CN1164029A - 镜子及其生产 - Google Patents
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Abstract
通过层材料和层厚的选择,控制通过在玻璃基板(1)上的两个增反层(3,4)上沉积反射层(5)生产的背面镜的绿色反射色,提供a*值大于-6的反射色,光反射率至少为65%,优选的是至少70%。内增反层(3)和反射层(5)优选的是硅层,内增反层具有小于125nm的光学厚度;中间增反层(4),可以是氧化硅层,优选的是具有大小125nm的光学厚度。通过在玻璃生产过程中在热玻璃带上沉积连续的层(3,4,5)可以生产该镜子。
Description
本发明涉及镜子及生产镜子的方法。
欧洲专利说明书EP0,583,871A1描述了一种生产镜子的方法,在玻璃生产过程中,向热玻璃带上(如浮法玻璃带上)施加包括一个反射层和至少两个增反层的涂层。离所反射的光源最远的层为反射层,增反层在光源和反射层之间。
反射层可以是高折射率层,例如硅,折射率至少为1.9的氧化硅、氧化钽、氧化锡或氧化钛,增反层交替使用低折射率层和高折射率层。例如,高折射率的增反层可以是上面列出的用于反射层的任何高折射率材料。然而,由于硅比上面列出的金属氧化物对可见光有更高的吸收,根据EP0,583,871A1,为了得到要求的高可见光反射率,对于背表面镜,优选的是使用金属氧化物层做为高折射率的内增反层。因此,在背表面镜的优选的结构中,层的安排是:
玻璃
金属氧化物内层(增反层)
相对低折射率的中间(增反)层
硅外层(反射层)。
低折射率的增反层可以是折射率低于反射层和高折射率增反层的氧化硅层,而且在任何情况下都小于2。
至少要形成厚度非常接近nλ/4的增反层,其中n是奇整数(优选的是1),λ是可见光范围内光的波长,使得该增反层通过干涉效应增强反射。
根据EP0,583,871A1发明的镜子有一些超过传统镜子的重要的优点。不仅可以通过在玻璃生产过程中向玻璃施加反射涂层来生产镜子(这样可避免需要分开的不在线上的方法来施加反射涂层),而且可以利用玻璃的热量通过热解法产生高寿命的热解涂层来施加涂层(例如,化学气相沉积)。但是,该镜子有呈现反射色的趋势,它们比传统的镜子有更多的绿色。这种绿色反射的趋势一般随反射的增大而增大(当层的厚度,尤其是增反层的厚度更接近nλ/4时,其中λ是靠近可见光范围中间的光的波长)。此外,尤其明显的是在背表面镜中,大部分反射光两次通过玻璃的厚度方向,由于玻璃中二价铁的存在使透射光带有绿色调。
本发明人现在已经发现,通过对镜子涂层的每个层的折射率和厚度的仔细选择,可以生产出具有至少65%的可见光反射率的背表面镜,在优选的实施方案中,可以生产出可见光反射率至少为70%并具有a*值大于-6的反射色的背表面镜。
本发明提供了包括带有反射涂层的玻璃基体的背反射镜,该反射涂层包括一个反射层和至少两个增反层,选择涂层的厚度和折射率使得可见光反射率至少为65%,并具有a*值大于-6的反射色。
正如本说明书和权利要求书中所用的那样,术语“可见光反射率”是指在Illuminant D65 source 1931 Observer Conditions(光源D651931观察条件)下反射的光的百分数。在本说明书和权利要求书中,所说的并用a*和/或b*值定义的反射色是根据CIE系统(ASTM Designation:E 308-85)定义的颜色,正如所引用的那样,用Illuminant D65 source 1931 Observer Conditions测量。
