CN115759684B - 一种量子点扩散板的制备工艺优化方法及系统 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及数据处理技术领域，提供一种量子点扩散板的制备工艺优化方法及系统。通过对外观指标集合进行关联性分析生成外观独立指标，根据应用场景匹配外观独立指标阈值，根据量子点扩散板制备日志数据对外观独立指标进行集中值评价，并采用相同方法进行性能独立指标评价，若外观/性能独立指标集中评价值不满足对应独立指标阈值，对制备工艺进行优化生成制备工艺优化结果进行量子点扩散板制备控制。解决现有技术中存在量子点扩散版制备控制依赖于人工经验，不利于进行量子点扩散板批量大规模生产的技术问题，实现提高量子点扩散板生产控制优化有效性提高产品质量，减少量子点扩散版生产控制对于人工经验的依赖性和生产控制优化耗时的技术效果。
Description
技术领域
本申请涉及数据处理技术领域，特别是涉及一种量子点扩散板的制备工艺优化方法及系统。
背景技术
传统液晶显示器NTSC色域值在70％左右，而采用量子点可将色域值提高，其中，量子点材料在应用于LCD背光源领域时，理论上可将色域提升至100％以上，量子点材料因其具备色域提升的强大优势被大规模进行商业化应用。
量子点扩散板相较于量子点膜技术具有经济方面的成本优势和产业链优势，技术方面的产品可靠性优势而逐渐替代量子点膜占据市场，同时量子点扩散板当前仍存在生产品控缺陷阻碍其市场占有率的增长，现阶段量子点扩散版在生产控制方面仍存在较大的优化改进空间。
现有技术中存在量子点扩散版制备控制依赖于人工经验，不利于高品控的进行量子点扩散板批量大规模生产的技术问题。
发明内容
基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够实现提高量子点扩散板生产控制优化有效性，提高产品质量，减少量子点扩散版生产控制对于人工经验的依赖性和生产控制优化耗时的一种量子点扩散板的制备工艺优化方法及系统。
一种量子点扩散板的制备工艺优化方法，方法包括：设定外观指标集合和性能指标集合；分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标；根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果；根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制。
一种量子点扩散板的制备工艺优化系统，所述系统包括：指标信息设定模块，用于设定外观指标集合和性能指标集合；独立指标分析模块，用于分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标；指标阈值遍历模块，用于根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；制备日志获得模块，用于根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；集中值评价模块，用于根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；优化结果获得模块，用于当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果；制备控制执行模块，用于根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制。
一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现以下步骤：
设定外观指标集合和性能指标集合；
分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标；
根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；
根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；
根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；
当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果；
根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制。
一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现以下步骤：
设定外观指标集合和性能指标集合；
分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标；
根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；
根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；
根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；
当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果；
根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制。
