CN116288224A - 片材用支撑装置以及等离子体设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种片材用支撑装置以及等离子体设备。该片材用支撑装置包括：基台，在载置面上载置呈矩形状的片材；多个支撑件，分别沿垂直于所述载置面的方向穿过所述基台并可突出于所述载置面，并且可分别从所述片材的底部的四周边缘、以与面板的长度方向以及宽度方向的中心线错开的方式支撑所述片材；定位组件，安装到所述基台，从所述片材的四周边缘对所述片材进行定位；所述基台和多个所述支撑件当中，至少其中一者可沿垂直于所述载置面的方向被驱动，以使所述支撑件突出于所述载置面或者相对所述载置面缩回。本发明的片材用支撑装置能够可靠地支撑片材并抑制片材的偏移。

Description

片材用支撑装置以及等离子体设备

技术领域

本发明涉及但不限于等离子体镀膜技术领域，尤其涉及片材用支撑装置以及等离子体设备。

背景技术

在对例如面板等的片材进行镀膜等的等离子体设备中，面板(片材)放置在支撑装置的基台或传送台上。取放面板时，支撑针穿过基台将面板顶起，从而便于机械手取放面板。支撑针下降时，机械手可以将面板载置在基台上。

此外，为了抑制面板的表面的薄膜沉积位置或者面板的边界位置的刻蚀偏移，通常需要对面板进行准确的定位。例如，已知技术当中，有在面板的四周边缘设置定位件以抑制面板偏移的技术方案。然而，由于面板较薄、受热不均以及残留应力等，容易产生例如面板翘曲的情况。面板翘曲可能会形成例如“笑脸形”、“哭脸形”以及“波浪形”等。在面板翘曲的情况下，有时候仅通过定位件难以抑制面板的偏移，甚至可能导致压边装置下压时压碎面板。

发明内容

本发明旨在至少一定程度上解决已知问题之一。为此，本发明提出了一种片材用支撑装置，能够可靠地支撑片材并抑制片材的偏移。此外，本发明还提出了具有该片材用支撑装置的等离子体设备。

根据本发明第一方面的片材用支撑装置，包括：基台，在载置面上载置呈矩形状的片材；多个支撑件，分别沿垂直于所述载置面的方向穿过所述基台并可突出于所述载置面，并且可分别从所述片材的底部的四周边缘、以与面板的长度方向以及宽度方向的中心线错开的方式支撑所述片材；定位组件，安装到所述基台，从所述片材的四周边缘对所述片材进行定位；所述基台和多个所述支撑件当中，至少其中一者可沿垂直于所述载置面的方向被驱动，以使所述支撑件突出于所述载置面或者相对所述载置面缩回。

