CN116453992B - 一种稳流结构气浮板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种稳流结构气浮板，主气浮板的下端设置有开口槽，主进气堵板设置于开口槽内，主进气堵板的上端与主气浮板之间配合的形成有第一主进气通道，主进气堵板的下端安装有连通第一主进气通道的进气接头；所述主气浮板内设置有与第一主进气通道相连通的第二主进气通道，主气浮板内还设置有多个贯穿主气浮板上端且与第二主进气通道相连通的出气孔，出气孔内安装有气流螺栓和气流针，气流螺栓上设置有与第二主进气通道相连通的第一次进气通道，气流针上设置有与第一次进气通道和出气孔上端相连通的第二次进气通道。本发明不仅可以使得被测物在主气浮板上进行相对运动,且主气浮板不会接触到被测物。

Description

一种稳流结构气浮板
技术领域
本发明属于液晶面板(LCD)、有机发光二极体面板(OLED)以及半导体晶圆制程和检测技术领域，具体涉及一种稳流结构气浮板。
背景技术
在面板行业甚至半导体晶圆生产过程中,不论制程设备或者检测设备都需要有平台对被测物进行承载和运送,目前大多的平台大多使用加工件直接托载被测物,但是会导致玻璃运送较难,需要整组平台直接移动,并且还会接触到被测物,导致被测物产生损坏或者检测时拍摄到平台。
发明内容
本发明的目的是提供一种稳流结构气浮板，用以解决现有技术中存在的上述问题。
为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种稳流结构气浮板，包括主气浮板、主进气堵板、进气接头、气流螺栓和气流针，主气浮板的下端设置有开口槽，主进气堵板设置于开口槽内，主进气堵板的上端与主气浮板之间配合的形成有第一主进气通道，主进气堵板的下端安装有连通第一主进气通道的进气接头；所述主气浮板内设置有与第一主进气通道相连通的第二主进气通道，主气浮板内还设置有多个贯穿主气浮板上端且与第二主进气通道相连通的出气孔，出气孔内安装有气流螺栓和气流针，气流螺栓上设置有与第二主进气通道相连通的第一次进气通道，气流针上设置有与第一次进气通道和出气孔上端相连通的第二次进气通道。
作为本发明中一种优选的技术方案，所述主进气堵板通过螺栓与主气浮板相连接，主进气堵板上端的中部开设置有作为第一主进气通道的通气槽。
作为本发明中一种优选的技术方案，所述主气浮板与主进气堵板之间设置有主进气密封条。
作为本发明中一种优选的技术方案，所述出气孔与第二主进气通道的连通处设置有球形槽，球形槽处所对应的气流螺栓上设置有多个第一次进气通道的进气口。
作为本发明中一种优选的技术方案，所述出气孔贯穿主气浮板的下端，气流螺栓从出气孔的下端螺纹连接于出气孔内。
作为本发明中一种优选的技术方案，所述气流螺栓的螺帽与出气孔的内壁之间设置有密封圈。
作为本发明中一种优选的技术方案，所述气流螺栓的上端设置有安装滑槽，第一次进气通道连通安装滑槽，气流针滑动连接于安装滑槽内；所述气流螺栓上方的出气孔为小孔径出气口，小孔径出气口的内径小于气流针的直径。
作为本发明中一种优选的技术方案，所述气流针的外壁上设置有作为第二次进气通道的螺旋槽，螺旋槽连通第二主进气通道和小孔径出气口。
作为本发明中一种优选的技术方案，所述主气浮板的下端设置有多个气浮板固定杆，气浮板固定杆通过水平调节螺栓与主气浮板相连接。
作为本发明中一种优选的技术方案，所述第二主进气通道贯穿主气浮板的侧面，第二主进气通道两端的主气浮板上均安装有堵头。
有益效果：本发明通过主进气堵板连接的进气接头，进而气体通过进气接头进入主进气堵板与主气浮板之间形成有第一主进气通道，然后进入主气浮板内的第二主进气通道，第二主进气通道内的气体进入气流螺栓的第一次进气通道内，然后通过气流针的第二次进气通道后从出气孔上端吹出，通过气流针使得气流可以稳定的经由主气浮板上的出气孔吹出，进而对主气浮板上的被测物形成一个向上的推力，不仅可以使得被测物在主气浮板上进行相对运动,且主气浮板不会接触到被测物,并且由于检测行业使用的精密工业相机景深小的特性,被测物悬浮在主气浮板上进行检测时,工业相机所拍摄到的背景画面会被悬浮高度影像导致需要,方可减少拍摄时来自背景的杂讯,从而增加检测设备的检出率。