根据本发明的背表面镜优选的是有至少73%的可见光反射率。
根据本发明的背表面镜优选的是具有a*值大于-5的反射色。
玻璃基板可以是浮法玻璃,厚度通常约为大于2mm,小于12mm。对于大多数要求重要的镜面,该玻璃的标定厚度为3mm或3mm以上。
如在EP0,583,871A1发明中一样,反射层是高折射率层,而增反层交替采用相对高的折射率层和相对低的折射率层。在使用中,反射层是离所反射的光源最远的层,增反层在光源和反射层之间。增反层比反射层反射更多的光是可以理解的。
一般可以以已知的方法,选择增反层的厚度,使得靠近玻璃的增反层(即,远离所说的反射层的内增反层)与玻璃之间的界面和两个增反层之间的界面的反射可以增强靠中间增反层的反射层的面的反射。当所说的内增反层和中间增反层各自的光学厚度约为nλ/4时,就会发生这种情况,其中,在每种情况下,λ是可见光范围内的光的波长,即约为400nm到750nm,n是奇整数,n在每个所说的层中可以相同,也可以不同,但优选的是在每种情况下均为1。
可以类似地选择反射层的厚度,使得靠近中间增反层的反射层的面(即那两个层间的界面)的反射可以被反射层的外表面的反射增强。除非反射层的外表面与折射率更高的层相接触,否则当反射层的光学厚度约为nλ/4时就会发生这种情况,其中λ是可见光范围内的光的波长,n是奇整数,通常为1。
用硅作为反射层(即反射涂层的最外层)和内增反层(最靠近玻璃)最容易取得要求的高可见光反射率,而且避免在反射色中出现不希望的强的绿色调。
为了控制强的绿反射色调的趋势,而且同时取得高的光反射率,可以使用光学厚度小于125nm的内增反层,优选的是使用光学厚度小于100nm的内增反层,特别是小于90nm(但大于50nm)。
一个特别优选的内增反层是厚度在14nm到19nm范围内的硅层。
与增反层相比,反射层的光学厚度一般较不重要,但是为了控制由于吸收产生的光损失(尤其是硅层时),一般大于100nm但小于150nm。实践中发现增加硅反射层的光学厚度,并保持增反层的厚度不变,趋于减少反射色的绿色调,即增加a*,用光学厚度大于125nm的硅反射层可以取得较少的绿色反射。
一个特别优选的反射层是厚度大于20nm的硅层,尤其是厚度在25到35nm范围内。
硅的折射率可以大到约为5(见PJ Martin,RP Netherfield,WGSainty和DR McKezie in Thin Solid Films 100(1983)141-147页),虽然经常遇到较低的值。
在该技术中已知折射率随波长变化。在本说明书和权利要求书中,按照传统的方式,所说的“折射率”是指对波长为550nm的光波的折射率(并且为了避免疑问,确定这里的光学厚度是指从对波长为550nm的光波的折射率计算出来的光学厚度)。
在实践中相信硅的折射率随硅的精确物理形态和杂质的存在(如氧,氮或碳)而变化。为了本发明的目的,只要不会使折射率降低到2.8以下,可以允许这样的杂质存在(实际上,在实践中没有明显的氧和/或碳的混入是难以生产在线上的硅涂层的)。因此,这里与相对高的折射率层相关的所使用的术语“硅”是指主要是硅,但可能含有少量杂质的材料,只要其折射率至少为2.8,优选的是所用的硅的折射率至少为3.0。
为了取得理想的折射率和颜色,具有以上所述的薄的内增反层,靠近反射层的中间增反层的光学厚度可以大于125nm,优选的是使用光学厚度大于140nm的中间增反层(但通常小于200nm)。
