CN115826120A - 光学构件 - Google Patents
光学构件 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115826120A CN115826120A CN202211092508.XA CN202211092508A CN115826120A CN 115826120 A CN115826120 A CN 115826120A CN 202211092508 A CN202211092508 A CN 202211092508A CN 115826120 A CN115826120 A CN 115826120A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- optical member
- absorbent
- resin
- compounds
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 230
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims abstract description 216
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims abstract description 215
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 118
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 118
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 86
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 69
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 53
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 148
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 99
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 54
- -1 polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 42
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 36
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 7
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 claims description 7
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- OVTCUIZCVUGJHS-UHFFFAOYSA-N dipyrrin Chemical compound C=1C=CNC=1C=C1C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 6
- PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N subphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(=N3)N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C3=N1 PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 5
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 claims description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 5
- YKENVNAJIQUGKU-UHFFFAOYSA-N tetraazaporphin Chemical compound C=1C(C=N2)=NC2=NC(NN2)=NC2=CC(C=C2)=NC2=CC2=NC=1C=C2 YKENVNAJIQUGKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 4
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 4
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 4
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 3
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 3
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 claims description 2
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 claims description 2
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 claims description 2
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 149
- 239000010408 film Substances 0.000 description 84
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 description 44
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 27
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 24
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 22
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 19
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 17
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 15
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 15
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 12
- 238000013365 molecular weight analysis method Methods 0.000 description 11
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 7
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 5
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 4
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 4
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 4
- 150000004775 coumarins Chemical class 0.000 description 4
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 4
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 4
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical class C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 4
- 150000003732 xanthenes Chemical class 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 150000005125 dioxazines Chemical class 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical class C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 3
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005684 Liebig rearrangement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000641 acridinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical class C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000004297 night vision Effects 0.000 description 2
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical class C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYVJYKHMOIOZPC-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butyl-6-methylphenyl) dihydrogen phosphite Chemical compound Cc1cc(cc(c1OP(O)O)C(C)(C)C)C(C)(C)C SYVJYKHMOIOZPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- NRKYWOKHZRQRJR-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroacetamide Chemical compound NC(=O)C(F)(F)F NRKYWOKHZRQRJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical compound OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRLTTZUODKEYDH-UHFFFAOYSA-N 8-methylquinoline Chemical group C1=CN=C2C(C)=CC=CC2=C1 JRLTTZUODKEYDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enoyloxynonyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C=C PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 241000735527 Eupatorium Species 0.000 description 1
- 102000001554 Hemoglobins Human genes 0.000 description 1