上述一种量子点扩散板的制备工艺优化方法及系统，解决了现有技术中存在量子点扩散版制备控制依赖于人工经验，不利于高品控的进行量子点扩散板批量大规模生产的技术问题，达到了提高量子点扩散板生产控制优化有效性，提高产品质量，减少量子点扩散版生产控制对于人工经验的依赖性和生产控制优化耗时的技术效果。
上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本申请的具体实施方式。
附图说明
图1为一个实施例中一种量子点扩散板的制备工艺优化方法的流程示意图；
图2为一个实施例中一种量子点扩散板的制备工艺优化方法中生成外观独立指标和性能独立指标的流程示意图；
图3为一个实施例中一种量子点扩散板的制备工艺优化系统的结构框图；
图4为一个实施例中计算机设备的内部结构图。
附图标记说明：指标信息设定模块11，独立指标分析模块12，指标阈值遍历模块13，制备日志获得模块14，集中值评价模块15，优化结果获得模块16，制备控制执行模块17。
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
如图1所示，本申请提供了一种量子点扩散板的制备工艺优化方法，包括：
S100:设定外观指标集合和性能指标集合；
具体而言，在本实施例中，量子点为直径在2-10纳米之间的半导体晶体颗粒，所述量子点扩散板为扩散板-量子点层-扩散板的三明治结构，通过调节量子点的尺寸、结构和材料实现控制量子点发出的光的颜色以实现生产满足不同使用场景的量子点扩散版产品生产。量子点扩散板相较于量子点膜技术具有成本优势以及产业链优势而逐渐替代量子点膜占据市场。
所述外观指标集合为量子点扩散成品外观形态特征指标构成的指标集合，板包括但不限于厚度均匀性、长度、宽度、表面脏污、线状缺陷、翘曲、点状缺陷，所述性能指标集合为量子点扩散版的功能指标以及物理性能集合，包括但不限于热变形温度、热膨胀系数、亮度均匀性、色度均匀性、峰值波长、半峰宽。所述外观指标集合自己性能指标集合为后续结合量子点扩散板的实际应用场景筛选满足应用场景要求的各项指标信息阈值提供参考指标信息。
S200:分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标；
在一个实施例中，如图2所示，所述分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标，本申请提供的方法步骤S200还包括：
S210:根据所述外观指标集合和所述性能指标集合，基于生产大数据，采集量子点扩散板质检记录数据；
S220:基于所述量子点扩散板质检记录数据分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性评估，生成多个外观指标关联系数和多个性能指标关联系数；
S230:根据所述多个外观指标关联系数，提取多个外观独立指标，添加进所述外观独立指标；
S240:遍历所述多个性能指标关联系数，提取多个性能独立指标，添加进所述性能独立指标。
在一个实施例中，所述基于所述量子点扩散板质检记录数据分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性评估，生成多个外观指标关联系数和多个性能指标关联系数，本申请提供的方法步骤S220还包括：
S221:提取所述外观指标集合或所述性能指标集合的任意两个指标，设为第一指标和第二指标；
S222:根据所述量子点扩散板质检记录数据遍历所述第一指标和所述第二指标，提取第一指标独立触发频率、第二指标独立触发频率和双指标共同触发频率；
S223:计算所述双指标共同触发频率在所述第一指标独立触发频率、所述第二指标独立触发频率和所述双指标共同触发频率中的占比，生成置信度评价值；
S224:当所述置信度评价值满足置信度阈值，根据所述量子点扩散板质检记录数据遍历所述第一指标和所述第二指标进行关联性评估，生成关联系数；
S225:将所述关联系数添加进所述多个外观指标关联系数或所述多个性能指标关联系数。
具体而言，在本实施例中，基于生产大数据，采集量子点扩散板质检记录数据，所述质检记录数据中涵盖所述外观指标集合以及性能指标集合的各项指标类型的数据，所述质检记录数据为后续以所述外观指标集合和所述性能指标集合中的各项数据指标作为数据提取基准，进行指标参数提取提供数据源。
基于所述量子点扩散板质检记录数据分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性评估，基于关联性评估获知所述外观指标集合中各项外观指标之间或性能指标集合中各项性能指标之间的指标变化关联关系。例如量子点均匀度与点状缺陷这两个外观指标之间的指标变化关联关系。
基于关联性评估生成多个外观指标关联系数或多个性能指标关联系数中各个指标之间的关联关系，并以具体数据进行表征。
在本实施例中，获取外观指标关联系数的方法和获取性能指标关联系数的方法具有一致性，因而为提高阐述准确性和简洁性，本实施例从外观性能指标择其一进行基于关联性评估方法获取关联系数方法的阐述。
具体的关联性评估方法为，从所述外观指标集合或所述性能指标集合的任意提取两个指标，设为第一指标和第二指标，如从所述外观指标集合中任选两个外观指标作为第一指标和第二指标。
根据所述量子点扩散板质检记录数据遍历所述第一指标对应的具体外观指标和所述第二指标对应的具体外观指标，提取第一指标独立触发频率、第二指标独立触发频率和双指标共同触发频率，所述第一指标独立触发频率为所述第一指标单独发生数据变化的次数，所述第二指标独立触发频率为所述第二指标单独发生数据变化的次数，所述双指标共同触发频率为所述第一指标和第二指标皆发生数据变化的次数。