本发明的结构紧凑且相对于传统气浮板更加简单，从而使得设备具有更加简单的加工工序,在成本上更为便宜,并且拥有更高的可靠性等优点,在液晶显示屏制造业及半导体晶圆制造和检测行业有很高的实用价值。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为本发明的侧视图；
图3为图2中A-A向剖视图；
图4为本发明中主进气堵板的结构示意图；
图5为本发明中气流针的结构示意图。
图中：1-主气浮板；101-第二主进气通道；102-出气孔；2-主进气堵板；201-通气槽；3-进气接头；4-气流螺栓；401-第一次进气通道；5-气流针；501-第二次进气通道；6-主进气密封条；7-密封圈；8-气浮板固定杆；9-堵头。
具体实施方式
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将结合附图和实施例或现有技术的描述对本发明作简单地介绍，显而易见地，下面关于附图结构的描述仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在此需要说明的是，对于这些实施例方式的说明用于帮助理解本发明，但并不构成对本发明的限定。
实施例：
如图1-图5所示，本实施例提供了一种稳流结构气浮板，包括主气浮板1、主进气堵板2、进气接头3、气流螺栓4和气流针5，主气浮板1的下端设置有开口槽，主进气堵板2设置于开口槽内，主进气堵板2的上端与主气浮板1之间配合的形成有第一主进气通道，主进气堵板2的下端安装有连通第一主进气通道的进气接头3；所述主气浮板1内设置有与第一主进气通道相连通的第二主进气通道101，主气浮板1内还设置有多个贯穿主气浮板1上端且与第二主进气通道相连通的出气孔102，出气孔102内安装有气流螺栓4和气流针5，气流螺栓4上设置有与第二主进气通道101相连通的第一次进气通道401，在气流螺栓4的安装位置尽量保证密封性，使得第二主进气通道101内的气体可以顺利的进入第一次进气通道401，气流针5上设置有与第一次进气通道401和出气孔上端相连通的第二次进气通道501，进气接头3将气体通入第一主进气通道，然后气体经由第一主进气通道进入第二主进气通道101，第二主进气通道101内的气体进入气流螺栓4的第一次进气通道401内，然后通过气流针5的第二次进气通道501后从出气孔102上端吹出，通过气流针5使得气流可以稳定的经由主气浮板1上的出气孔102吹出，进而对主气浮板1上的被测物形成一个向上的推力，不仅可以使得被测物在主气浮板1上进行相对运动,且主气浮板1不会接触到被测物,并且由于检测行业使用的精密工业相机景深小的特性,被测物悬浮在主气浮板1上进行检测时,工业相机所拍摄到的背景画面会被悬浮高度影像导致需要,方可减少拍摄时来自背景的杂讯,从而增加检测设备的检出率。
本发明通过主进气堵板2连接的进气接头3，进而气体通过进气接头3进入主进气堵板2与主气浮板1之间形成有第一主进气通道，然后进入主气浮板1内的第二主进气通道101，第二主进气通道101内的气体进入气流螺栓4的第一次进气通道401内，然后通过气流针5的第二次进气通道501后从出气孔102上端吹出，通过气流针5使得气流可以稳定的经由主气浮板1上的出气孔102吹出，进而对主气浮板1上的被测物形成一个向上的推力，不仅可以使得被测物在主气浮板1上进行相对运动,且主气浮板1不会接触到被测物,并且由于检测行业使用的精密工业相机景深小的特性,被测物悬浮在主气浮板1上进行检测时,工业相机所拍摄到的背景画面会被悬浮高度影像导致需要,方可减少拍摄时来自背景的杂讯,从而增加检测设备的检出率。
本发明的结构紧凑且相对于传统气浮板更加简单，从而使得设备具有更加简单的加工工序,在成本上更为便宜,并且拥有更高的可靠性等优点,在液晶显示屏制造业及半导体晶圆制造和检测行业有很高的实用价值。
