CN116160308B - 一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖及其制备方法 - Google Patents

一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖及其制备方法，涉及陶瓷砖加工领域，制备工艺包括如下步骤：（1）砖坯选择步骤：选用无釉粗砖坯作为基体；（2）粗砖坯表面修复步骤：添加粗砖坯修复液，利用抛磨设备对步骤（1）所选的无釉粗砖坯表面进行打磨修复，控制打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯表面的光泽度小于30°；（3）防污处理步骤：利用抛磨设备继续对步骤（2）得到的带修复层的无釉粗砖坯表面滴入并涂覆柔光防污液，进行打磨涂覆。与现有柔光陶瓷砖产品相比，本发明制得的防污柔光陶瓷砖在磨头痕迹柔光效果、防污能力、加工成本上均能取得优异的成效。

Description

一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及柔光陶瓷砖加工领域，尤其涉及一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
在过去很长一段时间里，建筑陶瓷行业的“超洁亮”陶瓷砖因其表面超高的光泽度、较高的硬度以及良好的防污性能受到了众多消费者青睐。但是，超洁亮陶瓷砖对光线的反射率高，易造成光污染，且容易使人产生视觉疲劳，因此，随着人们生活水平的不断提高，对陶瓷板材的光泽度提出了更高的要求。近年来，具有较低光泽度的柔光陶瓷砖，瓷产品市场份额出现了迅猛的增长。
现有柔光陶瓷砖的表面获得柔光效果的方式主要有以下两种：一是对陶瓷砖的釉料面柔抛成柔和光度来达到柔光效果，该柔光工艺的抛磨工具对釉面的摩擦不均匀，使得砖面会留有磨头痕迹，且会破坏釉面的晶体结构，表面会有细小毛孔，容易藏污纳垢，其防污性能较差。二是在陶瓷砖表面施加一层特调的柔光釉，调整釉料配方以达到降低釉面光泽度的目的；然而该柔光方式其釉料研发成本高。
因此，亟需开发一种成本低、防污优异的柔光陶瓷砖，使其具有光感柔和效果同时，陶瓷产品整体加工成本更低、防污效果更优异。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖及其制备方法。与现有柔光陶瓷砖产品相比，本发明制得的防污柔光陶瓷砖在磨头痕迹柔光效果、防污能力、加工成本上均能取得优异的成效。
本发明的目的之一采用如下技术方案实现：一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
（1）砖坯选择步骤：
选用无釉粗砖坯作为基体，经抛磨后，无釉粗砖坯表面平整，其光泽度小于15°；所述无釉粗砖坯为经压机压制后的粗砖坯，粗砖坯表面不再施加釉料的粗砖坯；
（2）粗砖坯表面修复步骤：
添加粗砖坯修复液，利用抛磨设备对步骤（1）所选的无釉粗砖坯表面进行打磨修复，控制打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯表面的光泽度小于30°；
（3）柔光防污处理步骤：
利用抛磨设备继续对步骤（2）得到的带修复层的无釉粗砖坯表面滴入并涂覆柔光防污液，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯的表面形成一层柔光防污层。
进一步地，在步骤（1）中，无釉粗砖坯是经过安装有不同粗细度弹性磨块及纤维磨块的常规抛光设备对其表面进行抛磨预处理，使其表面平整，光泽度控制在15°内。
进一步地，在步骤（2）中，所述粗砖坯修复液包括质量百分数为1-2.5%的粒径范围为180-195nm的大颗粒硅溶胶和质量百分数为1.5-2.5%的粒径范围为130-145nm的大颗粒硅溶胶；所述硅溶胶购自北京德科岛金科技有限公司提供的纳米硅溶胶。
进一步地，在步骤（2）中，采用超洁亮抛磨设备，以软纤维磨料为打磨介质；将所述粗砖坯修复液滴入并涂覆在无釉粗砖坯的表面，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使其渗透入无釉粗砖坯的表面毛孔内，重复两遍；然后滴入清水继续打磨，控制滴入速度和打磨涂覆时间，打磨掉粗砖坯修复液修复过程中出现的局部团聚、不均匀颗粒，重复四遍。
进一步地，在步骤（2）中，所述粗砖坯修复液添加量为2-6g/m2；粗砖坯修复液滴入时间控制在15-25s，打磨涂覆时间55-80s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为25-35r/min，安装在磨盘上的软纤维磨料自转速度为900-1000r/min；所述清水的添加量为15-25g/m2；清水滴入时间控制在15-25s，打磨涂覆时间20-45s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为90-135r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为900-1000r/min。
