CN115790544A - 氧化炉层高精度测量方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种氧化炉层高精度测量方法，该氧化炉层高精度测量方法包括如下步骤：S1、将激光水平仪的水平激光线发射至任意一个测量层的一条基准线上、或者氧化炉顶面或氧化炉底面位置，调整所述氧化炉，使所述水平激光线与该位置处于同一水平面上；S2、利用卷尺以所述水平激光线为水平基准线，测量若干个所述测量层的层高；S3、测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。激光水平仪不受本身设置位置的平整度影响，仅需调整即可发出水平激光线，根据激光水平仪的水平激光线调整氧化炉，能快速调整氧化炉至所需要的位置，利用卷尺以水平激光线为水平基准线，快速且准确定位了测量起点，提高了测量精度和测量效率。

Description

氧化炉层高精度测量方法

技术领域

本发明涉及氧化炉测量领域，尤其是一种氧化炉层高精度测量方法。

背景技术

氧化炉分为工艺腔和加热腔，在生产过程中对氧化炉层高精度要求极高，层高精度会关系到氧化炉能否与其他设备进行精确对接。但是，氧化炉整体结构为极薄的铝合金板制造，焊接变形大，使用传统的卷尺直接测量氧化炉层高精度，测量误差大、效率低。

发明内容

本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中使用传统的卷尺直接测量氧化炉层高精度产生的测量误差大、效率低的缺陷，提供一种氧化炉层高精度测量方法。

本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题：

本发明提供一种氧化炉层高精度测量方法，该氧化炉层高精度测量方法包括如下步骤：

S1、将激光水平仪的水平激光线发射至任意一个测量层的一条基准线上、或者氧化炉顶面或氧化炉底面位置，调整所述氧化炉，使所述水平激光线与该位置处于同一水平面上；

S2、利用卷尺以所述水平激光线为水平基准线，测量若干个所述测量层的层高；

S3、测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。

在本方案中，使激光水平仪的水平激光线能够发射至任意的基准位置，便于根据实际需要调整氧化炉至所需位置，也便于对各个测量点进行测量。根据水平激光线调节氧化炉，使水平激光线与该基准位置处于同一水平面上，利用卷尺以该水平面上的水平激光线为水平基准线即测量起点，能够对测量层的层高及选定的基准位置到氧化炉顶面、底面的高度进行测量。激光水平仪不受本身设置位置的平整度影响，仅需调整即可发出水平激光线，根据激光水平仪的水平激光线调整氧化炉，能快速调整氧化炉至所需要的位置，利用卷尺以水平激光线为水平基准线，快速且准确定位了测量起点，提高了测量精度和测量效率。

优选地，所述步骤S1包括如下步骤：

S11、将所述激光水平仪安装在可调支撑架上，所述激光水平仪与所述测量层相对架设，将所述激光水平仪校准至规定范围内，使所述激光水平仪能够发出所述水平激光线；

S12、将所述可调支撑架固定在所述氧化炉中；

S13、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线能够调节至所述氧化炉的任意所述测量层的任意所述基准线高度及所述氧化炉顶面和所述氧化炉底面高度。

在本方案中，将激光水平仪安装在可调支撑架上，方便激光水平仪的位置调节，激光水平仪与测量层相对架设，将激光水平仪校准至规定范围内，使激光水平仪能够发出水平激光线，并可以水平激光线基准，调节氧化炉。

将所述可调支撑架固定在所述氧化炉中，防止测量过程中激光水平仪动摇导致激光线不水平，从而导致氧化炉的基准位置不能调节至水平位置，提高测量精度，也方便一个人进行测量，节省人力。

调节可调支撑架，使水平激光线能够调节至氧化炉的任意测量层的任意基准线高度及氧化炉顶面和氧化炉底面高度。通过可调支撑架调节激光水平仪的空间位置，可以满足激光水平仪的定向位置移动。

优选地，在所述步骤S3之后还包括如下步骤：

S4、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉顶面，若所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉顶面有平整度误差，且相对于所述水平基准线不平行；

和/或、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉底面，若所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉底面有平整度误差，且相对于所述水平基准线不平行。