- 108010054147 Hemoglobins Proteins 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- BDAHDQGVJHDLHQ-UHFFFAOYSA-N [2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=1C1(O)CCCCC1 BDAHDQGVJHDLHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFZJUYWZZUTJE-UHFFFAOYSA-J [F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Na+].[Al+3] Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Na+].[Al+3] RUFZJUYWZZUTJE-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTCMYCAFVUUNBK-UHFFFAOYSA-O benzo[cd]indol-1-ium Chemical compound C1=CC(C=[NH+]2)=C3C2=CC=CC3=C1 UTCMYCAFVUUNBK-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 125000004915 dibutylamino group Chemical group C(CCC)N(CCCC)* 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000010101 extrusion blow moulding Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 125000006238 prop-1-en-1-yl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N quaterrylene Chemical group C12=C3C4=CC=C2C(C2=C56)=CC=C5C(C=57)=CC=CC7=CC=CC=5C6=CC=C2C1=CC=C3C1=CC=CC2=CC=CC4=C21 GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N trans-dipyrrin Chemical class C=1C=CNC=1/C=C1\C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001195 ultra high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000004704 ultra performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
Abstract
本发明提供一种光学构件及使用所述光学构件的传感装置或摄像装置等，所述光学构件具有选择性地使任意不同的可见光波长的光透过的功能，并且入射角依赖性低。一种光学构件，具有至少一层吸收层，所述吸收层含有在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂以及树脂，所述光学构件中，吸收层在光的波长380nm～725nm的范围具有至少三个以上的阻止带，各阻止带的最大透过率为15％以下，最长波长侧的阻止带的宽度为50nm以上，在各阻止带之间具有透过带，各透过带的最小透过率为30％以上。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学构件。详细而言，涉及一种具备规定特征的具有三个以上的阻止带的光学滤波器。
背景技术
在医疗或农业、环境等领域中，为了进行对象物的诊断或检查而使用分光传感器。例如，在医疗领域中，使用利用血红蛋白的光吸收来测定血氧饱和度的脉搏氧饱和度仪(Pulse oximeter)。另外，在农业领域中，使用利用糖分的光吸收来测定果实的糖度的糖度计。另外，为了提高安全等级，在机场等中使用利用眼睛的光彩的认证装置或面部认证装置、或者在银行的自动取款机(Automated Teller Machine，ATM)中使用利用指纹的指纹认证装置等生物体认证装置。
这样，近年来，积极开发使用任意不同的可见光波长的光的传感装置及摄像装置。
理想的是在用于这些的光学构件中，有效率地截止期望的波长以外的光。
例如，专利文献1(日本专利特开2008-203436号公报)中公开了一种使用特定的次甲基系色素来提高红、蓝、绿三原色发光的对比度的显示器面板用光学构件。但是，不能说可充分截止不需要的长波长区域的可见光。
另外，在专利文献2(日本专利第4095344号公报)中，作为液晶投影仪的颜色再现用光学构件，提出了一种具有特定的层叠结构的滤波器，所述滤波器的430nm～470nm的范围的透过率、520nm～560nm的范围的透过率、610nm～650nm的范围的透过率高且蓝与绿之间的范围的透过率、绿与红之间的范围的透过率低。此校正滤波器有可能在记载的滤波器中产生由斜向入射光引起的误认证或图像不良。
在专利文献3(日本专利特开2010-002704号公报)中，作为生物体认证用光学构件，公开了一种红外透过滤波器，但无法用于可见光的传感。
进而，作为选择性地提取任意不同的可见光波长的方法，考虑使用利用了电介质多层膜的滤波器，但存在光线从斜向入射到所述滤波器时分光特性大幅变化的问题。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2008-203436号公报
[专利文献2]日本专利第4095344号公报
[专利文献3]日本专利特开2010-002704号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
关于入射角依赖性，根据用途，入射光有时从相对于面方向垂直的方向以0度(0度入射)到45度(45度入射)入射，因此理想的是在这些角度区域对入射角的依赖性低。
特别是，在利用任意不同的可见光波长的光的传感或摄像等中使用的光学构件中，若入射角依赖性高，则存在如下问题：在光线从所述光学构件的斜向入射时，传感功能中使用的信号噪声比(S/N(SIGNAL/NOISE)比)变差，此外，对画质或图像端部的颜色再现性产生不良影响等问题。因此，期望出现入射角依赖性低，可满足良好的S/N比、画质、颜色再现性等所有方面，并且选择性地提取期望的波长的光的光学构件。
本发明的目的在于提供一种光学构件及使用所述光学构件的传感装置或摄像装置等，所述光学构件具有选择性地使任意不同的可见光波长的光透过的功能，并且入射角依赖性低。
[解决问题的技术手段]
本发明者等人为了实现所述课题进行了深入研究，结果发现，通过在光学构件中具备含有在特定的波长具有极大吸收的吸收剂的吸收层，可解决所述课题，从而完成了本发明。以下示出本发明的形态的例子。
[1]一种光学构件，具有至少一层吸收层，所述吸收层含有在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂以及树脂，所述光学构件中，
吸收层在光的波长380nm～725nm的范围具有至少三个以上的阻止带，
各阻止带的最大透过率为15％以下，最长波长侧的阻止带的宽度为50nm以上，
在各阻止带之间具有透过带，各透过带的最小透过率为30％以上。
[2]根据[1]所述的光学构件，其中所述吸收层还含有一种以上的与吸收剂不同的、在波长380nm～725nm的范围具有吸收波长的吸收剂。
[3]根据[1]或[2]所述的光学构件，其中所述各透过带处于400nm～725nm的范围。
[4]根据[1]至[3]所述的光学构件，其中所述至少三个阻止带分别处于380nm～530nm、455nm～630nm及530nm～725nm的范围，且各阻止带处于不同的波长区域。
[5]根据[1]至[4]所述的光学构件，其中在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂是偶氮甲碱系化合物、偶氮吡啶酮系化合物、吡唑啉酮偶氮系化合物、吲哚系化合物、蒽醌系化合物、香豆素系化合物、二吡咯亚甲基系化合物、三芳基甲烷系化合物、呫吨系化合物、聚次甲基系化合物、部花青系化合物、苯亚甲基系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、克酮鎓系化合物、苝系化合物、二噁嗪系化合物、酞菁系化合物、卟啉系化合物、四氮杂卟啉系化合物、亚酞菁系化合物及它们的金属螯合物中的任一种。
[6]根据[1]至[5]所述的光学构件，其中在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂的任一种是在波长380nm～530nm具有极大吸收的吸收剂(a)、在波长455nm～630nm具有极大吸收的吸收剂(b)、在波长530nm～725nm具有极大吸收的吸收剂(c)。
[7]根据[1]至[6]所述的光学构件，其中波长725nm～1000nm的最大透过率为30％以下。
[8]根据[1]至[7]所述的光学构件，其中树脂包含选自由环状(聚)烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(聚芳酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对亚苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene Naphthalate，PEN)系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂所组成的群组中的至少一种透明树脂。
[9]根据[1]至[8]所述的光学构件，其中所述光学构件是包含吸收层的基材、或者将吸收层与不含吸收剂的其他层层叠而成的层叠基材。
[10]根据[9]所述的光学构件，其中不含吸收剂的其他层由树脂基板或玻璃基板构成，且在树脂基板或玻璃基板的至少一面设置有吸收层。
[11]根据[1]至[10]所述的光学构件，具有电介质多层膜。
[发明的效果]
根据本发明，可提供一种选择性地使任意不同的可见光波长的光透过，且在光线从斜向入射时分光特性的变化也少，即，入射角依赖性低的光学构件。在本发明中，还发挥经由透过带获得的光的选择性更高，噪声更少的效果。
附图说明
图1的(a)是表示对从基材(i)或光学滤波器的垂直方向测定时的透过率进行测定的方法的概略图。图1的(b)是表示对从相对于光学滤波器的垂直方向为45°的角度进行测定时的透过率进行测定的方法的概略图。
图2表示从实施例2中获得的光学构件的垂直方向使光透过时(0°)、及相对于垂直方向以45°的角度使光透过时的透过光的分光透过光谱。
图3表示从实施例9、比较例3中获得的光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱。
图4表示从实施例10、实施例11中获得的光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱。
图5表示从实施例12、实施例13中获得的光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱。
图6表示从实施例16中获得的光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱。
图7表示从比较例1中获得的光学构件的垂直方向使光透过时(0°)、及相对于垂直方向以45°的角度使光透过时的透过光的分光透过光谱。
图8表示从比较例2中获得的光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱。
图9-1～图9-4表示显示本发明的概念的概略图。
[符号的说明]
1：光学构件
2：分光光度计
3：光
具体实施方式
以下，对本发明进行具体地说明。
[光学构件]
本发明的光学构件是具有至少一层吸收层的光学构件，所述吸收层含有在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂以及树脂。