根据本发明第一方面的片材用支撑装置，具有如下有益效果：能够可靠地支撑片材并抑制片材的偏移。

在一些实施方式中，多个所述支撑件分别沿垂直于所述载置面的方向可伸缩地被保持在所述基台上；多个所述支撑件可被驱动而突出于所述载置面或者相对所述载置面缩回。

在一些实施方式中，多个所述支撑件以所述片材的长度方向的中心线和/或宽度方向的中心线为中心而对称地分布。

在一些实施方式中，所述定位组件包括多个定位件，多个所述定位件分别沿垂直于所述载置面的方向可伸缩地安装到所述基台。

在一些实施方式中，所述定位件在相对于所述载置面朝所述基台的内侧缩回的状态下，所述定位件的远端，分别沿垂直于所述载置面的方向不突出于所述片材。

在一些实施方式中，所述定位组件当中，包括多个第一定位件，多个所述第一定位件分别从所述片材的角部对所述片材进行定位。

在一些实施方式中，所述定位组件还包括多个第二定位件，所述第二定位件从所述片材的长度方向和/或宽度方向的中心线的位置对所述片材进行定位。

根据本发明第二方面的等离子体设备，具有真空室，所述真空室内设置有上述任一项的片材用支撑装置。

根据本发明第二方面的等离子体设备，具有如下有益效果：能够可靠地支撑片材并抑制片材的偏移。

在一些实施方式中，还包括与所述片材用支撑装置对置的压边件，所述压边件用于压住所述片材的四周边缘。

在一些实施方式中，所述压边件在与所述载置面相对的一侧，设置有弹性抵接部，所述压边件通过所述弹性抵接部压住所述片材。

附图说明

图1是本发明的片材用支撑装置的一种实施方式的立体示意图。

图2是图1的片材用支撑装置的俯视图。

图3是图1的片材用支撑装置的侧视图。

图4是图2中的A-A处的剖视图。

图5是本发明的片材用支撑装置的另一种实施方式的俯视示意图。

图6是本发明的片材用支撑装置的又一种实施方式的俯视示意图。

图7是图6的片材用支撑装置的侧视图。

图8是图6中的B-B处的剖视图。

图9是具有本发明的片材用支撑装置的等离子体设备的一种实施方式的示意图。

图10是图9中的片材用支撑装置以及压边件的示意图。

图11是图10中的C-C处的剖视图。

图12是图11中的D处的放大图。

图13是片材的一种形态的示意图。

图14是片材的另一种形态的示意图。

具体实施方式

下面详细描述本实施方式的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实施方式，而不能理解为对本实施方式的限制。

在本实施方式的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实施方式和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实施方式的限制。

在本实施方式的描述中，若干的含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。

本实施方式的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本实施方式中的具体含义。

参照图1至图14，并主要参照图13以及图14，在说明片材用支撑装置100(为便于说明，后面有时仅称“支撑装置100”)之前，首先对片材进行说明。作为片材，可列举例如玻璃材质的面板300(为后面说明，后面以面板300作为片材的一个具体的实施例)、硅片等。以作为半导体器件的面板300为例，在半导体器件的制备当中，面板300的厚度可能薄至1mm以下。由于面板300的厚度非常薄，在一些工艺当中，可能会形成翘曲。例如，在对面板300进行表面degas(脱气)的工艺中，由于温度不均以及残留应力等，可能会导致面板300翘曲。翘曲的面板300可能呈“笑脸状”(参照图13)，即面板300的中部下凹，四周边缘朝上翘起。此外，翘曲的面板300也可能呈“哭脸状”(参照图14)，即面板300的中部上凸，而四周边缘朝下翘起。

辅助参照图9，在等离子体设备200当中对面板300的表面进行膜层沉积时，通常要求面板300的表面尽可能平整，以提高工艺的均匀性。为此，在面板300出现翘曲的情况下，通常需要将面板300载置于基台101中并使用压边件103压住面板300的四周边缘，从而使面板300的表面平整。然而，在面板300翘曲的情况下，无论是支撑面板300时或者定位面板300时，均容易导致面板300相对于预设的基准位置偏移。

在支撑面板300时，由于面板300的支撑面实质上为曲面，可能存在支撑件118下降时，面板300相对于支撑件118滑动而偏移的情况，此外，也可能存在面板300被支撑时受力不均而导致破碎的情况。例如，在以往的支撑装置中，“居中”地支撑面板300，然而，由于面板300可能会翘曲，居中地支撑面板300可能会导致面板300滑动而偏移，此外，会导致面板300局部单点受力而压力剧增，在此情况下，可能导致面板300的破碎。

参照图1至图8，并主要参照图1以及图2，针对于此，第1实施方式的支撑装置100在可靠地支撑面板300的同时，也考虑抑制面板300的偏移的情况。具体来说，该支撑装置100包括：基台101、多个支撑件118以及定位组件105。基台101在载置面104上载置呈矩形状(需要说明的是，正方形视为矩形的一种)的面板300(在图2中，为便于示意，以虚线表示面板300)。多个支撑件118分别沿垂直于载置面104的方向穿过基台101并可突出于载置面104。多个支撑件118可分别从面板300的底部的四周边缘、以与面板300的长度方向以及宽度方向的中心线错开的方式支撑面板300。定位组件105安装到基台101。定位组件105从面板300的四周边缘对面板300进行定位。基台101和多个支撑件118当中，至少其中一者可沿垂直于载置面104的方向被驱动，以使支撑件118突出于载置面104或者相对载置面104缩回。