计算所述双指标共同触发频率在所述第一指标独立触发频率、所述第二指标独立触发频率和所述双指标共同触发频率加和频率值中的占比，生成置信度评价值，所述置信度评价值反映了第一指标与第二指标之间发生变化的关联性，当且仅当两者共同出现的频率满足一定值时，表明第一指标与第二指标之间存在规律可循的关联性，因而本实施例基于量子点扩散板生产管理人员以往经验进行所述置信度阈值的数值设置。
当所述置信度评价值满足所述置信度阈值，表明所述第一指标与所述第二指标之间存在规律可循的关联关系，第一指标或第二指标的变化对应引起第二指标或第一指标的数据变化。
根据所述量子点扩散板质检记录数据遍历所述第一指标和所述第二指标进行关联性评估，生成关联系数，所述关联系数为第二指标变化率/第一指标变化率的均值。
采用排列组合方式获得多组第一指标和第二指标，采用相同方法计算获得多组第一指标和第二指标的关联系数，将所述多个关联系数添加进所述多个外观指标关联系数或所述多个性能指标关联系数。
根据所述多个外观指标关联系数对应的多组第一指标和第二指标的指标重复性逐级提取，提取多个外观独立指标，基于多个外观独立指标以及关联系数即可在某一独立外观指标发生数据变化时推演计算获得具有关联关系的多个外观指标的数据变化情况。
将提取获得的多个外观独立指标，添加进所述外观独立指标，采用外观独立指标相同获得方法获得多个性能独立指标，添加进所述性能独立指标。
本实施例通过两两排列组合获取多组同类型指标之间的关联关系，并基于排列组合中指标重复性进行关联关系整合，获得多个独立指标，实现了在独立指标发生数据变化时，基于独立指标数据变化数值以及独立指标与其他指标的关联关系数据即可推演获得关联指标数据变化情况，实现了获知量子点扩散板指标变化关联规律，为后续进行量子点扩散板工艺评价以及工艺优化提供评价参考以及优化参考的技术效果，提高了工艺评价科学性和工艺优化的可靠性。
S300:根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；
具体而言，应理解的，所述外观独立指标和所述性能独立指标仍为所述量子点扩散板的性能指标和外观指标，仅是基于外观独立指标或性能独立指标结合指标与其他外观指标或独立指标的关联系数可推演计算获得其他关联指标的数据变化情况。例如A、B、C三个外观指标具有关联关系，A与B的关联系数为2，B与C的关联系数为4，则或者外观独立指标数据后即可基于关联系数逐级计算获得B、C的外观指标数据。
在本实施例中，根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配获得满足应用场景需求条件下，量子点扩散版应具备的外观独立指标阈值和性能独立指标阈值，例如色度均匀性性能指标为性能独立指标，某一应用场景对量子点扩散板的要求为色度均匀性性能指标阈值84±3％。
所述外观独立指标阈值能够用于评估外观独立指标本身是否满足应用场景需求的同时，结合关联系数即可计算推演获得其他关联的外观指标阈值，以评估关联的外观指标是否满足对应的外观指标阈值。相应的，所述性能独立指标阈值具有相同的数据特性。
S400:根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；
S500:根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；
具体而言，应理解的，所述外观独立指标与多个相关外观指标之间具有关联关系，并可通过关联系数表征，以实现在获取外观独立指标发生数据变化或获取外观独立指标的外观指标阈值时，结合对应关联系数计算获得具有关联关系的多个外观指标的数据变化量以及外观指标阈值。
因而在本实施例中，根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据，基于量子点扩散板制备日志数据计数外观独立指标和与之具有关联关系的外观指标双指标共同触发频率，获得多个双指标共同触发频率，例如基于量子点扩散板制备日志数据计数获得外观独立指标a与外观指标b的双指标共同触发频率为13，与外观指标c的双指标共同触发频率为7。
根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行双指标共同触发频率计数统计。
具体的集中值评价计算方法为，将外观独立指标或性能独立指标具有关联关系的多个外观指标或性能指标的双指标共同触发频率和对应的在步骤S220获得的指标关联系数相乘并加和，获得外观独立指标集中评价值，并采用相同计算方法获取性能独立指标集中评价值。所述集中值评价，表征基于现在的量子点扩散板制备工艺进行某一应用场景的量子点扩散板制备所获成品的性能指标。
所述集中评价值越高，表明同一类型多个性能指标之间的关联关系越密切，性能指标变化越稳定，反之表明同一类型多个性能指标之间的关联变化度不高，需要通过进行量子点扩散版生产工艺优化处理。
S600:当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果；
在一个实施例中，所述当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果，本申请提供的方法步骤S600还包括：
S610:当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取外观独立指标加工控制参数；
S620:对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成外观独立指标加工控制参数优化结果；
