CN115821215A - 一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置 - Google Patents

一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置 Download PDF

Info

Publication number
CN115821215A
CN115821215A CN202310132248.2A CN202310132248A CN115821215A CN 115821215 A CN115821215 A CN 115821215A CN 202310132248 A CN202310132248 A CN 202310132248A CN 115821215 A CN115821215 A CN 115821215A
Authority
CN
China
Prior art keywords
oxygen supply
oxygen
ring
damping
cavity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202310132248.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN115821215B (zh
Inventor
卿海
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CHENGDU FULINDA NEW MATERIALS CO LTD
Original Assignee
CHENGDU FULINDA NEW MATERIALS CO LTD
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CHENGDU FULINDA NEW MATERIALS CO LTD filed Critical CHENGDU FULINDA NEW MATERIALS CO LTD
Priority to CN202310132248.2A priority Critical patent/CN115821215B/zh
Publication of CN115821215A publication Critical patent/CN115821215A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115821215B publication Critical patent/CN115821215B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,涉及物料喷射装置技术领域;包括匀气部件、送氧管、送氧套和送氧罩;匀气部件为上小下大的缩口结构、大径端用于连接蒸发舟的出气端;送氧管内设置有与匀气部件的小径端连通的混合区域,混合区域为沿送氧管长度方向延伸的文丘管形状,且混合区域的缩颈段侧壁设置有阻尼环孔;送氧套套设在送氧管中部外侧,送氧套内间隔设置设有缓冲腔和供氧腔,缓冲腔和供氧腔均环绕送氧管周向设置,所述缓冲腔通过阻尼直孔与所述供氧腔连通,所述供氧腔通过阻尼环孔与混合区域连通;所述送氧罩为上大下小的扩口结构、小径段与所述送氧管的出气端连通。本发明能够减少Al2O3‑X膜和确保氧化铝膜厚度的均匀性。

Description

一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置
技术领域
本发明涉及物料喷射装置技术领域,具体涉及一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置。
背景技术
悬浮蒸镀氧化铝是在真空状态下,将氧化铝加热熔融到蒸发状态,并溅射到基材上形成镀膜。其常用的基材有聚酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)等薄膜。在蒸镀的过程中,基材悬于蒸发舟上方,铝熔融蒸发后直接溅射到基材上,而铝受热后容易得到缺氧的Al2O3-X膜,因此需要在真空室内补入适当的氧气。
经发明人研究发现,在行业内现有的蒸镀装置中,补入氧气的方式不合理,一方面在蒸汽消耗氧气后,导致氧气与铝蒸汽混合不均匀,无法达到充分有效氧化,导致AlOx膜均匀性差。若采用将氧气和铝蒸汽直接混合的方式,氧气的喷出将影响铝蒸汽的流向,导致铝蒸汽气流紊乱,而影响AlOx膜的均匀性。
