CN115911080A - 显示装置 - Google Patents

Abstract

一种显示装置包括基板、像素结构、金属层、第一抗氧化导电层及绝缘层。基板具有相对的显示面及背面。像素结构设置于基板的显示面。金属层设置于基板的背面，且包括岛状测试垫、走线的第一段及走线的第二段。走线的第一段及第二段分别位于岛状测试垫的两侧且与岛状测试垫于结构上分离。第一抗氧化导电层设置于背面，且包括第一桥接图案及第二桥接图案。第一桥接图案连接于走线的第一段与岛状测试垫之间。第二桥接图案连接于走线的第二段与岛状测试垫之间。绝缘层设置于第一抗氧化导电层上且具有一开口。绝缘层的开口重叠于岛状测试垫。

Description

显示装置

技术领域

本发明是有关于一种光电装置，且特别是有关于一种显示装置。

背景技术

发光二极管显示面板包括背板及转置于背板上的多个发光二极管元件。继承发光二极管的特性，发光二极管显示面板具有省电、高效率、高亮度及反应时间快等优点。此外，相较于有机发光二极管显示面板，发光二极管显示面板还具有色彩易调校、发光寿命长、无影像烙印等优势。因此，发光二极管显示面板被视为下一世代的显示技术。

一般而言，为实现超窄边框甚至无边框的发光二极管显示面板，会将周边线路(例如：扇出走线、测试垫等)制作于背板的背面上，然后，再以可剥胶层覆盖及保护之。可剥胶层具有重叠于测试垫的开口，以方便测试机台的探针插入，进行电性测试。在电性测试时，测试垫容易被探针破坏，导致后续进行信赖性测试后发光二极管显示面板于测试垫处出现腐蚀(corrosion)现象并沿着蔓延至扇出走线内部。

发明内容

本发明提供一种显示装置，质量佳、良率高。

本发明的显示装置包括基板、像素结构、金属层、第一抗氧化导电层及绝缘层。基板具有相对的显示面及背面。像素结构设置于基板的显示面。金属层设置于基板的背面，且包括岛状测试垫、走线的第一段及走线的第二段，其中走线的第一段及第二段分别位于岛状测试垫的两侧且与岛状测试垫于结构上分离。第一抗氧化导电层设置于背面，且包括第一桥接图案及第二桥接图案，其中第一桥接图案连接于走线的第一段与岛状测试垫之间，且第二桥接图案连接于走线的第二段与岛状测试垫之间。绝缘层设置于第一抗氧化导电层上，且具有一开口，其中绝缘层的开口重叠于岛状测试垫。

在本发明的一实施例中，上述的显示装置更包括可剥胶层，设置于绝缘层上，且具有一开口，其中可剥胶层的开口重叠于岛状测试垫。

在本发明的一实施例中，上述的可剥胶层的开口更重叠于第一抗氧化导电层的第一桥接图案及第二桥接图案。

在本发明的一实施例中，上述的金属层位于第一抗氧化导电层与基板的背面之间。第一抗氧化导电层更包括抗氧化导电图案，设置于金属层的岛状测试垫上，其中可剥胶层的开口、绝缘层的开口与抗氧化导电图案重叠。

在本发明的一实施例中，上述的第一桥接图案及第二桥接图案分别设置于抗氧化导电图案的两侧且与抗氧化导电图案于结构上分离。

在本发明的一实施例中，上述的金属层位于第一抗氧化导电层与基板的背面之间。显示装置更包括第二抗氧化导电层，设置于金属层与基板的背面之间，其中金属层的走线的第一段与金属层的岛状测试垫具有第一间隙，金属层的走线的第二段与金属层的岛状测试垫具有第二间隙，第二抗氧化导电层具有分别重叠于第一间隙及第二间隙的第一区及第二区，第一抗氧化导电层的第一桥接图案及第二桥接图案分别设置于第一间隙及第二间隙且分别电性连接至第二抗氧化导电层的第一区及第二区。

在本发明的一实施例中，上述的第二抗氧化导电层更具有第三区，重叠于金属层的岛状测试垫；第三区的两端分别与第一区及第二区连接。

在本发明的一实施例中，上述的第一抗氧化导电层位于金属层与基板的背面之间。

在本发明的一实施例中，上述的第一抗氧化导电层更包括抗氧化导电图案，其中金属层的岛状测试垫设置于第一抗氧化导电层的抗氧化导电图案上，且抗氧化导电图案的两端分别与第一桥接图案及第二桥接图案连接。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1为本发明第一实施例的显示装置的仰视示意图。