进一步地，在步骤（3）中，所述柔光防污液包括A组分和B组分，A组分为固化剂溶液；固化剂溶液为以质量比为1:（0.8-1.5）的硅烷偶联剂与120#溶剂型汽油混合而成的固化剂溶液；B组分为油性防污液；油性防污剂为以质量比为1:（4-6）的硅油与120#溶剂型汽油混合而成的油性防污液。
进一步地，所述硅烷偶联剂选自济南荣正化工有限公司提供的异丁基三乙氧基硅烷偶联剂；所述硅油购自山东大易化工公司提供的硅油。
进一步地，在步骤（3）中，采用超洁亮抛磨设备，以海绵磨料为打磨介质；利用超洁亮纳米机中的海绵磨料快速在无釉粗砖坯表面涂覆一层B组分，B组分渗透无釉粗砖坯表面的细微毛孔内部，进行再次填充；然后继续利用海绵磨料在B组分表面涂覆一层A组分，A组分能同前一步骤的B组分相互结合，使之固化；最后继续利用海绵磨料在A组分表面再涂覆一层B组分。
进一步地，所述B组分的添加量为10-15ml/m2，所述A组分的添加量为10-15ml/m2；B组分滴入时间控制在8-10s，打磨涂覆时间15-25s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为80-120r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1200-1400r/min；A组分滴入时间控制在8-10s，打磨涂覆时间15-25s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为80-120r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1200-1400r/min。
本发明的目的之二采用如下技术方案实现：一种防污柔光陶瓷砖，由上所述的以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法制备而得。
相比现有技术，本发明的有益效果在于：
与现有柔光陶瓷砖产品相比，本发明的防污柔光陶瓷砖在磨头痕迹柔光效果、防污能力、加工成本上均能取得优异的成效。具体分析如下：本发明在无釉粗砖坯上涂覆浓度稀、大颗粒度的纳米硅溶胶，使其附着在表面无釉料的粗砖坯上，能够适配填充、修复粗砖坯的粗大孔和裂缝。另外，该步骤中，纳米材料填充越致密，控制光泽度小于30°，后续的柔光防污工序的上光效果越好，越容易增光，提高柔光的细腻度。然后在经过修复的粗砖坯上，涂覆柔光防污液打磨，进行上光与防污，能在砖面形成一层透亮的结晶膜，增加高度并维持柔光效果，而且该硅结晶膜具有优异防污的效果。
实施方式
下面，结合具体实施方式，对本发明做进一步描述，需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
在本发明中，若非特指，所有的份、百分比均为重量单位，所采用的设备和原料等均可从市场购得或是本领域常用的。下述实施例中的方法，如无特别说明，均为本领域的常规方法。
本发明提供一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
（1）砖坯选择步骤：
选用无釉粗砖坯作为基体，经抛磨后，无釉粗砖坯表面平整，其光泽度小于15°；所述无釉粗砖坯为经压机压制后的粗砖坯，粗砖坯表面不再施加釉料的粗砖坯；
（2）粗砖坯表面修复步骤：
添加粗砖坯修复液，利用抛磨设备对步骤（1）所选的无釉粗砖坯表面进行打磨修复，控制打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯表面的光泽度小于30°；
（3）柔光防污处理步骤：
利用抛磨设备继续对步骤（2）得到的带修复层的无釉粗砖坯表面滴入并涂覆柔光防污液，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯的表面形成一层柔光防污层。
作为进一步优选方案，在步骤（1）中，无釉粗砖坯是经过安装有不同粗细度弹性磨块及纤维磨块的抛光设备对其表面进行抛磨预处理，使其表面平整，光泽度控制在15°内。
作为进一步优选方案，在步骤（2）中，所述粗砖坯修复液包括质量百分数为1-2.5%的粒径范围为180-195nm的大颗粒硅溶胶和质量百分数为1.5-2.5%的粒径范围为130-145nm的大颗粒硅溶胶；所述硅溶胶购自北京德科岛金科技有限公司提供的纳米硅溶胶。
作为进一步优选方案，在步骤（2）中，采用超洁亮抛磨设备，以软纤维磨料为打磨介质；将所述粗砖坯修复液滴入并涂覆在无釉粗砖坯的表面，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使其渗透入无釉粗砖坯的表面毛孔内，重复两遍；然后滴入清水继续打磨，控制滴入速度和打磨涂覆时间，打磨掉粗砖坯修复液修复过程中出现的局部团聚、不均匀颗粒，重复四遍。