S630:当所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取性能独立指标加工控制参数；
S640:对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成性能独立指标加工控制参数优化结果；
S650:根据所述外观独立指标加工控制参数优化结果或/和所述性能独立指标加工控制参数优化结果对所述量子点扩散板制备工艺进行调整，生成所述量子点扩散板制备工艺优化结果。
具体而言，在本实施例中，以所述外观独立指标阈值和所述性能独立指标阈值作为判断是否需要进行量子点扩散板制备工艺优化的标准，当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化。
当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取外观独立指标加工控制参数，对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成外观独立指标加工控制参数优化结果。
当所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取性能独立指标加工控制参数，对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成性能独立指标加工控制参数优化结果，根据所述外观独立指标加工控制参数优化结果或/和所述性能独立指标加工控制参数优化结果对所述量子点扩散板制备工艺进行调整，生成所述量子点扩散板制备工艺优化结果。
在本实施例中，所述性能独立指标加工控制参数优化结果和生成外观独立指标加工控制参数优化结果的方法具有一致性，因而本实施例后在续说明书内容中择其一进行外观独立指标加工控制参数优化结果和性能独立指标加工控制参数优化结果最优实施例的阐述。
本实施例通过以所述外观独立指标阈值和所述性能独立指标阈值作为判断是否需要进行量子点扩散板制备工艺优化的标准，并在存在外观独立指标集中评价值不满足外观独立指标阈值或性能独立指标集中评价值不满足性能独立指标阈值时，进行独立指标加工控制参数优化，基于独立指标与其他关联指标的关联关系实现更改优化少量指标控制参数实现进行量子点扩散板的生产控制优化的技术效果。
S700:根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制。
具体而言，在本实施例中，基于所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备工艺参数调节控制，基于调节后量子点制备工艺进行满足对应场景需求的量子点扩散板加工生产。
本实施例通过设定外观指标集合和性能指标集合；分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标；根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果；根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制，达到了提高量子点扩散板生产控制优化有效性，提高产品质量，减少量子点扩散版生产控制对于人工经验的依赖性和生产控制优化耗时的技术效果。
在一个实施例中，本申请提供的方法步骤S640还包括：
S641:根据所述外观独立指标加工控制参数，采集第一加工记录数据；
S642:根据所述第一加工记录数据，构建外观指标加工控制参数优化模型；
S643:根据所述性能独立指标加工控制参数，采集第二加工记录数据；
S644:根据所述第二加工记录数据，构建性能指标加工控制参数优化模型；
S645:根据所述外观指标加工控制参数优化模型对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成所述外观独立指标加工控制参数优化结果；
S646:根据所述性能指标加工控制参数优化模型对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成所述性能独立指标加工控制参数优化结果。
在一个实施例中，所述根据所述第一加工记录数据，构建外观指标加工控制参数优化模型，本申请提供的方法步骤S642还包括：
S642-1:根据所述第一加工记录数据，获取多组加工控制参数记录数据和多组外观独立指标检测记录数据；
S642-2:根据所述多组加工控制参数记录数据和所述多组外观独立指标检测记录数据，基于回归决策树，构建第一优化节点树；
S642-3:根据所述第一优化节点树提取不满足预设准确率的第一损失记录数据集；
S642-4:判断所述第一损失记录数据集是否小于或等于预设数量；
S642-5:若大于，根据所述第一损失记录数据集，基于回归决策树，构建第二优化节点树；
S642-6:直到第N损失记录数据集小于或等于预设数量，将所述第一优化节点树、所述第二优化节点树直到第N优化节点树合并，生成外观指标加工控制参数优化模型。
具体而言，在本实施例中，所述性能独立指标加工控制参数优化结果和生成外观独立指标加工控制参数优化结果的方法具有一致性，因而本实施例择外观独立指标加工控制参数获得方法进行详细阐述，所述外观独立指标加工控制参数获得方法是步骤S600的细化，同时也是进行独立指标加工控制参数获取的最优实施例。
在本实施例中，根据所述量子点扩散板制备工艺提取获得进行外观独立指标加工控制的所述外观独立指标加工控制参数，根据所述外观独立指标加工控制参数，采集第一加工记录数据，所述第一加工记录数据为历史进行量子点扩散板加工时的多组加工控制参数记录数据和多组外观独立指标检测记录数据，其中，加工控制参数记录数据和外观独立指标检测记录数据具有映射关系。