图2为本发明第一实施例的显示装置的剖面示意图。

图3为本发明第二实施例的显示装置的剖面示意图。

图4为本发明第三实施例的显示装置的剖面示意图。

其中，附图标记：

10、10A、10B:显示装置

110:基板

112:显示面

114:背面

120:像素结构

130:屏障保护层

140:金属层

142:岛状测试垫

144:第一段

146:第二段

146a、146b:端

148:测试垫

150、150B:第一抗氧化导电层

152、152B:抗氧化导电图案

154、154B:第一桥接图案

156、156B:第二桥接图案

158:另一抗氧化导电图案

160:绝缘层

160a、170a:开口

160b:另一开口

170:可剥胶层

180:第二抗氧化导电层

182:第三区

184:第一区

186:第二区

A-A’:剖线

L:走线

g1:第一间隙

g2:第二间隙

Z:方向

具体实施方式

下面结合附图对本发明的结构原理和工作原理作具体的描述：

现将详细地参考本发明的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同元件符号在图式和描述中用来表示相同或相似部分。

应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，“连接”可以指物理及/或电性连接。再者，“电性连接”或“耦合”可以是二元件间存在其它元件。

本文使用的“约”、“近似”、或“实质上”包括所述值和在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内的平均值，考虑到所讨论的测量和与测量相关的误差的特定数量(即，测量系统的限制)。例如，“约”可以表示在所述值的一个或多个标准偏差内，或±30％、±20％、±10％、±5％内。再者，本文使用的“约”、“近似”或“实质上”可依光学性质、蚀刻性质或其它性质，来选择较可接受的偏差范围或标准偏差，而可不用一个标准偏差适用全部性质。

除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，诸如在通常使用的字典中定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术和本发明的上下文中的含义一致的含义，并且将不被解释为理想化的或过度正式的意义，除非本文中明确地这样定义。

图1为本发明第一实施例的显示装置的仰视示意图。图2为本发明第一实施例的显示装置的剖面示意图。图2对应图1的剖线A-A’。方向Z从基板110的背面114指向显示面112。图1示出沿着平行于方向Z的一方向所看到的显示装置10。

请参照图1及图2，显示装置10包括基板110，具有相对的显示面112及背面114。在本实施例中，基板110的材质可为玻璃、石英、有机聚合物、或是不透光/反射材料(例如：晶圆、陶瓷、或其它可适用的材料)、或是其它可适用的材料。

显示装置10还包括像素结构120，设置于基板110的显示面112。举例而言，在本实施例中，像素结构120可包括像素驱动电路(未绘示)、电性连接于像素驱动电路的接垫(未绘示)以及与接垫接合的发光二极管元件(未绘示)，但本发明不以此为限。

显示装置10还包括金属层140。金属层140设置于基板110的背面114。在本实施例中，显示装置10还可选择性地包括屏障保护层130，其中屏障保护层130设置于基板110的背面114上，而金属层140设置于屏障保护层130上，但本发明不以此为限。在本实施例中，屏障保护层130的材料可为无机材料(例如：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、或上述至少二种材料的堆栈层)、有机材料或上述的组合。

金属层140包括岛状测试垫142、走线L的第一段144及走线L的第二段146。走线L的第一段144及第二段146分别位于岛状测试垫142的两侧且与岛状测试垫142于结构上分离。走线L的第一段144与岛状测试垫142具有第一间隙g1。走线L的第二段146与金属层140的岛状测试垫142具有第二间隙g2。在本实施例中，金属层140还可选择性包括测试垫148，其中走线L的第二段146的一端146a与岛状测试垫142具有第二间隙g2，而走线L的第二段146的另一端146b连接至测试垫148。

设置于基板110的背面114的走线L电性连接至设置于基板110的显示面112的像素结构120。在本实施例中，设置于基板110的背面114的走线L可透过设置于基板110的侧壁(未绘示)的侧边导线(未绘示)或贯穿基板110的导电物(未绘示)电性连接至设置于基板110的显示面112的像素结构120，但本发明不以此为限。在本实施例中，金属层140的材料可为铝、铜或其它金属，但本发明不以此为限。

显示装置10还包括第一抗氧化导电层150，设置于基板110的背面114。在本实施例中，第一抗氧化导电层150可选择性地设置于金属层140上，其中金属层140位于第一抗氧化导电层150与基板110的背面114之间，但本发明不以此为限。

第一抗氧化导电层150包括第一桥接图案154及第二桥接图案156。第一桥接图案154连接于走线L的第一段144与岛状测试垫142之间，以电性连接走线L的第一段144与岛状测试垫142。第二桥接图案156连接于走线L的第二段146与岛状测试垫142之间，以电性连接走线L的第二段146与岛状测试垫142。相较于金属层140，第一抗氧化导电层150较不易起氧化反应。举例而言，在本实施例中，第一抗氧化导电层150的材质可为金属氧化物，例如但不限于：铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物、其它合适的氧化物、或者是上述至少二者的堆栈层。

在本实施例中，第一抗氧化导电层150还可选择性地包括抗氧化导电图案152，设置于金属层140的岛状测试垫142上。第一桥接图案154及第二桥接图案156分别设置于抗氧化导电图案152的两侧。在本实施例中，抗氧化导电图案152可选择性地与第一桥接图案154及第二桥接图案156于结构上分离，但本发明不以此为限。

在本实施例中，第一抗氧化导电层150还可选择性地包括另一抗氧化导电图案158，设置于金属层140的测试垫148上，其中第二桥接图案156位于抗氧化导电图案152与另一抗氧化导电图案158之间。在本实施例中，第二桥接图案156与抗氧化导电图案152及另一抗氧化导电图案158可选择性地于结构上分离，但本发明不以此为限。

显示装置10还包括绝缘层160，设置于第一抗氧化导电层150上，且具有一开口160a，其中绝缘层160的开口160a重叠于岛状测试垫142。在本实施例中，绝缘层160的开口160a更重叠于抗氧化导电图案152。抗氧化导电图案152覆盖岛状测试垫142的与开口160a重叠的区域。在本实施例中，绝缘层160的开口160a可暴露抗氧化导电图案152，但本发明不以此为限。

在本实施例中，绝缘层160还可具有另一开口160b，其中绝缘层160的开口160a重叠于测试垫148。在本实施例中，绝缘层160的另一开口160b更重叠于另一抗氧化导电图案158。另一抗氧化导电图案158覆盖测试垫148的与另一开口160b重叠的区域。在本实施例中，绝缘层160的材料可为无机材料(例如：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、或上述至少二种材料的堆栈层)、有机材料或上述的组合。在本实施例中，绝缘层160可包括多个绝缘子层，但本发明不以此为限。

在本实施例中，显示装置10还包括可剥胶层170，设置于绝缘层160上，且具有一开口170a，其中可剥胶层170的开口170a重叠于岛状测试垫142。在本实施例中，可剥胶层170的开口170a、绝缘层160的开口160a与抗氧化导电图案152重叠。在本实施例中，可剥胶层170的开口170a更重叠于第一抗氧化导电层150的第一桥接图案154及第二桥接图案156，而绝缘层160的开口160a位于第一桥接图案154与第二桥接图案156之间。在本实施例中，绝缘层160的开口160a位于可剥胶层170的开口170a内，且与可剥胶层170的开口170a相通。在本实施例中，可剥胶层170可填入绝缘层160的另一开口160b。在本实施例中，填入绝缘层160的另一开口160b的可剥胶层170可与另一抗氧化导电图案158接触，但本发明不以此为限。

值得注意的是，第一抗氧化导电层150的第一桥接图案154和第二桥接图案156除了用以桥接岛状测试垫142与走线L的第一段144及第二段146，第一抗氧化导电层150的第一桥接图案154和第二桥接图案156还用以分隔金属层140的岛状测试垫142与金属层140的走线L。如此一来，即便，水汽从未被可剥胶层170覆盖的岛状测试垫142进入金属层140，但第一抗氧化导电层150的第一桥接图案154和第二桥接图案156可阻断水汽进入被可剥胶层170覆盖的走线L内部。即使，金属层140的岛状测试垫142因氧化而发生腐蚀现象，但所述腐蚀现象不易穿过第一抗氧化导电层150的第一桥接图案154和第二桥接图案156而蔓延至金属曾40的走线L内部。藉此，显示装置10的质量及良率可提升。

在此必须说明的是，下述实施例沿用前述实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，下述实施例不再重述。

图3为本发明第二实施例的显示装置的剖面示意图。图3的显示装置10A与前述的显示装置10类似，两者的差异在于：图3的显示装置10A更包括第二抗氧化导电层180。

请参照图3，第二抗氧化导电层180设置于金属层140与基板110的背面114之间。详细而言，在本实施例中，第二抗氧化导电层180可设置于屏障保护层130上，但本发明不以此为限。金属层140的走线L的第一段144与金属层140的岛状测试垫142具有第一间隙g1。金属层140的走线L的第二段146与金属层140的岛状测试垫142具有第二间隙g2。第二抗氧化导电层180具有分别重叠于第一间隙g1及第二间隙g2的第一区184及第二区186。第一抗氧化导电层150的第一桥接图案154及第二桥接图案156分别设置于第一间隙g1及第二间隙g2且分别电性连接至第二抗氧化导电层180的第一区184及第二区186。

在本实施例中，第二抗氧化导电层180还可具有第三区182，重叠于金属层140的岛状测试垫142；第三区182的两端分别与第一区184及第二区186连接。相较于金属层140，第二抗氧化导电层180较不易起氧化反应。举例而言，在本实施例中，第二抗氧化导电层180的材质可为金属氧化物，例如但不限于：铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物、其它合适的氧化物、或者是上述至少二者的堆栈层。

值得一提的是，在本实施例中，使用双层的第一抗氧化导电层150及第二抗氧化导电层180桥接岛状测试垫142与走线L的第一段144及第二段146可降低阻值，进而提升显示装置10A的性能。

图4为本发明第三实施例的显示装置的剖面示意图。图4的显示装置10B与前述的显示装置10类似，两者的差异在于：图4的显示装置10B的第一抗氧化导电层150B的位置与前述的显示装置10的第一抗氧化导电层150的位置不同。

请参照图4，具体而言，在本实施例中，第一抗氧化导电层150B位于金属层140与基板110的背面114之间。在本实施例中，金属层140的岛状测试垫142设置于第一抗氧化导电层150B的抗氧化导电图案152B上，且抗氧化导电图案152B的两端分别与第一桥接图案154B及第二桥接图案156B连接。在本实施例中，是先形成第一抗氧化导电层150B，再形成金属层140，其中金属层140的岛状测试垫142与走线L的第一段144及第二段146是利用先形成的第一抗氧化导电层150B电性连接。

当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种显示装置，其特征在于，包括：

一基板，具有相对的一显示面及一背面；

一像素结构，设置于该基板的该显示面；

一金属层，设置于该基板的该背面，且包括一岛状测试垫、一走线的一第一段及该走线的一第二段，其中该走线的该第一段及该第二段分别位于该岛状测试垫的两侧且与该岛状测试垫于结构上分离；

一第一抗氧化导电层，设置于该背面，且包括一第一桥接图案及一第二桥接图案，其中该第一桥接图案连接于该走线的该第一段与该岛状测试垫之间，且该第二桥接图案连接于该走线的该第二段与该岛状测试垫之间；以及

一绝缘层，设置于该第一抗氧化导电层上，且具有一开口，其中该绝缘层的该开口重叠于该岛状测试垫。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，更包括：

一可剥胶层，设置于该绝缘层上，且具有一开口，其中该可剥胶层的该开口重叠于该岛状测试垫。

3.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，其中该可剥胶层的该开口更重叠于该第一抗氧化导电层的该第一桥接图案及该第二桥接图案。

4.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，其中该金属层位于该第一抗氧化导电层与该基板的该背面之间，该第一抗氧化导电层更包括：

一抗氧化导电图案，设置于该金属层的该岛状测试垫上，其中该可剥胶层的该开口、该绝缘层的该开口与该抗氧化导电图案重叠。

5.如权利要求4所述的显示装置，其特征在于，其中该第一桥接图案及该第二桥接图案分别设置于该抗氧化导电图案的两侧且与该抗氧化导电图案于结构上分离。

6.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，其中该金属层位于该第一抗氧化导电层与该基板的该背面之间，该显示装置更包括：

一第二抗氧化导电层，设置于该金属层与该基板的该背面之间，其中该金属层的该走线的该第一段与该金属层的该岛状测试垫具有一第一间隙，该金属层的该走线的该第二段与该金属层的该岛状测试垫具有一第二间隙，该第二抗氧化导电层具有分别重叠于该第一间隙及该第二间隙的一第一区及一第二区，该第一抗氧化导电层的该第一桥接图案及该第二桥接图案分别设置于该第一间隙及该第二间隙且分别电性连接至该第二抗氧化导电层的该第一区及该第二区。

7.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于，其中该第二抗氧化导电层更具有一第三区，重叠于该金属层的该岛状测试垫；该第三区的两端分别与该第一区及该第二区连接。

8.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，其中该第一抗氧化导电层位于该金属层与该基板的该背面之间。

9.如权利要求8所述的显示装置，其特征在于，其中该第一抗氧化导电层更包括：

一抗氧化导电图案，其中该金属层的该岛状测试垫设置于该第一抗氧化导电层的该抗氧化导电图案上，且该抗氧化导电图案的两端分别与该第一桥接图案及该第二桥接图案连接。

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