靠近反射层的增反层应该具有较低的折射率,一般其折射率小于1.8,优选的是小于1.6。对于高可见光反射率,它应该是在可见光范围内明显不吸收的材料。一种合适的材料是氧化硅,但其中可以含有少量的碳或氮等外加元素,这里使用的术语“氧化硅”包括含有这些杂质的氧化硅。但是,为了获得高的光透光率,优选的是使用硅:氧比约为1∶2,且杂质量低的氧化硅,使得其折射率低于1.6,优选的是低于1.5。
一个特别优选的中间增反层是厚度在95到130nm范围内的氧化硅层,虽然也可以使用其它折射率足够低的材料,如氧化铝。
如在EP0,583,871A1中,要求的折射率的层可以在玻璃生产过程中通过热解过程施加到热玻璃带上。用化学气相沉积法施加要求的硅或氧化硅层一般是很方便的。例如,可以通过硅烷气体的化学气相沉积在热玻璃基板沉淀(直接或间接地)形成硅层,方便的是气体稀释剂中进行(如氮气)。使用单硅烷一般是最方便的,虽然其它硅烷也可以使用;如二氯甲硅烷。在GB1,507,996中叙述了沉积这样的硅层的一种合适的方法。如果需要,例如为了改进硅涂层的耐碱性,反应物气体可以含有一定量的气态电子施主化合物做为添加剂,尤其是烯类不饱和碳氢化合物,例如,乙烯(虽然通常应避免使用高比例的这样的化合物,因为它们的存在趋于导致氧(认为是来自玻璃中的)混入到硅涂层中从而使折射率降低)。
通过在气态稀释剂中,在与氧或氧源的混合气体中的硅烷气体的化学气相沉积可以类似地沉积用作低折射率的增反层(即中间层)的氧化硅层。也可以使用硅烷和烯类不饱和碳氢化合物以及二氧化碳或其它的如酮类(如丙酮)等的做为氧源的氧化物的混合物。所用的硅烷和氧源的相对浓度取决于所要求的折射率;一般来说,要求的折射率越低,所使用的含氧化合物与硅烷的比例越大。再一次说明,所用的硅烷优选的是单硅烷。
在向浮法玻璃带施加涂层时,化学气相沉积技术可以方便地在浮法池内进行,浮法池即在保护气氛下,玻璃被保持在熔融金属池上的地方(但是优选的是在玻璃结束铺展以后,即在玻璃温度低于750℃时),或者在玻璃从浮法池内出来以后进行。当使用含单硅烷的气体沉积硅或氧化硅层时,为了取得满意的沉积速率,优选的是在浮法池中进行这些层的沉积,其中玻璃的温度在600℃到750℃范围内。
在本发明的实践中所使用的优选的硅和氧化硅层,在可见光范围内是反射的,在红外光区域内是明显透明的,使得它们在玻璃表面的存在不会在退火过程中对涂层玻璃的退火有明显不利的影响。这意味着这样的镜子在浮法玻璃生产过程中可以容易地在线生产并以已知的方式对镜子进行退火。
根据本发明另外的方面,提供了生产背表面镜的一种方法,包括在玻璃生产过程中向热玻璃带上沉积两个增反层,然后沉积一个反射层,得到的镜子的可见光反射率至少为65%,并且有大于-6的a*值的反射色。
在本发明的镜子中使用的优选的硅和硅氧化物层具有高的化学稳定性,因此与传统的银镜相比,该镜子不需要用背面涂层进行化学防护。然而,硅具有有限的抗刻划性,如果需要,可以在反射层上提供附加的防护层,例如金属氧化物层,尤其是氧化锡。在玻璃生产过程中,在沉积反射涂层之后,这可以通过采用热解涂层技术方便地进行。然而,要求小心避免要求的条件对硅反射层产生不利的影响,也可以推迟施用氧化锡防护层直到在硅上发现氧化硅表面层以后,例如美国专利4,661,381中所述。
本发明的镜子可用作各种目的,包括浴室和卧室中的家用镜子。对于许多用途,可以为镜子在反射涂层上提供遮蔽层,优选的是明显不透明的层。
因此,根据本发明的优选的方面,本发明的背表面镜还包括一个不透明层。该不透明层可以是涂层或对涂层玻璃预装配的组装构件。
