。针对相容性，以前的工作关注的是基质聚合物中光活性单体的相容性，而不是基质中所得到的光聚合物的相容性。然而，在光聚合物和基质聚合物不相容的情况下，在全息图形成期间典型地会发生相分离。这种相分离可能导致增加的光散射，反映为雾度或不透明，从而使介质的质量以及能够恢复存储的数据的保真度恶化。
在一个示例中，支承基质是热塑性的，并且允许本文描述的制品表现得好像整个制品是热塑性的。也就是说，支承基质允许制品以类似于加工热塑性塑料的方式来加工，例如，模制成成型的制品、吹塑成膜、以液体形式沉积在基底上、挤压、辊压、压制、制成片材料等，然后允许在室温下硬化以获得稳定的形状或形式。该支承基质可以包括一种或多种热塑性塑料。适合的热塑性塑料包括：聚(甲基乙烯基醚-交替-马来酸酐)、聚(乙酸乙烯酯)、聚(苯乙烯)、聚(丙烯)、聚(环氧乙烷)、线性尼龙、线性聚酯、线性聚碳酸酯、线性聚氨酯、聚(氯乙烯)、聚(乙烯醇-共-聚乙酸乙烯酯)等。在一些示例中，可以用于形成基质聚合物的聚合反应包括阳离子环氧基聚合、阳离子乙烯基醚聚合、阳离子烯烃基醚聚合、阳离子丙二烯醚聚合、阳离子乙烯酮缩醛聚合、环氧-胺分步聚合、环氧-硫醇分步聚合、不饱和酯-胺分步聚合(例如，通过迈克尔加成)、不饱和酯-硫醇分步聚合(例如，通过迈克尔加成)、乙烯基-硅氢化物分步聚合(氢化硅烷化)、异氰酸酯-羟基分步聚合(例如，氨基甲酸酯形成)、异氰酸酯-胺分步聚合(例如，脲形成)等的聚合反应。
在一些示例中，本文描述的光聚合物制剂包括通过使聚异氰酸酯组分与异氰酸酯反应性组分反应而可获得的基质聚合物。异氰酸酯组分优选地包括聚异氰酸酯。可以使用的聚异氰酸酯是本领域技术人员本身已知的所有化合物或其混合物，每个分子平均具有两个或更多NCO官能团。它们可以具有芳族、芳脂族、脂肪族或环脂族的基础。含有不饱和基团的单异氰酸酯和/或聚异氰酸酯也可以少量同时使用。在一些示例中，异氰酸酯组分包括以下的一种或多种：丁烯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(hexamethylene diisocyanate，HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(isophorone diisocyanate，IPDI)、1,8-二异氰酸基-4-(异氰酸基甲基)辛烷、2,2,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯和/或2,4,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、异构双(4,4'-异氰酸基环己基)甲烷及其具有任何期望的异构体含量的混合物、异氰酸基甲基-1,8-辛二异氰酸酯、1,4-亚环己二异氰酸酯、异构环己烷二亚甲基二异氰酸酯、1,4-亚苯基二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯和/或2,6-甲苯二异氰酸酯、1,5-亚萘基二异氰酸酯、2,4-二苯基甲烷二异氰酸酯或4,4-二苯基甲烷二异氰酸酯和/或三苯基甲烷4,4',4”-三异氰酸酯。还可以使用具有氨基甲酸酯、脲、碳二亚胺、酰脲、异氰脲酸酯、脲基甲酸酯、缩二脲、恶二嗪三酮、脲二酮(uretdione)和/或亚氨基恶二嗪二酮结构的单体二异氰酸酯或三异氰酸酯的衍生物。在一些示例中，优选使用基于脂肪族和/或脂环族二异氰酸酯或三异氰酸酯的聚异氰酸酯。在一些示例中，聚异氰酸酯是二聚或低聚脂肪族和/或脂环族二异氰酸酯或三异氰酸酯。在一些示例中，优选基于HDI和1,8-二异氰酸酯-4-(异氰酸基甲基)辛烷或其混合物的异氰尿酸酯、脲二酮和/或亚氨基恶二嗪二酮。
在一些示例中，可以使用具有氨基甲酸酯、脲基甲酸酯、缩二脲和/或酰胺基团的NCO官能团预聚体。还可以以本领域技术人员本身已知的方式，通过将单体、低聚物或聚异氰酸酯与异氰酸酯反应性化合物以适当的化学计量反应，任选地使用催化剂和溶剂来获得预聚体。在一些示例中，合适的聚异氰酸酯是本领域技术人员已知的脂肪族、脂环族、芳族或芳脂族的二异氰酸酯和三异氰酸酯，它们是通过光合作用还是通过无光气方法获得的并不重要。此外，本领域技术人员所熟知的，具有氨基甲酸酯、脲、碳二亚胺、酰脲、异氰脲酸酯、脲基甲酸酯、缩二脲、恶二嗪三酮、脲二酮或亚氨基恶二嗪二酮结构的单体二异氰酸酯和/或三异氰酸酯的较高分子质量的后续产品也可以在每种情况下单独使用，或以彼此所需的任何混合物的形式使用。可以使用的合适的单体二异氰酸酯或三异氰酸酯的示例是丁二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、三甲基六亚甲基二异氰酸酯(trimethylhexamethylene diisocyanate，TMDI)、1,8-二异氰酸基-4-(异氰酸基甲基)辛烷、异氰基甲基-1,8-辛烷二异氰酸酯(isocy anatomethy 1-1,8-octanediisocyanate，TIN)、2,4-甲苯二异氰酸酯和/或2,6-甲苯二异氰酸酯。
OH-官能化合物优选地被用作用于合成预聚物的异氰酸酯反应性化合物。所述化合物类似于本文描述的其他OH-官能团化合物。在一些实施方案中，OH-官能化合物是具有200-6200g/mol数均摩尔质量的聚酯多元醇和/或聚醚多元醇。可以使用基于乙二醇和丙二醇的双官能聚醚多元醇(丙二醇的比例为至少为40重量％)，以及具有200至4100g/mol数均摩尔质量的四氢呋喃聚合物和具有200至3100g/mol数均摩尔质量的脂族聚酯多元醇。在一些示例中，可以使用基于乙二醇和丙二醇基的双官能聚醚多元醇(丙二醇占至少80重量％)(特别是纯聚丙二醇)，以及具有200-2100g/mol数均摩尔质量的四氢呋喃聚合物。在一些示例中，可以使用丁内酯、ε-己内酯和/或甲基-ε-己内酯(特别是ε-己内酯)与含有2至20个碳原子的脂肪族、芳脂族或脂环族二官能醇、三官能醇或多官能醇(特别是具有3至12个碳原子的双官能脂肪族醇)的加合物。在一些示例中，这些加合物具有200至2000g/mol、或500至1400g/mol的数均摩尔质量。
脲基甲酸酯也可以用作其他预聚物或低聚物的混合物。在这些情况下，使用官能度为1至3.1的OH-官能团化合物是有利的。当使用单官能醇时，具有3至20个碳原子的醇是优选的。
也可以使用胺来制备预聚物。例如，乙二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、丙二胺、二氨基环己烷、二氨基苯、二氨基二苯基、双官能多胺，例如具有高达10 000g/mol数均摩尔质量的(胺封端的聚合物)或它们彼此的任何所需混合物都是合适的。
为了制备含有缩二脲基团的预聚物，过量的异氰酸酯与胺反应，形成缩二脲基团。在这种情况下，用于与所提及的二异氰酸酯、三异氰酸酯和多异氰酸酯反应的合适的胺都是本文所描述的低聚或多聚的、伯双官能胺或仲双官能胺。在一些示例中，可以使用基于脂肪胺和脂族异氰酸酯的脂族缩二脲。在一些示例种，可以使用基于脂族二胺或双官能多胺和脂族二异氰酸酯(特别是HDI和TMDI)的、具有小于2000g/mol数均摩尔质量的低分子量缩二脲。
在一些示例中，预聚物是从脂族异氰酸酯官能化合物和具有200g/mol至10000g/mol的数均摩尔质量的低聚或聚合的异氰酸酯反应性化合物获得的氨基甲酸酯、脲基甲酸酯或缩二脲；在一些示例中可以使用从脂族异氰酸酯官能化合物和具有200g/mol至6200g/mol的数均摩尔质量的多元醇、或具有小于3000g/mol的数均摩尔质量的(多)胺获得的氨基甲酸酯、脲基甲酸酯或缩二脲；并且在一些示例中可以使用从HDI或TMDI和具有200g/mol至2100g/mol的数均摩尔质量的双官能聚醚多元醇(特别是聚丙二醇)获得的脲基甲酸酯，从HDI或TMDI获得的基于丁内酯、ε-己内酯和/或甲基-ε-己内酯(特别是ε-己内酯)与具有500g/mol至3000g/mol、特别优选地1000g/mol至2000g/mol的数均摩尔质量的包含2至20个碳原子的脂族、芳脂族或脂环族的二官能醇、三官能醇或多官能醇(特别是与具有3至12个碳原子的双官能脂族醇)的加合物(特别是作为与双官能脂族异氰酸酯的其他低聚物的混合物)的氨基甲酸酯，或者从HDI或TMDI获得的基于具有在2000g/mol和6200g/mol之间的数均摩尔质量的三官能聚醚多元醇(特别是聚丙二醇)的氨基甲酸酯，以及从HDI或TMDI与具有200g/mol至1400g/mol的数均摩尔质量的双官能胺或多胺(特别是还作为与双官能脂族异氰酸酯的其他低聚物的混合物)而获得的缩二脲。在一些示例中，本文描述的预聚物具有低于2重量％、小于1.0重量％或小于0.5重量％的游离单体异氰酸酯的残留量。
在一些示例中，除了所描述的预聚体之外，异氰酸酯组分还按比例包含进一步的异氰酸酯组分。芳族的、芳脂族的、脂肪族的和环脂族的二异氰酸酯、三异氰酸酯或多异氰酸酯适用于这种目的。也可以使用这种二异氰酸酯、三异氰酸酯或多异氰酸酯的混合物。合适的二异氰酸酯、三异氰酸酯或多异氰酸酯的示例是丁烯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、1,8-二异氰酸基-4-(异氰酸基甲基)辛烷、2,2,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯和/或2,4,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯(TMDI)、异构双(4,4'-异氰酸基环己基)甲烷及其具有任何期望的异构体含量的混合物、异氰酸基甲基-1,8-辛二异氰酸酯、1,4-亚环己二异氰酸酯、异构环己烷二亚甲基二异氰酸酯、1,4-亚苯基二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯和/或2,6-甲苯二异氰酸酯、1,5-亚萘基二异氰酸酯、2,4-二苯基甲烷二异氰酸酯或4,4-二苯基甲烷二异氰酸酯、三苯基甲烷4,4',4”-三异氰酸酯或它们具有氨基甲酸酯、脲、碳二亚胺、酰脲、异氰脲酸酯、脲基甲酸酯、缩二脲、噁二嗪三酮、脲二酮或亚氨基噁二嗪二酮结构及它们的混合物的衍生物。基于低聚和/或衍生的二异氰酸酯的多异氰酸酯是优选的，这些多异氰酸酯通过适当的加工而不含过量的二异氰酸酯，尤其是六亚甲基二异氰酸酯的多异氰酸酯。在一些示例中，可以使用HDI的低聚异氰尿酸酯、脲二酮和亚氨基噁二嗪二酮及它们的混合物。
在一些示例中，任选地，异氰酸酯组分也可以按比例包含已与异氰酸酯反应性乙烯不饱和化合物部分反应的异氰酸酯。α,β-不饱和羧酸衍生物(例如，丙烯酸盐(酯)、甲基丙烯酸盐(酯)、马来酸盐(酯)、富马酸盐(酯)、马来酰亚胺、丙烯酰胺和乙烯基醚、丙烯基醚、烯丙基醚)和含有双环戊二烯单元并且对异氰酸酯具有反应性的至少一个基团的化合物可以在一些示例中用作异氰酸酯反应性乙烯不饱和化合物；在一些示例中可以使用具有至少一个异氰酸酯反应性基团的丙烯酸盐(酯)和甲基丙烯酸盐(酯)。合适的羟基官能化丙烯酸盐(酯)或甲基丙烯酸盐(酯)是诸如以下的化合物：2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯；聚环氧乙烷单(甲基)丙烯酸酯；聚环氧丙烷单(甲基)-丙烯酸酯；聚环氧烷单(甲基)丙烯酸酯；聚(ε-己内酯)单(甲基)-丙烯酸酯，例如，M100(陶氏，美国)；2-羟丙基(甲基)丙烯酸酯；4-羟基丁酯(甲基)丙烯酸酯；3-羟基-2,2-二甲基丙基(甲基)丙烯酸酯；多元醇的羟基官能化的单(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸酯或四(甲基)丙烯酸酯，这些多元醇例如为三羟甲基丙烷、甘油、季戊四醇、二季戊四醇、乙氧基化的三羟甲基丙烷、丙氧基化的三羟甲基丙烷或烷氧基化的三羟甲基丙烷、甘油、季戊四醇、二季戊四醇或它们的工业混合物。此外，含有丙烯酸盐(酯)和/或甲基丙烯酸盐(酯)基团的异氰酸酯反应性低聚物或聚合不饱和化合物单独、或与上述单体化合物组合是合适的。基于异氰酸酯组分，已经与异氰酸酯反应性乙烯不饱和化合物部分反应的异氰酸酯的比例为0至99％、或0至50％、或0至25％或0至15％。
在一些示例中，任选地，异氰酸酯组分也可以完全或按比例包含异氰酸酯，该异氰酸酯已经完全或部分地与本领域技术人员已知的来自涂料技术的封端剂(blockingagent)反应。可以提及以下封端剂的示例：醇、内酰胺、肟、丙二酸酯、烷基乙酰乙酸酯、三唑、酚、咪唑、吡唑和胺，例如丁酮肟、二异丙胺、1,2,4-三唑、二甲基-1,2,4-三唑、咪唑、丙二酸二乙酯、乙酰乙酸乙酯、丙酮肟、3,5-二甲基吡唑、ε-己内酰胺、N-叔丁基苄胺、环戊酮羧乙酯或这些封端剂的任何期望的混合物。