<吸收层>
吸收层在光的波长380nm～725nm的范围具有至少三个以上的阻止带。各阻止带是指最大透过率为15％以下，各阻止频带是指从光学构件的垂直方向测定时的透过率从超过15％变为15％以下的最短波长到透过率从不足15％变为15％以上的最长波长为止的波长频带。另外，在本发明中，最长波长侧的阻止带的宽度为50nm以上。在各阻止带之间具有透过带，各透过带的最小透过率为30％以上。
各透过频带是指从光学构件的垂直方向测定时的透过率从30％以下变为超过30％的最短波长到透过率从超过30％变为30％以下的最长波长为止的波长频带。
具有此种吸收层的本发明的光学构件具有如下特征：选择性地使任意不同的可见光波长的光透过，并且在光线从斜向入射时分光特性的变化也小，即，入射角依赖性低。
将本发明的概略图示于图9-1～图9-4。这是将所述特征应用于后述的实施例的测定结果的概念图。
优选为所述至少三个阻止带分别处于380nm～530nm(称为Za)、455nm～630nm(称为Zb)、及530nm～725nm(称为Zc)的范围，且各阻止带处于不同的波长区域。若处于所述范围，则具有经由各透过带而获得的光的选择性高，噪声少的效果。对于380nm～530nm的阻止带，只要阻止带的一部分处于所述范围即可，即使低于380nm也不会成为特别的问题。另外，对于530nm～725nm的阻止带，只要阻止带的一部分处于所述范围即可，即使超过725nm也不会成为特别的问题。在Za与Zb之间具有透过频带Zd，在Zb与Zc之间具有透过频带Ze。所述各透过带优选为处于400nm～725nm的范围。若各透过带处于所述范围，则经由各透过带而获得的光的选择性更高，噪声更少。
只要在所述范围有阻止带，则阻止带的中心透过波长就并无特别限制。此外，阻止带的中心透过波长是指从光学构件的垂直方向测定时的透过率从超过15％变为15％以下的波长到接着从不足15％变为15％以上的波长为止的波长的中间波长。此外，在由于测定装置的测定界限而未观察到从超过15％变为15％以下的最短波长、或从不足15％变为15％以上的最长波长的情况下，在测定的范围内根据下限值或上限值进行计算。
此外，短波长侧的阻止带的下限、即，阻止带开始的波长为300nm，长波长侧的阻止带的上限、即，阻止带结束的波长设为1100nm。
只要阻止频带及透过频带处于此种范围，则可选择性地高效率地截止不需要的近红外线，可提高传感用近红外线S/N比，并且可进一步降低可见光波长～近红外光波长区域附近的光学特性的入射角依赖性。
阻止带只要是在所述范围内不同的波长区域，则至少有三个即可，也可有四个以上，但若阻止带变多，则光选择性容易变差，因此优选为五个以下。特别是在使用红绿蓝(Red Green Blue，RGB)的三原色系的传感或摄像等用途中，优选为可选择性良好地使用RGB的任意两色或全部的三个或四个。此外，在具有四个阻止带的情况下，在所述波长区域的范围内只要具有四个阻止带即可。
另外，在具有四个阻止带的情况下，有时将位于比所述Zc波长更长的一侧的阻止频带称为Zf，将位于Zc与Zf之间的透过频带称为Zg。
在本发明中，优选为当从垂直方向测定透过率时，最长波长侧的阻止带的宽度为50nm以上，进一步优选为100nm以上，特别优选为200nm以上。
关于最长波长侧的阻止带的宽度，将最大透过率为15％以下的最长波长侧的波长(γ1)与在比其长的波长侧最大透过率超过15％的波长(γ2)之差的绝对值，即|γ1-γ2|称为最长波长侧的阻止带的宽度。此外，在无法检测出γ2的情况下，将在测定的范围内最长波长的波长设为γ2。通过构成为所述值为规定的范围，可将容易混色的作为目标波长区域以外的不需要的光截止，可获得S/N比高的透过率特性。
最长波长侧的阻止带的上限、即，阻止带结束的波长如上所述设为1100nm。
将这些的概略示于图9-1概略图a。
各透过带的半值宽度(半值全宽(Full Width Half Maximum，FWHM))通过计算出各透过带的成为最高透过率的最大透过波长(λmax)的透过率成为一半的最短波长侧的波长的值与最长波长侧的波长的值之差的绝对值而获得。各透过带的FWHM优选为不足100nm，进而优选为不足70nm。由于FWHM窄，因此可以高选择性确保作为目标的光的波长区域。将FWHM的概略示于图9-2概略图b。
本发明的光学构件具有入射角依赖性低的特征。对此进行如下说明。
在光线从斜向入射的情况下，产生在想要选择性地透过的可见光中，对在图像的中央与周边部色调不同的颜色再现性产生不良影响等问题。特别是在传感装置或摄像装置中，入射光有时从相对于面方向垂直的方向以0度(0度入射)到45度(45度入射)入射，因此理想的是在这些角度区域对入射角的依赖性低。如图9-3的概略图c所示，0度入射与45度入射之间的各透过带的最大透过率波长的变化幅度(Δλ)由各透过带的0度入射时的成为最高透过率的最大透过波长(λ0)与45度入射时的成为最高透过率的最大透过波长(λ45)之差的绝对值来计算出，Δλ优选为5nm以下，进而优选为3nm以下。
本发明的光学构件在将最长波长侧的透过带的透过率的累计值设为S时，0度入射的累计值S0与45度入射的累计值S45的比率P值(P＝S45/S0)优选为1/3以上，更优选为2/3以上。
通过满足这些条件，例如在指纹或虹膜、面部的传感用途中可以良好的颜色再现性获得外缘部的信息，因此不易引起误检测等问题。此外，如图9-4的概略图d所示，透过带的透过率的累计值是累计透过带中的最短透过波长与最长透过波长之间的透过率的值。
本发明的光学构件可获得在波长380nm～725nm的范围内，选择性地使任意不同的可见光波长的光透过，且0度入射与45度入射之间的各透过带的最大透过率波长的变化幅度变小，分光特性的入射角依赖性低的光学构件，特别是在用于传感或摄像等用途的情况下，可实现良好的画质或图像端部的颜色再现性。另外，在将所述光学构件特别是用于具有传感功能的照相机模块等用途的情况下，即使使光从斜向入射到所述光学构件，也可同时实现良好的S/N比与画质。
而且，作为实现这些光学特性的方式，在本发明中，通过设置含有在波长380nm～725nm范围的规定范围具有极大吸收的吸收剂的吸收层来实现。
这些光学特性也能够通过在一部分上设置电介质多层膜来实现，但更优选为使用吸收剂来实现。
特别优选为最长波长侧的阻止带仅通过吸收层中所含的吸收剂来实现。优选为通过吸收层中所含的吸收剂，可形成50nm以上、进一步优选为100nm以上、特别优选为200nm以上的最长波长侧的阻止带的宽度。通过利用吸收剂以宽波长区域形成最长波长侧的阻止带，可使P值接近1。如此，仅利用吸收剂就可实现，由此可特别降低入射角依赖性，可获得颜色再现性良好的光学构件。
进而，在本发明中，波长725nm～1000nm的最大透过率优选为30％以下，进一步优选为15％以下。通过截止这些波段的光，可提高颜色再现性。所述光学特性也可通过设置电介质多层膜来实现，但特别优选为仅利用吸收剂来实现。
各透过带的透过率的最大值为30％以上，优选为35％以上，更优选为40％以上。各透过带的透过率的最小值为15％以下，进一步优选为10％以下。若透过频带的最大透过率或阻止频带的最小透过率处于所述范围，则可获得实现高传感性能且噪声少、颜色再现性优异的光学构件。
本发明的光学构件的厚度根据所期望的用途适当选择即可，但就较薄、较轻的光学构件适合于摄像装置等的随身携带或移动的方面而言，优选为本发明的光学构件的厚度也较薄。本发明的光学构件能够实现薄型化。
本发明的光学构件的厚度可根据所期望的用途适当选择，并无特别限制，例如优选为1100μm以下，更优选为500μm以下，进一步优选为1μm～250μm，特别优选为3μm～150μm。若厚度处于所述范围，则光学构件可变薄且轻量化而不会破裂等。
(光学构件的构成)
本发明的光学构件只要具有至少一层含有在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂以及树脂的吸收层，则其构成并无特别限制。
光学构件可为包括含有吸收剂的吸收层的基材(称为基材(i))、或者将所述吸收层与不含吸收剂的其他层层叠的层叠基材(基材(ii))。另外，在基材(i)上进一步形成有其他吸收层的层叠基材也包含在本发明的形态中。
作为基材(ii)的例子，可列举在玻璃上层叠有吸收层的基材、在吸收层上层叠有不含吸收剂的包含硬化性树脂的外涂层等树脂层的基材等。通过层叠不含吸收剂的其他树脂层，可消除基材的损伤或提高光学构件的耐损伤性。
以下，将含有吸收剂以及树脂的基材也称为“吸收层”，另外，将不含吸收剂而包含树脂的层简称为“树脂层”。
作为基材的基础的材料为所述基材(i)及基材(ii)的情况下的任一情况下，并无特别限制，可使用基材的总光线透过率(日本工业标准(Japanese Industrial Standards，JIS)K7375)优选为75％以上，进一步优选为78％以上，特别优选为80％以上的材料。若使用此种范围的材料，则所获得的基材作为光学膜显示出良好的透明性。作为此种例子，可列举树脂等有机材料或玻璃或结晶材料等无机材料。进而，就轻量且不易破裂的方面而言，特别优选为全部由树脂构成的基材。
若使用此种范围的材料，则所获得的基材作为光学膜显示出良好的透明性。
<吸收剂>
本发明中，在吸收层中含有在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂(以下称为吸收剂(A))。此外，吸收剂(A)优选为溶剂可溶型的色素化合物。本说明书中的吸收剂的极大吸收波长是在二氯甲烷中溶解化合物后，使用分光光度计对所获得的溶液进行测定。
作为吸收剂(A)，只要极大吸收波长存在于380nm～725nm的范围，则无机化合物或有机化合物都均无特别限制，例如可使用包含作为染料或色素使用的各种已知物质的化合物。作为这些化合物，例如可列举选自偶氮系化合物、偶氮甲碱系化合物、偶氮吡啶酮系化合物、吡唑啉酮偶氮系化合物、吲哚系化合物、蒽醌系化合物、喹酞酮系化合物、香豆素系化合物、二吡咯亚甲基系化合物、吡咯并吡咯系化合物、二酮基吡咯并吡咯系化合物、二苯基甲烷系化合物、三芳基甲烷系化合物、呫吨系化合物、吖啶系化合物、聚次甲基系化合物、氧杂菁系化合物、部花青系化合物、亚芳基系化合物、苯亚甲基系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、克酮鎓系化合物、苝系化合物、二噁嗪系化合物、酞菁系化合物、卟啉系化合物、四氮杂卟啉系化合物、亚酞菁系化合物及它们的金属螯合物中的至少一种。此外，聚次甲基系化合物是除氧杂菁系化合物、部花青系化合物、亚芳基系化合物、苯亚甲基系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、克酮鎓系化合物以外的聚次甲基系化合物，酞菁系化合物是除卟啉系化合物、四氮杂卟啉系化合物以外的酞菁系化合物。
这些中，优选为选自偶氮甲碱系化合物、偶氮吡啶酮系化合物、吡唑啉酮偶氮系化合物、吲哚系化合物、蒽醌系化合物、香豆素系化合物、二吡咯亚甲基系化合物、三芳基甲烷系化合物、呫吨系化合物、聚次甲基系化合物、部花青系化合物、苯亚甲基系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、克酮鎓系化合物、苝系化合物、二噁嗪系化合物、酞菁系化合物、卟啉系化合物、四氮杂卟啉系化合物、亚酞菁系化合物及它们的金属螯合物中的至少一种，进而优选为选自偶氮甲碱系化合物、偶氮吡啶酮系化合物、吡唑啉酮偶氮系化合物、吲哚系化合物、香豆素系化合物、二吡咯亚甲基系化合物、三芳基甲烷系化合物、呫吨系化合物、聚次甲基系化合物、部花青系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、克酮鎓系化合物、酞菁系化合物、卟啉系化合物、四氮杂卟啉系化合物、亚酞菁系化合物及它们的金属螯合物中的至少一种。
关于具体的吸收剂的结构，例如在《新版染料便览》(有机合成化学协会编；丸善，1970)、《色素手册》(大河原他编；讲谈社，1986)等中有记载。
相对于吸收层中所含的树脂100质量份，吸收剂(A)的含量优选为0.0001质量份～5.0质量份，更优选为0.001质量份～3.0质量份，特别优选为0.001质量份～1.0质量份。若吸收剂(A)的含量处于所述范围内，则可获得兼具良好的可见光透过特性与入射角依赖性的光学构件。