根据本实施方式的支撑装置100，能够可靠地支撑面板300并抑制面板300的偏移。具体来说，无论是对于“笑脸状”的面板300还是“哭脸状”的面板300，其在例如长度方向以及宽度方向的中心线的居中位置，均为翘曲量最大的位置。在本实施方式中，通过使各支撑件118配置为分别与面板300的长度方向以及宽度方向的中心线错开，能够减少部分支撑件118抵接面板300而部分支撑件118实质上未抵接面板300所述导致的“单点支撑”的情况。由此，本实施方式的支撑装置100能够更加可靠、平衡地支撑翘曲的面板300，并可靠地抑制面板300相对于支撑件118的偏移，进一步地，能够抑制面板300相对于基台101的载置面104的偏移。

继续参照图1、图2并辅助参照图9以及图10，本实施方式的支撑装置100能够应用到等离子体设备200中。作为等离子体设备200的实施方式，可列举例如等离子体镀膜设备或者等离子体蚀刻设备等。作为等离子体镀膜设备，可列举电感式等离子体镀膜设备以及电容式等离子体镀膜设备等。作为等离子体设备200，例如包括真空室201，在等离子体设备200为镀膜设备的情况下，真空室201为镀膜室。支撑装置100容置在真空室201内。等离子体设备200在支撑装置100的上方，设置有与支撑装置100对置的压边件103。压边件103位于例如等离子体发生器(未图示)的下方。基台101则设置在压边件103的下方。在本实施方式的支撑装置100中，基台101通过例如电机驱动的第一驱动部202驱动而靠近或者远离压边件103。在靠近压边件103的时候，基台101和压边件103共同夹持着面板300，以抑制面板300的翘曲等。

此外，等离子体设备200还可以包括例如通过气缸驱动的第二驱动部205，在基台101远离压边件103的状态下，第二驱动部205可驱动支撑件118突出于载置面104以承载面板300，或者驱动支撑件118顶起面板300，以使面板300脱离载置面104。由此，在第一驱动部202驱动基台101远离压边件103的状态下，第二驱动部205可以驱动支撑件118顶起面板300，由此面板300能够脱离载置面104，在面板300脱离载置面104的情况下，能够便于机械手(未图示)伸进并抓取面板300。

继续参照图1、图2，并辅助参照图5以及图6，基台101例如大致呈平板状，载置面104大致呈平面状，载置面104根据面板300的形状，而可以形成为例如矩形状。此外，载置面104的可以开设有避让槽(未标记附图标记)。由此，在面板300被载置于载置面104时，仅四周边缘被支撑而中部的区域可能没有与载置面104接触。由此，能够实现在压边件103压住面板300的四周边缘的情况下，面板300整体能够自适应地进行一定程度的调整。

参照图3以及图4并辅助参照图9，在一些实施方式中，支撑件118可以沿垂直于载置面104的方向可伸缩地被挂在在基台101上。具体地，例如，基台101上开设有多个沿垂直于载置面104的方向贯通的第一孔部106。支撑件118穿过第一孔部106而可伸缩地挂在基台101上。支撑件118挂在基台101上的方式并不特别限定，例如，第一孔部106为阶梯孔，与此对应，支撑件118也呈具有阶梯的杆状，支撑件118具有用于支撑面板300的、作为大径部的支撑部118a，以及与支撑部118a连接的杆部118b。在未被驱动的状态下，支撑部118a容置在第一孔部106的大孔端，杆部118b则穿过第一孔部106的小孔端并显露在基台101之外。杆部118b例如在显露在基台101的外侧的部分，套设有例如压缩弹簧的第一弹性件107。在未被驱动的状态下，第一弹性件107使支撑部118a容置在大孔端内且未突出于载置面104。在杆部118b被第二驱动部205驱动的情况下，支撑件118压缩第一弹性件107而朝基台101的上侧突出，并高于基台101的载置面104。由此，在面板300被载置在支撑件118的支撑部118a的情况下，面板300和载置面104之间存在间隙，从而方便用于搬运面板300的机械手获取以及传送面板300。