作为本实施例中一种优选的实施方案，需要进一步说明的是，所述主进气堵板2通过螺栓与主气浮板1相连接，连接方式简单而稳定，主进气堵板2上端的中部开设置有作为第一主进气通道的通气槽201，通过简单的方式形成第一主进气通道，进而使得进气接头3通入的气流可以进入整个第一主进气通道，然后再通过第一主进气通道与第二主进气通道101相连接的各个空位进入第二主进气通道101内。
作为本实施例中一种优选的实施方案，需要进一步说明的是，所述主气浮板1与主进气堵板2之间设置有主进气密封条6，加强主气浮板1与主进气堵板2之间的密封性，防止有气体泄漏。
作为本实施例中一种优选的实施方案，需要进一步说明的是，所述出气孔102与第二主进气通道101的连通处设置有球形槽，球形槽处所对应的气流螺栓4上设置有多个第一次进气通道401的进气口，球形槽的直径要大于球形槽处所对应的气流螺栓4部位的直径，使得第二主进气通道101内的气体通过球形槽可以从各个第一次进气通道401的进气口进入第一次进气通道401内。
作为本实施例中一种优选的实施方案，需要进一步说明的是，所述出气孔102贯穿主气浮板1的下端，气流螺栓4从出气孔102的下端螺纹连接于出气孔102内，使得气流螺栓4从根据需要可以快速实现装卸，同时在装卸的过程中可以加强密封性等，提高安装的便捷性。
作为本实施例中一种优选的实施方案，需要进一步说明的是，所述气流螺栓4的螺帽与出气孔102的内壁之间设置有密封圈7，密封圈7可以有效阻止气体从出气孔102的下端流出，进而保证气密性，也保证在主气浮板1上端可以稳定的吹出气流。
作为本实施例中一种优选的实施方案，需要进一步说明的是，所述气流螺栓4的上端设置有安装滑槽，第一次进气通道401连通安装滑槽，气流针5滑动连接于安装滑槽内，使得气流针5的装卸非常方便，可以在安装气流螺栓4时，同步安装气流针5，使得两个零部件一部安装到位；所述气流螺栓4上方的出气孔102为小孔径出气口，小孔径出气口的内径小于气流针5的直径，进而保证气流针5的稳定性，在工作时，第一次进气通道401内的气体吹入第二次进气通道501，气流针5在有气流经过时会由于被第二次进气通道501产生的气流往出气孔102上端方向推动，从而使得气流可以稳定的经由主气浮板1上的出气孔102吹出。
作为本实施例中一种优选的实施方案，需要进一步说明的是，所述气流针5的外壁上设置有作为第二次进气通道501的螺旋槽，螺旋槽连通第二主进气通道101和小孔径出气口，进而使得经过螺旋槽的气流可以推动气流针5，使得气流针5能够贴合小孔径出气口，进而使得气流可以稳定的经由主气浮板1上的出气孔102吹出。
作为本实施例中一种优选的实施方案，需要进一步说明的是，所述主气浮板1的下端设置有多个气浮板固定杆8，方便与其他设备相连接，气浮板固定杆8通过水平调节螺栓与主气浮板1相连接，可以保证主气浮板1的水平效果。
作为本实施例中一种优选的实施方案，需要进一步说明的是，所述第二主进气通道101贯穿主气浮板1的侧面，进而使得第二主进气通道101的加工更加方便，第二主进气通道101两端的主气浮板1上均安装有堵头9，提高密封性，防止漏气。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种稳流结构气浮板，其特征在于，包括主气浮板（1）、主进气堵板（2）、进气接头（3）、气流螺栓（4）和气流针（5），主气浮板（1）的下端设置有开口槽，主进气堵板（2）设置于开口槽内，主进气堵板（2）的上端与主气浮板（1）之间配合的形成有第一主进气通道，主进气堵板（2）的下端安装有连通第一主进气通道的进气接头（3）；所述主气浮板（1）内设置有与第一主进气通道相连通的第二主进气通道（101），主气浮板（1）内还设置有多个贯穿主气浮板（1）上端且与第二主进气通道相连通的出气孔（102），出气孔（102）内安装有气流螺栓（4）和气流针（5），气流螺栓（4）上设置有与第二主进气通道（101）相连通的第一次进气通道（401），气流针（5）上设置有与第一次进气通道（401）和出气孔上端相连通的第二次进气通道（501）。
2.根据权利要求1所述的一种稳流结构气浮板，其特征在于，所述主进气堵板（2）通过螺栓与主气浮板（1）相连接，主进气堵板（2）上端的中部开设置有作为第一主进气通道的通气槽（201）。