在本发明中，优选还含有与吸收剂(A)不同的、在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂(B)。进而，进一步优选为含有与吸收剂(A)及吸收剂(B)不同的、在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂(C)。作为吸收剂(B)或吸收剂(C)，可列举与吸收剂(A)同样的化合物。吸收剂(A)～吸收剂(C)只要是分别不同的化合物，则也能够选自同系化合物。通过包含这些吸收剂(B)或吸收剂(C)，可获得兼具更良好的可见光透过特性与入射角依赖性的光学构件。
相对于吸收层中所含的树脂100质量份，吸收剂(B)或吸收剂(C)的含量优选为0.0001质量份～5.0质量份，更优选为0.001质量份～3.0质量份，特别优选为0.001质量份～1.0质量份。若吸收剂(B)或吸收剂(C)的含量处于所述范围内，则可获得兼具更良好的可见光透过特性与入射角依赖性的光学构件。
优选为吸收剂(A)、吸收剂(B)、及吸收剂(C)中的任一种是在波长380nm～530nm具有极大吸收的吸收剂(a)、在波长455nm～630nm具有极大吸收的吸收剂(b)、在波长530nm～725nm具有极大吸收的吸收剂(c)，通过组合具有此种吸收特性的吸收剂，可获得具有选择性地使任意不同的可见光波长的光透过的功能，且入射角依赖性低的光学构件。
进而，在本发明中，波长725nm～1000nm的最大透过率优选为30％以下，进而优选为15％以下。通过减少波长725nm～1000nm范围的透过光，可扩大最长波长侧的阻止带的宽度，因此可减少与作为目标的波长以外的光的混色。若为所述目的，则理想的是在吸收层中含有以下那样的吸收剂(D)。
作为所述吸收剂(D)，只要是即使波长725nm～1000nm范围的透过光的一部分也可吸收的化合物，则并无特别限定，例如只要是在波长700nm～1100nm的范围具有极大吸收的化合物即可，具体而言，可列举吡咯并吡咯系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、夸特锐烯(quaterrylene)系化合物、克酮鎓系化合物、聚次甲基系化合物、氧杂菁系化合物、部花青系化合物、二亚铵系化合物、二硫醇系化合物、三芳基甲烷系化合物、吡咯亚甲基系化合物、偶氮甲碱系化合物及蒽醌系化合物。这些中，优选为包含吡咯并吡咯系化合物、聚次甲基系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、夸特锐烯系化合物、二亚铵系化合物中的任一种，进而优选为包含聚次甲基系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、二亚铵系化合物中的任一种。吸收剂(D)也能够选自与吸收剂(A)～吸收剂(C)为同系的化合物。
相对于吸收层中所含的树脂100质量份，吸收剂(D)的含量优选为0.001质量份～10.0质量份，更优选为0.01质量份～5.0质量份，特别优选为0.05质量份～1.0质量份。若吸收剂(D)的含量处于所述范围内，则可获得完全满足良好的近红外线吸收、透过特性、高可见光透过率、及作为目标的波长光选择性的光学滤波器。
<其他吸收剂(E)>
在所述吸收剂层中，还可含有不相当于所述吸收剂(A)～吸收剂(D)的其他吸收剂(E)。
作为其他吸收剂(E)，只要是吸收剂(A)～吸收剂(D)以外的吸收剂，且极大吸收波长为300nm～1200nm的吸收剂，则并无特别限制，例如可列举选自由偶氮系化合物、偶氮甲碱系化合物、偶氮吡啶酮系化合物、吡唑啉酮偶氮系化合物、吲哚系化合物、蒽醌系化合物、喹酞酮系化合物、香豆素系化合物、二吡咯亚甲基系化合物、吡咯并吡咯系化合物、二酮基吡咯并吡咯系化合物、二苯基甲烷系化合物、三芳基甲烷系化合物、呫吨系化合物、吖啶系化合物、聚次甲基系化合物、氧杂菁系化合物、部花青系化合物、亚芳基系化合物、苯亚甲基系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、夸特锐烯系化合物、克酮鎓系化合物、苝系化合物、二噁嗪系化合物、酞菁系化合物、卟啉系化合物、四氮杂卟啉系化合物、亚酞菁系化合物、二亚铵系化合物，二硫醇系化合物及它们的金属螯合物所组成的群组中的至少一种吸收剂。根据吸收剂(A)～吸收剂(D)的吸收特性或作为目标透过波长，将吸收剂(A)～吸收剂(D)与其他吸收剂(E)并用，由此可高选择性地仅提取作为目标的任意波长区域，可实现良好的传感性能。
相对于吸收层中所含的树脂100质量份，其他吸收剂(E)的含量优选为0.0001质量份～5.0质量份，更优选为0.001质量份～3.0质量份，特别优选为0.001质量份～1.0质量份。若吸收剂(E)的含量处于所述范围内，则可进一步提高提取的波长的选择性。
<组合>
本发明中组合使用多种吸收剂(A)～吸收剂(C)，其组合并无特别限定。
其中，作为优选的组合，就兼具耐热性与急剧的吸收特性的方面而言，可列举以下的组合。
(1)组合吲哚系化合物与方酸内鎓系化合物的形态
(2)包含吲哚系化合物、方酸内鎓系化合物、以及聚次甲基系化合物的形态
(3)包含吲哚系化合物、方酸内鎓系化合物、聚次甲基系化合物、以及偶氮吡啶酮系化合物的形态
(4)包含吲哚系化合物、方酸内鎓系化合物、聚次甲基系化合物、偶氮吡啶酮系化合物、以及花青系化合物的形态
另外，也可与上述组合而包含吸收剂(D)。特别是，通过并用选自聚次甲基系化合物、花青系化合物、及二亚铵系化合物中的吸收剂(D)，可在保持耐热性的同时，广泛地截止不需要的近红外光。
在使用多种吸收剂的情况下，可均包含在单一的吸收层，另外，也可在多个吸收层中分别包含吸收剂。例如，吸收剂(A)与吸收剂(B)、吸收剂(C)、吸收剂(D)等均可包含在同一吸收层中，也可将包含吸收剂(A)的吸收层与包含吸收剂(B)、吸收剂(C)、吸收剂(D)等的吸收层层叠。所有的吸收剂包含在同一吸收层中时，更容易控制含量比率。此外，在设置多个吸收层的情况下，所述质量份成为各层中的质量基准。
<树脂>
作为树脂，只要不损害本发明的效果，则并无特别限制，例如为了制成确保热稳定性或在膜上的成型性、且可通过在100℃以上的蒸镀温度下进行的高温蒸镀而形成电介质多层膜的基材，可列举：玻璃化温度(Tg)优选为110℃～380℃、更优选为130℃～360℃的树脂。另外，若所述树脂的玻璃化温度为140℃以上，例如也能够在更高的温度下蒸镀形成电介质多层膜。
作为所述树脂，在使用溶剂可溶性树脂的情况下，所述透明树脂的利用凝胶渗透色谱(Gel Permeation Chromatography，GPC)法测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)通常为15,000～350,000，优选为30,000～250,000，数量平均分子量(Mn)通常为10,000～150,000，优选为20,000～100,000。
这些树脂在基材(i)中与吸收剂一起构成吸收层，但在层叠基材(ii)的情况下，也可以作为不含吸收剂的层的构成材料而包含。作为所述树脂，优选为包含选自由环状(聚)烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(聚芳酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对亚苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate，PEN)系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂所组成的群组中的至少一种透明树脂。进而，就透明性、以及耐热性的观点而言，特别优选为环状(聚)烯烃系树脂或聚碳酸酯系树脂。
作为树脂，可使用以下市售品等。作为环状(聚)烯烃树脂的市售品，例如可列举：日本合成橡胶(Japan Synthetic Rubber，JSR)(股)制造的阿通(ARTON)、日本瑞翁(Zeon)(股)制造的瑞翁诺阿(ZEONOR)、三井化学(股)制造的阿派尔(APEL)、宝理塑料(Polyplastics)(股)制造的托帕斯(TOPAS)。作为聚酰亚胺系树脂的市售品，例如可列举三菱瓦斯化学(Mitsubishi Gas Chemical)(股)制造的内奥普利姆(Neopulim)L或C3450、C3630等。作为芴聚酯系树脂的市售品，例如可列举大阪瓦斯化学(Osaka Gas Chemicals)(股)制造的OKP4HT或OKP850等。作为聚碳酸酯系树脂的市售品，例如可列举帝人(股)制造的潘来特(Panlite)K-1300Y或SP3810、三菱瓦斯化学(股)制造的优比泽塔(Iupizeta)(注册商标)PCZ-500或FPC-0220、EP5000等。作为聚芳酯系树脂的市售品，例如可列举尤尼吉可(Unitika)(股)制造的U-100等。作为聚醚砜系树脂的市售品，例如可列举住友化学(股)制造的苏米卡艾克赛尔(Sumika Excel)PES4800等。作为(改性)丙烯酸系树脂的市售品，例如可列举(股)日本催化剂制造的亚克力瓦(Acryviewa)或大坂瓦斯化学(股)制造的奥古索尔(OGSOL)EA-F5003等。
<不含吸收剂的其他层>
本发明的光学构件是由包括含有吸收剂以及树脂的吸收层的基材(i)，或者将所述吸收层与不含吸收剂的其他层层叠的层叠基材(ii)。作为不含吸收剂的其他层，使用由树脂或玻璃材料构成的层，通常优选使用树脂基板或玻璃基板。在本发明中，优选为在树脂基板或玻璃基板的至少一面设置吸收层。
作为构成树脂基板的树脂，可例示所述树脂材料。作为构成玻璃基板的玻璃材料，只要不损害本发明的效果，则并无特别限制，可列举钠钙玻璃、白板玻璃等硅酸盐玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃、石英玻璃、氟磷酸盐系玻璃、磷酸盐系玻璃等。再者，磷酸盐玻璃也包括玻璃骨架的一部分由SiO2构成的硅磷酸盐玻璃。另外，也包括在氟磷酸盐系玻璃或磷酸盐系玻璃等中添加了CuO等的吸收型玻璃(近红外线吸收玻璃基材)。
作为市售品的这些玻璃，例如可列举AGC(股)制造的AN100、NF-50、NF-50E、NF-50EX、NF-50T、NF-50TX、SW-3、SW-Y、SW-YY、EN-A1、FP1、FP01eco，肖特(SCHOTT AG)制造的AF33、腾帕斯(TEMPAX)(注册商标)系列、BG-60、BG-61、D263 T eco、D270，豪雅(HOYA)(股)制造的CXD700、CD700、CD5000、C5000、HA5，日本电气硝子(股)制造的500EXL、BDA、BDA-E、ABC-G、OA-10G，松浪硝子工业(股)制造的BS-7、BS-11等。
本发明的光学构件根据需要，为了提高与吸收层的接着性，也可在树脂基板或玻璃基板上设置接着层。接着层只要由接着剂或粘着剂形成即可，优选为折射率接近基板与吸收层的接着层。作为接着层的折射率的调整方法，并无特别限制，例如可使用日本专利特开平11-223712号公报中记载的方法。
作为构成接着层的组合物，例如可列举：丙烯酸酯系组合物、氨基甲酸酯系组合物、环氧系组合物、聚酯系组合物、硅酮系组合物、聚烯烃系组合物、改性聚烯烃系组合物、亚乙基乙烯醇系组合物、氯乙烯系组合物、氯丁橡胶系组合物、氰基丙烯酸酯系组合物、聚酰胺系组合物、聚酰亚胺系组合物、聚苯乙烯系组合物、聚乙烯醇缩丁醛系组合物。这些可单独使用，也可混合两种以上使用。这些中，基于耐水性、耐热性、耐光性等的可靠性优异，接着力、透明性好等理由，特别优选为丙烯酸酯系组合物。
就硬化方式的观点而言，接着层有热熔型、热硬化型、光硬化型、反应硬化型、不需要固化的感压接着型，但就操作特别简便且容易处理的方面而言，优选为热硬化型。
作为将接着层层叠的方法，并无特别限制，可列举利用喷雾法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、狭缝模涂布法(狭缝涂布法)、棒涂布法等涂布后，利用加热或紫外线照射、加压等进行硬化的方法。
在本发明的光学构件中，为了提高表面硬度、提高耐药品性、防止带电及消除损伤等，可在吸收层的表面适当设置外涂层、硬涂膜或防反射膜、抗静电膜、密接辅助膜、应力调整膜、导电膜等功能膜作为不含吸收剂的其他层。
本发明的光学构件可包含一层含有所述功能膜的层，也可包含两层以上。在本发明的光学构件包含两层以上的含有所述功能膜的层的情况下，可包含两层以上同样的层，也可包含两层以上不同的层。