在使用形成涂层的不透明层时,可以是醇酸树脂基涂料,选择性地含用氨基树脂,例如,蜜胺,其中可以渗入有机硅烷底漆涂料。涂料通常含有不透明物质,如碳黑,优选的是至少1.4%(以重量表示),以干涂料的重量为基。因为本发明的涂层是化学稳定的,涂料可以不含铅。
本发明的镜子涂层优选的是在玻璃生产过程中在生产线上沉积在热玻璃带上。涂层的玻璃带在生产线上切割形成单块的镜子,通常在离开生产线后进一步切成要求尺寸的单个镜子。不透明涂料,可以是溶剂基的或水基的,可以方便地应用幕式涂层法或辊涂层法离开生产线后施加,优选的是在镜子离开生产线的进一步切割之前施加。此外,不透明涂料可以在生产线上通过喷涂法或辊涂法施加。因为不需要该涂料提供化学稳定性,薄的涂层就足够了,因此可以使用50微米以下的涂层,优选的是用25微米以下的涂层(说明的厚度是干厚度),对于幕式涂层,典型的凝固后厚度或干厚度是18到30微米。对于辊式或喷涂的涂层为15±5微米。
在施加涂料之前,可以施加底漆层,或在涂料组合物中掺加底漆。合适的底漆是有机硅烷,与醇酸基涂料一起使用的特别合适的底漆是具有氨基端基的有机硅烷,如氨丙基三甲氧基硅烷。涂敷在水中稳定的并可润湿基底表面的底漆,可以以去离子水中的1-2%的水溶液进行施加。另外,当有机硅烷底漆掺入到涂料中时,以固相含量约为62%的涂料的重量为基,底漆的存在量优选的是从1到6%(以重量计),最优选的是1%左右(以重量计)。在EP0,583,871A1中描述的这种涂料在镜子涂层上的应用在WO95/18774中进行了更全面的讨论。
另外,不透明层可以是对着涂层玻璃安装的预成形构件的形式。这样的预成形构件可以是粘附在镜子涂层一侧的塑料膜,或者是对着玻璃涂层侧安装的分开的层片,例如,对着涂层玻璃有暗色的板(例如黑色涂敷面)。
在根据本发明的镜子的生产中,涂层的玻璃带可以在生产线上切成单块的镜子,通常离开生产线再进一步切割提供要求尺寸的单个镜子。不透明构件可以离开生产线安装,优选的是在镜子的离开生产线的进一步切割之前。
不透明构件优选的是由自粘附的塑料膜构成(能取得安全性支持的产品)。该塑料膜是半透明的或不透明的并带有半透明或不透明的(当膜是半透明的时)压敏粘结剂。优选的是在粘结剂中存在碳黑作为不透明物。粘结剂优选的是丙烯酸基粘结剂。塑料膜优选的是聚烯烃膜,如聚乙烯或聚丙烯,优选的是二维取向的。这样的二维取向可以增强安全支持镜子的冲击性能。此外,塑料膜可以包括聚酯膜。该塑料膜可以是透明的和半透明的,或有色的。最优选的膜是带有丙烯酸粘结剂的聚丙烯膜,已知它可以以其压敏形式与聚酯膜一起使用,聚酯膜可用于赋予窗用玻璃炸弹冲击防护或太阳能控制性能,已知该粘结剂与玻璃具有相容性。典型的自粘结膜总厚度为90微米左右,塑料膜和粘结剂的厚度分别为约60微米和30微米。
通过使用底漆可以增强镜子背面与自粘结塑料膜的结合性,底漆在使用自粘结塑料膜之前施加到反射涂层上。底漆优选的是有机硅烷,优选的是有氨基或环氧基端基,具体地,底漆可以是水溶液中的氨丙基三甲氧基硅烷。该底漆在去离子水中是稳定的并且可以润湿由自粘结膜覆盖的底表面。可以使用离子水中的2%的水溶液。
在本发明的另一个实施方案中,不透明构件包括具有与镜子背面接触的表面的单独的层片。优选的是,镜子组合体的不透明构件包括具有暗色表面的板,最优选的是无光泽的表面,例如使用框式构件或其它机械方法安装在镜子的背面。例如,对于背面镜,靠近镜子的反射涂层,该板可以包括涂敷黑色无光泽涂料的硬质纤维板。用涂敷面进行安装。此外,不透明构件可以包括黑纸。