3.根据权利要求1或2所述的一种稳流结构气浮板，其特征在于，所述主气浮板（1）与主进气堵板（2）之间设置有主进气密封条（6）。
4.根据权利要求1所述的一种稳流结构气浮板，其特征在于，所述出气孔（102）与第二主进气通道（101）的连通处设置有球形槽，球形槽处所对应的气流螺栓（4）上设置有多个第一次进气通道（401）的进气口。
5.根据权利要求1或4所述的一种稳流结构气浮板，其特征在于，所述出气孔（102）贯穿主气浮板（1）的下端，气流螺栓（4）从出气孔（102）的下端螺纹连接于出气孔（102）内。
6.根据权利要求5所述的一种稳流结构气浮板，其特征在于，所述气流螺栓（4）的螺帽与出气孔（102）的内壁之间设置有密封圈（7）。
7.根据权利要求1所述的一种稳流结构气浮板，其特征在于，所述气流螺栓（4）的上端设置有安装滑槽，第一次进气通道（401）连通安装滑槽，气流针（5）滑动连接于安装滑槽内；所述气流螺栓（4）上方的出气孔（102）为小孔径出气口，小孔径出气口的内径小于气流针（5）的直径。
8.根据权利要求7所述的一种稳流结构气浮板，其特征在于，所述气流针（5）的外壁上设置有作为第二次进气通道（501）的螺旋槽，螺旋槽连通第二主进气通道（101）和小孔径出气口。
9.根据权利要求1所述的一种稳流结构气浮板，其特征在于，所述主气浮板（1）的下端设置有多个气浮板固定杆（8），气浮板固定杆（8）通过水平调节螺栓与主气浮板（1）相连接。
10.根据权利要求1所述的一种稳流结构气浮板，其特征在于，所述第二主进气通道（101）贯穿主气浮板（1）的侧面，第二主进气通道（101）两端的主气浮板（1）上均安装有堵头（9）。
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Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6123323A (en) * 1996-08-26 2000-09-26 Nippon Shokubai Co., Ltd. Gas-liquid dispersion devices provided with partitioning members, gas-liquid contact apparatus, and wastewater treatment systems provided with the same
EP1400614A2 (en) * 2002-09-19 2004-03-24 Canon Kabushiki Kaisha Process and apparatus for liquid phase epitaxy
JPWO2007088936A1 (ja) * 2006-02-01 2009-06-25 平田機工株式会社 気流搬送装置
CN101510521A (zh) * 2009-03-23 2009-08-19 浙江大学 旋涡式非接触硅片夹持装置
JP2011149500A (ja) * 2010-01-22 2011-08-04 Sintokogio Ltd 静圧軸受装置および静圧軸受装置を備えたステージ
CN108639758A (zh) * 2018-07-04 2018-10-12 江苏东旭亿泰智能装备有限公司 一种气浮过渡装置及液晶屏输送装置
CN109927066A (zh) * 2019-04-15 2019-06-25 深圳市博视科技有限公司 气浮式拾取装置及拾取方法
CN211812149U (zh) * 2020-03-23 2020-10-30 济南天马泰山石材有限公司 一种应用人造石的汽浮平台
CN211885337U (zh) * 2019-12-31 2020-11-10 深圳市卡司通展览股份有限公司 一种桌上冰球气孔悬浮装置
CN112278959A (zh) * 2020-11-04 2021-01-29 无锡爱德旺斯科技有限公司 一种用于低张力材料悬浮输送的气翼式喷嘴