所述功能膜的厚度优选为0.1μm～20μm，进而优选为0.5μm～10μm，特别优选为0.7μm～5μm。
另外，为了提高基材与功能膜的密接性，也可对基材或功能膜的表面进行电晕处理或等离子体处理等表面处理。
<其他成分>
在不损害本发明的效果的范围内，光学构件可含有抗氧化剂、吸收剂(A)～吸收剂(C)以外的近紫外线吸收剂、密接促进剂、荧光消光剂及金属络合物系化合物等添加剂。这些可包含在吸收层中，也可包含在不含吸收剂的其他层中。进而，在通过铸造成形等制造光学构件的情况下，为了使构件的制造变得容易，可添加流平剂或消泡剂。这些其他成分可单独使用一种，也可并用两种以上。
作为所述抗氧化剂，例如可列举：酚系化合物(受阻酚化合物等)、(亚)磷酸系化合物(亚磷酸酯系化合物等)、硫醚系化合物等。作为酚系化合物，例如可列举：2，6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、2，2′-二氧基-3，3′-二-叔丁基-5，5′-二甲基二苯基甲烷、及四[亚甲基-3-(3，5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷等。作为磷系化合物，例如可列举：三[2-[[2，4，8，10-四(1，1-二甲基乙基)二苯并[d，f][1，3，2]二氧杂磷环庚烷-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4，6，9，11-四-叔丁基二苯并[d，f][1，3，2]二氧杂磷环庚烷-2-基)氧基]乙基]胺、亚磷酸乙基双(2，4-二-叔丁基-6-甲基苯基)酯等。
作为抗氧化剂的市售品，例如可列举(股)艾迪科(ADEKA)制造的艾迪科斯塔波(Adekastab)系列或巴斯夫(BASF)SE制造的易加乐斯(IRGANOX)系列、住友化学(股)制造的苏米莱泽(Sumilizer)系列等。
作为所述近紫外线吸收剂，可使用任何可表现出紫外线吸收性的以往已知的近紫外线吸收剂，例如可列举：偶氮甲碱系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物等。就获得紫外线吸收能(紫外线截止能)的观点而言，优选为使用此种紫外线吸收剂中的苯并三唑系或羟基苯基三嗪系的紫外线吸收剂。另外，为了扩大紫外线的吸收幅度，可并用两种以上的极大吸收波长不同的紫外线吸收剂。作为市售品，可列举：巴斯夫(BASF)SE制造的帝奴彬(Tinuvin)400、帝奴彬(Tinuvin)405、帝奴彬(Tinuvin)460、帝奴彬(Tinuvin)477、帝奴彬(Tinuvin)479及帝奴彬(Tinuvin)1577等。
作为所述密接促进剂，可列举：乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷等。通过包含密接促进剂，可提高层之间的密接性。
此外，这些添加剂在制造基材(i)或基材(ii)时，可与吸收剂及树脂等一起混合，也可在对树脂进行合成时添加。另外，添加量根据所期望的特性适当选择，相对于树脂100质量份，通常为0.01质量份～5.0质量份，优选为0.01质量份～2.0质量份。
<光学构件的制造方法>
在光学构件是包括含有所述吸收剂以及树脂等的吸收层的基材(i)的情况下，
所述基材(i)例如可藉由如下方法等来制造：
将吸收剂、树脂以及根据需要使用的其他成分混合，将所获得的树脂组合物涂布在适当的支撑体上并除去溶剂的方法；或者
树脂为光硬化性树脂和/或热硬化性树脂时，以及将硬化性树脂组合物涂布在适当的支撑体上后，利用紫外线照射或加热等适当的方法使其硬化的方法等。
此外，在包含溶剂的情况下，可在将光学构件成形后进行干燥而除去溶媒，在熔融成形的情况下，可在暂时制作料粒后成形为规定的形状。
作为熔融成形方法，具体而言可列举射出成形、熔融挤出成形、吹塑成形或浇铸成形。
在吸收层包含多层的情况下，只要通过反复进行同样的成形来层叠吸收层即可。
在所述光学构件是在玻璃基板或树脂基板等透明基板的至少一个面上层叠有吸收层的层叠基材(ii)的情况下，例如，可在利用熔融成形或浇铸成形、或者喷雾法、喷墨法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、狭缝模涂布法(狭缝涂布法)、棒涂布法等将包含吸收剂的树脂组合物涂布在玻璃基板或树脂基板的表面上之后，通过热或紫外线照射等进行硬化处理，由此形成吸收层，从而制造层叠基材(ii)。
对于所述基材(i)或基材(ii)，也可根据需要在透明基板上设置接着层，以提高与吸收层的接着性。另外，作为制造所述基材(i)或基材(ii)时使用的溶剂，只要是树脂溶解的溶剂，则并无特别限制，优选为挥发性的溶剂。进而可添加抗氧化剂、近紫外线吸收剂、密接促进剂、荧光消光剂、流平剂、消泡剂及金属络合物系化合物等。这些添加剂可单独使用一种，也可并用两种以上。
利用所述方法获得的吸收层中的残留溶剂量宜尽可能少。具体而言，相对于吸收层的重量，所述残留溶剂量优选为3重量％以下，更优选为1重量％以下，进而优选为0.5重量％以下。若残留溶剂量处于所述范围内，则可获得变形或特性不易变化，可容易地发挥所期望的功能的吸收层。
[电介质多层膜]
也可在本发明的光学构件设置电介质多层膜。电介质多层膜是通过干涉作用将不需要的波长的光截止并且使需要的光透过，由此可对分光特性进行调整的膜。在本发明中，电介质多层膜可设置于基材的一面，也可设置于两面。在设置于一面的情况下，制造成本或制造容易性优异，在设置于两面的情况下，可获得具有高强度，不易产生翘曲的光学构件。在本发明中，就可保持对入射角的低依赖性，同时确保光的选择性的方面而言，电介质多层膜特别优选为防反射膜。
本发明的光学构件的翘曲越小越优选，因此优选为将电介质多层膜设置于基材(i)、层叠基材(ii)的两面，设置于两面的电介质多层膜的层结构可相同也可不同。
作为电介质多层膜，可列举使高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠而成者。作为构成高折射率材料层的材料，可使用折射率为1.7以上的材料，选择折射率通常为1.7～2.5的材料。作为此种材料，例如可列举：将氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化钇、氧化锌、硫化锌或氧化铟等作为主成分，并含有少量(例如相对于主成分而为0重量％～10重量％)的氧化钛、氧化锡和/或氧化铈等者。
作为构成低折射率材料层的材料，可使用折射率为1.6以下的材料，选择折射率通常为1.2～1.6的材料。作为此种材料，例如可列举：二氧化硅、氧化铝、氟化镧、氟化镁及六氟化铝钠。
关于将高折射率材料层与低折射率材料层层叠的方法，只要形成将这些材料层层叠的电介质多层膜，则并无特别限制。例如可在基材上利用化学气相沉积(Chemical VaporDeposition，CVD)法、原子层堆积法、溅镀法、真空蒸镀法、离子辅助蒸镀法或离子镀敷法等，直接形成将高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠的电介质多层膜。
高折射率材料层及低折射率材料层的各层的物理膜厚也取决于各层的折射率，通常优选为5nm～300nm，电介质多层膜的物理膜厚的合计值以光学构件整体计优选为0.5μm～8.0μm。
电介质多层膜中的高折射率材料层与低折射率材料层的合计积层数以光学构件整体计优选为10层～70层，更优选为10层～50层。若各层的厚度、以光学构件整体计的电介质多层膜的厚度或合计的层叠数处于所述范围，则可确保充分的制造余裕(margin)，而且可减少光学构件的翘曲或电介质多层膜的龟裂。
本发明中，通过恰当地选择构成高折射率材料层及低折射率材料层的材料种类、高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度、层叠的顺序、层叠数，可获得具有所期望的可见光波长的光线阻止频带或光线透过频带的光学构件。
[其他功能膜]
进而，本发明的光学构件在不损害本发明的效果的范围内，与不含所述吸收剂的其他层同样地，以提高基材或电介质多层膜的表面硬度、提高耐药品性、抗静电及消除损伤等为目的，在电介质多层膜上可适当设置硬涂膜或抗静电膜等功能膜。
[光学构件的用途]
本发明的光学构件选择性地提取任意不同的可见光波长，并且入射角依赖性低。因此，对具有传感功能或照相机功能的电荷耦合器件(Charge Coupled Device，CCD)或互补金属氧化物半导体(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor，CMOS)图像传感器等固体摄像元件的应用是有用的。特别有效用于：光彩认证系统、面部认证系统、指纹认证系统、脉搏氧饱和度仪、数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、数字摄影机、可穿戴装置(wearable device)用照相机、个人计算机(Personal Computer，PC)照相机、监视照相机、汽车用照相机、夜视照相机、动作捕捉、激光距离计、虚拟(virtual)试穿、号牌(number plate)识别装置、电视机、汽车导航(car navigation)、液晶投影仪、个人数字助理、视频游戏机、掌上型游戏机、数字音乐播放器等。
[实施例]
以下，基于实施例来更具体地说明本发明，但本发明并不受这些实施例的任何限定。此外，以下只要无特别说明，则“份”是指“质量份”。另外，各物性值的测定方法及物性的评价方法如以下那样。
<分子量>
化合物的分子量使用日本沃特世(WATERS)股份有限公司制造的质量分析仪(阿奎提(ACQUITY)超高效液相色谱仪(Ultra Performance Liquid Chromatography，UPLC)以及斯奈普特(SYNAPT)高分辨率质谱仪(High Definition Mass Spectrometer，HDMS))进行测定。
<分光透过率>
光学构件的各波长区域中的透过率是使用日立高新技术(Hitachi High-Technologies)(股)制造的分光光度计(U-4100)，针对300nm～1100nm的范围来测定。因此，在成为阻止带或透过带的阈值的波长处于测定范围外的情况下，各光学特性通过使用300nm或1100nm作为阈值而算出，记载为小于所述阈值或为所述阈值以上。
此处，从光学构件的垂直方向进行测定时的透过率如图1的(a)所示那样，测定相对于光学构件垂直(AOI＝0°)地透过的光。另外，在相对于光学构件的垂直方向而自45°的角度(AOI＝45°)测定的情况下的透过率中，如图1的(b)所示那样，测定相对于光学构件的垂直方向而以45°的角度透过的光。
最长波长侧的阻止带的宽度是在测定范围内计算出透过率低于15％的区域的宽度而得的值。此外，在下一个透过率超过15％的波长比1100nm长的情况下，算出直至1100nm为止的宽度，记载为其以上。
另外，各透过带的半值宽度(FWHM)是算出各透过带的表示最高透过率的半值以上的透过率的区域的宽度而得的值。
另外，最大透过波长的变化幅度(Δλ)由0°入射与45°入射之间的各透过带的最大透过波长的变化幅度来算出。
0度入射与45度入射之间的最长波长侧的透过带的透过率的累计值的变化的比例(P)根据P＝S45/S0，由0度入射的各透过带的最短透过波长和最长透过波长之间的透过率的累计值S0与45度入射的各透过带的最短透过波长和最长透过波长之间的透过率的累计值S45来算出。所述P值为5/6以上的情况设为◎，2/3以上至不足5/6的情况设为○，1/3以上至不足2/3的情况设为Δ，不足1/3的情况设为×。
<S/N比>
利用WO2017-098758号公报记载的方法制作指纹认证传感器器件，在受光元件上设置各实施例、比较例中制作的光学构件。在室外晴天的白昼(照度约10万勒克斯)的条件下，根据所获得的器件的传感感度特性，如下所述那样判定S/N比。
○：能够以良好的S/N比实施测定，指纹传感感度没有问题。
×：由于噪声频繁发生，S/N比变差，在指纹传感中发生误动作。
[试样]
·吸收剂