根据所述多组加工控制参数记录数据和所述多组外观独立指标检测记录数据，基于回归决策树，外观指标加工控制参数优化模型，所述外观指标加工控制参数优化模型具有由若干优化节点数构成。
基于回归决策树构建第一优化节点树，根据所述第一优化节点树提取不满足预设准确率的第一损失记录数据集，判断所述第一损失记录数据集是否小于或等于预设数量，若大于，根据所述第一损失记录数据集，基于回归决策树，构建第二优化节点树；直到第N损失记录数据集小于或等于预设数量，将所述第一优化节点树、所述第二优化节点树直到第N优化节点树合并，生成外观指标加工控制参数优化模型。
采用外观指标加工控制参数优化模型相同的构型构建方法进行性能指标加工控制参数优化模型的构建，根据所述量子点扩散板制备工艺获取性能独立指标加工控制参数，根据所述性能独立指标加工控制参数，采集第二加工记录数据，根据所述第二加工记录数据，构建性能指标加工控制参数优化模型。
根据所述外观指标加工控制参数优化模型对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成所述外观独立指标加工控制参数优化结果，根据所述性能指标加工控制参数优化模型对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成所述性能独立指标加工控制参数优化结果，进行独立指标加工控制参数优化的方法为迭代优化，本实施例后在续说明书内容中进行独立指标加工控制参数优化结果获得方法最优实施例的阐述。
本实施例通过基于回归决策树进行外观指标加工控制参数优化模型和性能指标加工控制参数优化模型的构建，实现了基于指标加工控制参数优化模型进行独立指标加工控制参数精准优化，达到了提高量子点扩散板加工控制参数优化的准确性和参数优化结果获得效率的技术效果，降低了量子点扩散板加工优化的时间成本。
在一个实施例中，所述根据所述外观指标加工控制参数优化模型对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成所述外观独立指标加工控制参数优化结果，本申请提供的方法步骤S645还包括：
S645-1:遍历所述外观独立指标加工控制参数，设定多个外观独立指标加工控制参数取值区间；
S645-2:遍历所述多个外观独立指标加工控制参数取值区间依次随机取值组合，生成第k组加工控制参数；
S645-3:将所述第k组加工控制参数输入所述外观指标加工控制参数优化模型，生成第k组外观独立指标评估结果；
S645-4:判断所述第k组外观独立指标评估结果是否满足所述外观独立指标阈值；
S645-5:若满足，将所述第k组加工控制参数设为所述外观独立指标加工控制参数优化结果；若不满足，重复迭代优化。
具体而言，在本实施例中，所述外观指标加工控制参数优化模型和性能指标加工控制参数优化模型的构建方法具有一致性，且基于模型进行加工控制参数优化结果获取的方法具有一致性，因而本实施例以获取外观独立指标加工控制参数优化结果进行模型数据处理过程的阐述。
根据所述量子点扩散板制备工艺获取外观独立指标加工控制参数，所述外观独立指标加工控制参数为进行所述量子点扩散板生产过程中多个外观独立指标加工控制参数集合，基于所述外观独立指标加工控制参数，设定多个外观独立指标加工控制参数取值区间。
遍历所述多个外观独立指标加工控制参数取值区间依次随机取值组合，生成第k组加工控制参数，所述第K组加工控制参数为由多个外观独立指标加工控制参数构成。
将所述第k组加工控制参数输入所述外观指标加工控制参数优化模型，生成第k组外观独立指标评估结果，判断所述第k组外观独立指标评估结果是否满足所述外观独立指标阈值，若满足，将所述第k组加工控制参数设为所述外观独立指标加工控制参数优化结果，若不满足，遍历所述多个外观独立指标加工控制参数取值区间依次随机取值组合，生成第k+1组加工控制参数，将所述第k+1组加工控制参数输入所述外观指标加工控制参数优化模型，生成第k+1组外观独立指标评估结果，判断所述第k+1组外观独立指标评估结果是否满足所述外观独立指标阈值，若满足，将所述第k+1组加工控制参数设为所述外观独立指标加工控制参数优化结果；若不满足，重复迭代优化重复迭代优化，直至获得满足外观独立指标阈值的外观指标加工控制参数。性能指标加工控制参数的获得方法与外观指标加工控制参数获得方法具有一致性，故在此不做重复阐述。
本实施例通过设定多个外观独立指标加工控制参数取值区间，随机取值组合，生成加工控制参数输入外观指标加工控制参数优化模型获得外观独立指标评估结果，与外观独立指标阈值比对以确定当前加工控制参数是否为最优解，实现了高效获取满足量子点扩散板加工控制参数优化的加工控制参数的技术效果。
在一个实施例中，如图3所示，提供了一种量子点扩散板的制备工艺优化系统，包括：指标信息设定模块11，独立指标分析模块12，指标阈值遍历模块13，制备日志获得模块14，集中值评价模块15，优化结果获得模块16，制备控制执行模块17，其中：
指标信息设定模块11，用于设定外观指标集合和性能指标集合；
独立指标分析模块12，用于分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标；
指标阈值遍历模块13，用于根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；