支撑件118的支撑部118a和杆部118b可以一体加工成型。此外，支撑部118a和杆部118b也可以是独立的部件，并通过例如浮动接头连接。另外，支撑件118的杆部118b可以由具有例如不锈钢、轴承钢等具有足够刚性的材料加工而成，支撑部118a则由例如橡胶等具有一定的缓冲性能的材料加工而成。

继续参照2以及图6，为了更加平衡地支撑面板300(在图2以及图6中，为便于示意，以虚线表示面板300)，多个支撑件118以面板300的长度方向的中心线和/或宽度方向的中心线为中心而对称地分布。例如，支撑件118可以包括八个，面板300的每一侧的边缘均被两个支撑件118支撑，并且，两个支撑件118以面板300的中心线为中心而对称地分布。此外，在面板300的中心区域不设置支撑件118。在“笑脸状”面板300当中，面板300的长度方向的中心线以及宽度方向的中心线的位置相比于其他位置下凹，并且在面板300的中心区域(特别是两条中心线相交的位置)最下凹。此外，“笑脸状”的面板300也大致分别以两条中心线为中心而在长度方向以及宽度方向对称。同样地，对于“哭脸状”面板300也一样，即上凸的面板300也大致以两条中心线为中心而在长度方向以及宽度方向对称。因此，通过使支撑件118以面板300的长度方向的中心线和/或宽度方向的中心线为中心而对称地分布，能够更加平衡且可靠地支撑例如呈“笑脸状”或者“哭脸状”的面板300。

另外，需要说明的是，在此虽然说明了面板300的长度方向的中心线和/或宽度方向的中心线的特征，但是该特征应该理解为设计时预设的一个设计正确的特征，例如设计的时候，将面板300居中地载置在基台101的载置面104上，在此情况下，支撑件118也表现为以载置面104的长度方向的中心线和/或宽度方向的中心线对称地分布。并且，由于机械手上料的误差或者加工、装配等误差，支撑件118实际上并未严格对称地支撑面板300，但是在一定的工作允许的误差的范围内(例如±3mm范围)，也视为多个支撑件118以面板300的长度方向的中心线和/或宽度方向的中心线为中心而对称地分布。

参照图5，另外，为了抑制“哭脸状”面板300(为便于示意，以虚线表示面板300)在四个角部300a的位置的偏移，还可以分别在与面板300的四个角部300a对应的位置设置支撑件118，在被驱动而突出于载置面104的状态下，位于与面板300的四个角部300a对应的位置的支撑件118的高度可以根据“哭脸状”面板300的翘曲情况，而略高于设置在其他位置的支撑件118。由此，支撑件118能够在面板300的四个角部300a可靠地支撑面板300，从而一定程度上能够抑制面板300的偏移。

参照图3，如上所述，定位组件105安装到基台101，并从面板300的四周边缘对面板300进行定位。具体来说，定位组件105当中包括多个定位件102，多个定位件102分别从面板300的四周的边缘对面板300进行定位。此外，多个定位件102分别沿垂直于载置面104的方向可伸缩地安装到基台101。

在已知的等离子体设备中，通常采用导体或者绝缘体作为等离子体的束缚边界，其产生的等离子体与束缚边界之间不可避免地产生鞘层。此外，为了提高工艺均匀性，而要求面板300表面尽量平整。为此，已知技术当中，通过将面板300载置在支撑装置100上，并通过压边装置(例如压边件103)压住面板300的边缘，从而使面板300的表面平整。