下述实施例中使用的吸收剂(X-1)～吸收剂(X-16)以市售品的形式获取，或者利用一般已知的方法来合成。作为一般的方法，例如可列举《染料与颜料(Dyes Pigm.)》2014，104，160-168、《染料与颜料(Dyes Pigm.)》2014，105，238-249、《利比希化学纪事(JustusLiebigs Annalen der Chemie)》1966，699，153-167、《四面体(Tetrahedron)》2004，60，8913-8918、《杂环化合物化学(Khimiya Geterotsiklicheskikh Soedinenii)》1992，3，339-344、日本专利第6655449号、日本专利第5941844号等中记载的方法。
<化合物合成例1>
就作为方酸内鎓系化合物的吸收剂(X-2)而言，参考《利比希化学纪事(JustusLiebigs Annalen der Chemie)》1966，699，153-167中记载的方法来合成2，4-双(4-乙基-3，5-二甲基-1H-2-吡咯基)方酸。
分子量分析：324.19(M+：计算值324.18)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：564nm
<化合物合成例2>
就作为方酸内鎓系化合物的吸收剂(X-4)而言，参考日本专利第6655449号中记载的方法来合成2，4-双(1-异丙基-2，3，3-三甲基-6-(2，2，3，3，3-五氟丙烷酰胺)-5-二氢吲哚)方酸。
分子量分析：806.28(M+：计算值806.29)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：712nm
<化合物合成例3>
就作为聚次甲基系化合物的吸收剂(X-5)而言，参考《杂环化合物化学(KhimiyaGeterotsiklicheskikh Soedinenii)》1982，9，1173-1177中记载的方法，以过氯酸盐的形式获得2-苯基-4-((1E，3E)-5-((E)-2-苯基-4H-色烯-4-亚基)戊-1，3-二烯-1-基)苯并吡喃鎓四(全氟苯基)硼酸盐后，进行阴离子交换，从而合成。
分子量分析：477.18(M-B(C6F5)4：计算值477.18)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：830nm
<化合物合成例4>
就作为聚次甲基系化合物的吸收剂(X-6)而言，除了使用7-(二甲基氨基)-4-甲基-2-苯基苯并吡喃鎓过氯酸盐代替2-(叔丁基)-6-异丙基-4-甲基苯并吡喃鎓过氯酸盐以外，参考《德国应用化学(Angew.Chem.Int.Ed.)》2017，56，13126-13129中记载的方法，以过氯酸盐的形式获得2-(叔丁基)-4-((E)-2-((E)-3-(2-((E)-2-(叔丁基)-6-异丙基-4H-色烯-4-亚基)亚乙基)-2-氯环己烷-1-烯-1-基)乙烯基)-6-异丙基苯并吡喃鎓四(全氟苯基)硼酸盐后，进行阴离子交换来合成。此外，2-(叔丁基)-6-异丙基-4-甲基苯并吡喃鎓过氯酸盐参考《杂环化合物化学(Khimiya Geterotsiklicheskikh Soedinenii)》1992，3，339-344进行，从而合成。
分子量分析：621.36(M-B(C6F5)4：计算值621.35)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：936nm
<化合物合成例5>
就作为花青系化合物的吸收剂(X-7)而言，参考日本专利第5941844号中记载的方法，以过氯酸盐的形式获得1-丁基-2-((E)-2-((E)-3-((E)-2-(1-丁基苯并{cd}吲哚-2(1H)亚基)亚乙基)-2-(二苯基氨基)环戊-1-烯-1-基)乙烯基)苯并{cd}吲哚-1-鎓四(全氟苯基)硼酸盐后，进行阴离子交换，从而合成。
分子量分析：702.39(M-B(C6F5)4：计算值702.38)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：1023nm
<化合物合成例6>
就作为聚次甲基系化合物的吸收剂(X-8)而言，参考《杂环化合物化学(KhimiyaGeterotsiklicheskikh Soedinenii)》1992，3，339-344中记载的方法，以过氯酸盐的形式获得2-(叔丁基)-4-((1E，3E)-5-((E)-2-(叔丁基)-4H-色烯-4-亚基)戊-1，3-二烯-1-基)苯并吡喃鎓四(全氟苯基)硼酸盐后，进行阴离子交换，从而合成。
分子量分析：437.26(M-B(C6F5)4：计算值437.25)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：773nm
<化合物合成例7>
就作为偶氮吡啶酮系化合物的吸收剂(X-10)而言，参考《染料与颜料(DyesPigm.)》2014，104，160-168中记载的方法合成(E)-1-乙基-6-羟基-5-((4-甲氧基苯基)二氮烯基)-4-甲基-2-氧代-1，2-二氢吡啶-3-腈。
分子量分析：312.11(M+：计算值312.12)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：389nm
<化合物合成例8>
就作为方酸内鎓系化合物的吸收剂(X-11)而言，参考日本专利第6655449号中记载的方法合成2，4-双(4-(二丁基氨基)-2-(2，2，2-三氟乙酰胺)苯基)方酸。
分子量分析：710.35(M+：计算值710.33)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：687nm
<化合物合成例9>
就作为花青系化合物的吸收剂(X-13)而言，参考《染料与颜料(Dyes Pigm.)》2014，105，238-249中记载的方法，以溴化物盐的形式获得2-((1E，3Z)-3-(3-丁基苯并{d}噁唑-2(3H)-亚基)丙-1-烯-1-基)-1，3，3-三甲基-3H-吲哚-1-鎓四(全氟苯基)硼酸盐后，进行阴离子交换，从而合成。
分子量分析：373.21(M-B(C6F5)4：计算值373.23)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：516nm
<化合物合成例10>
就作为方酸内鎓系化合物的吸收剂(X-14)而言，参考《四面体(Tetrahedron)》2004，60，8913-8918中记载的方法合成2，4-双(5-苯基-1H-2-吡咯基)方酸。
分子量分析：364.12(M+：计算值364.12)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：621nm
<化合物合成例11>
就作为聚次甲基系化合物的吸收剂(X-16)而言，除了使用1-丁基-2-甲基苯并[cd]吲哚过氯酸盐代替2-(叔丁基)-4-甲基苯并吡喃鎓过氯酸盐以外，参考日本专利第5941844号中记载的方法，以过氯酸盐的形式获得2-(叔丁基)-4-((E)-2-((E)-3-(2-((E)-2-(叔丁基)-4H-色烯-4-亚基)亚乙基)-2-(二苯基氨基)环戊-1-烯-1-基)乙烯基)苯并吡喃鎓四(全氟苯基)硼酸盐后，进行阴离子交换，从而合成。此外，2-(叔丁基)-4-甲基苯并吡喃鎓过氯酸盐参考《杂环化合物化学(Khimiya Geterotsiklicheskikh Soedinenii)》1992，3，339-344进行合成。
分子量分析：656.37(M-B(C6F5)4：计算值656.35)
二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：870nm
作为吸收剂(X-1)，使用吲哚系化合物博纳思博(BONASORB)UA-3912(奥伦德(Orient)化学工业股份有限公司制造)；作为吸收剂(X-3)，使用NK-8861(林原股份有限公司制造)；作为吸收剂(X-9)，使用博纳思博(BONASORB)UA-3911(奥伦德(Orient)化学工业股份有限公司制造)；作为吸收剂(X-12)，使用物CIR-RL(日本卡莱特(Carlit)股份有限公司制造)；作为吸收剂(X-15)，使用YRC-18(山田化学工业股份有限公司制造)。
吸收剂(X-1)在二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：384nm
吸收剂(X-3)在二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：596nm
吸收剂(X-9)在二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：392nm
吸收剂(X-12)在二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：1095nm
吸收剂(X-15)在二氯甲烷溶液中的极大吸收波长：492nm
[实施例1]
如下所述，制作包括含有吸收剂的吸收层的基板作为光学构件。
在容器中，使用按照日本专利特开2011-100084号公报的合成例1制作的包含8-甲基-8-甲氧基羰基四环[4.4.0.12，5.17，10]十二-3-烯与1-己烯的开环聚合物的氢化物的环状聚烯烃树脂(树脂(R-1)，数量平均分子量(Mn)：32,000，重量平均分子量(Mw)：137,000，玻璃化温度(Tg)：165℃)100份、作为吸收剂的吸收剂(X-1)0.3份、吸收剂(X-2)0.08份、吸收剂(X-3)0.08份、吸收剂(X-4)0.001份、吸收剂(X-5)0.4份、吸收剂(X-6)0.25份及吸收剂(X-7)0.12份(统称为吸收剂(X-A))，并添加二氯甲烷，以获得树脂浓度20质量％的溶液。其次，将所获得的溶液浇铸在平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，从玻璃板剥离。将剥离的涂膜进一步在减压下以100℃干燥8小时，获得厚度100μm、纵60mm、横60mm的包括吸收层的基材。
作为所获得的基材的光学构件，评价光学特性时，AOI＝0°时的阻止带的中心透过波长为378nm、561nm及885nm，透过带的最大透过波长为470nm及637nm。另外，波长380nm～725nm范围的最高透过率为49.2％，最低透过率为＜0.1％。另外，最长波长侧的阻止带的宽度为378nm，FWHMmax为60nm，极其良好。进而，Δλmax为0nm，P值为76％，显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
此外，将各阻止带的中心透过波长、阻止带开始的波长与结束的波长、各透过带的最大透过波长、透过带开始的波长与结束的波长合并表示在表7中。
[实施例2]
在实施例1中获得的光学构件的一面上，利用棒涂机涂布加入三环癸烷二甲醇丙烯酸酯60份、二季戊四醇六丙烯酸酯40份、1-羟基环己基苯基酮5份以及甲基乙基酮而将树脂浓度调整为30质量％的树脂组合物(1)，在烘箱中以70℃加热2分钟，使溶剂挥发而除去。此时，调整棒涂机的涂布条件，使干燥后的厚度为2μm。其次，使用传送带式曝光机进行曝光(曝光量500mJ/cm2，200mW)，使树脂硬化，在基材上形成树脂层。同样地，在光学构件的另一面也形成包含树脂组合物(1)的树脂层，从而获得在包括含有吸收剂(X-A)的吸收层的基材的两面具有树脂层的厚度104μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
在从光学构件的垂直方向使光透过的情况下(0°)及在相对于垂直方向以45°的角度使光透过的情况下，将分别测定透过光的分光透过光谱示于图2。
[实施例3]
在实施例3中，在实施例2中获得的光学构件上形成包含表1所示的结构的电介质多层膜(I)、及电介质多层膜(II)作为防反射膜，获得厚度105μm的光学构件。
此外，电介质多层膜(I)是在蒸镀温度100℃下交替层叠二氧化硅(SiO2：550nm的折射率1.46)层与二氧化钛(TiO：550nm的折射率2.49)层而成(合计8层)。电介质多层膜(II)是在蒸镀温度100℃下交替层叠二氧化硅(SiO2)层与二氧化钛(TiO2)层而成(合计8层)。在电介质多层膜(I)及电介质多层膜(II)的任一个中，二氧化硅层及二氧化钛层从基材侧起按照二氧化钛层、二氧化硅层、二氧化钛层、...二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化硅层的顺序交替层叠，将光学构件的最外层设为二氧化硅层。
[表1]