作为进一步优选方案，在步骤（2）中，所述粗砖坯修复液添加量为2-6g/m2；粗砖坯修复液滴入时间控制在15-25s，打磨涂覆时间55-80s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为25-35r/min，安装在磨盘上的软纤维磨料自转速度为900-1000r/min；所述清水的添加量为15-25g/m2；清水滴入时间控制在15-25s，打磨涂覆时间20-45s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为90-135r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为900-1000r/min。
作为进一步优选方案，在步骤（3）中，所述柔光防污液包括A组分和B组分，A组分为固化剂溶液；固化剂溶液为以质量比为1:（0.8-1.5）的硅烷偶联剂与120#溶剂型汽油混合而成的固化剂溶液；B组分为油性防污液；油性防污剂为以质量比为1:（4-6）的硅油与120#溶剂型汽油混合而成的油性防污液。
作为进一步优选方案，所述硅烷偶联剂选自济南荣正化工有限公司提供的异丁基三乙氧基硅烷偶联剂；所述硅油购自山东大易公司提供的硅油。
作为进一步优选方案，在步骤（3）中，采用超洁亮抛磨设备，以海绵磨料为打磨介质；利用超洁亮纳米机中的海绵磨料快速在无釉粗砖坯表面涂覆一层B组分，B组分渗透无釉粗砖坯表面的细微毛孔内部，进行再次填充；然后继续利用海绵磨料在B组分表面涂覆一层A组分，A组分能同前一步骤的B组分相互结合，使之固化；最后继续利用海绵磨料在A组分表面再涂覆一层B组分。
作为进一步优选方案，所述B组分的添加量为10-15ml/m2，所述A组分的添加量为10-15ml/m2；B组分滴入时间控制在8-10s，打磨涂覆时间15-25s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为80-120r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1200-1400r/min；A组分滴入时间控制在8-10s，打磨涂覆时间15-25s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为80-120r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1200-1400r/min。
本发明还提供一种防污柔光陶瓷砖，由上所述的以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法制备而得。
以下是本发明具体的实施例，在下述实施例中所采用的原材料、设备等除特殊限定外均可以通过购买方式获得。
实施例
按照下表1-2中的配方取各组分，分别根据下述制备方法制得粗砖坯修复液、柔光防污液，供各个实施例使用。
表1为各个实施例粗砖坯修复液的配方组成
备注：表1中所述硅溶胶购自北京德科岛金科技有限公司提供的纳米硅溶胶。
表2为各个实施例柔光防污液的配方组成
备注：表2中所述硅烷偶联剂选自济南荣正化工有限公司提供的异丁基三乙氧基硅烷偶联剂。
粗砖坯修复液制备方法如下：将配方量的不同粒径范围的硅溶胶和水加入分散缸内中，启动搅拌，搅拌速度为380r/min，搅拌时间为28min；再用研磨机研磨至无粗粒，转速为500r/min，研磨时间为6min。
固化剂溶液的制备方法如下：在柔光防污处理前，分别取配方量的硅烷偶联剂与120#溶剂型汽油，将配方量的硅烷偶联剂与120#溶剂型汽油进行混合、搅拌，搅拌速度为350r/min，搅拌时间为10min；最后得到固化剂溶液；
油性防污液的制备方法如下：在柔光防污处理前，分别取配方量的硅油与120#溶剂型汽油，将配方量的硅油与120#溶剂型汽油进行混合、搅拌，搅拌速度为750r/min，搅拌时间为18min；最后得到油性防污液。
实施例1-3以及对比例1-9
其中，实施例1-3以及对比例1-7的柔光砖选取市面上某公司生产的同一批次的无釉粗砖坯，该无釉粗砖坯为经压机压制后的粗砖坯，粗砖坯表面不再施加釉料的粗砖坯，分别按照实施例1-3及对比例1-7的制备工艺对上述无釉粗砖坯进行表面处理而得。而对比例8-9为现有常见的柔光砖产品，外购于不同的陶瓷生产厂家。
实施例1
一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖，包括如下步骤：
（1）砖坯选择步骤：
选用无釉粗砖坯作为基体，经抛磨后，无釉粗砖坯表面平整，其光泽度小于15°；具体地，无釉粗砖坯是由压机压制后的粗砖坯经过安装有不同粗细度弹性磨块及纤维磨块的常规抛光设备对其表面进行抛磨预处理，使其表面平整，光泽度控制在15°内。
（2）粗砖坯表面修复步骤：
添加粗砖坯修复液，利用抛磨设备对步骤（1）所选的无釉粗砖坯表面进行打磨修复，控制打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯表面的光泽度小于30°；采用超洁亮抛磨设备，以海绵磨料为打磨介质；