制备日志获得模块14，用于根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；
集中值评价模块15，用于根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；
优化结果获得模块16，用于当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果；
制备控制执行模块17，用于根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制。
在一个实施例中，所述独立指标分析模块12还包括：
质检数据采集单元，用于根据所述外观指标集合和所述性能指标集合，基于生产大数据，采集量子点扩散板质检记录数据；
关联评估执行单元，用于基于所述量子点扩散板质检记录数据分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性评估，生成多个外观指标关联系数和多个性能指标关联系数；
外观指标添加单元，用于根据所述多个外观指标关联系数，提取多个外观独立指标，添加进所述外观独立指标；
性能指标添加单元，用于遍历所述多个性能指标关联系数，提取多个性能独立指标，添加进所述性能独立指标。
在一个实施例中，所述关联评估执行单元还包括：
指标提取定义单元，用于提取所述外观指标集合或所述性能指标集合的任意两个指标，设为第一指标和第二指标；
触发频率提取单元，用于根据所述量子点扩散板质检记录数据遍历所述第一指标和所述第二指标，提取第一指标独立触发频率、第二指标独立触发频率和双指标共同触发频率；
置信度评价值获得单元，用于计算所述双指标共同触发频率在所述第一指标独立触发频率、所述第二指标独立触发频率和所述双指标共同触发频率中的占比，生成置信度评价值；
关联系数生成单元，用于当所述置信度评价值满足置信度阈值，根据所述量子点扩散板质检记录数据遍历所述第一指标和所述第二指标进行关联性评估，生成关联系数；
关联系数添加单元，用于将所述关联系数添加进所述多个外观指标关联系数或所述多个性能指标关联系数。
在一个实施例中，所述优化结果获得模块16还包括：
控制参数获得单元，用于当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取外观独立指标加工控制参数；
优化结果获得单元，用于对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成外观独立指标加工控制参数优化结果；
控制参数获取单元，用于当所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取性能独立指标加工控制参数；
参数优化执行单元，用于对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成性能独立指标加工控制参数优化结果；
制备工艺调整单元，用于根据所述外观独立指标加工控制参数优化结果或/和所述性能独立指标加工控制参数优化结果对所述量子点扩散板制备工艺进行调整，生成所述量子点扩散板制备工艺优化结果。
在一个实施例中，所述参数优化执行单元还包括：
记录数据采集单元，用于根据所述外观独立指标加工控制参数，采集第一加工记录数据；
优化模型构建单元，用于根据所述第一加工记录数据，构建外观指标加工控制参数优化模型；
记录数据收集单元，用于根据所述性能独立指标加工控制参数，采集第二加工记录数据；
优化模型搭建单元，用于根据所述第二加工记录数据，构建性能指标加工控制参数优化模型；
优化结果获得单元，用于根据所述外观指标加工控制参数优化模型对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成所述外观独立指标加工控制参数优化结果；
优化结果获取单元，用于根据所述性能指标加工控制参数优化模型对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成所述性能独立指标加工控制参数优化结果。
在一个实施例中，所述优化模型构建单元还包括：
加工数据提取单元，用于根据所述第一加工记录数据，获取多组加工控制参数记录数据和多组外观独立指标检测记录数据；
优化节点树构建单元，用于根据所述多组加工控制参数记录数据和所述多组外观独立指标检测记录数据，基于回归决策树，构建第一优化节点树；
数据集合提取单元，用于根据所述第一优化节点树提取不满足预设准确率的第一损失记录数据集；
预设数量判断单元，用于判断所述第一损失记录数据集是否小于或等于预设数量；
判断结果处理单元，用于若大于，根据所述第一损失记录数据集，基于回归决策树，构建第二优化节点树；
优化模型生成单元，用于直到第N损失记录数据集小于或等于预设数量，将所述第一优化节点树、所述第二优化节点树直到第N优化节点树合并，生成外观指标加工控制参数优化模型。
在一个实施例中，所述优化结果获得单元还包括：
取值区间设置单元，用于遍历所述外观独立指标加工控制参数，设定多个外观独立指标加工控制参数取值区间；
随机取值执行单元，用于遍历所述多个外观独立指标加工控制参数取值区间依次随机取值组合，生成第k组加工控制参数；
评估结果获得单元，用于将所述第k组加工控制参数输入所述外观指标加工控制参数优化模型，生成第k组外观独立指标评估结果；
指标阈值比对单元，用于判断所述第k组外观独立指标评估结果是否满足所述外观独立指标阈值；
迭代优化判断单元，用于若满足，将所述第k组加工控制参数设为所述外观独立指标加工控制参数优化结果；若不满足，重复迭代优化。