此外，面板300由于边缘被压边装置(类似于压边件103)覆盖而无法进行镀膜。并且，根据等离子体的特性，由于压边装置所导致的边缘效应，在压边装置的上方区域，也会出现工艺无法到底的区域，这会导致面板300的四周边缘和中间区域的工艺不均匀(导致等离子体鞘层)。等离子体主流区域对应面板300的工艺保证区域，压边装置遮挡的面板300的部分以及压边装置引起的鞘层区域为工艺无法保证区域(即边缘排除区域)。压边装置的宽度过大，会导致面板300被遮挡的部分增大，而压边装置高度过高，则会导致鞘层区域变大。此外，压边装置高度过高时，为了降低压边装置的坡度，抑制鞘层区域的增加，压边装置的宽度可能会增加，而压边装置的宽度增加，则进一步导致边缘排除区域增大。因此，压边装置的高度对边缘排除区域的影响较大。

在本实施方式当中，通过使多个定位件102分别沿垂直于载置面104的方向可伸缩地安装到基台101，能够减少面板300的边缘排除区域，增大工艺保证区域。例如，压边件103在压住面板300的同时，能够将定位件102一同下压，而无需在定位件102上设置用于避让定位件102的类似于“凸包”的结构。在此情况下，能够减少压边件103的压住面板300的四周边缘的高度，在压边件103的高度能够减少的情况下，能够减少鞘层区域，并由此增大工艺保证区域。

继续参照图1、图3以及图7，基台101例如在载置面104的四周边缘开设有用于安装定位件102的第二孔部108。各定位件102分别通过第二弹性件112而可伸缩地安装到第二孔部108。定位件102只要能够可靠地对面板300进行定位，其结构并不特别限定，例如，定位件102可以呈块状、圆柱销状等各种形状。第二弹性件112的类型并不特别限定，可以列举压缩型弹簧等。以弹簧为例，例如，作为第二弹性件112的弹簧的一端可以通过焊接、螺纹锁紧等方式固定到第二孔部108的底部，弹簧的另一端则可以通过焊接、螺纹锁紧等方式固定到定位件102的底部。由此，各定位件102能够通过第二弹性件112而沿第二孔部108可伸缩。

为了进一步减少压边件103的厚度，定位件102可以设置为在相对于载置面104朝基台101的内侧缩回的状态下，定位件102的远端，分别沿垂直于载置面104的方向不突出于面板300。具体来说，在需要对面板300进行定位从而抑制面板300的偏移的角度来看，为了能够对翘曲程度更大的面板300进行定位，在相对于载置面104朝基台101的外侧突出的状态下，定位件102的远端和载置面104之间，沿垂直于载置面104的方向的距离可以为6mm以上且10mm以下。但是，在压住面板300而进行镀膜的状态下，定位件102相对于载置面104朝基台101的外侧突出的距离则优选地尽可能小，则越有利于减少压边件103的厚度。为此，可以使定位件102的远端分别沿垂直于载置面104的方向略突出于载置面104而不高于面板300的上表面。换言之，定位件102在朝向第二孔部108被压缩的状态下，与面板300的与压边件103抵接的表面的高度大致相同或者略低于该高度。由此，能够实现在设计压边件103的时候，可以完全需要考虑定位件102的高度。