在本方案中，由于水平激光线与基准位置在同一个水平面，当调节可调支撑架时，使所述水平激光线平行调整至氧化炉顶面，氧化炉顶面与水平激光线不完全在一个水平面上，说明氧化炉顶面平整度有误差，氧化炉顶面相对于基准位置不平行。

和/或，由于水平激光线与基准位置在同一个水平面，当调节可调支撑架时，使所述水平激光线平行调整至氧化炉底面，氧化炉底面与水平激光线不完全在一个水平面上，说明氧化炉底面平整度有误差，氧化炉底面相对于基准位置不平行。

优选地，所述步骤S2包括如下步骤：

S21、多次测量所述测量层的层高；

S22、取所述测量层的多个层高数据平均值作为实际层高。

在本方案中，对于测量层的层高，需多次测量，取平均值，使得取得的数值为一趋于中间且稳定的数值，能够提高最终数值的精确度。

优选地，所述步骤S21具体为：

水平移动所述激光水平仪，形成若干所述水平基准线，在若干所述水平基准线上各选取若干个基准点，利用所述卷尺以所述基准点为基准，测量若干所述水平基准线上方若干个所述测量层的若干个所述层高；

测量所述水平基准线下方若干个所述测量层的若干个所述层高。

在本方案中，在与基准位置的同一水平面中确定多条水平基准线，在多条水平基准线上选取多个基准点，从多个位置测量层高，可以更加客观全面地反应层高情况。

优选地，所述步骤S3包括如下步骤：

S31、多次测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。

在本方案中，多次测量水平基准线到氧化炉顶面及氧化炉底面的高度，能够更准确地反映基准位置到氧化炉底面和氧化炉顶面的高度。

优选地，所述步骤S31具体为：

水平移动所述激光水平仪，形成若干所述水平基准线，在若干所述水平基准线上各选取若干个基准点，利用所述卷尺以所述基准点为基准，测量若干所述水平基准线到所述氧化炉顶面的若干个所述高度；

测量若干所述水平基准线到所述氧化炉底面的若干个所述高度。

在本方案中，在与基准位置同一水平面中确定多条水平基准线，在多条水平基准线上选取多个基准点，是以同一水平面为基准，测量到氧化炉顶面、氧化炉底面的多个高度，可以更加客观全面地反应高度数据。

优选地，在所述步骤S1中，将所述激光水平仪调整至所述氧化炉的中心基准线的高度，使所述水平激光线发射到所述中心基准线上，调整所述氧化炉，使所述水平激光线与所述中心基准线处于同一平面上。

在本方案中，以氧化炉的中心基准线为基准确定水平基准线，方便同时对氧化炉的中心基准线上下层高、及到氧化炉顶面、氧化炉底面高度数据进行测量，能够通过中心基准线到氧化炉顶面、氧化炉底面高度数据，并以此高度数据判断氧化炉底面、顶面平整度。

优选地，在所述步骤S1中，将所述水平激光线发射至所述氧化炉底面上，使所述水平激光线贴合所述氧化炉底面，并保持所述水平激光线在该位置保持不动；

若所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉底面有平整度误差并调整；

水平移动所述激光水平仪，使所述水平激光线沿所述氧化炉底面水平移动，所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上的各个位置有平整度误差并调整。

在本方案中，使用水平激光线去贴合氧化炉底面，能够检测该水平激光线上氧化炉底面是否处于水平面上，不完全在同一水平面上的各个点有平整度误差，需调整。水平激光线沿所述氧化炉底面水平移动，能够检测出水平面上各个点位置的平整度情况。

优选地，当所述氧化炉底面与所述水平激光线处于同一水平面上时，垂直向上平行移动所述激光水平仪，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉顶面；

若所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉顶面有平整度误差，且所述氧化炉顶面与所述氧化炉底面不平行。

在本方案中，调整氧化炉底面在水平面上，是以氧化炉底面为基准，以水平激光线平行调整至氧化炉顶面，氧化炉顶面与水平激光线不完全在同一水平面上的各个点的平整度有误差，氧化炉顶面与氧化炉底面不平行。