具体地，将所述粗砖坯修复液滴入并涂覆在步骤（1）处理后的无釉粗砖坯表面，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使其渗透入无釉粗砖坯的表面毛孔内，重复两遍；然后滴入清水继续打磨，控制滴入速度和打磨涂覆时间，打磨掉粗砖坯修复液修复过程中出现的局部团聚、不均匀颗粒，重复四遍。
所述粗砖坯修复液添加量为3g/m2；粗砖坯修复液滴入时间控制在15s，打磨涂覆时间55s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为25r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为900r/min；所述清水的添加量为15g/m2；清水滴入时间控制在15s，打磨涂覆时间20s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为90r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为900r/min。
（3）柔光防污处理步骤：
利用抛磨设备继续对步骤（2）得到的带修复层的无釉粗砖坯表面滴入并涂覆柔光防污液，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯的表面形成一层柔光防污层。采用超洁亮抛磨设备，以海绵磨料为打磨介质；利用超洁亮纳米机中的海绵磨料快速在无釉粗砖坯表面涂覆一层B组分，B组分渗透无釉粗砖坯表面的细微毛孔内部，进行再次填充；然后继续利用海绵磨料在B组分表面涂覆一层A组分，A组分能同前一步骤的B组分相互结合，使之固化；最后继续利用海绵磨料在A组分表面再涂覆一层B组分。
所述B组分的添加量为10ml/m2，所述A组分的添加量为10ml/m2；B组分滴入时间控制在8s，打磨涂覆时间15s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为80r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1200r/min；A组分滴入时间控制在8s，打磨涂覆时间15s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为80r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1200r/min。
实施例2
一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖，包括如下步骤：
（1）砖坯选择步骤：
选用无釉粗砖坯作为基体，经抛磨后，无釉粗砖坯表面平整，其光泽度小于15°；具体地，无釉粗砖坯是由压机压制后的粗砖坯经过安装有不同粗细度弹性磨块及纤维磨块的常规抛光设备对其表面进行抛磨预处理，使其表面平整，光泽度控制在15°内。
（2）粗砖坯表面修复步骤：
添加粗砖坯修复液，利用抛磨设备对步骤（1）所选的无釉粗砖坯表面进行打磨修复，控制打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯表面的光泽度小于30°；采用超洁亮抛磨设备，以海绵磨料为打磨介质；
具体地，将所述粗砖坯修复液滴入并涂覆在步骤（1）处理后的无釉粗砖坯表面，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使其渗透入无釉粗砖坯的表面毛孔内，重复两遍；然后滴入清水继续打磨，控制滴入速度和打磨涂覆时间，打磨掉粗砖坯修复液修复过程中出现的局部团聚、不均匀颗粒，重复四遍。
所述粗砖坯修复液添加量为5g/m2；粗砖坯修复液滴入时间控制在20s，打磨涂覆时间65s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为30r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为950r/min；所述清水的添加量为20g/m2；清水滴入时间控制在20s，打磨涂覆时间35s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为105r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为950r/min。
（3）柔光防污处理步骤：
利用抛磨设备继续对步骤（2）得到的带修复层的无釉粗砖坯表面滴入并涂覆柔光防污液，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯的表面形成一层柔光防污层。采用超洁亮抛磨设备，以海绵磨料为打磨介质；利用超洁亮纳米机中的海绵磨料快速在无釉粗砖坯表面涂覆一层B组分，B组分渗透无釉粗砖坯表面的细微毛孔内部，进行再次填充；然后继续利用海绵磨料在B组分表面涂覆一层A组分，A组分能同前一步骤的B组分相互结合，使之固化；最后继续利用海绵磨料在A组分表面再涂覆一层B组分。