通常，可以使用平均每个分子至少具有1.5个异氰酸酯反应性基团的所有多官能团的异氰酸酯反应性化合物。在本公开的上下文中，异氰酸酯反应性基团优选为羟基、氨基或硫基；在一些示例种，可以使用羟基化合物。合适的多官能异氰酸酯反应性化合物例如是聚酯、聚醚、聚碳酸酯、聚(甲基)丙烯酸酯和/或聚氨酯多元醇。在一些示例中，具有低分子量(例如，具有小于500g/mol的分子量)和短链(例如，包含2至20个碳原子)的脂肪族、芳脂族或环脂族的双官能醇、三官能团或多官能醇也适合作为多官能的异氰酸酯反应性化合物。在一些示例中，这些可以例如是乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、二丙二醇、三丙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、2-乙基-2-丁基丙二醇、三甲基戊二醇、二乙基辛二醇的位置异构体、1,3-丁二醇、环己二醇、1,4-环己烷二甲醇、1,6-己二醇、1,2-环己二醇和1,4-环己二醇、氢化双酚A(2,2-双(4-羟基环己基)丙烷)、2,2-二甲基-3-羟基-丙酸(2,2-二甲基-3-羟丙基酯)。合适的三元醇的示例是三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷或甘油。合适的高官能的醇是二三羟甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇或山梨醇。合适的聚酯多元醇例如是线性聚酯二醇或支化聚酯多元醇，如以已知方式从脂肪族、脂环族或芳族的二元羧酸或多元羧酸或它们的酸酐与具有≧2的OH官能度的多元醇获得的。在一些示例中，二元羧酸或多元羧酸或酸酐是丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、壬烷二甲酸、癸烷二甲酸、对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、四氢邻苯二甲酸、六氢邻苯二甲酸或偏苯三酸以及酸酐(例如，邻苯二甲酸酐、偏苯三酸酐或琥珀酸酐)或它们彼此的任何所需混合物。在一些示例中，合适的醇是乙二醇、二乙二醇、三乙二醇和四乙二醇、1,2-丙二醇、二丙二醇、三丙二醇和四丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,3-丁二醇、2,3-丁二醇-、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2,2-二甲基-1,3-丙二醇、1,4-二羟基环己烷、1,4-二羟甲基环己烷、1,8-辛二醇、1,10-癸二醇、1,12-十二烷二元醇、三羟甲基丙烷、甘油或它们彼此的任何所需的混合物。在一些示例中，聚酯多元醇基于脂肪醇以及脂肪酸和芳族酸的混合物，并且具有500g/mol与10000g/mol之间的数均摩尔质量和在1.8与6.1之间的官能度。在一些示例中，聚酯多元醇基于脂族二元醇与脂族二元羧酸或多元羧酸或酸酐(诸如，己二酸和/或琥珀酸)，或上述脂族多元羧酸或酸酐与芳族多元羧酸或酸酐(诸如，对苯二甲酸和/或间苯二甲酸)的混合物的组合，该脂族二元醇例如为丁烷-1,4-二醇、正己烷-1,6-二醇、新戊二醇、乙二醇、丙二醇、1,3-丁二醇、二乙二醇、三乙二醇或聚乙二醇、二丙二醇、三丙二醇和/或四丙二醇或上述二元醇与脂族高官能醇(例如，三羟甲基丙烷和/或季戊四醇)的混合物，高官能醇的比例优选占所用醇的总量的50重量％以下(尤其优选地小于30重量％)，芳族多元羧酸或酸酐的比例优选地占所使用多羧酸或酸酐的总量的小于50重量％(并且尤其优选小于30重量％)。在一些示例中，聚酯多元醇的数均摩尔质量在1000g/mol与6000g/mol之间，官能度在1.9与3.3之间。聚酯多元醇也可以基于天然原料，诸如蓖麻油。聚酯多元醇也可以基于内酯的均聚物或共聚物，优选地可以通过在开环内酯聚合中的内酯或内酯混合物(例如，丁内酯、ε-己内酯和/或甲基-ε-己内)与羟基官能化合物(例如，具有≧2的OH官能度的多元醇或大于1.8的官能度的多元醇，例如上述类型的官能度)加成反应而获得。在一些示例中，本文用作起始物(starter)为多元醇为具有1.8至3.1官能度、200至4000g/mol数均摩尔质量的聚醚多元醇；具有1.9至2.2官能度、500至2000g/mol(特别是600至1400g/mol)数均摩尔质量的聚(四氢呋喃)是特别优选的。在一些示例中，加合物是丁内酯、ε-己内酯和/或甲基-ε-己内酯、ε-己内酯。在一些示例中，聚酯多元醇优选具有400至6000g/mol、或800至3000g/mol的数均摩尔质量。在一些示例中，OH官能度为1.8至3.5，或1.9至2.2。
通过有机碳酸盐或碳酰氯与二醇或二醇混合物的反应，可以以本身已知的方式获得合适的聚碳酸酯多元醇。在一些示例中，有机碳酸盐(酯)是碳酸二甲酯、碳酸二乙酯和碳酸二苯酯。在一些示例中，合适的二元醇或混合物包括上下文中提到的在聚酯链段的并且具有≧2的OH官能度的多元醇，优选地，1,4-丁二醇、1,6-己二醇和/或3-甲基戊二醇，或者聚酯多元醇可以被转化为聚碳酸酯多元醇。在一些示例中，这种聚碳酸酯多元醇具有400-4000g/mol或500-2000g/mol的数均摩尔质量。在一些示例中，这些多元醇OH官能度为1.8至3.5或1.9至3.0。
在一些示例中，合适的聚醚多元醇是环醚与OH-官能的或NH-官能的起始物分子的加成聚合物，该加成聚合物任选地具有嵌段结构。合适的环醚例如是氧化苯乙烯、环氧乙烷、环氧丙烷、四氢呋喃、环氧丁烷、表氯醇及其任何所需的混合物。可以使用的起始物是在聚酯多元醇的上下文中提到的并且具有≧2的OH官能度的多元醇和伯胺醇或仲胺醇和氨基醇。在一些示例中，聚醚多元醇是上述类型的那些聚醚多元醇，排他地基于环氧丙烷或基于环氧丙烷与另外的1-环氧烷的无规共聚物或嵌段共聚物，其中1-环氧烷的比例不高于80重量％。在一些示例中，可以使用具有氧化乙烯、氧化丙烯和/或氧化丁烯单元的环氧丙烷均聚物和无规共聚物或嵌段共聚物，基于所有氧化乙烯、氧化丙烯和氧化丁烯单元的总量，氧化丙烯单元的比例至少占的20重量％，优选至少占45重量％。氧化丙烯和氧化丁烯包括所有相应的直链和支链C3-异构体和C4-异构体。在一些示例中，这种聚醚多元醇的数均摩尔质量为250-10000g/mol、或500-8500g/mol、或600-4500g/mol。在一些示例中，OH官能度为1.5至4.0、或1.8至3.1、或1.9至2.2。
在一些示例中，通过合适的催化剂实现或加速基质形成反应。例如，通过使用BF3类催化剂而在室温下快速进行阳离子环氧聚合，其他阳离子聚合在质子存在下进行，环氧-硫醇反应和迈克尔加成反应由碱(诸如胺)加速，在存在过渡金属催化剂(例如铂)的条件下，氢化硅烷化迅速进行，并且当使用锡催化剂时，氨基甲酸酯和脲的形成快速进行。还可以使用用于形成基质的光产生的催化剂，条件是在光生过程中采取步骤以防止光活性单体的聚合。
在一些示例中，在本文描述的全息记录介质中使用的热塑性塑料的量足以使整个全息记录介质有效地用作大多数处理目的的热塑性塑料。在一些示例中，全息记录介质的粘结剂组分可以占全息记录介质的约5重量％、或高达约50重量％、或高达约90重量％。全息记录介质中的任何给定的支承基质的量可以基于构成粘结剂组分的一种或多种热塑性塑料的透明度、折射率、熔融温度、Tg、颜色、双折射率、溶解度等而变化。此外，全息记录介质中的支承基质的量可以基于制品的最终形式而变化，无论它是固体、柔性膜还是粘合剂。
在本公开的一个示例中，支承基质包括遥爪热塑性树脂(telechelicthermoplastic resin)，例如，热塑性聚合物可以用反应性基团官能化，该反应性基团在光栅形成过程中使支承基质中的热塑性塑料与由聚合性组分形成的聚合物共价交联。这种交联使得存储在热塑性全息记录介质中的光栅非常稳定，即使在高温持续延长的时间段也是如此。
在形成热固性塑料的一些示例中，基质可以包含与用于形成光聚合物的单体共聚或以其他方式共价键合的官能团。这种基质附接方法允许增加记录的全息图的存档寿命。适用于本文使用的热固性塑料体系在美国专利号6,482,551(Dhar等人)中公开，其通过引用并入本文。
在一些示例中，通过在支承基质中使用官能化的热塑性聚合物，热塑性支承基质变得与在光栅形成时形成的聚合物非共价交联。这种非共价键合的示例包括离子键合、氢键合、偶极-偶极键合、芳族pi堆积等。
在一些示例中，本公开的制品的聚合性组分包括至少一种光活性聚合性材料，当使该光活性聚合性材料在光引发光源(诸如将数据页记录到全息记录介质的激光)处曝光时，该光活性聚合性材料可以形成由聚合物或共聚聚合物制成的全息光栅。光活性聚合性材料可以包括能够进行光引发聚合并且与支承基质组合以满足本公开的相容性要求的任何单体、低聚物等。合适的光活性聚合性材料包括那些通过自由基反应聚合的材料，例如，含有烯属不饱和的分子，诸如丙烯酸盐(酯)、甲基丙烯酸盐(酯)、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、苯乙烯、取代的苯乙烯、乙烯基萘、取代的乙烯基萘和其他乙烯基衍生物。自由基共聚对体系(Free-radical copolymerizable pair system)(诸如，乙烯基醚/马来酰亚胺、乙烯基醚/硫醇、丙烯酸酯/硫醇、乙烯基醚/羟基等)也是合适的。也可以使用阳离子聚合性体系，几个示例是乙烯基醚、烯基醚、丙二烯醚、乙烯酮缩醛、环氧化物等。此外，阴离子聚合性体系也是合适的。单个光活性聚合性分子也可以包含多于一个聚合性官能团。其他合适的光活性聚合性材料包括环状二硫化物和环酯。可以包括在聚合性组分中以在在光引发光源下时形成全息光栅的低聚物包括诸如以下的低聚物：低聚(亚乙基硫醚)二硫醇、低聚(亚苯基硫醚)二硫醇、低聚(双酚A)、低聚(双酚A)二丙烯酸酯、具有乙烯基醚侧基的低聚聚乙烯等。本公开的制品的聚合性组分的光活性聚合性材料可以是单官能团、双官能团和/或多官能团的。
在一些示例中，聚合性组分包括式I的化合物：
其中，在式I中：
R在独立存在时为氢或为包括选自以下的一个或多个基团的取代基：任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基、任选取代的杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、任选取代的环氧化物、任选取代的缩水甘油基、任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)ORa、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa、-S(O)tRa、-S(O)tORa、-S(O)tN(Ra)2、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra、-O(O)P(ORa)2和-O(S)P(ORa)2；t为1或2；Ra在每次存在时独立地选自氢、任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基和任选取代的杂芳基烷基；并且其中所述式I的化合物包括至少一个R取代基，所述R取代基包括至少一个聚合性基团或交联性基团。
在一些示例中，聚合性组分包括含有取代基的化合物，该取代基包括选自以下的一个或多个连接基团：-C1-10烷基-、-O-C1-1烷基-、-C1-10烯基-、-O-C1-10烯基-、-C1-10环烯基-、-O-C1-10环烯基-、-C1-10炔基-、-O-C1-10炔基-、-C1-10芳基-、-O-C1-10-、-芳基-、-O-、-S-、-S(O)w-、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-C(O)S-、-SC(O)-、-OC(O)O-、-N(Rb)-、-C(O)N(Rb)-、-N(Rb)C(O)-、-OC(O)N(Rb)-、-N(Rb)C(O)O-、-SC(O)N(Rb)-、-N(Rb)C(O)S-、-N(Rb)C(O)N(Rb)-、-N(Rb)C(NRb)N(Rb)-、-N(Rb)S(O)w-、-S(O)wN(Rb)-、-S(O)wO-、-OS(O)w-、-OS(O)wO-、-O(O)P(ORb)O-、(O)P(O-)3、-O(S)P(ORb)O-和(S)P(O-)3，其中w为1或2，且Rb独立地为氢、任选取代的烷基或任选取代的芳基。在一些示例中，一个或多个连接基团选自：-((CH2)p-、1,2二取代苯基、1,3二取代苯基、1,4二取代苯基、二取代缩水甘油基、三取代缩水甘油基、-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-S-、-S(O)2-、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-OC(O)O-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-、-NHC(O)NH-、-NHC(NH)NH-、-NHS(O)2-、-S(O)2NH-、-S(O)2O-、-OS(O)2-、-OS(O)O-、(O)P(O-)3和(S)P(O-)3，其中p为1至12的整数。在一些示例中，一个或多个连接基团选自：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-和(S)P(O-)3。