优选地，在所述步骤S1中，将所述水平激光线发射至所述氧化炉顶面上，使所述水平激光线贴合所述氧化炉顶面，并保持所述水平激光线在该位置保持不动；

若所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉顶面有平整度误差并调整；

水平移动所述激光水平仪，使所述水平激光线沿所述氧化炉顶面移动，所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上的各个位置有平整度误差并调整。

在本方案中，使用水平激光线去贴合氧化炉顶面，能够检测该水平位置上氧化炉顶面是否处于水平面上，不完全在同一水平面上的各个点有平整度误差，需调整。同理，水平激光线沿所述氧化炉顶面水平移动，能够检测出该水平面上各个点位置的平整度情况。

优选地，当所述氧化炉顶面与所述水平激光线处于同一水平面上时，垂直向下平行移动所述激光水平仪，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉底面；

若所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉底面有平整度误差，所述氧化炉底面与所述氧化炉顶面不平行。

在本方案中，调整氧化炉顶面在水平面上，是以氧化炉顶面为基准，以水平激光线去贴合氧化炉底面，氧化炉底面与水平激光线不完全在同一水平面上的各个位置的平整度有误差，且氧化炉顶面与氧化炉底面的不平行。

在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可任意组合，即得本发明各较佳实例。

本发明的积极进步效果在于：在本发明中，使激光水平仪的水平激光线能够发射至任意的基准位置，便于根据实际需要调整氧化炉至所需位置，也便于对各个测量点进行测量。根据水平激光线调节氧化炉，使水平激光线与该基准位置处于同一水平面上，利用卷尺以该水平面上的水平激光线为水平基准线即测量起点，能够对测量层的层高及选定的基准位置到氧化炉顶面、氧化炉底面的高度进行测量。激光水平仪不受本身设置位置的平整度影响，仅需调整即可发出水平激光线，根据激光水平仪的水平激光线调整氧化炉，能快速调整氧化炉至所需要的位置，利用卷尺以水平激光线为水平基准线，快速且准确定位了测量起点，提高了测量精度和测量效率。

附图说明

图1为本发明的氧化炉层高部件的立体示意图。

附图标记说明：

氧化炉顶面1

测量层2

氧化炉底面3

具体实施方式

下面通过实施例的方式进一步说明本发明，但并不因此将本发明限制在的实施例范围之中。

如图1所示，本实施方式提供一种氧化炉层高精度测量方法，该氧化炉层高精度测量方法包括如下步骤：

S1、将激光水平仪的水平激光线发射至任意一个测量层2的一条基准线上、或者氧化炉顶面1或氧化炉底面3位置，调整氧化炉，使水平激光线与该位置处于同一水平面上；

S2、利用卷尺以水平激光线为水平基准线，测量若干个测量层2的层高；

S3、测量水平基准线到氧化炉顶面1及氧化炉底面3的高度。

在本实施方式中，使激光水平仪的水平激光线能够发射至任意的基准位置，便于根据实际需要调整氧化炉至所需位置，也便于对各个测量点进行测量。根据水平激光线调节氧化炉，使水平激光线与该基准位置处于同一水平面上，调节好氧化炉之后，还需使用激光水平仪的水平激光线水平移动，再次确定氧化炉达到所需位置。利用卷尺以该水平面上的水平激光线为水平基准线测量测量测的层高及基准位置到氧化炉顶面1、氧化炉底面3的高度。激光水平仪不受本身设置位置的平整度影响，仅需调整即可发出水平激光线，根据激光水平仪的水平激光线调整氧化炉，能快速调整氧化炉至所需要的位置，利用卷尺以水平激光线为水平基准线，快速且准确定位了测量起点，提高了测量精度和测量效率。

具体地，氧化炉层高部件本身在生产时，在中心基准线、每个测量层2上标记有相应的基准线。在生产装配中，根据需要，以任意基准线或氧化炉顶面1、氧化炉底面3为基准，利用卷尺与激光水平仪配合，能够准确测量出所需的数据。氧化炉的层高数值，需要与标准数值进行比对，能够以此判断生产的测量层2的层高数值是否符合要求；根据需要，测量基准位置到氧化炉顶面1、氧化炉底面3的高度数值，并与标准高度数值比较，以此判断氧化炉顶面1、氧化炉底面3的平整度情况。