WO2021036459A1 (zh) * 2019-08-30 2021-03-04 中清信益环境(南京)有限公司 一种水处理用竖流式沉淀与气浮装置及其工作方法
CN215574740U (zh) * 2021-07-05 2022-01-18 成都中嘉微视科技有限公司 一种液晶玻璃检测装置
CN115771764A (zh) * 2022-11-29 2023-03-10 惠州市信宇人科技有限公司 一种精密气悬浮平台及其控制方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4770358B2 (ja) * 2005-09-22 2011-09-14 沖電気工業株式会社 加入者データベースネットワークのデータ一致化方法
US20080122151A1 (en) * 2006-11-28 2008-05-29 Ckd Corporation Levitation unit with a tilting function and levitation device

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6123323A (en) * 1996-08-26 2000-09-26 Nippon Shokubai Co., Ltd. Gas-liquid dispersion devices provided with partitioning members, gas-liquid contact apparatus, and wastewater treatment systems provided with the same
EP1400614A2 (en) * 2002-09-19 2004-03-24 Canon Kabushiki Kaisha Process and apparatus for liquid phase epitaxy
JPWO2007088936A1 (ja) * 2006-02-01 2009-06-25 平田機工株式会社 気流搬送装置
CN101510521A (zh) * 2009-03-23 2009-08-19 浙江大学 旋涡式非接触硅片夹持装置
JP2011149500A (ja) * 2010-01-22 2011-08-04 Sintokogio Ltd 静圧軸受装置および静圧軸受装置を備えたステージ
CN108639758A (zh) * 2018-07-04 2018-10-12 江苏东旭亿泰智能装备有限公司 一种气浮过渡装置及液晶屏输送装置
CN109927066A (zh) * 2019-04-15 2019-06-25 深圳市博视科技有限公司 气浮式拾取装置及拾取方法
WO2021036459A1 (zh) * 2019-08-30 2021-03-04 中清信益环境(南京)有限公司 一种水处理用竖流式沉淀与气浮装置及其工作方法
CN211885337U (zh) * 2019-12-31 2020-11-10 深圳市卡司通展览股份有限公司 一种桌上冰球气孔悬浮装置
CN211812149U (zh) * 2020-03-23 2020-10-30 济南天马泰山石材有限公司 一种应用人造石的汽浮平台
CN112278959A (zh) * 2020-11-04 2021-01-29 无锡爱德旺斯科技有限公司 一种用于低张力材料悬浮输送的气翼式喷嘴
CN215574740U (zh) * 2021-07-05 2022-01-18 成都中嘉微视科技有限公司 一种液晶玻璃检测装置
CN115771764A (zh) * 2022-11-29 2023-03-10 惠州市信宇人科技有限公司 一种精密气悬浮平台及其控制方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
气浮设备的结构特点与工程应用;徐兵;内蒙古民族大学学报(自然科学版)(第03期);正文全文 *

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