在一些示例中，聚合性组分包括含有取代基的化合物，该取代基包括选自以下的一个或多个端基：氢、任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基、任选取代的杂芳基烷基、任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、任选取代的苯乙烯、任选取代的环氧化物、任选取代的环硫乙烷、任选取代的缩水甘油基、任选取代的内酯、任选取代的碳酸酯、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基和三甲基硅烷基。在一些示例中，一个或多个端基选自烯基、环烯基、任选取代的芳基和任选取代的杂芳基。在一些示例中，一个或多个端基选自任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、任选取代的乙烯基、任选取代的烯丙基、任选取代的环氧化物、任选取代环硫乙烷、任选取代的缩水甘油基和任选取代的烯丙基。在一些示例中，一个或多个端基选自乙烯基、烯丙基、环氧化物、环硫乙烷、缩水甘油基、丙烯酸盐(酯)和甲基丙烯酸盐(酯)。在一些示例中，一个或多个端基选自任选取代的苯硫基、任选取代的硫代吡喃、任选取代的噻吩并苯硫基和任选取代的苯并苯硫基。
在一些示例中，聚合性组分包括含有选自以下聚合性基团或交联性基团的化合物：任选取代的烯基、任选取代的环烯基、任选取代的炔基、任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、任选取代的苯乙烯、任选取代的环氧化物、任选取代的环硫乙烷、任选取代的缩水甘油基、任选取代的内酯、任选取代的内酰胺和任选取代的碳酸酯。在一些示例中，聚合性基团或交联性基团选自乙烯基、烯丙基、环氧化物、环硫乙烷、缩水甘油基、丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。
在一些示例中，聚合性组分包括含有取代基的化合物，该取代基至少包括芳基Ar，其中Ar选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的菲基、取代的非那烯基、取代的并四苯基、取代的基、取代的三亚苯基和取代的芘基。在一些示例中，Ar选自1,2-取代的苯基、1,3-取代的苯基和1,4-取代的苯基。在一些示例中，Ar是1,4-取代的苯基。
在一些示例中，聚合性组分包括化合物，该化合物至少包括芳基Ar，其中Ar选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的菲基、取代的非那烯基、取代的并四苯基、取代的基、取代的三亚苯基和取代的芘基。在一些示例中，Ar选自1,2-取代的苯基、1,3-取代的苯基和1,4-取代的苯基。在一些示例中，Ar是1,4-取代的苯基。
在一些示例中，聚合性组分包括本文在实施例中公开的任何化合物。
在一些示例中，聚合性组分包括含有取代基的化合物，该取代基包括选自-Me、-OMe、-Oph、-SMe、-SPh、-F、-Cl、-Br和-I的一个或多个基团。在一些示例中，取代基包括选自以下的一个或多个基团：在一些示例中，取代基包括选自以下的一个或多个基团
在一些示例中，取代基包括选自以下的一个或多个基团：
在一些示例中，聚合性组分包括化合物，该化合物包括选自以下的一个或多个基团：
在一些示例中，该化合物包括选自以下的一个或多个基团：
在一些示例中，本文描述的丙烷衍生化合物由于附加的苯环而具有高折射率，由于苯环与结构的其余部分之间扭曲、偏移取向而具有低的双折射率。在不希望受到任何特定理论的约束的情况下，认为这导致了较低的偏振各向异性，以及垂直取向和平行取向上的RI之间的较小差异。同样在不希望受到任何特定理论的约束的情况下，认为扭曲的结构由于减少了堆积(packing)而导致高透明度。
在一些示例中，包括在丙烷衍生化合物中的取代基可以是但不限于：高折射率(RI)基团，包括卤素(F、Cl、Br、I)；含硫基团，诸如硫醇、硫醚、硫酯、噻蒽(thianthrene)等；苯基，任选地进一步被本文所述的高RI基团取代。在一些示例中，一个或多个R基团包括聚合性基团，该聚合性基团包括但不限于：烯属基团，诸如乙烯基、烯丙基、丙烯酸盐(酯)、甲基丙烯酸盐(酯)、苯乙烯等；环状结构，诸如环氧化物、内酯、碳酸盐等。在一些示例中，优先考虑那些含有能够参与氢键合的基团的结构，氢键合改善了与周围基质聚合物的相容性。在一些示例中，本文描述的化合物不包括硫醚基。
如本文所述，无论是为了改进记录介质中的读出还是波导中的有效光限制，在制品中需要相对高的折射率对比度。此外，在一些实施方案中但不限于，因为单体的聚合通常导致材料中的收缩，所以利用少量的单体官能团来引起这种相对大的折射率变化是有利的。这种收缩对从存储的全息图中检索数据具有不利影响，并且还降低了波导器件的性能，例如通过增加的传输损耗或其他性能偏差。因此，在一些示例中，降低必须被聚合的单体官能团的数量以获得必要的折射率对比度是期望的。这种降低可以通过增加单体的分子体积与单体上单体官能团数量的比例来实现。这种增加通过在单体中合并更大的折射率对比度部分和/或更多数量的折射率对比度部分来实现的。例如，如果基质主要由脂肪族或其他低折射率部分组成，并且单体是较高折射率的物质(其中较高折射率由苯环赋予)，则可以通过加入萘环而不是苯环(萘具有较大体积)或通过合并一个或多个额外的苯环而相对于单体官能团的数量来增加分子体积，而不增加单体官能团的数量。以这种方式，具有较大分子体积/单体官能团比率的给定体积分数的单体的聚合将需要较少的单体官能团的聚合，从而导致较小的收缩。但所需的体积分数的单体仍将从未曝光区域扩散到曝光区域，从而提供所需的折射率。
然而，单体的分子体积不应该大到使扩散速度减慢到低于可接受的速度。扩散速率通过包括扩散物质的大小、介质的粘度和分子间相互作用等因素来控制。为了将扩散提高到可接受的水平，较大的物质扩散速度倾向于更缓慢地扩散，但在某些情况下，可以降低粘度或对存在的其他分子进行调整。此外，如本文所描述的，重要的是确保较大的分子保持与基质的相容性。
对于含有多个折射率对比度部分的单体，可以有多种结构。例如，这些部分可以位于线型低聚物的主链中，或者是沿低聚物链的取代基。替代地，折射率对比度部分可以是支化或树枝状低分子量聚合物的亚单元。
除了至少一种光活性聚合性材料之外，本公开的制品还可以包含光引发剂。光引发剂化学地引发至少一种光活性聚合性材料的聚合。光引发剂通常应提供引发特定光活性聚合性材料(例如，光活性单体)的聚合的物种来源。典型地，约0.1至约20体积％光引发剂提供了期望的结果。
本领域技术人员已知并可商购的的各种光引发剂适合于如本文描述的那样使用，例如，包括氧化膦基团(诸如二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦)的那些光引发剂，其在2004年8月24日发布的美国专利号6,780,546(Trentler等人)中公开，通过引用并入本文。在一些示例中，光引发剂对从常规激光光源可获得的波长处的光是敏感的，该常规激光光源例如Ar+(458、488、514nm)和He-Cd激光器(442nm)的蓝色和绿色线、倍频YAG激光器(532nm)的绿色线，以及He-Ne(633nm)、Kr+激光(647和676nm)和各种二极管激光器(290至900nm)的红色线。在一些示例中，可以使用自由基光引发剂双(η-5-2,4-环戊二烯-1-基)双[2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)苯基]钛。在一些示例中，可以使用自由基光引发剂5,7-二碘-3-丁氧基-6-荧光酮。在一些示例中，这种光引发剂需要共引发剂。也可以使用染料-氢供体体系的自由基光引发剂。合适的染料的示例包括曙红、玫瑰红、赤藓红和亚甲基蓝，并且合适的氢供体包括叔胺，如n-甲基二乙醇胺。在阳离子聚合性组分的情况下，使用阳离子光引发剂(例如，硫鎓盐或碘鎓盐)。这些阳离子光引发剂盐主要吸收光谱的UV部分，因此典型地用感光剂或染料敏化，以允许使用光谱的可见光部分。可选的可见光阳离子光引发剂的示例是(η5-2,4-环戊二烯-1-基)(η6-异丙苯)-六氟磷酸铁(II)。在一些示例中，本文使用的光引发剂对约200nm至约800nm的紫外线和可见光辐射敏感。在一些示例中，可以在可成像系统中使用其他添加剂，例如具有相对高的折射率或相对低的折射率的惰性扩散剂。
在一些示例中，本文描述的制品还可以包括添加剂(诸如增塑剂)以用于改变本公开的制品的性质(包括熔点、柔性、韧性、单体和/或低聚物的扩散性以及易加工性)。合适的增塑剂的示例包括邻苯二甲酸二丁酯、聚(环氧乙烷)甲醚、N,N-二甲基甲酰胺等。增塑剂与溶剂的不同之处在于溶剂典型地被蒸发，而增塑剂应留在制品中。
可以用于本公开的液体混合物和制品中的其他类型的添加剂是具有相对高或相对低的折射率的惰性扩散剂。惰性扩散剂典型地从所形成的光栅扩散开，并且可以具有高折射率或低折射率。在一些示例中，本文使用的添加剂具有低折射率。在一些示例中，高折射率的单体与低折射率的惰性扩散剂一起使用。在一些示例中，惰性扩散剂扩散到干涉图案中的空位(null)。在一些示例中，这种扩散导致光栅的对比度增加。可以用于本公开的液体混合物和制品的其他添加剂包括：颜料、填料、非光引发染料、抗氧化剂、漂白剂、脱模剂、消泡剂、红外/微波吸收剂、表面活性剂、附着促进剂等。
在一些示例中，本公开的制品的聚合性组分小于约20体积％。在一些示例中，本公开的制品的聚合性组分可以小于约10体积％、或甚至小于约5体积％。对于数据存储应用，典型的聚合性组分以约5体积％、约6体积％、约7体积％、约8体积％、约9体积％、约10体积％、约11体积％、约12体积％、约13体积％、约14体积％或约15体积％存在。在一些示例中，聚合性组分以约1体积％、约2体积％、约3体积％、约4体积％、约5体积％、约6体积％、约7体积％、约8体积％、约9体积％、约10体积％、约11体积％、约12体积％、约13体积％、约14体积％、约15体积％、约16体积％、约17体积％、约18体积％、约19体积％或约20体积％存在。
本文描述的制品可以是所需的任何厚度。在一些示例中，制品对于显示全息术可以是薄的，或者对于数据存储可以是厚的。在一些示例中，制品可以是但是不限于沉积在基底上的膜、自由柔性膜(例如类似于食品包装的膜)或不需要基底的硬制品(例如类似于信用卡)。对于数据存储应用，在一些示例中，制品的厚度典型地为约1mm至约1.5mm，并且典型地是沉积在两个基底之间的膜的形式，其中至少一个基底具有抗反射涂层；还可能密封该制品以防止水分和空气。
可以加热本公开的制品以形成液体混合物，该液体混合物被注入到诸如玻璃、布、纸、木材或塑料的多孔基底中，然后允许冷却。这样的制品将能够记录显示和/或数据性质的全息图。
本公开的制品可以通过适当的方法来制成光学平坦的，例如在1999年8月3日发布的美国专利号5,932,045(Campbell等人)中描述的方法，其通过引用并入本文。
通过在待用于本文描述的制品的各种基质类型之间进行选择，可以实现减少或消除诸如水或湿度的问题。在一实施方案中，本文描述的制品可以用于存储易失性全息图。由于本文描述的控制光聚合物链长度的能力，特定混合物可以被调节为对记录的全息图具有非常一般的寿命。因此，在全息图记录之后，全息图可以在限定的时间段(例如，一周、几个月或几年)内可读。加热制品也可能增加这种全息图破坏的过程。在一些示例中，易失性全息图可用于租赁电影、安全信息、门票(或季票)、热历史探测器、时间戳和/或临时个人记录等。
在一些示例中，本文描述的制品可以用于记录永久全息图。有几种方法可以提高记录的全息图的持久性。在一些示例中，这些方法包括在基质上放置官能团，从而允许在固化过程中将光聚合物附接到基质上。附接基团可以是乙烯基不饱和基团、链转移位点或聚合阻滞剂(例如，BHT衍生物)。另外，为了提高记录的全息图的存档稳定性，可以使用允许光聚合物的交联的多官能单体，从而增加光聚合物在基质中的缠结。在一些示例中，使用多官能单体和基质附接的阻滞剂两者。这样，由聚合阻滞剂引起的较短的链不会导致存档寿命的损失。
除了本文描述的光聚合体系之外，在本文描述的全息记录介质中还可以使用各种光聚合体系。例如，在本公开中使用的合适的光聚合体系在美国专利号6,103,454(Dhar等人)，美国专利号6,482,551(Dhar等人)，美国专利号6,650,447(Curtis等人)，美国专利号6,743,552(Setthachayanon等人)，美国专利号6,765,061(Dhar等人)，美国专利号6,780,546(Trentler等人)，2003年11月6日公布的美国专利申请号2003-0206320(Cole等人)，以及2004年2月12日公布的美国专利申请号2004-0027625中进行了描述，它们通过引用并入本文。
可以将本公开的制品研磨、切碎、破碎等以形成粉末、碎屑等的颗粒材料。该颗粒材料可以在稍后时间进行加热以形成用于制造模制产品的可流动液体、用于施加到基底上的涂层等。
在一些示例中，本文描述的制品被用于制造各种大小和形状的数据存储设备，作为材料的块或作为涂覆在基底上的涂层的一部分。