在另一实施方式中，还可以通过定位激光水平仪从基准位置移动到所需位置的距离，通过测量该距离，即得到所需数值。

步骤S1包括如下步骤：

S11、将激光水平仪安装在可调支撑架上，激光水平仪与测量层2相对架设，将激光水平仪校准至规定范围内，使激光水平仪能够发出水平激光线；

S12、将可调支撑架固定在氧化炉中；

S13、调节可调支撑架，使水平激光线能够调节至氧化炉的任意测量层2的任意基准线高度及氧化炉顶面1和氧化炉底面3高度。

在本实施方式中，将激光水平仪安装在可调支撑架上，方便激光水平仪的位置调节，使激光水平仪可以在可调支撑架上进行上、下、前、后、左、右等各个方向上的位置调节，激光水平仪与测量层2相对架设，将激光水平仪校准至规定范围内，使激光水平仪能够发出水平激光线，并能够发射水平激光线至基准位置，并以此为基准，调节氧化炉。

将可调支撑架固定在氧化炉中，防止测量过程中激光水平仪动摇导致激光线不水平，从而导致氧化炉的基准位置不能准确调节至该水平位置，同时保证激光水平仪的移动过程能够准确定位，提高测量精度，也方便一个人进行测量，节省人力。

调节可调支撑架，使水平激光线能够调节至氧化炉的任意测量层2的任意基准线高度及氧化炉顶面1和氧化炉底面3高度。通过可调支撑架调节激光水平仪的空间位置，可以满足激光水平仪的定向位置移动，便于测量。

在步骤S3之后还包括如下步骤：

S4、调节可调支撑架，使水平激光线平行调整至氧化炉顶面1，若氧化炉顶面1与水平激光线不完全在同一水平面上，说明氧化炉顶面1有平整度误差，且相对于水平基准线不平行；

和/或、调节可调支撑架，使水平激光线平行调整至氧化炉底面3，若氧化炉底面3与水平激光线不完全在同一水平面上，说明氧化炉底面3有平整度误差，且相对于水平基准线不平行。

在本实施方式中，氧化炉的基准位置在固定的水平面上，当调节可调支撑架使水平激光线平行调整至氧化炉顶面1，氧化炉顶面1与水平激光线不完全在一个水平面上的各个位置的平整度有误差。

和/或，当调节可调支撑架使水平激光线平行调整至氧化炉底面3，氧化炉底面3与水平激光线不完全在一个水平面上的各个位置的平整度有误差。

在另一实施方式中，调节激光水平仪，使水平激光线在水平面上移动，氧化炉顶面1或氧化炉底面3与水平激光线部不在同一水平面上的各个位置有平整度误差，检测出该水平面上氧化炉顶面1或氧化炉底面3的平整度情况。

步骤S2包括如下步骤：

S21、多次测量测量层2的层高；

S22、取测量层2的多个层高数据平均值作为实际层高。

在本实施方式中，对于测量层2的层高，需多次测量，取平均值，使得取得的数值为一趋于中间且稳定的数值，能够提高最终数值的精确度。

步骤S21具体为：

水平移动激光水平仪，形成若干水平基准线，在若干水平基准线上各选取若干个基准点，利用卷尺以基准点为基准，测量若干水平基准线上方若干个测量层2的若干个层高；

测量水平基准线下方若干个测量层2的若干个层高。

在本实施方式中，在与基准位置的同一水平面中确定多条水平基准线，在多条水平基准线上选取多个基准点，从多个位置测量层2高，可以更加客观全面地反应层高情况。

步骤S3包括如下步骤：

S31、多次测量水平基准线到氧化炉顶面1及氧化炉底面3的高度。

在本实施方式中，多次测量水平基准线到氧化炉顶面1及氧化炉底面3的高度，能够更准确地反映基准位置到氧化炉顶面1和氧化炉底面3的高度。其高度数值需与标准的高度数值进行比较，计算出实际的高度误差，以此确定氧化炉顶面1及氧化炉底面3的平整度误差。采用多次测量的高度数值的平均值，可以更加全面反应氧化炉顶面1及氧化炉底面3整体的一个平整度情况。