所述B组分的添加量为12ml/m2，所述A组分的添加量为12ml/m2；B组分滴入时间控制在9s，打磨涂覆时间20s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为105r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1300r/min；A组分滴入时间控制在9s，打磨涂覆时间20s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为105r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1300r/min。
实施例3
一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖，包括如下步骤：
（1）砖坯选择步骤：
选用无釉粗砖坯作为基体，经抛磨后，无釉粗砖坯表面平整，其光泽度小于15°；具体地，无釉粗砖坯是由压机压制后的粗砖坯经过安装有不同粗细度弹性磨块及纤维磨块的常规抛光设备对其表面进行抛磨预处理，使其表面平整，光泽度控制在15°内。
（2）粗砖坯表面修复步骤：
添加粗砖坯修复液，利用抛磨设备对步骤（1）所选的无釉粗砖坯表面进行打磨修复，控制打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯表面的光泽度小于30°；采用超洁亮抛磨设备，以海绵磨料为打磨介质；
具体地，将所述粗砖坯修复液滴入并涂覆在步骤（1）处理后的无釉粗砖坯表面，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使其渗透入无釉粗砖坯的表面毛孔内，重复两遍；然后滴入清水继续打磨，控制滴入速度和打磨涂覆时间，打磨掉粗砖坯修复液修复过程中出现的局部团聚、不均匀颗粒，重复四遍。
所述粗砖坯修复液添加量为6g/m2；粗砖坯修复液滴入时间控制在25s，打磨涂覆时间80s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为35r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1000r/min；所述清水的添加量为25g/m2；清水滴入时间控制在25s，打磨涂覆时间45s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为135r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1000r/min。
（3）柔光防污处理步骤：
利用抛磨设备继续对步骤（2）得到的带修复层的无釉粗砖坯表面滴入并涂覆柔光防污液，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯的表面形成一层柔光防污层。采用超洁亮抛磨设备，以海绵磨料为打磨介质；利用超洁亮纳米机中的海绵磨料快速在无釉粗砖坯表面涂覆一层B组分，B组分渗透无釉粗砖坯表面的细微毛孔内部，进行再次填充；然后继续利用海绵磨料在B组分表面涂覆一层A组分，A组分能同前一步骤的B组分相互结合，使之固化；最后继续利用海绵磨料在A组分表面再涂覆一层B组分。
所述B组分的添加量为15ml/m2，所述A组分的添加量为15ml/m2；B组分滴入时间控制在10s，打磨涂覆时间25s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为120r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1400r/min；A组分滴入时间控制在10s，打磨涂覆时间25s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为120r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1400r/min。
对比例1
对比例1与实施例2的区别在于：缺少陶瓷砖制备工艺的步骤（1）中的抛磨工序，除此之外，其余步骤、条件与所用试剂配方与实施例2基本相同。
对比例2
对比例2与实施例2的区别在于：缺少陶瓷砖制备工艺的步骤（2），除此之外，其余步骤、条件与所用试剂配方与实施例2基本相同。
对比例3
对比例3与实施例2的区别在于：在陶瓷砖的制备工艺的步骤（2）中，粗砖坯修复液的质量浓度大于10%，其余步骤、条件与所用试剂配方与实施例2基本相同。粗砖坯修复液具体配方组成如下：所述粗砖坯修复液由质量百分数为10%的粒径范围为180-195nm的大颗粒硅溶胶和质量百分数为9%的粒径范围为130-145nm的大颗粒硅溶胶和余量的水组成。
对比例4
对比例4与实施例2的区别在于：在陶瓷砖的制备工艺的步骤（2）中，粗砖坯修复液采用小颗粒的纳米硅溶液，其余步骤、条件与所用试剂配方与实施例2基本相同。粗砖坯修复液具体配方组成如下：所述粗砖坯修复液由质量百分数为2%的粒径范围为85-95nm的大颗粒硅溶胶和质量百分数为2%的粒径范围为45-65nm的大颗粒硅溶胶和余量的水组成。