继续参照图2，为了能够更加准确、可靠地对例如“哭脸状”面板300的进行定位，抑制面板300的偏移，定位组件105当中，包括从面板300的角部300a对面板300进行定位的多个定位件102(为便于区分，有时也称“第一定位件102a”)。第一定位件102a分别在面板300的角部300a附近，对面板300的长度方向以及宽度方向的位置进行引导并定位。例如，第一定位件102a包括四个，每一个第一定位件102a对面板300的一个角部300a进行定位。各第一定位件102a例如呈L字状，第一定位件102a分别具有沿面板300的长度方向延伸的第一定位臂109a以及沿面板300的宽度方向延伸的第二定位臂109b。在突出于载置面104的状态下，第一定位臂109a以及第二定位臂109b相对于载置面104的高度例如为8mm左右，此外，第一定位臂109a的远端以及第二定位臂109b的远端分别形成有呈倾斜状的导向面109c(辅助参照图4)。对于“哭脸状”的面板300而言，四个角部300a分别向下延伸，在落到载置面104时，首先是四个角部300a落到载置面104上，甚至可能四个角部300a作为支撑部位而面板300的中部拱起的形状。因此，在本实施方式中，通过设置从面板300的角部300a对面板300进行定位的多个第一定位件102a，能够更加准确、可靠地对“哭脸状”面板300的进行定位。

另外，上面虽然说明了第一定位件102a具有第一定位臂109a以及第二定位臂109b的例子，但是并不限于此。例如，例如第一定位件102a也可以呈长条状，并且，在对面板300的角部300a进行定位时，可以通过一个平行于面板300的长度方向的第一定位件102a以及一个平行于面板300的宽度方向的第一定位件102a共同对面板300的角部300a进行定位。

继续参照图6，为了能够更加准确、可靠地对例如“笑脸状”面板300的进行定位，抑制面板300的偏移，定位组件105当中，包括从面板300的长度方向和/或宽度方向的中心线的位置对面板300进行定位的多个定位件102(为便于区分，有时也称“第二定位件102b”)。例如，第二定位件102b包括四个，每一个第二定位件102b对面板300的一边的中部进行定位。各第二定位件102b可以呈长条状，并与面板300的边缘平行。例如，位于面板300的长边的两侧的第二定位件102b与面板300的长边平行，位于面板300的短边的两侧的第二定位件102b与面板300的短边平行。对于“笑脸状”的面板300而言，四边的中部分别向下凹，在落到载置面104时，首先是四边的中部落到载置面104上。因此，在本实施方式中，通过设置从面板300的长度方向和/或宽度方向的中心线的位置对面板300进行定位的多个第二定位件102b，能够更加准确、可靠地对“笑脸状”面板300的进行定位。

位于面板300的长边的两侧的第二定位件102b和位于面板300的短边的两侧的第二定位件102b的配置方式大致相同，因此，在此以位于面板300的一边的两侧的第二定位件102b为例进行说明。

如上所述，多个支撑件118以面板300的长度方向的中心线为中心而对称地分布。具体而言，面板300的一边的一侧，被两个支撑件118支撑。在俯视视角下，第二定位件102b处在两个支撑件118之间。另外，第二定位件102b的长度可以设置为从面板300的一侧观察，第二定位件102b的两端分别与两个支撑件118重合。换言之，第二定位件102b的长度大于或者等于与其同一侧的两个支撑件118之间的距离。由此，第二定位件102b能够抑制面板300绕着其中一个支撑件118而旋转地偏移。

需要说明的是，基台101中也可以具有多个第一定位件102a以及多个第二定位件102b。由此，能够兼容不同翘曲类型的面板300。

由此，本实施方式的支撑装置100，通过使各支撑件118配置为分别与面板300的长度方向以及宽度方向的中心线错开，能够避免部分支撑件118抵接面板300而部分支撑件118实质上未抵接面板300而导致的“单点支撑”，能够更加平衡且可靠地支撑翘曲的面板300，并可靠地抑制面板300相对于支撑件118的偏移，进一步地，能够抑制面板300相对于基台101的载置面104的偏移。

进一步地，通过设置从面板300的角部300a对面板300进行定位的多个第一定位件102a，能够更加准确、可靠地对例如“哭脸状”面板300进行定位，抑制面板300的偏移。通过设置从面板300的长度方向和/或宽度方向的中心线的位置对面板300进行定位的多个第二定位件102b能够更加准确、可靠地对例如“笑脸状”面板300进行定位，抑制面板300的偏移。