在一些示例中，本公开提供了用于控制全息记录介质中的光聚合反应的方法。在一些示例中，本公开提供了用于减少、最小化、降低、消除等在这种全息记录介质中使用的光聚合体系中的暗反应的方法。在一些示例中，这样的方法包括使用以下的一个或多个：(1)聚合阻滞剂；(2)聚合抑制剂；(3)链转移剂；(4)亚稳态反应中心的使用；(5)光或热不稳定光终止剂的使用；(6)光-酸产生剂、光碱产生剂或光产生的自由基的使用；(7)极性或溶剂化效应的使用；(8)反离子效应；以及(9)光活性聚合性材料反应性的变化。用于控制自由聚合的方法在“Controlled Radical Polymerization Guide:ATRP,RAFT,NMP,”Aldrich,2012进行了描述，其通过引用并入本文(参见，例如，Jakubowski,Tsarevsky,McCarthy和Matyjaszewsky:“ATRP(Atom Transfer Radical Polymerization)for Everyone:Ligandsand Initiators for the Clean Synthesis of Functional Polymers；”Grajales:“Tools for Performing ATRP；”Haddleton:“Copper(I)-mediated Living RadicalPolymerization in the Presence of Pyridylmethanimine Ligands；”Haddleton:“Typical Procedures for Polymerizing via ATRP；”Zhu,Edmondson:“Applying ARGETATRP to the Growth of Polymer Brush Thin Films by Surface-initiatedPolymerization；”Zhu,Edmondson:“ARGET ATRP:Procedure for PMMAPolymer BrushGrowth；”“Ligands for ATRP Catalysts；”“Metal Salts for ATRP Catalysts；”“Reversible Addition/Fragmentation Chain Transfer Polymerization(RAFT)；”Moad,Rizzardo和Thang:“AMicro Review of Reversible Addition/Fragmentation ChainTransfer(RAFT)Polymerization；”“Concepts and Tools for RAFT Polymerization；”“Typical Procedures for Polymerizing via RAFT；”“Universal/Switchable RAFTAgents for Well-defined Block Copolymers:Agent Selection and Polymerization；”“Polymerization Procedure with Universal/Switchable RAFT Agents；”“RAFTAgents；”“Switchable RAFT Agents；”“Radical Initiators；”“Nitroxide-mediatedPolymerization(NMP)；”Lee和Wooley:“Block Copolymer Synthesis Using aCommercially Available Nitroxide-mediated Radical Polymerization(NMP)Initiator.”
对于自由基体系，光聚合反应的动力学取决于几个变量，例如单体/低聚物浓度、单体/低聚物官能度、体系粘度、光强度、光引发剂类型和浓度、各种添加剂(例如，链转移剂、抑制剂)的存在等。因此，对于自由基光聚合，以下步骤典型地描述了用于形成光聚合的机理：
hv+PI→2R*(引发反应)
R*+M→M*(引发反应)
M*+M→(M)2*(传播反应)
(M)2*+M→(M)3*(传播反应)
(M)n*+M→(M)n+1*(传播反应)
R*+M*→RM(终止反应)
(M)n*+(M)m*→(M)n+m(终止反应)
R*+(M)m*→R(M)m(终止反应)
R*+R*→RR(终止反应)
计算光引发和聚合的速率在本领域中是公知的，例如在美国专利号7,704,643中描述的，其通过引用并入本文。引发速率取决于光引发剂产生的自由基的数量(对于许多自由基引发剂n＝2，对于许多阳离子引发剂n＝1)、用于引发的量子产率(典型地小于1)、吸收光的强度、入射光强度、光引发剂的浓度、引发剂在目标波长处的摩尔吸收率、以及体系厚度。聚合速率取决于聚合动力学速率常数(kp)、单体浓度和终止动力学速率常数(kt)。在一些示例中，假设光强度在介质中不显著变化。在某些示例中，当单体浓度低于0.1M时，自由基光引发剂的引发量子效率深受单体浓度、粘度和引发速率的影响，在一些示例中，这是双组分型光聚合物全息介质的形式。因此，在一些示例中，发现以下依赖关系降低了引发的量子产率：较高的粘度、较低的单体浓度和较高的引发速率(来自增加的强度、较高的摩尔吸光系数等)。
当添加聚合阻滞剂/聚合抑制剂Z-Y时，可能会发生以下附加步骤(其中X*表示任意自由基)：
X*+Z-Y→X-Y+Z*(终止反应)
Z*+X*→Z-X(终止反应)。
假设相对于其他终止反应，向阻滞剂/抑制剂的转移是高的，则聚合速率还取决于抑制剂的浓度和阻滞剂/抑制剂终止反应的速率常数(kz)。聚合速率还进一步依赖于引发速率的一次幂。kz/kp的比率称为抑制常数(例如，小写字母z)。远大于约1的值表示抑制效应，而约1或更小的值表示阻滞效应。远小于1的值对聚合速率几乎没有影响。
聚合抑制剂和聚合阻滞剂之间的差异通常取决于所涉及的特定聚合性组分。例如，硝基苯只能轻微地阻滞丙烯酸甲酯的自由基聚合，但硝基苯抑制乙酸乙烯酯的自由基聚合。因此，为了本公开的目的，有可能找到典型地被认为是也起到阻滞剂作用的抑制剂。用于具有各种聚合物体系的各种阻滞剂/抑制剂的抑制剂常数z在本领域中是已知的，并且例如在美国专利号7,704,643中描述的，其通过引用并入本文。
在本文使用的合适的阻滞剂和抑制剂包括但不限于下列中的一种或多种：对于自由基聚合，各种酚，包括丁基化羟基甲苯(BHT)(诸如2,6-二叔丁基对甲酚)、对甲氧基苯酚、二苯基-对-苯醌、苯醌、氢醌、连苯三酚、间苯二酚、菲醌、2,5-甲苯醌、苄氨基苯酚、对二羟基苯、2,4,6-三甲基苯酚等；各种硝基苯，包括邻二硝基苯、对二硝基苯、间二硝基苯等；N-苯基-1-萘胺、N-苯基-2-萘胺、铜铁试剂、吩噻嗪、单宁酸、对亚硝胺、四氯代苯对醌、苯胺、受阻苯胺、氯化铁、氯化铜、三乙胺等。这些聚合阻滞剂和抑制剂可以单独使用(例如，单一阻滞剂)，也可以以两种或两种以上的组合使用(例如，多种阻滞剂)。同样的原理也可以应用于离子聚合。例如，已知氯离子可以用作阳离子聚合的阻滞剂或抑制剂，这取决于单体类型和氯阴离子的浓度。典型地，碱性的或温和亲核的官能团用作阳离子聚合的阻滞剂和抑制剂；而对于阴离子聚合，微酸性的和温和亲电的官能团用作阻滞剂和抑制剂。
在一些示例中，涉及聚合阻滞剂和聚合抑制剂两者的聚合反应应导致终止反应。如果发生任何明显程度的重新引发，则该试剂典型地被认为是链转移剂。例如，三乙胺可以用作链转移剂，因为它还能够重新引发一些自由基聚合；然而，当与终止反应相比、重新引发更慢时，为了本公开的目的，甚至链转移剂也可以被认为是潜在的聚合阻滞剂或抑制剂。用于本文的合适的链转移剂包括但不限于：三乙胺、硫醚、具有碳酸盐(酯)基团的化合物、醚、甲苯衍生物、烯丙基醚等。温和地阻滞的链转移剂是期望的，因为它们可以并入基质中并且能够将光聚合物和光引发剂自由基附着至基质。
在一些示例中，在记录多个全息图的最初几次曝光之后，可以减少介质中存在的聚合抑制剂的量。相反地，在使用聚合阻滞剂的情况下，在任何给定的曝光过程中，只有少量的阻滞剂发生反应。因此，聚合阻滞剂的浓度可能大幅线性降低，并且与单体浓度的降低相关。因此，即使在曝光时间表的后期，也有足够的阻滞剂来防止曝光后的聚合和低光强区域的聚合两者。有效地，聚合阻滞剂用作链长限制剂。理想情况下，聚合阻滞剂与聚合性材料(例如单体)的比例在整个曝光时间表中几乎保持不变。在这种情况下，链长(聚合度)潜在地在整个曝光时间表中保持基本相同，导致每次曝光的曝光次数相对于时间段基本上是线性响应。阻滞剂/抑制剂/链转移剂的使用不限于自由基聚合，也适用于离子链聚合。
除了阻滞剂、抑制剂和/或链转移剂之外，亚稳态反应中心和光不稳定光终止剂也可以用于控制本文描述的适当反应性的聚合反应。例如，硝酰基可以作为亚稳定反应中心进行添加。硝酰基与某些单体发生假活性自由基聚合。因此，硝酰基最初表现为终止剂(诸如抑制剂)，然而，根据进行聚合的温度，终止是可逆的。在这种情况下，可以通过改变记录温度来控制链长。因此，可以在高温下记录全息图，然后冷却到室温以防止进一步的聚合。此外，可以在室温记录，从而像抑制剂一样快速终止所有链，然后加热样品，以便能够同时向所有光栅添加新的光活性单体。在另一种情况下，从所有光栅在同一时间发生聚合获得的优点是布拉格失谐对所涉及的所有光栅都将是均匀的。其他潜在的亚稳反应中心包括三苯甲基基团、二硫酯，它们典型地在可逆加成-断裂链转移(RAFT)聚合中使用、可以作为适当的亚稳反应中心等。关于离子聚合，存在能够执行相同功能的稳定离子，如上面的实施例硝酰基基团。
光不稳定的光终止剂的使用提供了利用光(与如上所述的热相反)来控制反应性物质的活性的能力。光不稳定的光终止剂是能够使用光源进行可逆终止反应的任何分子。例如，某些钴肟复合物可以用于光引发自由基聚合，但也可以终止相同的自由基聚合。二硫酯也适合作为光不稳定的光终止剂，因为它们具有在适当波长下光可逆地形成自由基的能力。在适当的条件下并用适当的单体(如苯乙烯和丙烯酸盐(酯))，可以通过用光引发光源(例如记录光)照射来重新启动聚合。因此，只要将给定的体积在光引发光源处曝光，自由基聚合就会继续，而当光引发光关闭或不存在时，聚合就会终止。根据本公开，亚稳态反应中心和光不稳定的光终止剂也可以用于控制离子(例如，阳离子或阴离子引发的)聚合反应体系。
对于离子链反应(例如，阳离子和阴离子引发的聚合反应)，反离子和溶剂效应可以用于通过终止反应中心来控制聚合。离子体系对溶剂条件是敏感的，因为溶剂(或支承基质)决定了反离子与反应中心的接近程度。例如，在非极性介质中，反离子将与反应中心紧密结合；在极性介质中，反离子可能会自由解离。反离子的接近程度可以决定聚合速率以及反离子坍塌的可能性(取决于所使用的反离子)。例如，如果使用非极性支承基质和氯离子作为反离子的阳离子聚合，则由于反离子的坍塌而终止反应的可能性更大。因此，通过这种方式，离子聚合可以以受控的方式终止，因为支承基质和反离子的选择允许确定坍塌的可能性与传播的可能性。
某些单体混合物也可以以控制聚合度或聚合速度的方式起作用。例如，如果在丙烯酸酯聚合中存在少量的α-甲基苯乙烯，则将丙烯酸酯会添加到α-甲基苯乙烯中，而苯乙烯基本上不会重新引发丙烯酸酯的聚合，例如，α-甲基苯乙烯会阻滞丙烯酸酯的聚合速度。此外，α-甲基苯乙烯自身缓慢聚合，因此即使它是共聚单体，也作为聚合阻滞剂/抑制剂。在离子聚合的情况下，例如在阳离子乙烯基醚聚合中使用乙烯基苯甲醚会导致阻滞的聚合速率，因为乙烯基苯甲醚不能有效地重新引发乙烯基醚聚合。
体全息图、光敏聚合物及其设备
在一些示例中，本公开涉及用于体全息图的记录材料，其中记录材料通过厚度来表征并且包括本文描述的一种或多种化合物。在一些示例中，本公开提供了一种包括第一聚合物前体的树脂混合物，该第一聚合物前体包括本文描述的一种或多种蒽醌衍生化合物。
本公开还提供了一种记录在本文描述的任何记录材料上的体布拉格光栅，该光栅的特征在于Q参数等于或大于10，其中且其中λ0为记录波长，d为记录材料的厚度，n0为记录材料的折射率，并且Λ为光栅常数。
在一些示例中，通过使全息材料层在由两个或更多个相干光束之间的干涉产生的光图案处曝光，可以在本文描述的任何全息材料层上记录体布拉格光栅。图5A例示了体布拉格光栅(VBG)500的示例。图5A中所示的体布拉格光栅500可以包括具有厚度D的透射全息光栅。体布拉格光栅500的折射率n可以以振幅n1调制，并且体布拉格光栅500的光栅周期可以是Λ。具有波长λ的入射光510可以以入射角θ入射到体布拉格光栅500上，且可以作为入射光520折射到体布拉格光栅500中，入射光在体布拉格光栅500中的以角度θn传播。入射光520可以由体布拉格光栅500衍射成衍射光530，该衍射光可以在体布拉格光栅500中以衍射角θd传播，并且可以作为衍射光540从体布拉格光栅500折射出去。
图5B示出了用于图5A中所示的体布拉格光栅500的布拉格条件。矢量505表示光栅矢量其中矢量525表示入射波矢量并且矢量535表示衍射波矢量其中在布拉格位相匹配条件下，因此，对于给定的波长λ，可能只有一对完全满足布拉格条件的入射角θ(或θn)和衍射角θd。类似地，对于给定的入射角θ，可能只有一个完全满足布拉格条件的波长λ。因此，衍射可能只发生在较小的波长范围和较小的入射角范围内。体布拉格光栅500的衍射效率、波长选择性和角度选择性可以是体布拉格光栅500的厚度D的函数。例如，在布拉格条件下，体布拉格光栅500的半幅全宽(full-width-half-magnitude，FWHM)波长范围和FWHM角度范围可以与体布拉格光栅500的厚度D成反比，而在布拉格条件下的最大衍射效率可以是函数sin2(a×n1×D)，其中a是系数。对于反射体布拉格光栅，在布拉格条件下的最大衍射效率可以是函数tanh2(a×n1×D)。