在每一个这些具体的实施方案中,不透明构件与带有反射涂层的玻璃基板装配在一起形成作为复合装配体的整体镜子装配体。然而,在另一个实施方案中,不透明构件可以包括建筑物的墙壁,优选的是靠近镜子处具有暗色的表面,本发明的镜子装配体包括安装在墙上的带有反射涂层的玻璃基体。反射涂层是在EP0,583,871A1中描述的那种涂层的镜子装配体中使用不透明构件在WO95/18773中更全面地进行了讨论。
回头讲反射层的结构,技工们喜欢在涂层组上添加额外的四分之一波长厚(nλ/4,其中n是奇整数。优选的是1)的低折射率和高折射率的层形成反射涂层以进一步增强反射。
也可能在所说的内层和外层之间掺入额外的非四分之一波长层,虽然在这种情况下,这样的层最好被认为是复合中间层的组成部分,该复合中间层被认为是复合单层,其厚度应使得从所说的复合中间层和内增反层的界面反射的光的相差能增强从复合中间层和反射层之间的界面反射的光。类似地,在内层和玻璃之间也可以包括额外的层,虽然它通常具有在内层折射率与玻璃折射率之间的折射率。
通过下列示意图及其说明和下列实施例说明但不限制本发明。在下列图中:
图1是通过根据本发明的镜子的横断面。
图2是在反射涂层上添加防护层,或添加涂料或塑料膜形式的不透明层的图1所示的镜子的横断面。
图3是在反射涂层上添加以单个层板形式的不透明层的图1所示的镜子的横断面。
图4是在浮法玻璃生产线上用于根据本发明的方法的生产镜子的涂层工段的安排图。
图5是适用于图4所示的涂层工段15、16、17的气体分配器的横断面图,用于在发明中通过化学气相沉积沉积反射涂层。
再看图1,背面镜包括带有反射涂层2的浮法玻璃基板1,所说的反射涂层包括硅内增反层3、氧化硅中间增反层4和硅外反射层5,层的厚度如上所讨论的,在下列实施例中描述了这样的镜子的生产,该镜子具有至少65%的可见光反射率,具有a*大于-6的反射色。
在图2和图3中,用同样的数字表示与图1相同的基板和层。此外,图2表示一个附加层6,它可以是防护层(如薄氧化锡层)或以涂层或自粘结塑料膜形式的不透明层(当层6是不透明层时,通常比所示的基它层明显要厚)。图3表示护板形式的不透明层7,优选的是该板在靠近玻璃处有暗色的表面,并用边框8对着玻璃的涂层表面安装。
图4图解表示了浮法玻璃生产线,包括玻璃熔融部分11,用于把熔融玻璃成形为连续玻璃带的浮法槽部分12,用于退火所说的玻璃带的退火炉部分13和用于从玻璃带上切割玻璃并贮存和/或发货及使用的仓库部分14。对于根据本发明的镜子的生产,分别用于施加内层、中间层和外层的三个涂层工位通常位于浮法槽上或在浮法槽12和退火炉13之间;在本发明的图示的实施方案中,如图4所示,所说的三个涂层工位15、16、17安排在浮法槽12上。每个涂层工位的位置选择在玻璃带已经达到其最终厚度(通常在750℃左右以下)的位置上,使其不会进一步伸展造成施加的涂层开裂,但是(至少对于内层和中间层)其温度对于热解层的形成来说应足够高。
再看图5,用于本发明的实践中的双向流动的涂层气体分配器的导板,一般标记为20,包括由内壁24和外壁22的空隙形成的框架21,确定了封闭的通道26和28,通过该通道,合适的热交换介质进行循环,保持分配器的气流在要求的温度。通过沿分配器导板安装的流体泠却的供气导管30供应的气态前驱体通过沿供气导管间隔安装的下降管线32进入在框架21附带的集气室内的分配室34中,通过下降管线32的前驱体气体通过通道38从分配室34流向玻璃18(以浮在熔融锡槽19上的玻璃带表示)的表面,并沿该表面流动,向上的气流和向下的气流(相对于玻璃带的运动方向)按图5中的箭头方向。在分配室中可以提供挡板40使分配器导板上的先驱体材料的流动均匀化,保证材料沿导板对着玻璃以平稳的、层流的、均匀的流束流出。用完的前驱体材料,以及导板周围的一定量的大气,通过沿分配器导板两侧的废气室42收集并排除。例如,在美国专利Nos 4,469,045;4,504,526和5,065,696中提出了目前技术中已知的适用于化学气相沉积的各种类型的合适的分配器装置。