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
[实施例4]
在实施例4中，在实施例2中获得的光学构件上形成包含表2所示那样的结构的电介质多层膜(III)、及电介质多层膜(IV)作为近红外线反射膜，获得厚度109μm的光学构件。
[表2]
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价中也看到噪声更少的结果。
[实施例5]
在实施例5中，使用作为树脂(R-2)的三菱瓦斯化学(股)制造的溶剂可溶型特殊聚碳酸酯树脂(优皮泽塔(IUPIZETA)(注册商标)、PCZ-500)代替树脂(R-1)，除此以外，利用与实施例2同样的方法制作包括含有吸收剂(X-A)的吸收层(厚度99μm)的基材，并在其两面设置厚度2μm的包含树脂组合物(1)的树脂层，从而制作了厚度103μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价中也看到噪声更少的结果。
[实施例6]
在实施例6中，除了使用实施例5中获得的光学构件代替实施例2以外，利用与实施例3同样的方法制作了在两面具备电介质多层膜的厚度104μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价中也可看到噪声更少的结果。
[实施例7]
在实施例7中，除了使用实施例5中获得的光学构件以外，利用与实施例4同样的方法制作了在两面具备电介质多层膜的厚度108μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价中也可看到噪声更少的结果。
[实施例8]
在实施例8中，除了使用包含0.3份的吸收剂(X-1)、0.08份的吸收剂(X-2)、0.08份的吸收剂(X-3)、0.4份的吸收剂(X-5)、0.25份的吸收剂(X-6)及0.12份的吸收剂(X-7)的吸收剂(X-B)代替实施例2中使用的吸收剂(X-A)以外，以与实施例2相同的程序获得厚度98μm、纵60mm、横60mm的包括含有吸收剂(X-B)的吸收层的基材。
在所获得的基材的一面，使用添加三环癸烷二甲醇丙烯酸酯60份、二季戊四醇六丙烯酸酯40份、1-羟基环己基苯基酮5份、吸收剂(X-4)0.025份、以及甲基乙基酮而将树脂浓度调整为30质量％的树脂组合物(2)来代替树脂组合物(1)，除此以外，以与实施例2相同的程序，获得在两面具有树脂层的厚度102μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
[实施例9]
在实施例9中，作为吸收剂使用包含0.16份的吸收剂(X-2)、0.12份的吸收剂(X-3)、0.4份的吸收剂(X-8)、及0.6份的吸收剂(X-9)的吸收剂(X-C)，除此以外，利用与实施例2相同的方法，制作包括吸收层的厚度50μm的基材，并在其两面设置厚度2μm的包含树脂组合物(1)的树脂层，获得厚度54μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。将从所述光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱示于图3。
[实施例10]
在实施例10中，在实施例9中获得的光学构件上与实施例4同样地形成包含表13所示那样的结构的电介质多层膜(III)、及电介质多层膜(IV)，从而制作厚度59μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。显示出极其优异的入射角依赖性。将从所述光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱示于图4。
[实施例11]
在实施例11中，除了使用包含0.05份的吸收剂(X-2)、0.06份的吸收剂(X-4)、0.4份的吸收剂(X-5)、0.15份的吸收剂(X-9)、0.15份的吸收剂(X-10)、0.03份的吸收剂(X-11)、及0.5份的吸收剂(X-12)的吸收剂(X-D)作为吸收剂以外，利用与实施例2及实施例3相同的方法，制作包括吸收层的厚度101 μm的基材，并在其两面设置厚度2μm的包含树脂组合物(1)的树脂层，进而制作在其两面具备电介质多层膜的厚度106μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。将从所述光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱示于图4。
[实施例12]
在实施例12中，除了使用包含0.004份的吸收剂(X-4)、0.56份的吸收剂(X-5)、0.2份的吸收剂(X-9)、0.6份的吸收剂(X-10)、1.0份的吸收剂(X-12)、0.6份的吸收剂(X-13)、及0.05份的吸收剂(X-14)的吸收剂(X-E)作为吸收剂以外，利用与实施例2及实施例3相同的方法，制作包括吸收层的厚度50μm的基材，并在其两面设置厚度2μm的包含树脂组合物(1)的树脂层，从而制作具备电介质多层膜的厚度55μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。将从所述光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱示于图5。
[实施例13]
在实施例13中，除了使用包含0.1份的吸收剂(X-1)、0.02份的吸收剂(X-3)、0.02份的吸收剂(X-4)、0.13份的吸收剂(X-8)、0.35份的吸收剂(X-12)、0.03份的吸收剂(X-15)及0.15份的吸收剂(X-16)的吸收剂(X-F)作为吸收剂以外，利用与实施例2及实施例3相同的方法，制作包括吸收层的厚度99μm的基材，并在其两面设置厚度2μm的包含树脂组合物(1)的树脂层，进而制作在其两面具备电介质多层膜的厚度104μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。将从所述光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱示于图5。
[实施例14]
在实施例14中，除了使用包含0.06份的吸收剂(X-2)、0.1份的吸收剂(X-4)、0.08份的吸收剂(X-5)、0.1份的吸收剂(X-8)、0.8份的吸收剂(X-9)、0.2份的吸收剂(X-10)、0.5份的吸收剂(X-12)、及0.08份的吸收剂(X-16)的吸收剂(X-G)作为吸收剂以外，利用与实施例2及实施例3相同的方法，制作包括吸收层的厚度48μm的基材，并在其两面设置厚度2μm的包含树脂组合物(1)的树脂层，进而制作在其两面具备电介质多层膜的厚度53μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
[实施例15]
作为玻璃基板(Y-1)，准备日本电气硝子(股)制造的透明玻璃基板“OA-10G”，(厚度200μm)，在切割成200mm×200mm大小的一面上，利用旋涂法以干燥后的膜厚成为约1μm的方式涂布树脂组合物(3)，在加热板上以80℃加热2分钟，将溶媒挥发除去，制作在玻璃基板(Y-1)上形成有接着层的玻璃支撑体，所述树脂组合物(3)是将异氰脲酸环氧乙烷改性三丙烯酸酯(商品名：亚罗尼斯(Aronix)M-315，东亚合成(股)制造)30份、1，9-壬二醇二丙烯酸酯20份、甲基丙烯酸20份、甲基丙烯酸缩水甘油酯30份、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷5份、1-羟基环己基二苯甲酮(商品名：艳佳固(IRGACURE)184，日本巴斯夫(BASF Japan)(股)制造)5份及桑爱德(San-aid)SI-110主剂(三新化学工业(股)制造)1份混合，且以固体成分浓度成为50质量％的方式溶解于丙二醇单甲醚乙酸酯中而成。
其次，添加所述环状聚烯烃树脂(树脂(R-1))100份、作为吸收剂(X)的吸收剂(X-2)0.5份、吸收剂(X-4)0.6份、吸收剂(X-5)4.0份、吸收剂(X-9)1.0份、吸收剂(X-10)1.5份、吸收剂(X-11)0.3份及吸收剂(X-12)5.0份及二氯甲烷，使用旋涂机，以干燥后的膜厚为10μm的方式将树脂浓度调整为20质量％的吸收层形成用溶液(X-H)涂布在玻璃支撑体的形成有接着层的面侧。在加热板上以80℃加热5分钟，将溶媒挥发除去，由此，获得在玻璃基材(Y-1)的一个面上层叠了包含吸收剂以及树脂的吸收层的厚度211μm的层叠基材。
继而，与实施例3同样地，在所获得的层叠基材的吸收层表面形成电介质多层膜(I)，进而在层叠基材的另一面形成电介质多层膜(II)，获得厚度212μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
[实施例16]
在实施例16中，代替实施例15的吸收层形成用溶液(X-H)，使用吸收层形成用溶液(X-I)，所述吸收层形成用溶液(X-I)除了包含作为吸收剂的吸收剂(X-2)0.04份、吸收剂(X-4)0.04份、吸收剂(X-9)0.5份、吸收剂(X-10)0.03份以外同样地制备，使用氟磷酸盐玻璃板NF-50(AGC公司制造)(厚度200μm)代替玻璃基材(Y-1)作为玻璃基板(Y-2)，除此以外，以与实施例15相同的程序，获得厚度211μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。将从所述光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的分光透过光谱示于图6。
[实施例17]
在实施例17中，代替吸收层形成用溶液(X-I)，使用包含作为吸收剂的吸收剂(X-1)0.5份、吸收剂(X-2)0.04份、吸收剂(X-5)0.1份、吸收剂(X-7)0.1份、吸收剂(X-10)0.5份、吸收剂(X-11)0.04份的吸收层形成用溶液(X-J)，除此以外，按照实施例16的程序获得层叠基材。
然后，按照与实施例3相同的程序，在层叠基材的吸收层形成面上形成电介质多层膜(I)，进而在层叠基材的另一个面上形成电介质多层膜(II)，获得厚度212μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
[实施例18]
在实施例18中，代替吸收层形成用溶液(X-J)，使用包含作为吸收剂的吸收剂(X-3)0.04份、吸收剂(X-4)0.01份、吸收剂(X-9)0.5份、吸收剂(X-10)0.1份、吸收剂(X-15)0.3份的吸收层形成用溶液(X-K)，进而使用C5000(豪雅(HOYA)公司制造)(厚1.0mm)作为玻璃基板(Y-3)，除此以外，利用与实施例17相同的方法制作光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。结果如表7所示。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
[实施例19]
作为实施例19，代替实施例1中记载的吸收剂(X-A)，使用包含吸收剂(X-1)0.3份、吸收剂(X-2)0.08份、吸收剂(X-3)0.08份、吸收剂(X-4)0.04份的吸收剂(X-L)，除此以外，利用实施例2中记载的方法制作厚度100μm的包括吸收层的基材，并在两面设置2μm的树脂层，制作厚度104μm的光学构件。
在所获得的光学构件上形成包含表3所示的结构的电介质多层膜(V)及电介质多层膜(VI)作为近红外线反射膜，获得厚度109μm的光学构件。此外，在吸收层形成面侧形成电介质多层膜(V)，在另一面形成电介质多层膜(VI)。
[表3]
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
[实施例20]
在容器中加入树脂(R-1)100份、以及二氯甲烷，获得树脂浓度为20质量％的溶液。其次，将所获得的溶液浇铸在平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，从玻璃板剥离。将剥离的涂膜进一步在减压下以100℃干燥8小时，获得厚度120μm、纵80mm、横80mm的透明树脂基板(Z-1)。
其次，使用透明树脂基板(Z-1)代替玻璃基板(Y-1)，除此以外，按照与实施例15相同的程序在透明基板上层叠吸收层，获得厚度130μm的层叠基材。