在一些示例中，可以使用多路复用布拉格光栅来实现期望的光学性能，例如对于全可见光谱(例如，约400nm至约700nm，或约440nm至约650nm)的高衍射效率和大的FOV。多路复用布拉格光栅的每个部分可以用于衍射来自相应的FOV范围和/或在相应的波长范围内的光。因此，在一些设计中，可以使用多个体布拉格光栅，各体布拉格光栅在相应的记录条件下进行记录。
本文描述的全息光学元件可以记录在全息材料(例如，光聚合物)层中。在一些示例中，可以首先记录HOE，然后在近眼显示系统中将HOE层压在基底上。在一些示例中，可以将全息材料层涂覆或层压在基底上，然后可以将HOE记录在全息材料层中。
通常，为了在光敏材料层中记录全息光学元件，两个相干光束可以以一定角度上相互干涉以在光敏材料层中产生独特的干涉图案，该干涉图案进而可以在光敏材料层中产生独特的折射率调制图案，其中该折射率调制图案可以与干涉图案的光强度图案相对应。光敏材料层可以包括例如卤化银乳剂、重铬酸盐明胶、包括悬浮在聚合物基质中的可光聚合单体的光聚合物、光折变晶体等。图6A示出了用于记录体布拉格光栅600的记录光束和从体布拉格光栅600重构的光束。在所示的示例中，体布拉格光栅600可以包括在第一波长(诸如660nm)处使用参考光束620和物体光束610记录的透射体全息图。当第二波长(例如，940nm)的光束630以0°入射角入射到体布拉格光栅600上时，入射光束630可以以如衍射束640所示的衍射角由体布拉格光栅600衍射。
图6B是示出了记录光束和重构光束的波矢量以及所记录的体布拉格光栅的光栅矢量的全息动量图605的示例。图6B显示了全息光栅记录和重构过程中的布拉格匹配条件。可以基于记录光波长λc(例如，660nm)、根据2πn/λc来确定记录光束(例如，物体光束610和参考光束620)的波矢量650和660的长度，其中n是全息材料层的平均折射率。记录光束的波矢量650和660的方向可以基于所需的光栅矢量K(670)来确定，使得波矢量650和660以及光栅矢量K(670)可以形成如图6B所示的等腰三角形。光栅矢量K可以具有幅度2π/Λ，其中Λ是光栅周期。光栅矢量K进而可以基于所需的重构条件来确定。例如，基于所需的重构波长λr(例如，940nm)以及入射光束(例如，0°处的光束630)和衍射光束(例如，衍射光束640)的方向，体布拉格光栅600的光栅矢量K(670)可以基于布拉格条件来确定，其中，入射光束(例如，光束630)的波矢量680和衍射光束(例如，衍射光束640)的波矢量690可以具有振幅2πn/λr，并且可以与如图6B所示的光栅矢量K(670)形成等腰三角形。
如本文所描述的，对于给定的波长，可能只有一对完全满足布拉格条件的入射角和衍射角。类似地，对于给定的入射角，可能只有一个完全满足布拉格条件的波长。当重构光束的入射角不同于满足体布拉格光栅的布拉格条件的入射角时，或者当重构光束的波长不同于满足体布拉格光栅的布拉格条件的波长时，衍射效率可以作为由与布拉格条件的角度或波长失谐而引起的布拉格失配因子的函数而降低。因此，衍射可能只发生在较小的波长范围和较小的入射角范围内。
图7示出了用于记录全息光学元件的全息记录系统700的示例。全息记录系统700包括分束器710(例如，分束器立方体)，该分束器可以将入射激光702分成相干的并且可以具有相似强度的两个光束712和714。光束712可以由第一反射镜720朝向板730反射，如反射光束722所示。在另一路径上，光束714可以由第二反射镜740反射。反射光束742可以朝向板730引导，并且可以在板730处与光束722干涉以产生干涉图案。全息记录材料层750可以形成在板730上或形成在安装在板730上的基底上。如上所述，干涉图案可以使得全息光学元件被记录在全息记录材料层750中。在一些示例中，板730也可以是镜。
在一些示例中，掩模760可以用于在全息记录材料层750的不同区域处记录不同的HOE。例如，掩模760可以包括用于全息记录的孔762，并且可以被移动以将孔762放置在全息记录材料层750上的不同区域，从而使用不同的记录条件(例如，具有不同角度的记录光束)在不同区域处记录不同的HOE。
基于全息材料的一些参数，诸如用于全息材料的空间频率响应、动态范围、光敏性、物理尺寸、机械性能、波长灵敏度以及显影或漂白方法，可以为特定的应用选择全息材料。
动态范围表示在全息材料中可以实现多少折射率变化。动态范围可以影响例如高效率的设备的厚度以及可以在全息材料中多路复用的全息图的数量。动态范围可以由折射率调制(refractive index modulation，RIM)来表示，该折射率调制可以是折射率总变化的一半。小的折射率调制的值可以以百万分率(ppm)给出。通常，为了改进衍射效率并将多个全息光学元件记录在同一全息材料层中，在全息光学元件中大的折射率调制是期望的。
频率响应是全息材料可以记录的特征大小的量度，并且可以指示可以实现的布拉格条件的类型。频率响应可以由调制传递函数来表征，该调制传递函数可以是描绘变化频率的正弦波的曲线。通常，可以使用单个频率值来表示频率响应，该频率响应可以指示折射率调制开始下降或折射率调制降低3dB的频率值。频率响应也可以用线/mm、线对/mm或正弦曲线的周期来表示。
全息材料的光敏性可以指示实现特定效率所需的光剂量，例如100％或1％(例如，对于光折变晶体)。在特定全息材料中可以实现的物理尺寸影响HOE设备的孔尺寸和光谱选择性。全息材料的物理参数可能与损伤阈值和环境稳定性有关。波长灵敏度可以用于选择用于记录设置的光源，并且还可以影响最小可实现周期。有些材料可能对宽波长范围内的光是敏感的。显影考虑可以包括全息材料在记录之后如何进行加工。许多全息材料可能需要曝光后显影或漂白。
本公开的示例可以用于制造人工现实系统的组件，或者可以结合人工现实系统来实现。人工现实是一种在呈现给用户之前已经以一些方式进行调节的现实形式，其可以包括例如虚拟现实(virtual reality，VR)、增强现实(augmented reality，AR)、混合现实(mixed reality，MR)、混杂现实或它们的一些组合和/或衍生物。人工现实内容可以包括完全生成的内容或与捕获的(例如，现实世界的)内容相结合的生成的内容。人工现实内容可以包括视频、音频、触觉反馈或它们的一些组合，并且其中任何一个都可以在单个通道中或在多个通道中被呈现(诸如向观众产生三维效果的立体视频)。此外，在一些示例中，人工现实还可以与用于例如在人工现实中创建内容和/或以其他方式用于人工现实(例如，在其中执行活动)的应用、产品、配件、服务或它们的一些组合相关联。可以在多种平台上实现提供人工现实内容的人工现实系统，包括连接到主计算机系统的头戴式显示器(head-mounteddisplay，HMD)、独立的HMD、移动设备或计算系统、或能够向一个或多个观看者提供人工现实内容的任何其他硬件平台。
图4示出了使用波导显示器的光学透视增强现实系统400的示例。增强现实系统400可以包括投影仪410和组合器415。投影仪410可以包括光源或图像源412和投影仪光学元件414。在一些示例中，图像源412可以包括显示虚拟对象的多个像素，诸如LCD显示面板或LED显示面板。在一些示例中，图像源412可以包括生成相干光或部分相干光的光源。例如，图像源412可以包括激光二极管、垂直腔面发射激光器和/或发光二极管。在一些示例中，图像源412可以包括多个光源，每个光源发射与原色(例如，红色、绿色或蓝色)相对应的单色图像光。在一些示例中，图像源412可以包括光学图案生成器，例如空间光调制器。投影仪光学组件414可以包括一个或多个光学组件，该一个或多个光学组件可以调节来自图像源412的光，诸如扩展、准直、扫描来自图像源412的光或将来自图像源的光投射到组合器415。一个或多个光学组件可以包括例如一个或多个透镜、液体透镜、反射镜、孔和/或光栅。在一些示例中，投影仪光学器件414可以包括具有多个电极的液体透镜(例如，液晶透镜)，该电极允许扫描来自图像源412的光。
组合器415可以包括用于将来自投影仪410的光耦合到组合器415的基底420中的输入耦合器430。组合器415可以透射至少50％的第一波长范围的光，并反射至少25％的第二波长范围的光。例如，第一波长范围可以是约400nm至约650nm的可见光，并且第二波长范围可以在红外波段，例如，约800nm至约1000nm。输入耦合器430可以包括体全息光栅、衍射光学元件(diffractive optical element，DOE)(例如，表面浮雕光栅)、基底420的倾斜表面或折射耦合器(例如，光楔(wedge)或棱镜)。对于可见光，输入耦合器430可以具有大于30％、50％、75％、90％或更高的耦合效率。耦合到基底420中的光可以通过例如全内反射(total internal reflection，TIR)在基底420内传播。基底420可以是一副眼镜的透镜的形式。基底420可以具有平面或曲面，并且可以包括一种或多种类型的介电材料，例如玻璃、石英、塑料、聚合物、聚(甲基丙烯酸甲酯)(poly(methyl methacrylate)，PMMA)、晶体或陶瓷。基底的厚度可以在例如小于约1mm至约10mm或更大的范围内。基底420可以对可见光是透明的。
基底420可以包括或可以耦合到多个输出耦合器440，这些输出耦合器配置成从基底420提取由基底420引导并在基底420内传播的光的至少一部分，并且将提取的光460引导到增强现实系统400的用户的眼睛490。像输入耦合器430一样，输出耦合器440可以包括光栅耦合器(例如，体全息光栅或表面浮雕光栅)、其他DOE、棱镜等。输出耦合器440可以在不同位置具有不同的耦合(例如，衍射)效率。基底420还可以允许来自组合器415前面的环境的光450以很少的损失或没有损失地通过。输出耦合器440还可以允许光450以很少损失地通过。例如，在一些实施方式中，输出耦合器440可以对光450具有低的衍射效率，使得光450可以被折射或以其他方式以很少损失地通过输出耦合器440，因此可以具有比所提取的光460更高的强度。在一些实施方式中，输出耦合器440可以对光450具有高的衍射效率，并且光450可以以很少损失衍射到某些期望的方向(即，衍射角)。结果，用户能够查看组合器415前面的环境和由投影仪410投影的虚拟对象的组合图像。
以下项目描述根据本公开的某些示例。
项目1.一种式I的化合物：
其中，在式I中：R在各自独立存在时为氢或包括选自以下的一个或多个基团的取代基：任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基、任选取代的杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、任选取代的环氧化物、任选取代的缩水甘油基、任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)ORa、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa、-S(O)tRa、-S(O)tORa、-S(O)tN(Ra)2、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra、-O(O)P(ORa)2和-O(S)P(ORa)2；t为1或2；Ra在每次存在时独立地选自氢、任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基和任选取代的杂芳基烷基；并且其中所述式I的化合物包括至少一个R取代基，所述R取代基包括至少一个聚合性基团或交联性基团。
项目2.根据项目1所述的化合物，其中，所述取代基包括选自以下的一个或多个连接基团：-C1-10烷基-、-O-C1-10烷基-、-C1-10烯基-、-O-C1-10烯基-、-C1-10环烯基-、-O-C1-10环烯基-、-C1-10炔基-、-O-C1-10炔基-、-C1-10芳基-、-O-C1-10-、-芳基-、-O-、-S-、-S(O)w-、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-C(O)S-、-SC(O)-、-OC(O)O-、-N(Rb)-、-C(O)N(Rb)-、-N(Rb)C(O)-、-OC(O)N(Rb)-、-N(Rb)C(O)O-、-SC(O)N(Rb)-、-N(Rb)C(O)S-、-N(Rb)C(O)N(Rb)-、-N(Rb)C(NRb)N(Rb)-、-N(Rb)S(O)w-、-S(O)wN(Rb)-、-S(O)wO-、-OS(O)w-、-OS(O)wO-、-O(O)P(ORb)O-、(O)P(O-)3、-O(S)P(ORb)O-和(S)P(O-)3，其中w为1或2，且Rb独立地为氢、任选取代的烷基或任选取代的芳基。
项目3.根据项目1或2所述的化合物，其中，所述取代基包括选自以下的一个或多个连接基团：-((CH2)p-、1,2二取代苯基、1,3二取代苯基、1,4二取代苯基、二取代缩水甘油基、三取代缩水甘油基、-CH＝CH-、-C≡C-、-O-、-S-、-S(O)2-、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-OC(O)O-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-、-NHC(O)NH-、-NHC(NH)NH-、-NHS(O)2-、-S(O)2NH-、-S(O)2O-、-OS(O)2-、-OS(O)O-、(O)P(O-)3和(S)P(O-)3，其中p为1至12的整数。
项目4.根据项目1或2所述的化合物，其中，所述取代基包括选自以下的一个或多个连接基团：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-和(S)P(O-)3。
项目5.根据项目1-4中任一项所述的化合物，其中，所述取代基包括选自以下的一个或多个端基：氢、任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基、任选取代的杂芳基烷基、任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、任选取代的苯乙烯、任选取代的环氧化物、任选取代的环硫乙烷、任选取代的缩水甘油基、任选取代的内酯、任选取代的碳酸酯、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基和三甲基硅烷基。
项目6.根据项目1-4中任一项所述的化合物，其中，取代基包括选自以下的一个或多个端基：烯基、环烯基、任选取代的芳基和任选取代的杂芳基。
项目7.根据项目1-4中任一项所述的化合物，其中，取代基包括选自以下的一个或多个端基：任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、任选取代的乙烯基、任选取代的烯丙基、任选取代的环氧化物、任选取代的环硫乙烷、任选取代的缩水甘油基和任选取代的烯丙基。
项目8.根据项目1-4中任一项所述的化合物，其中，取代基包括选自以下的一个或多个端基：乙烯基、烯丙基、环氧化物、环硫乙烷、缩水甘油基、丙烯酸盐(酯)基和甲基丙烯酸盐(酯)基。
项目9.根据项目1-8中任一项所述的化合物，其中，取代基包括选自以下的一个或多个端基：任选取代的苯硫基、任选取代的硫代吡喃、任选取代的噻吩并苯硫基和任选取代的苯并苯硫基。
项目10.根据项目1-9中任一项所述的化合物，其中，聚合性基团或交联性基团选自任选取代的烯基、任选取代的环烯基、任选取代的炔基、任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、任选取代的苯乙烯、任选取代的环氧化物、任选取代的环硫乙烷、任选取代的缩水甘油基、任选取代的内酯、任选取代的内酰胺和任选取代的碳酸盐(酯)。
项目11.根据项目1-10中任一项所述的化合物，其中，聚合性基团或交联性基团包括选自乙烯基、烯丙基、环氧化物、环硫乙烷、缩水甘油基、丙烯酸盐(酯)和甲基丙烯酸盐(酯)。
项目12.根据项目1-11中任一项所述的化合物，其中，取代基包括至少一个芳基Ar，其中Ar选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的菲基、取代的非那烯基、取代的并四苯基、取代的基、取代的三亚苯基和取代的芘基。
项目13.根据项目1-11中任一项所述的化合物，其中，化合物包括至少一个芳基Ar，其中Ar选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的菲基、取代的非那烯基、取代的并四苯基、取代的基、取代的三亚苯基和取代的芘基。
项目14.根据项目12或项目13所述的化合物，其中，Ar各自独立存在时选自1,2-取代的苯基、1,3-取代的苯基和1,4-取代的苯基。
项目15.根据项目12或项目13所述的化合物，其中，Ar为1,4-取代的苯基。
项目16.根据项目1-15中任一项所述的化合物，其中，取代基包括选自以下的一个或多个基团：-Me、-OMe、-OPh、-SMe、-SPh、-F、-Cl、-Br和-I。
项目17.根据项目1-15中任一项所述的化合物，其中，化合物包括选自以下的一个或多个基团：-Me、-OMe、-OPh、-SMe、-SPh、-F、-Cl、-Br和-I。
项目18.根据项目1-17中任一项所述的化合物，其中，取代基包括选自以下的一个或多个基团：
项目19.根据项目1-17中任一项所述的化合物，其中，化合物包括选自以下的一个或多个基团：
项目20.根据项目1-17中任一项所述的化合物，其中，取代基包括选自以下的一个或多个基团：
项目21.根据项目1-17中任一项所述的化合物，其中，化合物包括选自以下的一个或多个基团：
项目22.根据项目1-17中任一项所述的化合物，其中，取代基包括选自以下的一个或多个基团：
项目23.根据项目1-17中任一项所述的化合物，其中，化合物包括选自以下的一个或多个基团：
项目24.根据项目1-17中任一项所述的化合物，其中，化合物包括选自以下的一个或多个基团：
项目25.根据项目1-24中任一项所述的化合物，化合物具有式IIa或式IIb：
其中，在式IIa和式IIb中：
R20为包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合的取代基；
R21和R22各自独立地为任选取代的芳基或C(R23)3；并且
R23在各自独立存在时为任选取代的芳基。
项目26.根据项目25所述的化合物，所述化合物具有式IIa，其中R21和R22各自为未取代的苯基，R21和R22各自为未取代的萘基，或R21和R22各自为C(R23)3，其中R23的各自存在时均为未取代的苯基。
项目27.根据项目25所述的化合物，所述化合物具有式IIa，其中R21为取代的苯基，R22为未取代的苯基。
项目28.根据项目27所述的化合物，其中，R21为用一个-Br取代的苯基。
项目29.根据项目25所述的化合物，其中，所述化合物具有式IIb，其中R21和R22各自为取代的苯基。
项目30.根据项目29所述的化合物，其中，R21和R22各自为联二苯。
项目31.根据项目25-30中任一项所述的化合物，其中，化合物选自：
项目32.根据项目1-24中任一项所述的化合物，所述化合物具有式III：
其中在式III中：
R30为烷基；
R31和R32各自独立地是包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合的取代基；
R33独立地是一个、两个、三个、四个或五个独立选择的-SRa取代基的基团；并且
L是选自以下的连接基团：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-、(S)P(O-)3及它们的组合。
项目33.根据项目32所述的化合物，其中，R30为甲基。
项目34.根据项目32或33所述的化合物，其中，R33为一个-SRa取代基，其中Ra是未取代的烷基。
项目35.根据权利要求34所述的化合物，其中Ra为甲基。
项目36.根据项目32-35中任一项所述的化合物，其中，化合物选自：
项目37.根据项目1-24中任一项所述的化合物，化合物具有式IV：
其中，在式IV中：
为CR43或
各R40、R41和R42各自独立地为一个、二个、三个、四个或五个独立选择的取代基的基团；
其中，一个或多个取代基包括且一个或多个取代基包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合；和/或
其中，一个或多个取代基包括
R43为氢或烷基；
R44为选自以下的连接基团：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-、(S)P(O-)3及它们的组合；
R45、R46和R48各自独立地是任选取代的芳基；并且
R47为包括至少一个聚合性基团或交联性基团的取代基。
项目38.根据项目37所述的化合物，其中，为CR43且R43选自H和甲基。
项目39.根据项目37或38所述的化合物，其中，R40和R41各自为独立选择的取代基，其中，R40和R41中的每个包括且R42为独立选择的包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选的取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合的取代基。
项目40.根据项目39所述的化合物，其中，R45和R46各自存在时为未取代的苯基。
项目41.根据项目37或38所述的化合物，其中，R40为一个独立选择的包括的取代基，且R41和R42各自是独立选择的包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合的取代基。
项目42.根据项目41所述的化合物，其中，R45和R46各自为未取代苯基。
项目43.根据项目37或38所述的化合物，其中，R40、R41和R42各自为独立选择的取代基，其中R40、R41和R42中的每一者均包括
项目44.根据项目43所述的化合物，其中，各R47存在时独立地包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选的取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合。
项目45.根据项目43或项目44所述的化合物，其中，各R48存在时为取代的苯基。
项目46.根据项目45所述的化合物，其中，各R48存在时为用一个-Cl取代的苯基。
项目47.根据项目37至46中任一项所述的化合物，其中，化合物选自：
项目48.根据项目1至24中任一项所述的化合物，化合物具有式V：
其中，在式V中：
R50和R51各自独立地选自氢和烷基；
R52、R54、R55和R57各自独立地为卤素；并且
R53和R56各自独立地是包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合的取代基。
项目49.根据项目48所述的化合物，其中，R50和R51各自为甲基。
项目50.根据项目48或49所述的化合物，其中，R52、R54、R55和R57各自为-Br。
项目51.根据项目48至50中任一项所述的化合物，其中，化合物为：
项目52.根据项目1所述的化合物，其中，所述化合物是在实施例中公开的任何一种化合物。
项目53.一种树脂混合物，该包括树脂混合物第一聚合物前体，该第一聚合物前体包括项目1至52中任何一项所述的化合物。
项目54.根据项目53所述的树脂混合物，该树脂混合物还包括第二聚合物前体，该第二聚合物前体包括含有聚合性或交联性基团的、不同的化合物。
项目55.根据项目54所述的树脂混合物，该树脂混合物还包括第三聚合物前体，该第三聚合物前体包括含有聚合性或交联性基团的、不同的化合物。
项目56.根据项目54或55所述的树脂混合物，其中，不同的化合物选自醇和异氰酸酯。
项目57.一种聚合物材料，该聚合物材料包括项目53至56中任何一项所述的树脂混合物，其中第二聚合物前体是部分或全部聚合的或交联的。
项目58.根据项目57所述的聚合物材料，其中，第一聚合物前体是部分或全部聚合的或交联的。
项目59.一种用于写入体布拉格光栅的记录材料，该材料包括项目53至56中任何一项所述的树脂混合物，或项目59或60中所述的聚合物材料。
项目60.根据项目59所述的记录材料，该记录材料还包括透明支承体。
项目61.根据项目59或60所述的记录材料，其中，该材料具有在1μm与500μm之间的厚度。
项目62.一种体布拉格光栅，该体布拉格光栅记录在项目59至61中任一项所述的记录材料上，其中，所述光栅的特征在于Q参数等于或大于1，其中
且其中λ0为记录波长，d为记录材料的厚度，n0为记录材料的折射率，并且Λ为光栅常数。
项目63.根据项目62所述的体布拉格光栅，其特征在于，Q参数等于或大于5。
项目64.根据项目62所述的体布拉格光栅，其特征在于，Q参数等于或大于10。
虽然在此示出和描述了优选实施方案，但是这些实施方案仅作为示例提供，并且不打算以其他方式限制本公开的范围。在实施本公开时可以采用实施方案的各种替代方案。
本文引用了多个专利和非专利出版物，以描述本公开所属领域的技术状态。这些出版物中的每个的全部公开内容通过引用并入本文。
虽然在本文中描述和/或例示了某些实施方案，但是根据本公开，对于本领域的技术人员来说，各种其他实施方案是显而易见的。因此，本公开不限于所描述和/或例示的特定实施方案，而是能够在不偏离所附权利要求的范围的情况下进行相当大的变化和修改。
实施例
1,3-二(苯硫基)丙烷-2-醇烷烃专利结构的合成
向100ml的圆底烧瓶(round)中加入20mL的水，然后加入硫酚(12.642g，0.1147mol)。然后将溶液冷却到0℃，并滴加三乙胺(11.606g，0.1147mol)以控制放热。然后向反应混合物中滴加1,3-二溴丙烷-2-醇(5g，0.02294mol)以控制放热。然后在室温下反应16h。反应用1倍饱和碳酸氢钠进行淬灭。水层用50mL的DCM洗涤3次。合并有机层且用1M的HCl洗涤1次、用水洗涤1次，用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-100％乙酸乙酯)纯化。产率为3.581g(0.01297mol，56.5％)，1H NMR(80MHz,CDCl3)7.26(s,15H),3.90-3.68(m,1H),3.18-3.05(m,4H),2.26(宽峰s,1H)；
1,3-双(苯硫基)丙烷-2-基丙烯酸酯的合成
在250mL圆底烧瓶中，将1,3-双(苯硫基)丙烷-2-醇(6.337g，0.02294mol)溶解于76mL的二氯甲烷中，然后加入三乙胺(11.687g，0.1147mol)。然后将溶液冷却到0℃，滴加丙烯酰氯(4.325g，0.04779mol)。然后将反应升温至室温，并搅拌16h。反应用1倍饱和碳酸氢钠进行淬灭。水层用50mL的DCM洗涤3次。合并有机层且用1M的HCl洗涤1次、用水洗涤1次，用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-100％乙酸乙酯)纯化。产率3.581g(0.01084mol，47.2％)，1H NMR(80MHz,CDCl3)6.41-5.56(m,2H),5.29-5.10(m,2h),3.33–3.25(m,4H)；
1,3-双(萘-1-基硫代)丙烷-2-醇的合成
向100ml圆形物中加入20mL的水和30mL的二氯甲烷，然后加入1-硫代萘酚(18.380g，0.1147mol)。然后将溶液冷却到0℃，并滴加三乙胺(11.606g，0.1147mol)以控制放热。然后向反应混合物中滴加1,3-二溴丙烷-2-醇(5g，0.02295mol)以控制放热。然后在室温下反应16h，反应用1倍饱和碳酸氢钠进行淬灭。水层用50mL的DCM洗涤2次。合并有机层且用1M的HCl洗涤1次、用水洗涤1次，用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥，并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-100％乙酸乙酯)纯化。产率为5.896g(0.01807mol，78.7％)；1H NMR(80MHz,CDCl3)8.46-8.33(m,2H),7.91-7.16(m,12H),3.88-3.65(m,1H),3.23-3.16(m,4H),2.36(宽峰s,1H)；
1,3-双(萘-1-基硫代)丙烷-2-基丙烯酸酯的合成
在250mL圆底烧瓶中，将1,3-双(萘-1-基硫代)丙烷-2-醇(5.896g，0.01559mol)溶解于52mL的二氯甲烷中，然后加入三乙胺(7.943g，0.07795mol)。然后将溶液冷却到0℃，滴加丙烯酰氯(4.325g，0.07795mol)。然后将反应升温至室温并搅拌16h。然后反应用水进行淬灭。水层用50mL DCM洗涤2次。合并有机层且用饱和碳酸氢钠洗涤1次、1M的HCl洗涤1次、用水洗涤1次，用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥，并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-100％二氯甲烷)纯化。1H NMR(80MHz,CDCl3)8.42-8.29(m,2H),7.771-7.26(m,12H),6.82-5.20(m,2H),5.75-5.28(m,2h),3.50–3.42(m,4H)；
1-溴-3-(苯硫基)丙烷-2-醇的合成
向50ml圆形物中加入20mL的二氯甲烷和5mL的水，然后加入苯硫酚(2.528g，0.02294mol)。然后将溶液冷却到0℃，并滴加三乙胺(11.606g，0.02294mol)以控制放热。然后向反应混合物中滴加1,3-二溴丙烷-2-醇(5g，0.02294mol)以控制放热。然后允许该反应在室温下反应3天。随着加入更多的水，使反应淬灭。水层用30mL DCM洗涤2次。合并有机层且用1M HCl洗涤1次、用饱和的碳酸氢钠洗涤1次、用水洗涤1次、用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-100％DCM)纯化。产率为4.134g(0.01673mol，73％)；1H NMR(80MHz,CDCl3)7.44(m,5H),4.08-3.78(m,1H),3.62-3.54(m,2H)3.18-3.06(m,2H),2.34(宽峰s,1H)；
1-((4-溴苯基)硫代)-3-(苯硫基)丙烷-2-醇的合成
向100mL的双颈圆底中加入25mL二氯甲烷和5mL水，然后加入4-溴苯硫酚(3.479g，0.01840mol)。然后将溶液冷却到0℃，并滴加三乙胺(11.606g，0.01840mol)以控制放热。然后加入1-溴-3-(苯硫基)丙烷-2-醇(4.134g，0.01673mol)，该反应在室温下反应3.5h。再加入0.5当量的4-溴苯硫酚和1当量的三乙胺，反应额外的16h。用更多额外的水使反应淬灭。水层用30mL DCM洗涤2次。合并有机层且用1M HCl洗涤1次、用饱和的碳酸氢钠洗涤1次、用水洗涤1次、用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-100％DCM)纯化。产率4.717g(0.01324mol，79.1％)，1HNMR(80MHz,CDCl3)7.59-7.26(m,9H),4.09-3.78(m,1H),3.45-2.98(m,4H),2.29(宽峰s,1H)；
2-((((1-((4-溴苯基)硫代)-3-(苯硫基)丙烷-2-基)氧基)羰基)氨基)丙烯酸乙酯的合成
在50mL双颈圆底中将1-((4-溴苯基)硫代)-3-(苯硫基)丙烷-2-醇(2.359g,0.006637mol)溶解在35mL乙酸乙酯中，然后向溶液加入2-异氰酸乙酯(2.809g,0.01991mol)。然后将溶液加热到60℃，加入2-乙基己酸锡(II)(0.003g，0.000006368mol)，该反应在60℃下搅拌16小时。反应用100mL的EtAc稀释。合并有机层且用用饱和的碳酸氢钠洗涤1次、用水洗涤1次、用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-20％乙酸乙酯)纯化。产率为3.166g(0.006378mol，96％)；1HNMR(80MHz,CDCl3)7.44-7.140(m,9H),6.10(s,1H),6.77-5.77(m,7H),5.11-4.88(m,1H),4.24-4.08(m,2H),3.52-3.17(m,6H)；
2-甲基-2-(((4-(甲硫基)苯氧基)羰基)氨基)丙烷-1,3-二基双丙烯酸酯的合成
在50mL双颈圆底中将4-(甲硫基)苯酚(12g,0.0856mol)溶解在35mL乙酸乙酯中，然后向溶液加入2-异氰酸基-2-甲基丙烷-1,3-二基双丙烯酸酯(21.5g,0.08987mol)。然后将溶液加热到60℃，添加2-乙基己酸锡(II)(0.060g)，该反应在60℃下搅拌16小时。
2-甲基-2-((((3-(甲硫基)苯基)氨基甲酰基)氧基)甲基)丙烷-1,3-二基双(2-甲基丙烯酸酯)的合成
在100mL双颈圆底中将2-(羟甲基)-2-甲基丙烷-1,3-二基双(2-甲基丙烯酸酯)(3.031g,0.01169mol)溶解在20mL乙酸乙酯中，然后向溶液加入(3-异氰酸苯基)(甲基)硫烷(2.028g,0.01228mol)。然后将溶液加热到60℃，加入2-乙基己酸锡(II)(0.003g，0.00001228mol)，该反应在60℃下搅拌16小时。反应用100mLEtAc稀释。合并有机层且用用饱和的碳酸氢钠洗涤1次、用水洗涤1次、用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱(正己烷中0-100％乙酸乙酯)纯化。产率为3.452g(0.08134mol，69.6％)；1H NMR(80MHz,CDCl3)7.39-6.78(m,4H),6.13-6.10(m,2H),5.61-5.57(m,1H),4.41-4.14(s,6H),2.47(s,3H),1.96(s,6H),1.11(s,3H)；
2-((((1,3-双(苯硫基)丙烷-2-基)氧基)羰基)氨基)甲基丙烯酸乙酯的合成
在250mL圆底烧瓶中，将1,3-双(苯硫基)丙烷-2-醇(6.820g，0.02294mol)溶解在20mL乙酸乙酯中，然后加入2-甲基丙烯酸异氰基乙酯(11.687g，0.1147mol)。然后将溶液加热到60℃，加入1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯(0.004g，0.00002467mol)，该反应在60℃下搅拌16小时。反应用1倍饱和碳酸氢钠进行淬灭。水层用50mL EtAc洗涤3次。将有机层合并且用1M HCl洗涤1次、用水洗涤1次，用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥，并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-20％乙酸乙酯)纯化。产率3.593g(0.008325mol，33.7％)，1H NMR(80MHz,CDCl3)7.45-7.14(m 10H),6.14-6.09(m,1H),5.63-5.55(m,1H),6.41-5.56(m,2H),5.29-5.10(m,2h),4.25-4.10(m,2H),3.44-3.23m,2H),1.94(s,3H)；LC/MS[M]+Na 454.1
1-([1,1'-二苯基]-2-基氧基)-3-([1,1'-二苯基]-4-基氧基)丙烷-2-醇的合成
将2-([1,1'-二苯基]-2-基氧基)甲基)环氧乙烷和[1,1'-二苯基]-2-醇加入250ml圆底烧瓶中，并溶解在70mL甲苯中。然后向溶液中加入过氧苯甲酸叔丁酯，反应加热回流，反应过夜。
2-((((1-([1,1'-二苯基]-2-基氧基)-3-([1,1'-二苯基]-4-基氧基)丙烷-2-基)氧基)羰基)氨基)甲基丙烯酸乙酯的合成
在50mL圆底烧瓶中，将1-([1,1'-二苯基]-2-基氧基)-3-([1,1'-二苯基]-4-基氧基)丙烷-2-醇(3g，0.00757mol)溶解在10mL的乙酸乙酯中，然后加入2-甲基丙烯酸异氰基乙酯(1.27g,0.00794mol)。向溶液中加入N-亚硝基-1,3-二甲基硫脲(1滴)，反应在室温下搅拌16h。反应用1倍饱和碳酸氢钠进行淬灭。水层用20mL EtAc洗涤3次。合并有机层且用1MHCl洗涤1次、用水洗涤1次，用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥并浓缩。
1,3-双(三硫代)丙烷-2-醇的合成
向100ml圆形物中加入25mL的乙酸乙酯和10mL的水，然后加入三苯甲硫醇(10g，0.03579mol)。然后将溶液冷却到0℃，并滴加三乙胺(11.606g，0.0852mol)以控制放热。然后向反应混合物中滴加1,3-二溴丙烷-2-醇(5g，0.017044mol)以控制放热。然后该反应在室温下反应16h，反应用1倍饱和碳酸氢钠水进行淬灭。水层用50mL乙酸乙酯洗涤3次。合并有机层且用1M的HCl洗涤1次、用饱和的碳酸氢钠洗涤1次、用水洗涤1次、用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-100％二氯甲烷)纯化。产率4.58g(0.00752mol，44.1％)；LC/MS[M]+Na 631.3
2-((((1,3-双(三苯甲硫基)丙烷-2-基)氧基)羰基)氨基)甲基丙烯酸乙酯的合成
在50mL圆底烧瓶中，将1,3-双(三苯甲硫基)丙烷-2-醇(4.58g,0.007522mol)溶解在20mL乙酸乙酯中，然后加入2-甲基丙烯酸异氰基乙酯(1.284g,0.008274mol)。然后将溶液加热到60℃，加入1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯(0.001g,0.000008274)，该反应在60℃下搅拌16小时。16小时后，反应仅完成1/3，因此额外加入2当量的2-甲基丙烯酸异氰基乙酯和0.1％的DBU。加入8小时后，加入0.003mL2-乙基己酸锡(II)，在60℃下反应16小时。反应用1倍饱和碳酸氢钠进行淬灭。水层用20mL EtAc洗涤3次。合并有机层且用1M HCl洗涤1次、用水洗涤1次，用饱和氯化钠溶液洗涤1次，在硫酸镁上干燥并浓缩。粗反应混合物通过硅胶柱色谱法(己烷中0-20％乙酸乙酯)纯化。产率3.172g(0.00415mol,55.2％)；1HNMR(80MHz,CDCl3)7.36-7.15(m 30H),6.10-6.07(m,1H),5.55-5.50(m,1H),4.34-4.08(m,2H),3.53-3.32(m,2H),1.91(s,3H)；LC/MS[M]+Na 786.2
实施例
方法：向100ml圆底烧瓶中加入27％的硫代磷酸三异氰酸酯乙酸乙酯溶液(11.110g溶液)(3g硫代磷酸盐(酯)，0.006446mol)，然后加入1,3-双(苯硫基)丙烷-2-醇(1.789g，0.00648mol)，然后加入2-乙基己酸锡(II)(0.003g，0.002mL，0.00000645mol)，然后将该溶液在60℃搅拌2小时。2小时后，加入第二等效物1,3-双(苯硫基)丙烷-2-醇(1.789g，0.00648mol)并在60℃下额外反应的2h，然后向反应中加入的2-丙烯酸羟乙酯(0.749g，0.740mL，0.00645mol)，然后在60℃下搅拌16h，16h后将反应冷却至室温。反应用100mL乙酸乙酯稀释，用饱和碳酸氢钠溶液洗涤一次，用去离子水洗涤一次，用饱和氯化钠溶液洗涤一次，然后在硫酸镁上干燥。经干燥的溶液在湿式硅藻土上过滤。没有进行进一步的提纯。产率(6.116g,0.00539mol,84％)；1H NMR(80MHz,CDCl3)7.42-7.19(m,32H),6.41-5.91(m,3H),5.31-5.06(m,2H),4.46(s,4H),3.36-3.28(m,8H)。