步骤S31具体为：

水平移动激光水平仪，形成若干水平基准线，在若干水平基准线上各选取若干个基准点，利用卷尺以基准点为基准，测量若干水平基准线到氧化炉顶面1的若干个高度；

测量水平基准线到氧化炉底面3的若干个高度。

在本实施方式中，在与基准位置的同一水平面中确定多条水平基准线，在多条水平基准线上选取多个基准点，是以同一水平面为基准，测量基准位置到氧化炉顶面1、氧化炉底面3的多个高度，可以更加客观全面地反应基准位置到氧化炉顶面1、氧化炉底面3整个面上的高度数据。

在步骤S1中，将激光水平仪调整至氧化炉的中心基准线的高度，使水平激光线发射到中心基准线上，调整氧化炉，使水平激光线与中心基准线处于同一平面上。

在本实施方式中，这里的氧化炉的中心基准线指的是若干个测量层之间的中心基准线。以中心基准线为基准确定水平基准线，方便同时对氧化炉的中心基准线上下测量层2的层高、及中心基准线到氧化炉顶面1、氧化炉底面3的高度数据进行测量，通过中心基准线到氧化炉顶面1、氧化炉底面3高度数据，检测出氧化炉顶面1、氧化炉底面3平整度。

在步骤S1中，将水平激光线发射至氧化炉底面3上，使水平激光线贴合氧化炉底面3，并保持水平激光线在该位置保持不动；

若氧化炉底面3与水平激光线不完全在同一水平面上，说明氧化炉底面3有平整度误差并调整；

水平移动激光水平仪，使水平激光线沿氧化炉底面3水平移动，氧化炉底面3与水平激光线不完全在同一水平面上的各个位置有平整度误差并调整。

在本实施方式中，使用水平激光线去贴合氧化炉底面3，能够检测该水平激光线上氧化炉底面3是否处于水平面上，不完全在同一水平面上的各个点有平整度误差，需调整。调整水平激光线沿氧化炉底面3水平移动，能够检测出该水平面上各个点位置的平整度情况。

当氧化炉底面3与水平激光线处于同一水平面上时，垂直向上平行移动激光水平仪，使水平激光线平行调整至氧化炉顶面1；

若氧化炉顶面1与水平激光线不完全在同一水平面上，说明氧化炉顶面1有平整度误差，且氧化炉顶面1与氧化炉底面3不平行。

在本实施方式中，调整氧化炉底面3在水平面上，是以氧化炉底面3为基准，将水平激光线平行调整至氧化炉顶面1，氧化炉顶面1与水平激光线不完全在同一水平面上的位置有平整度误差，同时氧化炉顶面1与氧化炉底面3的也不平行。

在步骤S1中，将水平激光线发射至氧化炉顶面1上，使水平激光线贴合氧化炉顶面1，并保持水平激光线在该位置保持不动；

若氧化炉顶面1与水平激光线不完全在同一水平面上，说明氧化炉顶面1有平整度误差并调整；

水平移动激光水平仪，使水平激光线沿氧化炉顶面1移动，氧化炉顶面1与水平激光线不完全在同一水平面上的各个位置有平整度误差并调整。

在本实施方式中，使用水平激光线去贴合氧化炉顶面1，能够检测该条线上氧化炉顶面1是否处于水平面上，不完全在同一水平面上的各个位置有平整度误差，需调整。水平激光线沿氧化炉顶面1水平移动，能够检测出氧化炉顶面1在该水平面上各个位置的平整度情况。

当氧化炉顶面1与水平激光线处于同一水平面上时，垂直向下平行移动激光水平仪，使水平激光线平行调整至氧化炉底面3；

若氧化炉底面3与水平激光线不完全在同一水平面上，说明氧化炉底面3有平整度误差，氧化炉底面3与氧化炉顶面1不平行。

在本实施方式中，调整氧化炉顶面1在水平面上，是以氧化炉顶面1为基准，以水平激光线去贴合氧化炉底面3，以此检测出氧化炉底面3的平整度以及氧化炉顶面1与氧化炉底面3的是否平行。还需水平移动激光水平仪，使水平激光线沿氧化炉底面3水平移动，氧化炉底面3与水平激光线不完全在同一水平面上的各个位置有平整度误差，检测出氧化炉底面3的平整度情况。