对比例5
对比例5与实施例2的区别在于：在陶瓷砖的制备工艺的步骤（2）中，粗砖坯修复液的打磨速度采用常规速度，即超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度由25-35r/min提高至100r/min，其余步骤、条件与所用试剂配方与实施例2基本相同。
对比例6
对比例6与实施例2的区别在于：在陶瓷砖的制备工艺中缺少步骤（3），除此之外，其余步骤、条件与所用试剂配方与实施例2基本相同。
对比例7
对比例7与实施例2的区别在于：在实施例2中选用的偶联剂不同，对比例7选用康锦化工有限公司生产的型号为KH-570的硅烷偶联剂，其余步骤、条件与所用试剂配方与实施例2基本相同。
对比例8
现有带有釉料层的柔光陶瓷砖，购自珠海市白兔陶瓷有限公司提供的柔光砖成品，该柔光砖大致工艺为在砖坯表面施加常规釉料，然后对陶瓷砖的釉料面采用常规柔抛工艺进行柔抛而成。
对比例9
现有带有釉料层的柔光陶瓷砖，购自广东东鹏控股股份有限公司提供的柔光砖成品，该柔光砖大致工艺为在砖坯表面施加一层柔光釉而得。
1.对实施例1-3以及对比例1-9的柔光陶瓷砖其性能进行检测，对柔光陶瓷砖表面的磨头痕迹、光泽度、防污能力进行检测，其中性能检测项目包括光泽度、防污能力、柔光陶瓷砖表面的磨头痕迹进行检测，其中光泽度依据GB/T13891-2008标准检测，检测项目及结果参见下表3所示；防污能力是指采用红、蓝、黑三色笔涂画在瓷砖表面，待笔迹充分干透后，用洗洁精水清洗，观察是否清洗干净，根据干净程度高低分成多个等级。另外，成本主要包含粗砖坯修复液成本、柔光防污液成本、釉料成本、加工电费等成本之和。
表3 为实施例1-3以及对比例1-9防污柔光陶瓷砖的性能检测结果
磨头痕迹 光泽度 防污能力 成本大小
实施例1 无 27 优 低
实施例2 无 35 最优 低
实施例3 无 38 优 低
对比例1 微小磨头痕 53 良好 低
对比例2 微小磨头痕 51 良好 较低
对比例3 无 38 良好 较高
对比例4 无 43 良好 较低
对比例5 微小磨头痕 34 良好 较低
对比例6 微小磨头痕 35 差 较低
对比例7 无 41 良好 低
对比例8 有磨头痕迹 35 良好 较高
对比例9 微小磨头痕 45 优 高
从上表可得，与对比例8-9的现有柔光陶瓷砖产品相比，实施例1-3的防污柔光陶瓷砖在磨头痕迹柔光效果、防污能力、加工成本上均能取得优异的成效，尤其是实施例2，防污柔光陶瓷砖的柔光效果柔和、防污能力优异、没有磨头痕迹，加工成本最低，为最优实施方式。
与实施例2比较，对比例1缺少了步骤（1）中的抛磨工序，粗砖坯表面过于粗糙，不利于粗砖坯修复液在砖面上附着，对光泽度、防污性能产生了较大影响。
与实施例2比较，对比例2缺少了步骤（2），即不对无釉粗砖坯的砖面作表面修复，直接进行柔光防污处理，对光泽度、防污性能产生了影响，另外，柔光陶瓷砖经过一段时间使用后，表面防污层容易被踩磨掉，砖坯的粗糙毛孔便又重新暴露。
与实施例2比较，对比例3的步骤（2）中，粗砖坯修复液的质量浓度大于10%，粗砖坯修复液过高，影响后续上过的过程，对光泽度、防污性能产生了一定影响。
与实施例2比较，对比例4的步骤（2）中，粗砖坯修复液采用小颗粒的纳米硅溶液，小颗粒的纳米硅溶液颗粒度过细，对无釉粗砖坯表面的修复效果不佳，直接影响光泽度、防污性能。
与实施例2比较，对比例5的步骤（2）中，粗砖坯修复液的打磨速度采用常规速度，粗砖坯修复液的打磨速度过快，使得大颗粒纳米硅溶胶未有足够时间附着在无釉粗砖坯表面，影响光泽度、防污性能。
与实施例2比较，对比例6缺少了步骤（3），即不作柔光防污处理，对防污性能产生较大影响。
与实施例2比较，对比例7所用偶联剂不同，影响了产品的防污性能，主要由于本发明所选的偶联剂，其能增加硅树脂和砖体的粘合力，以及粘合后的耐久性和耐水性，从而能够提高防污性能。
上述实施方式仅为本发明的优选实施方式，不能以此来限定本发明保护的范围，本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。

Claims (7)

1.一种以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
（1）砖坯选择步骤：
选用无釉粗砖坯作为基体，经抛磨后，无釉粗砖坯表面平整，其光泽度小于15°；所述无釉粗砖坯为经压机压制后的粗砖坯，粗砖坯表面不再施加釉料的粗砖坯；
（2）粗砖坯表面修复步骤：
添加粗砖坯修复液，利用抛磨设备对步骤（1）所选的无釉粗砖坯表面进行打磨修复，控制打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯表面的光泽度小于30°；在步骤（2）中，所述粗砖坯修复液包括质量百分数为1-2.5%的粒径范围为180-195nm的大颗粒硅溶胶和质量百分数为1.5-2.5%的粒径范围为130-145nm的大颗粒硅溶胶；
（3）防污处理步骤：
利用抛磨设备继续对步骤（2）得到的带修复层的无釉粗砖坯表面滴入并涂覆柔光防污液，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使无釉粗砖坯的表面形成一层柔光防污层；在步骤（3）中，所述柔光防污液包括A组分和B组分，A组分为固化剂溶液；固化剂溶液为以质量比为1:（0.8-1.5）的异丁基三乙氧基硅烷偶联剂与120#溶剂型汽油混合而成的固化剂溶液；B组分为油性防污液；油性防污剂为以质量比为1:（4-6）的硅油与120#溶剂型汽油混合而成的油性防污液。
2.如权利要求1所述的以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法，其特征在于，在步骤（1）中，无釉粗砖坯是经过安装有不同粗细度弹性磨块及纤维磨块的常规抛光设备对其表面进行抛磨预处理，使其表面平整，光泽度控制在15°内。
3.如权利要求1所述的以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法，其特征在于，在步骤（2）中，采用超洁亮抛磨设备，以软纤维磨料为打磨介质；将所述粗砖坯修复液滴入并涂覆在无釉粗砖坯的表面，控制滴入速度和打磨涂覆时间，使其渗透入无釉粗砖坯的表面毛孔内，重复两遍；然后滴入清水继续打磨，控制滴入速度和打磨涂覆时间，打磨掉粗砖坯修复液修复过程中出现的局部团聚、不均匀颗粒，重复四遍。
4.如权利要求3所述的以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法，其特征在于，在步骤（2）中，所述粗砖坯修复液添加量为2-6g/m2；粗砖坯修复液滴入时间控制在15-25s，打磨涂覆时间55-80s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为25-35r/min，安装在磨盘上的软纤维磨料自转速度为900-1000r/min；所述清水的添加量为15-25g/m2；清水滴入时间控制在15-25s，打磨涂覆时间20-45s；超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为90-135r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为900-1000r/min。
5.如权利要求1所述的以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法，其特征在于，在步骤（3）中，采用超洁亮抛磨设备，以海绵磨料为打磨介质；利用超洁亮纳米机中的海绵磨料快速在无釉粗砖坯表面涂覆一层B组分，B组分渗透无釉粗砖坯表面的细微毛孔内部，进行再次填充；然后继续利用海绵磨料在B组分表面涂覆一层A组分，A组分能同前一步骤的B组分相互结合，使之固化；最后继续利用海绵磨料在A组分表面再涂覆一层B组分。
6.如权利要求5所述的以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述B组分的添加量为10-15ml/m2，所述A组分的添加量为10-15ml/m2；B组分滴入时间控制在8-10s，打磨涂覆时间15-25s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为80-120r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1200-1400r/min；A组分滴入时间控制在8-10s，打磨涂覆时间15-25s，超洁亮抛磨设备的磨盘公转速度为80-120r/min，安装在磨盘上的海绵磨料自转速度为1200-1400r/min。
7.一种防污柔光陶瓷砖，其特征在于，由权利要求1-6任一项所述的以无釉粗砖坯为基体的防污柔光陶瓷砖的制备方法制备而得。
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CN112094578A (zh) * 2019-06-18 2020-12-18 佛山市南海区沙头才华化工有限公司 一种柔光陶瓷纳米涂料的制备方法
CN112391120B (zh) * 2021-01-21 2021-05-14 佛山市纳德新材料科技有限公司 一种纯色瓷砖防渗蜡防污剂及其制备方法与应用
CN114349536B (zh) * 2022-03-21 2022-06-21 广东简一(集团)陶瓷有限公司 一种抗污纳米易洁液及其制备方法、抗污纳米易洁陶瓷的制备方法
CN114685190A (zh) * 2022-04-08 2022-07-01 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种柔光防滑防污陶瓷板材的制备方法

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