关于一种量子点扩散板的制备工艺优化系统的具体实施例可以参见上文中对于一种量子点扩散板的制备工艺优化方法的实施例，在此不再赘述。上述一种量子点扩散板的制备工艺优化装置中的各个模块可全部或部分通过软件、硬件及其组合来实现。上述各模块可以硬件形式内嵌于或独立于计算机设备中的处理器中，也可以以软件形式存储于计算机设备中的存储器中，以便于处理器调用执行以上各个模块对应的操作。
在一个实施例中，提供了一种计算机设备，该计算机设备可以是服务器，其内部结构图可以如图4所示。该计算机设备包括通过系统总线连接的处理器、存储器和网络接口。其中，该计算机设备的处理器用于提供计算和控制能力。该计算机设备的存储器包括非易失性存储介质、内存储器。该非易失性存储介质存储有操作系统、计算机程序和数据库。该内存储器为非易失性存储介质中的操作系统和计算机程序的运行提供环境。该计算机设备的数据库用于存储新闻数据以及时间衰减因子等数据。该计算机设备的网络接口用于与外部的终端通过网络连接通信。该计算机程序被处理器执行时以实现一种量子点扩散板的制备工艺优化方法。
本领域技术人员可以理解，图4中示出的结构，仅仅是与本申请方案相关的部分结构的框图，并不构成对本申请方案所应用于其上的计算机设备的限定，具体的计算机设备可以包括比图中所示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者具有不同的部件布置。
在一个实施例中，提供了一种计算机设备，包括存储器和处理器，存储器中存储有计算机程序，该处理器执行计算机程序时实现以下步骤：设定外观指标集合和性能指标集合；分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标；根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果；根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制。
以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (6)
1.一种量子点扩散板的制备工艺优化方法，其特征在于，包括：
设定外观指标集合和性能指标集合；
分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标，包括：
根据所述外观指标集合和所述性能指标集合，基于生产大数据，采集量子点扩散板质检记录数据；
基于所述量子点扩散板质检记录数据分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性评估，生成多个外观指标关联系数和多个性能指标关联系数；
根据所述多个外观指标关联系数，提取多个外观独立指标，添加进所述外观独立指标；
遍历所述多个性能指标关联系数，提取多个性能独立指标，添加进所述性能独立指标；
根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；
根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；
根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；
当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果，包括：
当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取外观独立指标加工控制参数；
对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成外观独立指标加工控制参数优化结果；
当所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取性能独立指标加工控制参数；
对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成性能独立指标加工控制参数优化结果；
根据所述外观独立指标加工控制参数优化结果或/和所述性能独立指标加工控制参数优化结果对所述量子点扩散板制备工艺进行调整，生成所述量子点扩散板制备工艺优化结果，包括：
根据所述外观独立指标加工控制参数，采集第一加工记录数据；
根据所述第一加工记录数据，构建外观指标加工控制参数优化模型；
根据所述性能独立指标加工控制参数，采集第二加工记录数据；
根据所述第二加工记录数据，构建性能指标加工控制参数优化模型；
根据所述外观指标加工控制参数优化模型对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成所述外观独立指标加工控制参数优化结果；
根据所述性能指标加工控制参数优化模型对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成所述性能独立指标加工控制参数优化结果；
根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述量子点扩散板质检记录数据分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性评估，生成多个外观指标关联系数和多个性能指标关联系数，包括：
提取所述外观指标集合或所述性能指标集合的任意两个指标，设为第一指标和第二指标；
根据所述量子点扩散板质检记录数据遍历所述第一指标和所述第二指标，提取第一指标独立触发频率、第二指标独立触发频率和双指标共同触发频率；