在另一实施方式中，当氧化炉顶面1与水平激光线处于同一水平面上时，利用卷尺以水平激光线为水平基准线，测量氧化炉顶面1到氧化炉底面3各个位置的高度。

虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这仅是举例说明，本发明的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本发明的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1、将激光水平仪的水平激光线发射至任意一个测量层的一条基准线上、或者氧化炉顶面或氧化炉底面位置，调整所述氧化炉，使所述水平激光线与该位置处于同一水平面上；

S2、利用卷尺以所述水平激光线为水平基准线，测量若干个所述测量层的层高；

S3、测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。

2.如权利要求1所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S1包括如下步骤：

S11、将所述激光水平仪安装在可调支撑架上，所述激光水平仪与所述测量层相对架设，将所述激光水平仪校准至规定范围内，使所述激光水平仪能够发出所述水平激光线；

S12、将所述可调支撑架固定在所述氧化炉中；

S13、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线能够调节至所述氧化炉的任意所述测量层的任意所述基准线高度及所述氧化炉顶面和所述氧化炉底面高度。

3.如权利要求2所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：在所述步骤S3之后还包括如下步骤：

S4、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉顶面，若所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉顶面有平整度误差，且相对于所述水平基准线不平行；

和/或、调节所述可调支撑架，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉底面，若所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉底面有平整度误差，且相对于所述水平基准线不平行。

4.如权利要求1所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S2包括如下步骤：

S21、多次测量所述测量层的层高；

S22、取所述测量层的多个层高数据平均值作为实际层高。

5.如权利要求4所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S21具体为：

水平移动所述激光水平仪，形成若干所述水平基准线，在若干所述水平基准线上各选取若干个基准点，利用所述卷尺以所述基准点为基准，测量若干所述水平基准线上方若干个所述测量层的若干个所述层高；

测量所述水平基准线下方若干个所述测量层的若干个所述层高。

6.如权利要求1所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S3包括如下步骤：

S31、多次测量所述水平基准线到所述氧化炉顶面及所述氧化炉底面的高度。

7.如权利要求6所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：所述步骤S31具体为：

水平移动所述激光水平仪，形成若干所述水平基准线，在若干所述水平基准线上各选取若干个基准点，利用所述卷尺以所述基准点为基准，测量若干所述水平基准线到所述氧化炉顶面的若干个所述高度；

测量若干所述水平基准线到所述氧化炉底面的若干个所述高度。

8.如权利要求1所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：在所述步骤S1中，将所述激光水平仪调整至所述氧化炉的中心基准线的高度，使所述水平激光线发射到所述中心基准线上，调整所述氧化炉，使所述水平激光线与所述中心基准线处于同一平面上。

9.如权利要求1所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：在所述步骤S1中，将所述水平激光线发射至所述氧化炉底面上，使所述水平激光线贴合所述氧化炉底面，并保持所述水平激光线在该位置保持不动；

若所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉底面有平整度误差并调整；

水平移动所述激光水平仪，使所述水平激光线沿所述氧化炉底面水平移动，所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上的各个位置有平整度误差并调整。

10.如权利要求9所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：当所述氧化炉底面与所述水平激光线处于同一水平面上时，垂直向上平行移动所述激光水平仪，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉顶面；

若所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉顶面有平整度误差，且所述氧化炉顶面与所述氧化炉底面不平行。

11.如权利要求1所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：在所述步骤S1中，将所述水平激光线发射至所述氧化炉顶面上，使所述水平激光线贴合所述氧化炉顶面，并保持所述水平激光线在该位置保持不动；

若所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉顶面有平整度误差并调整；

水平移动所述激光水平仪，使所述水平激光线沿所述氧化炉顶面移动，所述氧化炉顶面与所述水平激光线不完全在同一水平面上的各个位置有平整度误差并调整。

12.如权利要求11所述的氧化炉层高精度测量方法，其特征在于：当所述氧化炉顶面与所述水平激光线处于同一水平面上时，垂直向下平行移动所述激光水平仪，使所述水平激光线平行调整至所述氧化炉底面；

若所述氧化炉底面与所述水平激光线不完全在同一水平面上，说明所述氧化炉底面有平整度误差，所述氧化炉底面与所述氧化炉顶面不平行。

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