实施例
方法：向100ml圆底烧瓶中加入27％的硫代磷酸三异氰酸酯乙酸乙酯溶液(9.020g溶液)(2.435g硫代磷酸盐(酯)，0.00523mol)然后加入1,3-双(苯硫基)丙烷-2-醇(1.45g，0.00523mol)，然后加入2-乙基己酸锡(II)(0.002g，0.002mL，0.00000523mol)，然后将该溶液在60℃搅拌2小时。向反应加入2-丙烯酸羟乙酯(1.215g,1.202mL,0.00105mol)并在60℃下搅拌16h。16h后将反应冷却至室温。反应用100mL乙酸乙酯稀释，用饱和碳酸氢钠溶液洗涤一次，用去离子水洗涤一次，用饱和氯化钠溶液洗涤一次，然后在硫酸镁上干燥。经干燥的溶液在湿式硅藻土上过滤。没有进行进一步的提纯。产率(3.723g,0.00382mol,73％)；1HNMR(80MHz,CDCl3)7.45-7.08(m,22H),6.73(m,1H),6.61-6.17(m,4H),5.97-5.77(m,2H),5.18-5.04(m,1H),4.41(s,8H),3.34-3.27(m,4H)。
实施例
方法：向250ml圆底烧瓶中加入的27％硫代磷酸三异氰酸酯乙酸乙酯溶液(37.037g溶液)(10g硫代磷酸盐(酯)，0.0215mol)然后加入1,3-双(苯硫基)丙烷-2-醇(6.236g，0.0226mol)，然后加入2-乙基己酸锡(II)(0.008g，0.007mL，0.0000215mol)，然后将该溶液在60℃搅拌2小时。向反应加入2-甲基丙烯酸羟乙酯(5.731g,1.202mL,0.00105mol)并在60℃下搅拌16h。16h后将反应冷却至室温。反应用100mL乙酸乙酯稀释，用饱和碳酸氢钠溶液洗涤一次，用去离子水洗涤一次，用饱和氯化钠溶液洗涤一次，然后在硫酸镁上干燥。经干燥的溶液在湿式硅藻土上过滤。没有进行进一步的提纯。产率(16.164g,0.0161mol,75％)；1H NMR(80MHz,CDCl3)7.45-7.08(m,22H),6.81(m,2H),6.15(s,2H),5.62-5.58(m,2H),5.19-5.08(m,1H),4.40(s,8H),3.34-3.26(m,4H),1.95(s,6H)；LC/MS M+Na1024.2。
实施例：3,3',3”-((甲三基三(苯-4,1-二基))三(氧基))三(1-((4-氯苯基)硫代)丙烷-2-醇)
将1.754克的三(4-(环氧乙烷-2-基甲氧基)苯基)甲烷、与2.755克的4-对氯苯硫酚、1.850毫升的三乙胺一起溶解在50毫升的乙酸乙酯中，加热至60℃，16小时。不是所有的环氧化物起始材料都被消耗掉了，所以额外添加2当量的4-对氯苯硫酚和三乙胺，并额外反应24小时。粗反应混合物用饱和碳酸氢钠溶液洗涤一次，用水洗涤一次，用饱和氯化钠溶液洗涤一次，然后用硫酸镁干燥，并减压浓缩。在硅胶柱(己烷中0-50％乙酸乙酯的梯度)上执行纯化。产率37％，LC/MS，96％纯度[M]+H 893.0
实施例：((((((甲烷三基三(苯-4,1-二基))三(氧基))三(3-((4-氯苯基)硫代)丙烷-1,2-二基))三(氧基))三(羰基))三(氮杂二基))三(乙烷-2,1-二基)三(2-丙烯酸甲酯)
将1.248克的3,3',3”-((甲烷三基三(苯-4,1-二基))三(氧基))三(1-((4-氯苯基)硫代)丙烷-2-醇)、与0.858克的2-甲基丙烯酸异氰基乙酯和0.001毫升的1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯结合，溶解在15毫升的乙酸乙酯中，并加热到60℃ 16小时。粗反应混合物用饱和碳酸氢钠溶液洗涤一次，用水洗涤一次，用饱和氯化钠溶液洗涤一次，然后用硫酸镁干燥，并减压浓缩。在硅胶柱(己烷中0-50％乙酸乙酯的梯度)上执行纯化。产率60％，LC/MS，99％纯度[M]+Na 1382.2，折射率，1.598
实施例：3,3',3”-((乙烷-1,1,1-三基三(苯-4,1-二基))三(氧基))三(1-((4-氯苯基)硫代)丙烷-2-醇)
将1.944克的2,2',2”-(((乙烷-1,1,1-三基三(苯-4,1-二基))三(氧基))三(环氧乙烷)、与2.962克的4-对氯苯硫酚、2.072毫升的三乙胺一起溶解在30毫升的乙酸乙酯中，加热至60℃，持续16小时。粗反应混合物用饱和碳酸氢钠溶液洗涤一次，用水洗涤一次，用饱和氯化钠溶液洗涤一次，然后用硫酸镁干燥，并减压浓缩。在硅胶柱(己烷中0-50％乙酸乙酯的梯度)上执行纯化。产率82％，LC/MS，97％纯度[M]+Na 931.0
实施例：((((((乙烷-1,1,1-三基三(苯-4,1-二基))三(氧基))三(3-((4-氯苯基)硫代)丙烷-1,2-二基))三(氧基))三(羰基))三(氮杂二基))三(乙烷-2,1-二基)三(2-丙烯酸甲酯)
将3.052克的3,3',3”-((乙烷-1,1,1-三基三(苯-4,1-二基))三(氧基))三(3-((4-氯苯基)硫代)丙烷-2-醇)、与1.616克的2-甲基丙烯酸异氰基乙酯和0.002毫升的1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯结合，溶解在20毫升的乙酸乙酯中，并加热到60℃ 16小时。16小时后，加入额外的1毫升2-甲基丙烯酸异氰基乙酯，以推动反应完成。粗反应混合物用饱和碳酸氢钠溶液洗涤一次，用水洗涤一次，用饱和氯化钠溶液洗涤一次，然后用硫酸镁干燥，并减压浓缩。在硅胶柱(己烷中0-50％乙酸乙酯的梯度)上执行纯化。产率60％，LC/MS，99％纯度[M]+Na 1382.2，折射率，1.598
实施例：((((((丙烷-2,2-二基双(2,6-二溴-4,1-亚苯基))双(氧基))双(乙烷-2,1-二基))双(氧基))双(羰基))双(氮杂二基))双(乙烷-2,1-二基)双(2-丙烯酸甲酯)的合成
将2,2'-((丙烷-2,2-二基双(2,6-二溴-4,1-亚苯基))双(氧基))双(乙烷-1-醇)溶解在毫升乙酸乙酯中，然后向溶液中加入2.1当量的2-甲基丙烯酸异氰基乙酯。添加到溶液中。然后将溶液加热到60℃，并且加入2-乙基己酸锡(II)，该反应在60℃下搅拌16小时。

Claims (17)

1.一种式I的化合物：
其中，在式I中:
R在独立存在时为氢或为包括选自以下的一个或多个基团的取代基：任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基、任选取代的杂芳基烷基、羟基、卤素、氰基、三氟甲基、三氟甲氧基、硝基、三甲基硅烷基、任选取代的环氧化物、任选取代的缩水甘油基、任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基、-ORa、-SRa、-OC(O)-Ra、-N(Ra)2、-C(O)Ra、-C(O)ORa、-C(O)SRa、-SC(O)Ra、-OC(O)ORa、-OC(O)N(Ra)2、-C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(O)ORa、-N(Ra)C(O)Ra、-N(Ra)C(O)N(Ra)2、-N(Ra)C(NRa)N(Ra)2、-N(Ra)S(O)tRa、-S(O)tRa、-S(O)tORa、-S(O)tN(Ra)2、-S(O)tN(Ra)C(O)Ra、-O(O)P(ORa)2和-O(S)P(ORa)2；
t为1或2；
Ra在每次存在时独立地选自氢、任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的烯基、任选取代的炔基、任选取代的环烷基、任选取代的杂环烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳基烷基、任选取代的杂芳基和任选取代的杂芳基烷基；并且
其中，所述式I的化合物包括至少一个R取代基，所述R取代基包括至少一个聚合性基团或交联性基团。
2.根据权利要求1所述的化合物，所述化合物具有式IIa或式IIb：
其中，在式IIa和式IIb中：
R20为包括以下的取代基：任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合；
R21和R22各自独立地为任选取代的芳基或C(R23)3；以及
R23在各自独立存在时为任选取代的芳基。
3.根据权利要求1所述的化合物，所述化合物具有式III：
其中，在式III中：
R30为烷基；
R31和R32各自独立地为包括以下取代基：任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合；
R33独立地为一个、两个、三个、四个或五个独立选择的-SRa取代基的基团；并且
L为选自以下的连接基团：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-、(S)P(O-)3及它们的组合。
4.根据权利要求1所述的化合物，所述化合物具有式IV：
其中，在式IV中：
为CR43或
各R40、R41和R42各自独立地为一个、二个、三个、四个或五个独立选择的取代基的基团；
其中，一个或多个取代基包括且一个或多个取代基包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合；和/或
其中，一个或多个取代基包括
R43为氢或烷基；
R44是选自以下的连接基团：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-、(S)P(O-)3及它们的组合；
R45、R46和R48各自独立地是任选取代的芳基；以及
R47为包括至少一个聚合性基团或交联性基团的取代基。
5.根据权利要求1所述的化合物，所述化合物具有式V：
其中，在式V中：
R50和R51各自独立地选自氢和烷基；
R52、R54、R55和R57各自独立地为卤素；并且
R53和R56各自独立地是包括任选取代的丙烯酸盐(酯)基、任选取代的甲基丙烯酸盐(酯)基或它们的组合的取代基。
6.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述取代基包括选自以下的一个或多个连接基团：-(CH2)-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、1,4二取代的苯基、二取代的缩水甘油基、三取代的缩水甘油基、-CH＝CH-、-O-、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-NH-、-C(O)NH-、-NHC(O)-、-OC(O)NH-、-NHC(O)O-、-SC(O)NH-、-NHC(O)S-和(S)P(O-)3。
7.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述取代基包括至少一个芳基Ar，其中，Ar选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的菲基、取代的非那烯基、取代的并四苯基、取代的基、取代的三亚苯基和取代的芘基。
8.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述取代基包括选自以下的一个或多个基团：
9.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述取代基包括选自以下的一个或多个基团：
10.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述化合物包括选自以下的一个或多个基团：
11.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述化合物包括选自以下的一个或多个基团：
12.根据权利要求2所述的化合物，其中，所述化合物选自：
13.根据权利要求3所述的化合物，其中，所述化合物选自：
14.根据权利要求4所述的化合物，其中，所述化合物选自：
15.根据权利要求5所述的化合物，其中，所述化合物为：
16.一种用于写入体布拉格光栅的记录材料，所述材料包括树脂混合物，所述树脂混合物包括含有根据权利要求1所述的化合物的第一聚合物前体，其中，所述第一聚合物前体部分地或全部地被聚合或交联。
17.一种体布拉格光栅，所述体布拉格光栅记录在根据权利要求16所述的记录材料上，其中，所述光栅的特征在于Q参数等于或大于1，其中
且其中λ0为记录波长，d为记录材料的厚度，n0为记录材料的折射率，并且Λ为光栅常数。
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