需要说明的是，上面虽然说明了支撑件118被保持在基台101上，相对于基台101可被第二驱动部205驱动而伸缩的例子，但是并不限于此。例如，支撑件118也可以相对于基台101而独立地设置，支撑件118例如直接与第二驱动部205连接，由此支撑件118和基台101之间分别独立地被控制。或者，支撑件118被固定而仅基台101被第一驱动部202驱动。

继续参照图9,如上所述，上面各实施方式的支撑装置100能够使用在等离子体设备200中。该等离子体设备200具有真空室201。真空室201内设置有上述任一项的支撑装置100以及与支撑装置100对置的压边件103。压边件103用于压住面板300，在靠近基台101时，压边件103压住面板300的四周边缘，并且压住多个定位件102以使定位件102缩回。

以下参照图10至图12，对压边件103进行说明。

压边件103的中部开设有用于避让面板300的工艺区域的、贯穿的槽部116，在压边件103靠近基台101时，槽部116的四周边缘抵接面板300的四周边缘。压边件103例如整体上也大致呈板状，槽部116在压边件103的中部开设。槽部116的形状并不特别限定，例如根据面板300的形成而开设，可以是矩形状。为了尽可能地避让面板300的工艺区域，压边件103与面板300的边缘抵接的区域的宽度例如可以是1mm左右。在压边件103的槽部116的四周边缘抵接面板300的四周边缘时，压边件103和基台101一起夹持着面板300的四周边缘。

为了提高对面板300进行工艺的均匀性，抑制等离子体鞘层区域的大小，压边件103的与面板300相反的一侧，设置有倾斜面117，倾斜面117从槽部116的外侧朝向槽部116的边缘平滑地倾斜。倾斜面117例如从压边件103的与面板300相反的一侧的表面延伸到压边件103的槽部116的内侧表面。由此，通过使倾斜面117从槽部116的外侧朝向槽部116平滑地倾斜，能够抑制等离子体密度在槽部116的上方发生骤变。为了进一步抑制等离子体密度在槽部116的上方发生骤变，提高等离子体整体的均匀性。

由此，通过本实施方式的压边件103，能够尽可能地扩大等离子体能够涵盖的区域，并使等离子体在面板300的中部的区域和四周边缘的区域的密度更加均匀，从而提高等离子体对面板300进行工艺的均匀性较少鞘层区域。此外，由于压边件103的高度较低，因此即使在压边件103与面板300的重叠的部分较窄的情况下，也能够抑制倾斜面117的陡峭，由此，能够进一步减少边缘排除区域。

在一些实施方式中，压边件103在与载置面104相对的一侧，设置有弹性抵接部110，压边件103通过弹性抵接部110压住面板300。弹性抵接部110例如设置在压边件103的槽部116的各边缘的位置(例如靠近第二定位件102b的位置)。具体来说，压边件103在槽部116的各边缘的位置开设有容纳槽111，弹性抵接部110例如可以包括八个，并分别容纳在容纳槽111中。弹性抵接部110的结构并不特别限定，例如弹性抵接部110可以包括球头销113以及第三弹性件114，第三弹性件114的一端与球头销113连接，另一端固定到容纳槽111内。第三弹性件114可以选择例如螺旋弹簧、弹片等公知的弹性件。在初始状态下，球头销113突出于压边件103的与载置面104相对的一侧的表面，在抵接面板300之后，球头销113压缩第三弹性件114而缩回到容纳槽111中。