计算所述双指标共同触发频率在所述第一指标独立触发频率、所述第二指标独立触发频率和所述双指标共同触发频率中的占比，生成置信度评价值；
当所述置信度评价值满足置信度阈值，根据所述量子点扩散板质检记录数据遍历所述第一指标和所述第二指标进行关联性评估，生成关联系数；
将所述关联系数添加进所述多个外观指标关联系数或所述多个性能指标关联系数。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一加工记录数据，构建外观指标加工控制参数优化模型，包括：
根据所述第一加工记录数据，获取多组加工控制参数记录数据和多组外观独立指标检测记录数据；
根据所述多组加工控制参数记录数据和所述多组外观独立指标检测记录数据，基于回归决策树，构建第一优化节点树；
根据所述第一优化节点树提取不满足预设准确率的第一损失记录数据集；
判断所述第一损失记录数据集是否小于或等于预设数量；
若大于，根据所述第一损失记录数据集，基于回归决策树，构建第二优化节点树；
直到第N损失记录数据集小于或等于预设数量，将所述第一优化节点树、所述第二优化节点树直到第N优化节点树合并，生成外观指标加工控制参数优化模型。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述外观指标加工控制参数优化模型对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成所述外观独立指标加工控制参数优化结果，包括：
遍历所述外观独立指标加工控制参数，设定多个外观独立指标加工控制参数取值区间；
遍历所述多个外观独立指标加工控制参数取值区间依次随机取值组合，生成第k组加工控制参数；
将所述第k组加工控制参数输入所述外观指标加工控制参数优化模型，生成第k组外观独立指标评估结果；
判断所述第k组外观独立指标评估结果是否满足所述外观独立指标阈值；
若满足，将所述第k组加工控制参数设为所述外观独立指标加工控制参数优化结果；若不满足，重复迭代优化。
5.一种量子点扩散板的制备工艺优化系统，其特征在于，所述系统包括：
指标信息设定模块，用于设定外观指标集合和性能指标集合；
独立指标分析模块，用于分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性分析，生成外观独立指标和性能独立指标，包括：
根据所述外观指标集合和所述性能指标集合，基于生产大数据，采集量子点扩散板质检记录数据；
基于所述量子点扩散板质检记录数据分别对所述外观指标集合和所述性能指标集合进行关联性评估，生成多个外观指标关联系数和多个性能指标关联系数；
根据所述多个外观指标关联系数，提取多个外观独立指标，添加进所述外观独立指标；
遍历所述多个性能指标关联系数，提取多个性能独立指标，添加进所述性能独立指标；
指标阈值遍历模块，用于根据量子点扩散板应用场景遍历所述外观独立指标和所述性能独立指标，匹配外观独立指标阈值和性能独立指标阈值；
制备日志获得模块，用于根据量子点扩散板制备工艺，基于生产大数据，采集量子点扩散板制备日志数据；
集中值评价模块，用于根据所述量子点扩散板制备日志数据分别对所述外观独立指标和所述性能独立指标进行集中值评价，生成外观独立指标集中评价值和性能独立指标集中评价值；
优化结果获得模块，用于当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值，或/和所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，对所述量子点扩散板制备工艺进行优化，生成量子点扩散板制备工艺优化结果，包括：
当所述外观独立指标集中评价值不满足所述外观独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取外观独立指标加工控制参数；
对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成外观独立指标加工控制参数优化结果；
当所述性能独立指标集中评价值不满足所述性能独立指标阈值时，根据所述量子点扩散板制备工艺获取性能独立指标加工控制参数；
对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成性能独立指标加工控制参数优化结果；
根据所述外观独立指标加工控制参数优化结果或/和所述性能独立指标加工控制参数优化结果对所述量子点扩散板制备工艺进行调整，生成所述量子点扩散板制备工艺优化结果，包括：
根据所述外观独立指标加工控制参数，采集第一加工记录数据；
根据所述第一加工记录数据，构建外观指标加工控制参数优化模型；
根据所述性能独立指标加工控制参数，采集第二加工记录数据；
根据所述第二加工记录数据，构建性能指标加工控制参数优化模型；
根据所述外观指标加工控制参数优化模型对所述外观独立指标加工控制参数进行优化，生成所述外观独立指标加工控制参数优化结果；
根据所述性能指标加工控制参数优化模型对所述性能独立指标加工控制参数进行优化，生成所述性能独立指标加工控制参数优化结果；
制备控制执行模块，用于根据所述量子点扩散板制备工艺优化结果进行量子点扩散板的制备控制。
6.一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至4中任一项所述的方法的步骤。
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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