继而，与实施例3同样地，在所获得的层叠基材的吸收层表面形成电介质多层膜(I)，进而在层叠基材的另一面形成电介质多层膜(II)，获得厚度132μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。所获得的光学构件显示出优异的入射角依赖性。从S/N比的评价也可看到噪声更少的结果。
[比较例1]
作为比较例1，在玻璃基板(Y-1)上不设置吸收层而形成包含表4所示的结构的电介质多层膜(VII)及电介质多层膜(VIII)，获得厚度208μm的光学构件。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。由于光学构件完全不使用吸收剂，因此Δλmax极大，为43nm，入射角依赖性高，无法获得充分的光选择性，从S/N比的评价来看，噪声也变多。将从所述光学构件的垂直方向使光透过时的透过光的0°入射时、及45°入射时的分光透过光谱示于图7。
[表4]
[比较例2]
作为比较例2，代替比较例1中记载的玻璃基板(Y-1)，使用作为所述氟磷酸盐玻璃板NF-50(AGC公司制造)的玻璃基板(Y-2)，利用与比较例1同样的方法，在两面形成包含表5所示的结构的电介质多层膜(IX)及电介质多层膜(X)，获得厚度约207μm的光学构件。此外，电介质多层膜(IX)作为防反射膜发挥功能，电介质多层膜(X)作为近红外线反射膜发挥功能。
[表5]
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。但是，由于所述光学构件只具有两个阻止带，因此FWHMmax为251nm，无法选择性地提取光。将所述光学构件的分光透过光谱示于图8。根据S/N比的评价，噪声也变多。
[比较例3]
作为比较例3，代替实施例1中记载的吸收剂(X-A)，使用包含0.3份的吸收剂(X-1)、0.08份的吸收剂(X-2)、0.08份的吸收剂(X-3)、0.04份的吸收剂(X-4)的吸收剂(X-M)，除此以外，与实施例1中记载的方法同样地制作厚度100μm的包括吸收层的基材。
与实施例1同样地评价所述光学构件的光学特性。将结果示于表7。但是，所述光学构件的最长波长侧的阻止带的宽度只有37nm，无法充分除去成为噪声原因的近红外光的波长，因此光的选择性不充分。根据S/N比的评价，噪声也变多。将所述光学构件的分光透过光谱示于图3。
对于实施例1～实施例20及比较例1～比较例3中制作的吸收剂(X-A)至吸收剂(X-M)，关于吸收剂的含量示于表6。
[表6]
将关于实施例1～实施例20及比较例11～比较例3中获得的光学构件的光学特性的评价结果示于表7(表7-1～表7-2)。
[产业上的可利用性]
本发明的光学构件可较佳地用于：光彩认证系统、面部认证系统、指纹认证系统、脉搏氧饱和度仪、数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、数字摄影机、可穿戴装置用照相机、PC照相机、监视照相机、汽车用照相机、夜视照相机、动作捕捉、激光距离计、虚拟试穿、号牌识别装置、电视机、汽车导航、液晶投影仪、个人数字助理、视频游戏机、掌上型游戏机、数字音乐播放器等。
Claims (11)
1.一种光学构件，具有至少一层吸收层，所述吸收层含有在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂以及树脂，所述光学构件中，
吸收层在光的波长380nm～725nm的范围具有至少三个的阻止带，
各阻止带的最大透过率为15％以下，最长波长侧的阻止带的宽度为50nm以上，
在各阻止带之间具有透过带，各透过带的最小透过率为30％以上。
2.根据权利要求1所述的光学构件，其中所述吸收层还含有一种以上的与所述吸收剂不同的、在波长380nm～725nm的范围具有吸收波长的吸收剂。
3.根据权利要求1所述的光学构件，其中所述各透过带处于400nm～725nm的范围。
4.根据权利要求1所述的光学构件，其中所述至少三个阻止带分别处于380nm～530nm、455nm～630nm及530nm～725nm的范围，且所述各阻止带处于不同的波长区域。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学构件，其中所述在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂是偶氮甲碱系化合物、偶氮吡啶酮系化合物、吡唑啉酮偶氮系化合物、吲哚系化合物、蒽醌系化合物、香豆素系化合物、二吡咯亚甲基系化合物、三芳基甲烷系化合物、呫吨系化合物、聚次甲基系化合物、部花青系化合物、苯亚甲基系化合物、花青系化合物、方酸内鎓系化合物、克酮鎓系化合物、苝系化合物、二噁嗪系化合物、酞菁系化合物、卟啉系化合物、四氮杂卟啉系化合物、亚酞菁系化合物及它们的金属螯合物中的任一种。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的光学构件，其中所述在波长380nm～725nm的范围具有极大吸收的吸收剂的任一种是在波长380nm～530nm具有极大吸收的吸收剂(a)、在波长455nm～630nm具有极大吸收的吸收剂(b)、在波长530nm～725nm具有极大吸收的吸收剂(c)。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的光学构件，其在波长725nm～1000nm的最大透过率为30％以下。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的光学构件，其中所述树脂包含选自由环状(聚)烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(聚芳酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对亚苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂所组成的群组中的至少一种透明树脂。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的光学构件，其中所述光学构件是包含所述吸收层的基材、或者将所述吸收层与不含所述吸收剂的其他层层叠而成的层叠基材。
10.根据权利要求9所述的光学构件，其中不含所述吸收剂的其他层由树脂基板或玻璃基板构成，且在树脂基板或玻璃基板的至少一面设置有所述吸收层。
11.根据权利要求1至4中任一项所述的光学构件，具有电介质多层膜。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021-151389 | 2021-09-16 | ||
| JP2021151389 | 2021-09-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115826120A true CN115826120A (zh) | 2023-03-21 |
Family
ID=85523459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211092508.XA Pending CN115826120A (zh) | 2021-09-16 | 2022-09-07 | 光学构件 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2023043847A (zh) |
| KR (1) | KR20230040905A (zh) |
| CN (1) | CN115826120A (zh) |
| TW (1) | TW202314307A (zh) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4095344B2 (ja) | 2002-05-22 | 2008-06-04 | キヤノン株式会社 | トリミングフィルター |
| JP2008203436A (ja) | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Fujifilm Corp | 光学フィルター |
| JP5040827B2 (ja) | 2008-06-20 | 2012-10-03 | 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 | フィルター用樹脂組成物 |
-
2022
- 2022-08-30 JP JP2022137181A patent/JP2023043847A/ja active Pending
- 2022-09-07 CN CN202211092508.XA patent/CN115826120A/zh active Pending
- 2022-09-13 KR KR1020220114688A patent/KR20230040905A/ko unknown
- 2022-09-14 TW TW111134603A patent/TW202314307A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202314307A (zh) | 2023-04-01 |
| KR20230040905A (ko) | 2023-03-23 |
| JP2023043847A (ja) | 2023-03-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6773161B2 (ja) | 光学フィルタ | |
| KR101913482B1 (ko) | 근적외선 커트 필터 및 촬상 장치 | |
| KR101611807B1 (ko) | 광학 필터 | |
| KR101876229B1 (ko) | 근-적외선 흡수 필터 및 이미지 센서 | |
| WO2017213047A1 (ja) | 光学フィルターおよび光学センサー装置 | |
| KR101903884B1 (ko) | 근적외선 차단 필터 및 근적외선 차단 필터를 포함하는 장치 | |
| JP5819063B2 (ja) | 光学フィルタ | |
| CN110596806A (zh) | 光学滤波器和使用该光学滤波器的装置 | |
| JP5759717B2 (ja) | 監視カメラ用撮像光学系 | |
| JP7251423B2 (ja) | 光学部材及びカメラモジュール | |
| CN112147731A (zh) | 光学滤波器、固体摄像装置、照相机模块、生物体认证装置、光学滤波器用树脂层 | |
| CN110873914A (zh) | 光学滤波器及其制造方法、固体摄像装置及相机模块 | |
| CN111936896B (zh) | 滤光片和信息获取装置 | |
| JP2012137651A (ja) | 光学フィルタ | |
| JP7392412B2 (ja) | 光学フィルタ、並びにこれを用いた光学装置及び指紋検出装置 | |
| EP1701182A1 (en) | Camera module comprising an infrared cut filter, said filter comprising ultraviolet cut means | |
| CN112180487A (zh) | 照相机模块及电子设备 | |
| WO2022024826A1 (ja) | 光学フィルタ | |
| KR20060008871A (ko) | 가시 파장 검출기 시스템 및 그를 위한 필터 | |
| CN115826120A (zh) | 光学构件 | |
| JP7347145B2 (ja) | 光学素子及び指紋検出装置 | |
| CN116648644A (zh) | 光学滤光片 | |
| US20200354577A1 (en) | Optical filter and imaging device | |
| CN112543881B (zh) | 光学滤波器 | |
| CN112437893A (zh) | 光学滤波器及环境光传感器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |