CN115729029A - 金属掩膜版 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种金属掩膜版,包括:外框,外框设有支撑面;多根第一支撑金属条,第一支撑金属条沿第一方向设置在外框的支撑面上,多根第二支撑金属条,第二支撑金属条沿第二方向设置在第一支撑金属条上,第一方向与第二方向垂直,部分第二支撑金属条上设有贯穿的第一通孔,部分第二支撑金属条上设有第一凹槽。根据本申请实施例提供的技术方案,通过在支撑金属条上开孔,对清洗药液进行导流。减少药液残留在金属掩膜版上的面积,还通过在支撑金属条上进行局部刻蚀,形成对应的第一凹槽,使得相应支撑金属条与设置在其上方的结构之间的间距更大,具有更多的空间供药液挥发,使得清洗药液挥发更加彻底,不再出现清洗溶剂残留的情况。
Description
技术领域
本发明一般涉及掩膜版领域,尤其涉及金属掩膜版。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示装置具有轻薄,低功耗,高对比度,高色域,可以实现柔性显示等优点。
OLED显示装置包括被动式有机电激发光二极管(PMOLED)和有源矩阵有机发光二极体(AMOLED)两种,其中AMOLED的实现方式包括:低温多晶硅(LTPS,Low TemperaturePoly-silicon)背板+精细金属掩膜(FMM Mask)方式,和氧化物(Oxide)背板+白色OLED背光(WOLED)+彩膜的方式。前者主要适用于小尺寸面板,多用于移动显示装置和手机;后者主要适用于大尺寸面板,多用于显示器和电视等。
目前低温多晶硅背板+精细金属掩膜方式的方式已经成熟,实现了量产。其中,低温多晶硅背板+精细金属掩膜是通过蒸镀方式将OLED的材料按照预定程序蒸镀到低温多晶硅背板上,其利用精细金属掩膜上的图形,在低温多晶硅背板上形成红绿蓝器件。但是,金属掩膜版在清洗过程中,清洗溶剂会残留在金属掩膜版上面,最终导致蒸镀机中的蒸镀腔室的气体氛围不达标,造成产品损失。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种金属掩膜版。
第一方面,提供一种金属掩膜版,包括:
外框,所述外框设有支撑面;
多根第一支撑金属条,所述第一支撑金属条沿第一方向设置在所述外框的支撑面上,
多根第二支撑金属条,所述第二支撑金属条沿第二方向设置在所述第一支撑金属条上,所述第一方向与所述第二方向垂直,所述第二支撑金属条宽度大于所述第一支撑金属条宽度,
部分所述第二支撑金属条上设有贯穿的第一通孔,部分所述第二支撑金属条上设有第一凹槽。
根据本申请实施例提供的技术方案,通过在支撑金属条上开孔,对清洗药液进行导流。减少药液残留在金属掩膜版上的面积,还通过在支撑金属条上进行局部刻蚀,形成对应的第一凹槽,使得相应支撑金属条与设置在其上方的结构之间的间距更大,具有更多的空间供药液挥发,使得清洗药液挥发更加彻底,不再出现清洗溶剂残留的情况。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为本实施例提供的金属掩膜版结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明,而非对该发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
请参考图1,提供一种金属掩膜版,包括:
外框1,所述外框1设有支撑面;
多根第一支撑金属条2,所述第一支撑金属条2沿第一方向设置在所述外框1的支撑面上,
多根第二支撑金属条3,所述第二支撑金属条3沿第二方向设置在所述第一支撑金属条2上,所述第一方向与所述第二方向垂直,所述第二支撑金属条3宽度大于所述第一支撑金属条2宽度,
部分所述第二支撑金属条3上设有贯穿的第一通孔31,部分所述第二支撑金属条3上设有第一凹槽32。
本实施例提供的金属掩膜版通过在支撑金属条上开孔,对清洗药液进行导流。减少药液残留在金属掩膜版上的面积,还通过在支撑金属条上进行局部刻蚀,形成对应的第一凹槽32,使得相应支撑金属条与设置在其上方的结构之间的间距更大,具有更多的空间供药液挥发,使得清洗药液挥发更加彻底,不再出现清洗溶剂残留的情况。
其中,金属掩膜版包括最外侧的外框1,该外框1也是最下层的结构,外框1包括支撑面(以图1为例,该外框1此时显示的面即为支撑面),其他结构都是设置安装在外框1上方的即安置在外框1的支撑面上,外框1上设置安装多根第一支撑金属条2,多根第一支撑金属条2平行设置,一般为间隔均匀设置,第一支撑金属条2上设置多根第二支撑金属条3,第一支撑金属条2与第二支撑金属条3为相互垂直的,并且一般将第二支撑金属条3也间隔均匀设置,形成均匀的网格结构,对放置在上方的背板等结构进行良好的支撑,提供足够的支撑能力。
优选的,第二支撑金属条3的宽度大于第一支撑金属条2的宽度,将第二支撑金属条3设置的较宽,便于后续对各个金属条的对位,并且第一金属条设置在上还是第二金属条设置在上可以进行变动,优选的将较宽的金属条设置在上方,使得下方较窄的金属条与放置的背板结构之间存在一定的距离,以便于清洗药液的挥发,同时设置在上的较宽的金属条上开设相应的凹槽结构,为其与放置的背板结构之间设置较大的空间,给上方的金属条提供充足的药液挥发空间,增加上方金属条上药液的挥发性。
进一步的,两侧所述第二支撑金属条3上设有贯穿的所述第一通孔31,所述第一通孔31设置在相邻的所述第一支撑金属条2之间。
参考图1所示,在第二支撑金属条3上设置第一通孔31,第一通孔31贯穿该第二支撑金属条3设置,并且第一通孔31只在该第二支撑金属条3不与第一支撑金属条2或者外框1接触的地方设置,使得多个结构搭接的地方能够充分接触,保证该掩膜版的支撑能力。具体的将第一通孔31设置在两侧的第二支撑金属条3上,就是图1中所示的上下两根第二支撑金属条3上,在进行金属掩膜版的设置的时候为了保证各个金属条的支撑能力,第二支撑金属条3并不是完全等宽的,两侧的第二支撑金属条3设置的较宽,中间的第二支撑金属条3设置的略窄(仅给出一根中间第二支撑金属条3示例,具体的根据产品的大小决定相应第二支撑金属条3的数量),此处的两侧并不完全指最外侧的两根,根据实际情况可能选择两边外侧的两根甚至更多跟设置为较宽的第二支撑金属条3,通过在较宽的第二支撑金属条3上开第一通孔31,减少其与药液的接触面积。为了保证第二支撑金属条3的支撑强度,该第一通孔31的范围不宜太大。
进一步的,两侧之间的所述第二支撑金属条3上设有多个所述第一凹槽32,所述第一凹槽32设置在相邻的所述第一支撑金属条2之间,所述第一凹槽32开口背离所述外框1支撑面设置。
本实施例通过在第二支撑金属条3上设置多个第一凹槽32,将第二支撑金属条3面向放置的背板的面进行半刻蚀,使得该第二支撑金属条3和放置的背板之间的空间得以增加,增加了清洗药液的挥发空间。根据上述实施例中所说的,由于中间的第二支撑金属条3的宽度略窄,开设通孔会影响其支撑性能,因此在中间位置的第二支撑金属条3上设置第一凹槽32,给相应的第二支撑金属条3增加药液挥发空间。
进一步的,所述第二支撑金属条3上在相邻的所述第一支撑金属条2之间的区域设有多个所述第一凹槽32,多个所述第一凹槽32平行设置。
为了保证第二支撑金属条3的支撑强度,设置在该第二支撑金属条3上的第一凹槽32可以设置为多个第一凹槽32平行的结构,具体参见图1所示,每个相邻的第一支撑金属条2之间的第二支撑金属条3上设置平行的第一凹槽32,第一凹槽32之间不进行刻蚀,保留原本第二支撑金属条3的厚度,使得该第二支撑金属条3的支撑能力不受过多的影响,保证随后放置在金属掩膜版上的背板的平整度。
进一步的,每根所述第二支撑金属条3两端设有贯穿的第二通孔33,所述第二通孔33设置在所述外框1和所述第一支撑金属条2之间。
如图1所示,本实施例在每根第二支撑金属条3两端设置第二通孔33,通过第二通孔33进一步增加药液的流出,减少第二支撑金属条3与药液的接触面积,同时该第二通孔33一般设置在外框1和第一支撑金属条2之间的位置,该位置处间距较小,因此,设置多个小孔实现该第二通孔33的作用。
进一步的,所述第一支撑金属条2上设有第二凹槽,所述第二凹槽设置在相邻的所述第二支撑金属条3之间。
上述实施例中通过在第二支撑金属条3上设置第一凹槽32增加药液的挥发空间,优选的在第一支撑金属条2上也设置相应的第二凹槽(图1中并未示出),使得第一支撑金属条2与放置的背板之间也增加相应的空间,使得清洗药液的挥发空间更大,由于第一支撑金属条2较窄,需要根据实际的需求和支撑强度确定设置在第一支撑金属条2上的第二凹槽的宽度和大小。
进一步的,所述第二凹槽开口背离所述外框1支撑面设置。与上述设置在第二支撑金属条3上的第一凹槽32结构的功能相同,其都是为了增加支撑金属条与上方结构之间的间距,增加清洗药液的挥发空间,因此,第二凹槽的开口方向与第一凹槽32相同,都朝向背离外框1支撑面的设置,也就是朝向放置的背板设置。
进一步的,所述第一凹槽32和所述第二凹槽的深度不超过对应的所述第一支撑金属条2和所述第二支撑金属条3厚度的一半。本实施例中通过在金属掩膜版框架内部的第一支撑金属条2和/或者第二支撑金属条3上开设相应的凹槽或者通孔,减少药液残留的面积,以及相应增加药液挥发的空间,使得药液尽可能少的残留在金属掩膜版上,同样,也需要考虑到该金属掩膜版对背板结构的支撑能力,优选的将第一凹槽32和第二凹槽设置的深度不超过相应支撑金属条厚度的一半,不对金属掩膜版本身的支撑强度产生影响。
进一步的,所述第一通孔31和所述第二通孔33横截面为圆形或者方形。
参考图1所示,本实施例在第二支撑金属条3上设置的第一通孔31设置为方形结构,该方孔还需要在拐角处进行一定的倒角,或者直接设置为圆孔或者椭圆孔结构(图中并未示出),设置第二支撑金属条3上的第二通孔33一般较小,可以根据情况设置为圆孔或者方孔。由于金属掩膜版会使用超声波清洗,在清洗过程中方形或者矩形孔容易出现裂纹,因此,本实施例优选的将第一通孔31和第二通孔33设置为圆形孔,或者带倒角的矩形孔。
本实施例提供的结构减小了药液与金属掩膜版之间的接触面积,增加了药液挥发的空间,减少了药液在金属掩膜版上的残留,金属掩膜版清洗之后不会出现药液残留导致的真空腔室气体氛围异常的情况。
需要解释的是,上述实施例中提供的以及图1提供的金属掩膜版结构均只涉及到了外框、第一支撑金属条和第二支撑金属条的结构,在实际使用的时候,金属掩膜版还包括设置在第二支撑金属条上的对位金属条、精细金属掩膜层等结构,进行具体的发光层蒸镀工作。
需要理解的是,上文如有涉及术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制;方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
为了便于描述,在这里可以使用空间相对术语,如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等,用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是,空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如,如果附图中的器件被倒置,则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而,示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位旋转90度或处于其他方位,并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解,本申请中所涉及的发明范围,并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案,同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下,由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
Claims (10)
1.一种金属掩膜版,其特征在于,包括:
外框,所述外框设有支撑面;
多根第一支撑金属条,所述第一支撑金属条沿第一方向设置在所述外框的支撑面上,
多根第二支撑金属条,所述第二支撑金属条沿第二方向设置在所述第一支撑金属条上,所述第一方向与所述第二方向垂直,所述第二支撑金属条宽度大于所述第一支撑金属条宽度,
部分所述第二支撑金属条上设有贯穿的第一通孔,部分所述第二支撑金属条上设有第一凹槽。
2.根据权利要求1所述的金属掩膜版,其特征在于,两侧所述第二支撑金属条上设有贯穿的所述第一通孔,所述第一通孔设置在相邻的所述第一支撑金属条之间。
3.根据权利要求2所述的金属掩膜版,其特征在于,两侧之间的所述第二支撑金属条上设有多个所述第一凹槽,所述第一凹槽设置在相邻的所述第一支撑金属条之间,所述第一凹槽开口背离所述外框支撑面设置。
4.根据权利要求3所述的金属掩膜版,其特征在于,所述第二支撑金属条上在相邻的所述第一支撑金属条之间的区域设有多个所述第一凹槽,多个所述第一凹槽平行设置。
5.根据权利要求3所述的金属掩膜版,其特征在于,每根所述第二支撑金属条两端设有贯穿的第二通孔,所述第二通孔设置在所述外框和所述第一支撑金属条之间。
6.根据权利要求1-5任一所述的金属掩膜版,其特征在于,所述第一支撑金属条上设有第二凹槽,所述第二凹槽设置在相邻的所述第二支撑金属条之间。
7.根据权利要求6所述的金属掩膜版,其特征在于,所述第二凹槽开口背离所述外框支撑面设置。
8.根据权利要求6所述的金属掩膜版,其特征在于,所述第一凹槽和所述第二凹槽的深度不超过对应的所述第一支撑金属条和所述第二支撑金属条厚度的一半。
9.根据权利要求5所述的金属掩膜版,其特征在于,所述第一通孔和所述第二通孔横截面为圆形或者方形。
10.根据权利要求1-5任一所述的金属掩膜版,其特征在于,两侧所述第二支撑金属条的宽度大于中间所述第二支撑金属条的宽度。
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