发明内容
针对上述的技术问题;本发明提供了一种用于悬浮蒸镀氧化铝的送氧喷射装置,能够确保氧气与铝蒸汽充分混合,保证铝蒸气充分氧化后,均匀沉积到基材上,能够确保氧化铝膜厚度的均匀性。
本发明通过下述技术方案实现:
本发明提供了一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,包括匀气部件、送氧管、送氧套和送氧罩;所述匀气部件为上小下大的缩口结构,所述匀气部件大径端用于连接蒸发槽的出气端,以将所述蒸发舟蒸发出的铝蒸汽导出;所述送氧管内设置有与所述匀气部件的小径端连通的混合区域,所述混合区域为沿所述送氧管长度方向延伸的文丘管形状,且所述混合区域的缩颈段侧壁设置有阻尼环孔,所述阻尼环孔环绕所述混合区域的周向设置;所述送氧套套设在所述送氧管中部外侧,所述送氧套内间隔设置设有缓冲腔和供氧腔,所述缓冲腔和所述供氧腔均环绕所述送氧管周向设置,所述缓冲腔用于连接供氧管路,所述缓冲腔通过阻尼直孔与所述供氧腔连通,所述供氧腔通过阻尼环孔与所述混合区域连通;所述送氧罩为上大下小的扩口结构,所述送氧罩的小径段与所述送氧管的出气端连通。
本发明提供的用于悬浮蒸镀氧化铝的送氧喷射装置,匀气部件为上小下大的缩口结构、大径端用于连接蒸发槽的出气端、送氧管内的混合区域与匀气部件小径端连通,能够收集蒸发舟蒸发的铝蒸汽(AlOx蒸汽),并导入混合区域内,而混合区域为文丘管形状、供氧腔通过混合区域小径段上的阻尼环孔与混合区域连通,在供氧腔内的氧气在真空室负压和铝蒸汽射流的作用下,被吸入混合区域与铝蒸汽在混合区域的小径段内初步混合,而阻尼环孔环绕混合区域的周向设置,补入的氧气从铝蒸汽气流的周向均匀的混入,确保氧气与铝蒸汽初混的均匀性,然后再经扩口释放膨胀进一步混合,并经过上大下小扩口结构的送氧罩进行进一步的膨胀后喷发,使得氧气与铝蒸汽充分的混合。
其中,送氧套内间隔设置设有缓冲腔和供氧腔,缓冲腔和供氧腔均环绕送氧管周向设置,确保阻尼环孔能够环绕混合区域的周向设置,而缓冲腔用于连接供氧管路、缓冲腔通过阻尼直孔与供氧腔连通,使得缓冲腔内的流体需要一定的压差才能够进入供氧腔,因此,供给的氧气先进入缓冲腔,经过缓冲腔缓冲降速和释压后,在供氧腔的抽吸作用下进入供氧腔。而供氧腔经阻尼环孔与混合区域连通,使得供氧腔内的流体需要一定的压差才能够进入混合区域,因此,供氧腔内的氧气经过阻尼环孔降速后进入到混合区域,从而使得补入的氧气经过释压和两次减速后进入到混合区域,以避免氧气气流影响铝蒸汽气流的流动,进而将铝蒸汽按照设定路径喷向基材,能够确保氧化铝膜厚度的均匀性。而氧化铝蒸镀时所需要的氧气量较小,设置两级阻尼孔并不会影响氧气的供给量。
同时,由于混合的铝蒸汽从送氧罩喷出,能够控制铝蒸汽喷射的喷射范围,以减少“二次”镀膜的情况。
因此,本发明提供的用于悬浮蒸镀氧化铝的送氧喷射装置,能够确保氧气与铝蒸汽充分混合,保证铝蒸气充分氧化后,均匀沉积到基材上,能够确保氧化铝膜厚度的均匀性。
在一可选的实施方式中,所述阻尼环孔为阻尼大小能够调节的阻尼孔,能够调节氧气供给阻力的大小,从而根据需氧量调节混合区域抽吸氧气的速度。
在一可选的实施方式中,所述送氧管中部设置有安装环槽,所述安装环槽与所述送氧管同轴设置,且所述安装环槽贯穿所述送氧管侧壁设置;所述安装环槽一侧壁设置有第一压电陶瓷环片,所述第一压电陶瓷环片与所述安装环槽同轴设置,所述阻尼环孔为所述第一压电陶瓷环片与所述安装环槽另一侧,以通过所述第一压电陶瓷环片的伸缩改变所述阻尼环孔的大小,相对于采用其他形式的调节结构,能够耐受铝蒸汽的高温,稳定性和使用寿命长,不需要采用传动结构,结构简单、可靠性高,并且调节的精度高,能够精准的调节氧气供给量。
在一可选的实施方式中,所述第一压电陶瓷片为叠片结构,以通过多片单体陶瓷控制阻尼环孔的阻尼大小,从而提高调节氧气供给量调节的精准性。
在一可选的实施方式中,所述送氧管为绝缘陶瓷材质,以确保送氧管在能够耐受高温的同时具有良好的绝缘性,避免对第一压电陶瓷片的动作造成影响。
在一可选的实施方式中,所述送氧管内侧壁嵌设有多个径向滑片,多个所述径向滑片沿所述送氧管周向均布,各所述径向滑片均能够沿所述送氧管的径向往复移动,且各所述径向滑片的内侧能够伸入所述混合区域内,一方面通过径向滑片的径向往复移动,对铝蒸汽进行轻微的扰流,在避免对铝蒸汽喷射路径造成影响的同时,进一步提高氧气在送氧管内混合的均匀性,另一方面,通过径向滑片的径向往复移动,使得铝蒸汽在混合区域侧壁形成紊流,从而通过铝蒸汽的冲刷,避免铝蒸汽分子附着在混合区域侧壁,而减小混合区域的通径,确保送氧管的正常工作。