通过在压边件103设置弹性抵接部110，能够进一步抑制例如“笑脸状”面板300的偏移。例如，在“笑脸状”面板300被载置于基台101的状态下，面板300的大致长度方向和/或宽度方向的中部被第二定位件102b定位，而四个角部300a相对于基台101的载置面104翘起。当压边件103抵接面板300时，可能首先抵接面板300的四个角部300a，在此情况下，面板300可能由于四个角部300a与压边件103不均匀地接触，而相对于离四个角部300a较远的第二定位件102b发生轻微的偏移。在本实施方式中，通过在压边件103的槽部116的各边缘的位置设置弹性抵接部110，能够实现压边件103下压时，首先是弹性抵接部110的球头销113压住已经被第二定位件102b定位的面板300的大致长度方向和/或宽度方向的中部的位置，在弹性抵接部110可靠地压住面板300之后，压边件103再继续整体下压，从而将面板300整体压平。由此，能够进一步抑制“笑脸状”面板300的偏移。

此外，通过在压边件103设置弹性抵接部110，能够进一步抑制例如“笑脸状”面板300的偏移。

另外，由于通过使各定位件102(例如第一定位件102a以及第二定位件102b)分别沿垂直于载置面104的方向可伸缩地安装到基台101，能够减少压边件103的压住面板300的四周边缘的高度，在压边件103的高度能够减少的情况下，能够减少面板300的边缘排除区域，增大工艺保证区域。

进一步地，通过在压边件103的与面板300相反的一侧，设置有倾斜面117，倾斜面117从槽部116的外侧朝向槽部116的边缘平滑地倾斜。能够抑制等离子体密度在压边件103的槽部116的上方发生骤变，提高等离子体整体的均匀性。

尽管已经示出和描述了本实施方式的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实施方式的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实施方式的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.片材用支撑装置，其特征在于，包括：

基台，在载置面上载置呈矩形状的片材；

多个支撑件，分别沿垂直于所述载置面的方向穿过所述基台并可突出于所述载置面，并且可分别从所述片材的底部的四周边缘、以与面板的长度方向以及宽度方向的中心线错开的方式支撑所述片材；

定位组件，安装到所述基台，从所述片材的四周边缘对所述片材进行定位；

所述基台和多个所述支撑件当中，至少其中一者可沿垂直于所述载置面的方向被驱动，以使所述支撑件突出于所述载置面或者相对所述载置面缩回。

2.根据权利要求1所述的片材用支撑装置，其特征在于，多个所述支撑件分别沿垂直于所述载置面的方向可伸缩地被保持在所述基台上；

多个所述支撑件可被驱动而突出于所述载置面或者相对所述载置面缩回。

3.根据权利要求2所述的片材用支撑装置，其特征在于，多个所述支撑件以所述片材的长度方向的中心线和/或宽度方向的中心线为中心而对称地分布。

4.根据权利要求2或3所述的片材用支撑装置，其特征在于，所述定位组件包括多个定位件，多个所述定位件分别沿垂直于所述载置面的方向可伸缩地安装到所述基台。

5.根据权利要求4所述的片材用支撑装置，其特征在于，所述定位件在相对于所述载置面朝所述基台的内侧缩回的状态下，所述定位件的远端，分别沿垂直于所述载置面的方向不突出于所述片材。

6.根据权利要求1或2所述的片材用支撑装置，其特征在于，所述定位组件当中，包括多个第一定位件，多个所述第一定位件分别从所述片材的角部对所述片材进行定位。

7.根据权利要求1或2所述的片材用支撑装置，其特征在于，所述定位组件还包括多个第二定位件，所述第二定位件从所述片材的长度方向和/或宽度方向的中心线的位置对所述片材进行定位。

8.等离子体设备，具有真空室，其特征在于，所述真空室内设置有权利要求1至7中任一项所述的片材用支撑装置。

9.根据权利要求8所述的等离子体设备，其特征在于，还包括与所述片材用支撑装置对置的压边件，所述压边件用于压住所述片材的四周边缘。

10.根据权利要求9所述的等离子体设备，其特征在于，所述压边件在与所述载置面相对的一侧，设置有弹性抵接部，所述压边件通过所述弹性抵接部压住所述片材。

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