下列的实施例说明了本发明但不限制本发明。在实施例中,使用有涂层气体分配器的浮法玻璃生产线在生产线上生产镜子,涂层气体分配器安排在图4所示的涂层工位15,16(2个分配器)和17上。在实施例中,用体积表示的气体流量在室温下测量,压力为1bar,使用每米宽度的涂层玻璃带上的气体流量。
实施例1
用层流气体涂层法生产用作背面镜的玻璃镜。用图5所示的四个等距离分开的涂层导板向透明浮法玻璃带上施加连续的硅层(1个导板),氧化硅层(2个导板)和硅层(1个导板),透明浮法玻璃带厚度为4mm,在退火炉中以555米/小时的速度前进。每个涂层导板位于浮法槽上,其中玻璃带支撑在液态金属槽上,向上的气流(相对于玻璃前进方向)导板位于玻璃温度大约为710℃的位置上。
向四个涂层导板提供下面所示的气体混合物:
SiH4 乙烯 O2 N2
1(向上的气流) 1.3 - - 120
2 2.0 12 8 150
3 2.0 12 8 150
4(向下的气流) 6.5 1 - 120
不需要修改退火炉的条件来退火具有高反射性能的涂层玻璃带。用传统方式从玻璃带切割出单个的镜子,在玻璃的未涂层侧用Illuminant D65 Source 1931 Observer Conditions测量光学性质,得到下列结果。发现可见光反射率为73.5%,反射光的a*值为-5.1,b*值为+0.6。
a*值比优选的最小值-5要小,但是(与测量的其它光学性质相同)与具有层厚和折射率联合作用的涂层玻璃的计算值一致(内增反层厚度为18nm,折射率为4.4;中间增反层的厚度为105nm,折射率为1.46;外反射层厚度为19nm,折射率为4.3)。对于由厚度为18nm的硅内增反层、厚度为110nm的氧化硅中间增反层,和厚度25nm的外反射层(且各层的折射率如上所述)构成的涂层,相同的理论预测相应的值为:
可见光反射率 74%
a* -3.8 b* +2.3表明通过涂层厚度的微小改变可以类似地生产本发明的优选的涂层。
根据上面的实施例生产的镜子(但是可见光反射率为74%,a*为-5.0,b*为+0.9),在涂层上用200微米的黑色聚乙烯膜作衬背,该膜带有压敏溶剂基丙烯酸粘结剂。衬背的使用导致光学性质的微小变化,测得的可见光反射率为72.5%,a*为-5.6,b*为+0.1。
因此可以看出本发明允许高稳定性的背表面镜的在线生产,反射色接近中性并接近传统银镜的反射色(a*=-2.5,b*=+1.5。当用前面的实施例中的浮法玻璃上形成银镜时)
实施例2
除了4mm透明浮法玻璃带在退火炉中的速度为690米/小时,双向流动气流1(向上的气流),和4(向下的气流)用在EP0,305,102B中描述的那种单向层流涂层气流代替,双向流动气流2被经过修改的这样的单向层流涂层气流代替,其中用油冷代替水冷,石墨砌块用金属砌块代替,气流节流阀由一系列对应于用在双向流动气流中的挡板代替以外,重复实施例1的过程,气流如下所示(气流1,2,3用升/分表示,对于气流4,用千克/小时表示,除了气流2中的丙酮用cc/分液态丙酮表示以外):