在一可选的实施方式中,所述送氧管内设置有:复位弹簧,位于所述径向滑片和所述送氧管侧壁之间,且所述复位弹簧在所述径向滑片向外侧移动时蓄能;两驱动环,与所述送氧管同轴设置,分设于所述径向滑片长度方向的两端,且能够沿所述送氧管长度方向往复移动;第二压电陶瓷环片,与所述驱动环传动连接,用于所述驱动环移动;其中,所述驱动环与所述径向滑片传动连接,且在两所述驱动环相向移动的情况下所述径向滑片向外侧移动,以通过第二压电陶瓷片带动驱动环移动,最终带动径向滑片移动,能够实现径向滑片的高频移动,从而高频改变铝蒸汽流动的频率,减小铝蒸汽流动的脉冲性,进而确保形成氧化铝薄膜厚度的均匀性,而压电陶瓷片作为驱动元件,能够耐受高温、传动结构简单。
在一可选的实施方式中,所述驱动环下端设置有驱动环凸,所述驱动环凸下端面截面为半圆形;所述径向滑片上端设置有驱动环槽,所述驱动环槽的截面为V字型,以通过所述驱动换凸向所述驱动环槽的槽底移动驱动所述径向滑片向外侧移动,具有结构简单、可靠性高的特点。
在一可选的实施方式中,沿所述送氧管长度方向,所述第一压电陶瓷环片的两侧均设置有所述径向滑片,以确保整个送氧管内侧壁附近的流体流态为紊流,进而通过铝蒸汽的冲刷避免铝蒸汽分子附着。
在一可选的实施方式中,所述送氧管适配有加热套,确保铝蒸汽在混合区域内具有足够的稳定,从而避免铝蒸汽凝结。
本发明与现有技术相比,具有如下的优点和有益效果
1、本发明提供的用于悬浮蒸镀氧化铝的送氧喷射装置,匀气部件为上小下大的缩口结构、大径端用于连接蒸发舟的出气端、送氧管内的混合区域与匀气部件小径端连通,能够收集蒸发舟蒸发的铝蒸汽,并导入混合区域内,而混合区域为文丘管形状、供氧腔通过混合区域小径段上的阻尼环孔与混合区域连通,在供氧腔内的氧气在真空室负压和铝蒸汽射流的作用下,被吸入混合区域与铝蒸汽在混合区域的小径段内初步混合,而阻尼环孔环绕混合区域的周向设置,补入的氧气从铝蒸汽气流的周向均匀的混入,确保氧气与铝蒸汽初混的均匀性,然后再经扩口释放进一步混合,并经过上大下小扩口结构的送氧罩进行喷发,使得氧气与铝蒸汽充分的混合,保证ALOx的均匀性。
2、本发明提供的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,送氧套内间隔设置设有缓冲腔和供氧腔,缓冲腔和供氧腔均环绕送氧管周向设置,确保阻尼环孔能够环绕混合区域的周向设置,而缓冲腔用于连接供氧管路、缓冲腔通过阻尼直孔与供氧腔连通,使得缓冲腔内的流体需要一定的压差才能够进入供氧腔,供给的氧气先进入缓冲腔,经过缓冲腔缓冲降速和释压后,在供氧腔的抽吸作用下进入供氧腔;而供氧腔经阻尼环孔与混合区域连通,使得供氧腔内的流体需要一定的压差才能够进入混合区域,供氧腔内的氧气经过阻尼环孔降速后进入到混合区域,从而使得补入的氧气经过释压和两次减速后进入到混合区域,以避免氧气气流影响铝蒸汽气流的流动,进而将铝蒸汽按照设定路径喷向基材,能够确保氧化铝膜厚度的均匀性。
3、本发明提供的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,混合的铝蒸汽从送氧罩喷出,能够控制铝蒸汽喷射的喷射范围,以减少“二次”镀膜的情况。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
在附图中:
图1为本发明实施例用于悬浮蒸镀氧化铝的送氧喷射装置的结构示意图;
图2为本发明实施例送氧管的示意图;
图3为图2的A部放大示意图;
图4为图2的B部放大示意图。
附图中标记及对应的零部件名称:
10-匀气部件,20-送氧管,21-混合区域,22-阻尼环孔,23-安装环槽,24-第一压电陶瓷环片,25-径向滑片,25a-驱动环槽,26-复位弹簧,27-驱动环,27a-驱动环凸,28-第二压电陶瓷片,30-送氧套,31-缓冲腔,32-供氧腔,33-阻尼直孔,40-送氧罩,50-加热套。
其中,图2的附图标记A表示图2的放大位置A,图2的附图标记B表示图2的放大位置B。
实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本申请实施例的描述中,术语 “中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖向”、“纵向”、“侧向”、“水平”、“内”、“外”、“前”、“后”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
实施例
结合图1和图2,本实施例提供了一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,包括匀气部件10、送氧管20、送氧套30和送氧罩40;所述匀气部件10为上小下大的缩口结构,所述匀气部件10大径端用于连接蒸发舟的出气端,以将所述蒸发舟蒸发出的铝蒸汽导出;所述送氧管20内设置有与所述匀气部件10的小径端连通的混合区域21,所述混合区域21为沿所述送氧管20长度方向延伸的文丘管形状,且所述混合区域21的缩颈段侧壁设置有阻尼环孔22,所述阻尼环孔22环绕所述混合区域21的周向设置;所述送氧套30套设在所述送氧管20中部外侧,所述送氧套30内间隔设置设有缓冲腔31和供氧腔32,所述缓冲腔31和所述供氧腔32均环绕所述送氧管20周向设置,所述缓冲腔31用于连接供氧管路,所述缓冲腔31通过阻尼直孔33与所述供氧腔32连通,所述供氧腔32通过阻尼环孔22与所述混合区域21连通;所述送氧罩40为上大下小的扩口结构,所述送氧罩40的小径段与所述送氧管20的出气端连通。
具体来说,对于匀气部件10,其主要起到连接送氧管20和蒸发舟的作用,其下端的尺寸根据所需要连接蒸发舟的尺寸确定,只需要使得蒸发舟蒸发出的蒸汽能够全部倒入匀气部件10即可,通常情况下匀气部件10的下端盖在蒸发舟的上端。
对于送氧管20,其主要起到混合补充的氧气和铝蒸汽(AlOx蒸汽)的作用,通常情况下所述送氧管20适配有加热套50,确保铝蒸汽在混合区域21内具有足够的稳定,从而避免铝蒸汽凝结。对于加热套50,为电阻丝加热组件或高频加热组件,以对铝蒸汽进行加热。
对于送氧套30,其主要起连接供氧管路和混合区域21的作用,只需满足结构特征即可,对其形状和内腔大小无特定的需求。
对于送氧罩40,其主要起控制喷射范围的作用,通常采用耐温材料制成,其开口大小则根据基材在其上方弯曲的程度确定。
其中,所述阻尼环孔22为阻尼大小能够调节的阻尼孔,能够调节氧气供给阻力的大小,从而根据需氧量调节混合区域21抽吸氧气的速度。
结合图3具体而言,所述送氧管20中部设置有安装环槽23,所述安装环槽23与所述送氧管20同轴设置,且所述安装环槽23贯穿所述送氧管20侧壁设置;所述安装环槽23一侧壁设置有第一压电陶瓷环片24,所述第一压电陶瓷环片24与所述安装环槽23同轴设置,所述阻尼环孔22为所述第一压电陶瓷环片24与所述安装环槽23另一侧,以通过所述第一压电陶瓷环片24的伸缩改变所述阻尼环孔22的大小。
相对于采用其他形式的调节结构,能够耐受铝蒸汽的高温,稳定性和使用寿命长,不需要采用传动结构,结构简单、可靠性高,并且调节的精度高,能够精准的调节氧气供给量。
优选的,所述第一压电陶瓷片为叠片结构,以通过多片单体陶瓷控制阻尼环孔22的阻尼大小,从而提高调节氧气供给量调节的精准性。
在本实施例中,所述送氧管20为绝缘陶瓷材质,以确保送氧管20在能够耐受高温的同时具有良好的绝缘性,避免对第一压电陶瓷片的动作造成影响。
总结来说,本实施例提供的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,在使用时,安装在悬浮蒸镀氧化铝的真空室内,匀气部件10的下端与蒸发舟的上端相连、送氧罩40的上端位于卷曲辊正下方,由于,匀气部件10为上小下大的缩口结构、大径端用于连接蒸发舟的出气端、送氧管20内的混合区域21与匀气部件10小径端连通,能够收集蒸发舟蒸发的铝蒸汽,并导入混合区域21内。
而混合区域21为文丘管形状、供氧腔32通过混合区域21小径段上的阻尼环孔22与混合区域21连通,在供氧腔32内的氧气在真空室负压和铝蒸汽射流的作用下,被吸入混合区域21与铝蒸汽在混合区域21的小径段内初步混合,同时阻尼环孔22环绕混合区域21的周向设置,补入的氧气从铝蒸汽气流的周向均匀的混入,确保氧气与铝蒸汽初混的均匀性,然后再经扩口释放膨胀进一步混合,并经过上大下小扩口结构的送氧罩40进行进一步的膨胀后喷发,使得氧气与铝蒸汽充分的混合,保证AlOx的均匀性。
其中,送氧套30内间隔设置设有缓冲腔31和供氧腔32,缓冲腔31和供氧腔32均环绕送氧管20周向设置,确保阻尼环孔22能够环绕混合区域21的周向设置,而缓冲腔31用于连接供氧管路、缓冲腔31通过阻尼直孔33与供氧腔32连通,使得缓冲腔31内的流体需要一定的压差才能够进入供氧腔32,因此,供给的氧气先进入缓冲腔31,经过缓冲腔31缓冲降速和释压后,在供氧腔32的抽吸作用下进入供氧腔32。
并且,供氧腔32经阻尼环孔22与混合区域21连通,使得供氧腔32内的流体需要一定的压差才能够进入混合区域21,因此,供氧腔32内的氧气经过阻尼环孔22降速后进入到混合区域21,从而使得补入的氧气经过释压和两次减速后进入到混合区域21,以避免氧气气流影响铝蒸汽气流的流动,进而将铝蒸汽按照设定路径喷向基材,能够确保氧化铝膜厚度的均匀性。可以理解的是,氧化铝蒸镀时所需要的氧气量较小,设置两级阻尼孔并不会影响氧气的供给量。
同时,由于混合的铝蒸汽从送氧罩40喷出,能够控制铝蒸汽喷射的喷射范围,以减少“二次”镀膜的情况。
因此,本实施例提供的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,能够确保氧气与铝蒸汽充分混合,并将铝蒸汽按照设定路径喷向基材,能够确保氧化铝膜厚度的均匀性。
实施例
再次结合图3,本实施例提供了一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,基于实施例1所记载的结构和原理,所述送氧管20内侧壁嵌设有多个径向滑片25,多个所述径向滑片25沿所述送氧管20周向均布,各所述径向滑片25均能够沿所述送氧管20的径向往复移动,且各所述径向滑片25的内侧能够伸入所述混合区域21内。
需要说明的是,通过径向滑片25的往复移动,能够使得径向滑片25内侧往复进入混合区域21内,一方面通过径向滑片25的径向往复移动,对铝蒸汽进行轻微的扰流,在避免对铝蒸汽喷射路径造成影响的同时,进一步提高氧气在送氧管20内混合的均匀性,另一方面,通过径向滑片25的径向往复移动,使得铝蒸汽在混合区域21侧壁形成紊流,从而通过铝蒸汽的冲刷,避免铝蒸汽分子附着在混合区域21侧壁,而减小混合区域21的通径,确保送氧管20的正常工作。
结合图2、图3和图4,所述送氧管20内设置有:复位弹簧26,位于所述径向滑片25和所述送氧管20侧壁之间,且所述复位弹簧26在所述径向滑片25向外侧移动时蓄能;两驱动环27,与所述送氧管20同轴设置,分设于所述径向滑片25长度方向的两端,且能够沿所述送氧管20长度方向往复移动;第二压电陶瓷环片28,与所述驱动环27传动连接,用于所述驱动环27移动;其中,所述驱动环27与所述径向滑片25传动连接,且在两所述驱动环27相向移动的情况下所述径向滑片25向外侧移动.
应当理解的是,通过第二压电陶瓷片带动驱动环27移动,最终带动径向滑片25移动,能够实现径向滑片25的高频移动,从而高频改变铝蒸汽流动的频率,减小铝蒸汽流动的脉冲性,进而确保形成氧化铝薄膜厚度的均匀性,而压电陶瓷片作为驱动元件,能够耐受高温、传动结构简单。
在本实施例中,所述驱动环27下端设置有驱动环凸27a,所述驱动环凸27a下端面截面为半圆形;所述径向滑片25上端设置有驱动环槽25a,所述驱动环槽25a的截面为V字型,以通过所述驱动换凸向所述驱动环槽25a的槽底移动驱动所述径向滑片25向外侧移动,具有结构简单、可靠性高的特点。
在此基础上,沿所述送氧管20长度方向,所述第一压电陶瓷环片24的两侧均设置有所述径向滑片25,以确保整个送氧管20内侧壁附近的流体流态为紊流,进而通过铝蒸汽的冲刷避免铝蒸汽分子附着。
以上所述的具体实施方式,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施方式而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,包括匀气部件(10)、送氧管(20)、送氧套(30)和送氧罩(40);
所述匀气部件(10)为上小下大的缩口结构,所述匀气部件(10)大径端用于连接蒸发舟的出气端,以将所述蒸发舟蒸发出的铝蒸汽导出;
所述送氧管(20)内设置有与所述匀气部件(10)的小径端连通的混合区域(21),所述混合区域(21)为沿所述送氧管(20)长度方向延伸的文丘管形状,且所述混合区域(21)的缩颈段侧壁设置有阻尼环孔(22),所述阻尼环孔(22)环绕所述混合区域(21)的周向设置;
所述送氧套(30)套设在所述送氧管(20)中部外侧,所述送氧套(30)内间隔设置设有缓冲腔(31)和供氧腔(32),所述缓冲腔(31)和所述供氧腔(32)均环绕所述送氧管(20)周向设置,所述缓冲腔(31)用于连接供氧管路,所述缓冲腔(31)通过阻尼直孔(33)与所述供氧腔(32)连通,所述供氧腔(32)通过阻尼环孔(22)与所述混合区域(21)连通;
所述送氧罩(40)为上大下小的扩口结构,所述送氧罩(40)的小径段与所述送氧管(20)的出气端连通。
2.根据权利要求1所述的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,所述阻尼环孔(22)为阻尼大小能够调节的阻尼孔。
3.根据权利要求2所述的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,所述送氧管(20)中部设置有安装环槽(23),所述安装环槽(23)与所述送氧管(20)同轴设置,且所述安装环槽(23)贯穿所述送氧管(20)侧壁设置;
所述安装环槽(23)一侧壁设置有第一压电陶瓷环片(24),所述第一压电陶瓷环片(24)与所述安装环槽(23)同轴设置,所述阻尼环孔(22)为所述第一压电陶瓷环片(24)与所述安装环槽(23)另一侧,以通过所述第一压电陶瓷环片(24)的伸缩改变所述阻尼环孔(22)的大小。
4.根据权利要求3所述的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,所述第一压电陶瓷片为叠片结构。
5.根据权利要求3所述的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,所述送氧管(20)为绝缘陶瓷材质。
6.根据权利要求3所述的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,所述送氧管(20)内侧壁嵌设有多个径向滑片(25),多个所述径向滑片(25)沿所述送氧管(20)周向均布,各所述径向滑片(25)均能够沿所述送氧管(20)的径向往复移动,且各所述径向滑片(25)的内侧能够伸入所述混合区域(21)内。
7.根据权利要求6所述的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,所述送氧管(20)内设置有:
复位弹簧(26),位于所述径向滑片(25)和所述送氧管(20)侧壁之间,且所述复位弹簧(26)在所述径向滑片(25)向外侧移动时蓄能;
两驱动环(27),与所述送氧管(20)同轴设置,分设于所述径向滑片(25)长度方向的两端,且能够沿所述送氧管(20)长度方向往复移动;
第二压电陶瓷环片(28),与所述驱动环(27)传动连接,用于所述驱动环(27)移动;
其中,所述驱动环(27)与所述径向滑片(25)传动连接,且在两所述驱动环(27)相向移动的情况下所述径向滑片(25)向外侧移动。
8.根据权利要求7所述的用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,所述驱动环(27)下端设置有驱动环凸(27a),所述驱动环凸(27a)下端面截面为半圆形;
所述径向滑片(25)上端设置有驱动环槽(25a),所述驱动环槽(25a)的截面为V字型,以通过所述驱动换凸向所述驱动环槽(25a)的槽底移动驱动所述径向滑片(25)向外侧移动。
9.根据权利要求6所述用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,沿所述送氧管(20)长度方向,所述第一压电陶瓷环片(24)的两侧均设置有所述径向滑片(25)。
10.根据权利要求6~9中任意一项所述用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置,其特征在于,所述送氧管(20)适配有加热套(50)。
CN202310132248.2A 2023-02-20 2023-02-20 一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置 Active CN115821215B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310132248.2A CN115821215B (zh) 2023-02-20 2023-02-20 一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202310132248.2A CN115821215B (zh) 2023-02-20 2023-02-20 一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115821215A true CN115821215A (zh) 2023-03-21