SiH4 乙烯 丙酮 O2 N21(向上的气流) 1.4 232 5.7 11.4 4.4 19.63 2 12 8 1494(向下的气流) 0.36 0.029 2.6
得到的涂层玻璃的可见光反射率为70%,反射光的a*值为-5.8,b*值为0.7。各个单个层的厚度和折射率为19nm,4.4(内增反层),80nm,1.46(中间增反层)和25nm,4.3(反射层)。
实施例3
除了4mm透明浮法玻璃带在退火炉内的前进速度为750米/小时,双向流动气流1(向上的气流)和4(向下的气流)用EP0,305,102B描述的那种单向层流涂层气流代替以外,重复实施例1的过程,气流如下所示(气流1,2,3用升/分表示,气流4用千克/小时表示):
SiH4 烯 O2 N2+He
1(向上的气流) 1.6 23
2 2.6 15.4 5.1 74+74
3 2.6 15.4 5.1 74+74
4(向下的气流) 0.6 0.31 2.6
得到的涂层玻璃的可见光反射率为73%,反射光的a*值为-2.6,b*值为+3.2。各单层的厚度和折射率为18nm,4.5(内增反层),101nm,1.45(中间增反层),30nm,约为4(反射层)。
增大硅反射层的厚度(比较实施例1,2和3)不仅增大a*值(使它变成更小的负数),而且增大b*值。市场研究表明增大b*值容易被顾客接受,根据本发明的优选的镜子的a*值在-4到-2范围内,b*值在2.5到4.5的范围内,优选的是伴随着反射率至少为72%。
Claims (10)
1.一种包括带有反射涂层的玻璃基板的背面镜,该反射涂层包括一个反射层和至少两个增反层,其特征在于所说的涂层的厚度和折射率提供至少65%的可见光反射率,并具有a*值大于-6的反射色。
2.根据权利要求1的背面镜,其特征在于所说的内增反层具有小于125nm的光学厚度。
3.根据权利要求2的背面镜,其特征在于所说的内增反层具有小于100nm的光学厚度。
4.根据前面的权利要求的任意一项的背面镜,其特征在于所说的内增反层是硅层。
5.根据前面的权利要求的任意一项的背面镜,其特征在于所说的中间增反层具有大于125nm的光学厚度。
6.根据权利要求5的背表面镜,其特征在于所说的中间增反层具有大于140nm的光学厚度。
7.根据前面的权利要求的任意一项的背面镜,其特征在于所说的中间增反层是氧化硅层。
8.根据前面的权利要求的任意一项的背面镜,其特征在于所说的是反射层是硅层。
9.一种包括玻璃基板的背面镜,其特征在于所说的该基板带有光学厚度小于100nm的硅内增反层,光学厚度大于140nm的氧化硅中间增反层和硅外反射层。
10.一种生产背面镜的方法,其特征在于所说的通过在玻璃生产过程中在热玻璃带上热解沉积两个增反层,然后沉积反射层,得到的镜子的可见光反射率至少为65%。并具有a*值大于-6的反射色。
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CN102419459A (zh) * | 2011-11-25 | 2012-04-18 | 林嘉宏 | 太阳能反射玻璃银镜及其制造工艺 |
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1996
- 1996-06-10 CN CN 96108137 patent/CN1164029A/zh active Pending
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