CN115821215B CN115821215B (zh) 2023-04-28

Family

ID=85521779

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202310132248.2A Active CN115821215B (zh) 2023-02-20 2023-02-20 一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115821215B (zh)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010016306A1 (en) * 1999-09-17 2001-08-23 Vader Pieter Johannes Quintus Van Voorst Method for purging a furnace and furnace assembly
CN1455434A (zh) * 2002-04-05 2003-11-12 株式会社日立国际电气 基板处理装置及反应容器
JP2004083945A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 酸化金属膜及び窒化金属膜を作製する方法及び装置
JP2014141694A (ja) * 2013-01-22 2014-08-07 Asahi Glass Co Ltd 薄膜形成方法
US20170236690A1 (en) * 2016-02-17 2017-08-17 Tokyo Electron Limited Plasma processing apparatus
US20190368033A1 (en) * 2018-06-05 2019-12-05 United Technologies Corporation Selective vapor deposition process for additive manufacturing
US20200115801A1 (en) * 2018-10-12 2020-04-16 Tokyo Electron Limited Source gas supply apparatus, film forming apparatus, and source gas supply method
US20210087682A1 (en) * 2019-09-24 2021-03-25 Picosun Oy Fluid distributing device for a thin-film deposition apparatus, related apparatus and methods
CN113388821A (zh) * 2021-06-02 2021-09-14 浙江新博铝塑品有限公司 一种可以提高铝氧化表面质量的装置
CN214327856U (zh) * 2020-09-23 2021-10-01 启东申通电子机械配件有限公司 氧化铝真空镀膜机
WO2022017425A1 (zh) * 2020-07-21 2022-01-27 宝山钢铁股份有限公司 一种采用混匀缓冲结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010016306A1 (en) * 1999-09-17 2001-08-23 Vader Pieter Johannes Quintus Van Voorst Method for purging a furnace and furnace assembly
CN1455434A (zh) * 2002-04-05 2003-11-12 株式会社日立国际电气 基板处理装置及反应容器
JP2004083945A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 酸化金属膜及び窒化金属膜を作製する方法及び装置
JP2014141694A (ja) * 2013-01-22 2014-08-07 Asahi Glass Co Ltd 薄膜形成方法
US20170236690A1 (en) * 2016-02-17 2017-08-17 Tokyo Electron Limited Plasma processing apparatus
US20190368033A1 (en) * 2018-06-05 2019-12-05 United Technologies Corporation Selective vapor deposition process for additive manufacturing
US20200115801A1 (en) * 2018-10-12 2020-04-16 Tokyo Electron Limited Source gas supply apparatus, film forming apparatus, and source gas supply method
US20210087682A1 (en) * 2019-09-24 2021-03-25 Picosun Oy Fluid distributing device for a thin-film deposition apparatus, related apparatus and methods
WO2022017425A1 (zh) * 2020-07-21 2022-01-27 宝山钢铁股份有限公司 一种采用混匀缓冲结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN214327856U (zh) * 2020-09-23 2021-10-01 启东申通电子机械配件有限公司 氧化铝真空镀膜机
CN113388821A (zh) * 2021-06-02 2021-09-14 浙江新博铝塑品有限公司 一种可以提高铝氧化表面质量的装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN115821215B (zh) 2023-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI224151B (en) Apparatus and method for delivery of precursor vapor from low vapor pressure liquid sources to a CVD chamber
CN201284372Y (zh) 多重气流金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体
CN102312198B (zh) 一种蒸镀源及蒸镀镀膜装置
CN104278253A (zh) 具有导通控制的化学沉积设备
CN102016116A (zh) 气化器及使用该气化器的成膜装置
CN115821215A (zh) 一种用于悬浮蒸镀氧化铝的喷射装置
CN116259563B (zh) 反应腔室及晶圆刻蚀装置
CN114471987A (zh) 一种冷喷涂喷枪
CN213363321U (zh) 一种回转窑外壁冷却设备
CN115799035A (zh) 反应腔室及晶圆刻蚀装置
CN102057079A (zh) 与原子层沉积反应器相连接的装置
CN220103688U (zh) 干燥装置
CN217104062U (zh) 一种碳化硅涂层制备装置
CN108546928B (zh) 化学气相沉积制备全沉积碳化硅涂层的装置
CN115652247A (zh) 一种用于等离子喷涂的送粉套及防沉积结瘤的涂层制作方法
CN103031535B (zh) 薄膜工艺设备及其制作方法
JP4704894B2 (ja) 成膜方法及び成膜装置
CN211644611U (zh) 一种成膜均匀的喷雾式氧化石墨烯薄膜制备装置
CN210357638U (zh) 一种用于喷涂银层的冷喷枪
KR20100113707A (ko) 고상파우더 공급장치 및 압력관 내 고상파우더 공급 방법
CN221918225U (zh) 一种支撑装置及热炉
CN218404366U (zh) 送粉器
CN214254441U (zh) 一种匀流板
CN216935525U (zh) 一种基于文丘里管的喷射器
CN209957892U (zh) 一种cvd沉积炉装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant