CN115720470A - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及显示装置。显示装置包括：显示面板，包括在衬底上的第一像素和第二像素；以及触摸传感器，在显示面板上，其中，触摸传感器包括：传感器图案，在显示面板上；桥接图案，连接到传感器图案；第一光阻挡图案，在传感器图案上，其中，第一光阻挡图案针对第一像素中的每个设置，第一光阻挡图案包括与第一像素中的每个的发射区域对应的第一开口；以及第二光阻挡图案，位于第一光阻挡图案下方，其中，第二光阻挡图案针对第一像素中的每个设置，第二光阻挡图案包括与第一像素中的每个的发射区域对应的第二开口，以及其中，第一光阻挡图案和第二光阻挡图案具有相同的平面形状。

Description

显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2021年8月24日在韩国知识产权局提交的第10-2021-0111920号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的公开内容通过引用以其整体并入本文中。
技术领域
本公开涉及一种显示装置。
背景技术
显示装置是用于以视觉形式呈现信息的输出装置。随着对信息显示的兴趣的增加，显示装置正被广泛地用于诸如智能电话、数码相机、笔记本计算机、导航系统和智能电视的各种电子装置中，并且正在不断地开展显示装置的研究和开发。
发明内容
本公开的实施方式提供了一种能够稳定地实现私密模式的显示装置。
根据本公开的实施方式，提供了一种显示装置，其包括：显示面板，包括第一像素和第二像素，其中，第一像素和第二像素设置在衬底上；以及触摸传感器，设置在显示面板上，其中，触摸传感器包括：传感器图案，设置在显示面板上；桥接图案，电连接到传感器图案；第一光阻挡图案，设置在传感器图案上，其中，第一光阻挡图案针对第一像素中的每个设置，第一光阻挡图案包括与第一像素中的每个的发射区域对应的第一开口；以及第二光阻挡图案，位于第一光阻挡图案下方，其中，第二光阻挡图案针对第一像素中的每个设置，第二光阻挡图案包括与第一像素中的每个的发射区域对应的第二开口，以及其中，第一光阻挡图案和第二光阻挡图案在第一像素中的每个上具有相同的平面形状。
第一光阻挡图案和第二光阻挡图案可以包括不同的材料。
第一光阻挡图案可以包括黑色矩阵，并且第二光阻挡图案可以包括导电材料。
第二光阻挡图案可以电连接到传感器图案中的位于第二像素上的至少一个传感器图案。
第一像素中的每个可以包括至少一个第一子像素，其中，第一子像素包括设置在衬底上的第一电极、包括暴露第一电极的一区域的开口的像素限定层、设置在第一电极的一区域上的第一发射层、以及设置在第一发射层上的第二电极，以及其中，第一子像素包括四个发射区域。
像素限定层的开口、第一光阻挡图案的第一开口和第二光阻挡图案的第二开口可以彼此重叠。
第二像素中的每个可以包括至少一个第二子像素，其中，第二子像素包括设置在衬底上的第三电极、包括暴露第三电极的一区域的开口的像素限定层、设置在第三电极的一区域上的第二发射层、以及设置在第二发射层上的第四电极，以及其中，第二子像素包括一个发射区域。
第一子像素和第二子像素可以具有不同的尺寸。
当在平面上观察时，第一子像素的四个发射区域和第二子像素的一个发射区域可以具有菱形形状或圆形形状。
触摸传感器还可以包括：基础层，位于显示面板上；第一导电图案，位于基础层上；第一绝缘层，设置在第一导电图案和基础层上；第二导电图案，位于第一绝缘层上；第二绝缘层，设置在第二导电图案和第一绝缘层上；以及封盖层，设置在第二绝缘层上，其中，第一光阻挡图案设置在封盖层上。
传感器图案可以包括沿着第一方向布置的第一传感器图案和沿着与第一方向相交的第二方向布置的第二传感器图案，其中，桥接图案可以包括将第一传感器图案彼此连接的第一桥接图案和将第二传感器图案彼此连接的第二桥接图案，以及其中，第一导电图案可以包括第一桥接图案，以及第二导电图案可以包括第一传感器图案、第二传感器图案和第二桥接图案。
第二光阻挡图案可以设置在与第一传感器图案、第二传感器图案和第二桥接图案相同的层中。
第二光阻挡图案的宽度可以大于位于第二像素中的每个上的至少一个传感器图案的宽度。
触摸传感器还可以包括位于第二光阻挡图案下方的第三光阻挡图案，其中，第三光阻挡图案针对第一像素中的每个设置，第三光阻挡图案包括与第一像素中的每个的发射区域对应的第三开口。
第一光阻挡图案、第二光阻挡图案和第三光阻挡图案在第一像素中的每个上可以具有相同的平面形状。
第三光阻挡图案可以包括导电材料。
第三光阻挡图案可以设置在与第一桥接图案相同的层中。
像素限定层的开口、第一光阻挡图案的第一开口、第二光阻挡图案的第二开口和第三光阻挡图案的第三开口可以彼此重叠。
第一子像素和第二子像素中的每个还可以包括设置在衬底上的像素电路层，像素电路层包括至少一个晶体管。
根据本公开的实施方式，提供了一种显示装置，其包括：显示面板，包括第一像素和第二像素；以及触摸传感器，设置在显示面板上，其中，触摸传感器包括：传感器图案，设置在显示面板上；桥接图案，电连接到传感器图案；第一光阻挡图案，设置在传感器图案上，其中，第一光阻挡图案针对第一像素中的每个设置，第一光阻挡图案包括与第一像素中的每个的发射区域对应的第一开口；第二光阻挡图案，与第一光阻挡图案重叠，其中，第二光阻挡图案针对第一像素中的每个设置，第二光阻挡图案包括与第一开口对应的第二开口；以及第三光阻挡图案，与第二光阻挡图案重叠，其中，第三光阻挡图案针对第一像素中的每个设置，第三光阻挡图案包括与第二开口对应的第三开口，其中，第一光阻挡图案、第二光阻挡图案和第三光阻挡图案在第一像素中的每个上具有相同的平面形状。
附图说明
现将在下文中参考附图更全面地描述本公开的示例性实施方式；然而，本公开可以以不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文中阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本公开将是透彻且完整的，并且将向本领域的技术人员充分传达示例性实施方式的范围。
在附图中，为了图示的清楚，可能夸大了尺寸。将理解的是，当元件被称为“在”两个元件“之间”时，它可以是两个元件之间的唯一元件，或者也可以存在一个或多个中间的元件。在本说明书全文中，相同的附图标记可以表示相同的元件。
图1是示出根据本公开的实施方式的显示装置的立体图。
图2是图1中所示的显示装置的剖视图。
图3是示出图2中所示的显示面板的平面图。
图4是示出包括在图3中所示的像素中的部件的电连接关系的电路图。
图5是图2中所示显示面板的一部分的放大剖视图。
图6是图2中所示的触摸传感器的剖视图。
图7是图2中所示的触摸传感器的平面图。
图8是图7中所示的部分EA2的放大图。
图9是沿着图8中所示的线I-I'截取的剖视图。
图10是图8中所示的部分EA3的放大图。
图11是图1中所示的部分EA1的放大图。
图12A和图12B是图11中所示的部分EA4的放大图。
图13是图12A中所示的部分EA4的立体图。
图14是沿着图12A中所示的线II-II'截取的剖视图。
图15和图16示出了包括第三光阻挡图案的第一像素和与其相邻的第二像素，并且其是与图11中所示的部分EA4对应的立体图。
图17是沿着图15中所示的线III-III'截取的剖视图。
具体实施方式
将理解的是，尽管本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因此，下面讨论的“第一”元件也可以被称为“第二”元件。如本文中所使用的，单数形式旨在也包括复数形式，除非上下文另外清楚地指示。
还将理解的是，当在本说明书中使用时，术语“包括(include)”和/或“包括(including)”指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组的存在和/或添加。此外，诸如层、区域、衬底或板的元件被放置在另一元件“上”或“上方”的表述不仅指示元件被“直接”放置在另一元件“上”或放置在另一元件“正上方”的情况，而且指示在该元件和另一元件之间插置有又一元件的情况。此外，诸如层、区域、衬底或板的元件被放置在另一元件“下面”或“下方”的表述不仅指示该元件被“直接”放置在另一元件“下面”或放置在另一元件“正下方”的情况，而且指示在该元件和另一元件之间插置有又一元件的情况。
在本说明书中，将理解的是，当元件(例如，第一元件)“与”另一元件(例如，第二元件)“(可操作地或通信地)联接”/“(可操作地或通信地)联接到”另一元件(例如，第二元件)，或者“连接到”另一元件(例如，第二元件)时，该元件可以与另一元件直接联接/直接联接到另一元件，或者在该元件和另一元件之间可以存在中间元件(例如，第三元件)。此外，将理解的是，当元件(例如，第一元件)“直接与”另一元件(例如，第二元件)“联接”/“直接联接到”另一元件(例如，第二元件)，或“直接连接到”另一元件(例如，第二元件)时，在该元件和另一元件之间不存在中间元件(例如，第三元件)。
在下文中，将参考附图详细描述本公开的示例性实施方式。
图1是示出根据本公开的实施方式的显示装置DD的立体图。图2是图1中所示的显示装置DD的剖视图。
参考图1和图2，显示装置DD可以包括显示模块DM和窗WD。
显示装置DD可以设置成各种形状。在示例中，显示装置DD可以设置成具有彼此平行的两对侧边的矩形板形状，但是本公开不限于此。当显示装置DD设置成矩形板形状时，两对侧边中的任何一对侧边可以比另一对侧边长。在本公开的实施方式中，为了便于描述，示出了显示装置DD设置成具有一对长侧边和一对短侧边的矩形形状的情况。长侧边的延伸方向由第二方向DR2指示，短侧边的延伸方向由第一方向DR1指示，并且显示装置DD的厚度方向由第三方向DR3指示。在本公开的一些实施方式中，在具有矩形板形状的显示装置DD中，一个长侧边和一个短侧边彼此接触的拐角部分可以具有圆形形状。
在本公开的实施方式中，显示装置DD的至少一部分可以具有柔性，并且显示装置DD可以在具有柔性的部分处折叠。
显示装置DD可以包括在其中显示图像的显示区域DD_DA和设置在显示区域DD_DA的至少一侧处的非显示区域DD_NDA。非显示区域DD_NDA是在其中不显示图像的区域。
在本公开的一些实施方式中，显示装置DD可以包括感测区域SA和非感测区域NSA。显示装置DD不仅可以通过感测区域SA显示图像，而且可以感测从显示装置DD的前面入射的光。非感测区域NSA可以围绕感测区域SA。然而，这仅是说明性的，并且本公开不限于此。尽管在图1中示出了感测区域SA具有包括圆形拐角的形状并对应于显示区域DD_DA的情况，但是本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，显示区域DD_DA的部分区域可以对应于感测区域SA。
显示装置DD的感测区域SA的形状、尺寸和布置位置可以根据稍后将描述的传感器电极(或触摸电极)被不同地修改。
显示模块DM可以包括显示面板DP和触摸传感器TS。
触摸传感器TS可以直接设置在显示面板DP上，或者设置在显示面板DP上，且在它们之间插置有诸如粘合剂层或衬底的单独的层。
显示面板DP可以显示图像。可以使用诸如有机发光显示面板(OLED面板)的自发光显示面板作为显示面板DP。此外，可以使用诸如液晶显示面板(LCD面板)、电泳显示面板(EPD面板)或电润湿显示面板(EWD面板)的非自发光显示面板作为显示面板DP。当使用非自发光显示面板作为显示面板DP时，显示装置DD可以包括向显示面板DP提供光的背光单元。
触摸传感器TS可以设置在从其提供显示面板DP的图像的表面上，以接收用户的触摸输入。触摸传感器TS可以识别通过用户的手或单独的输入器件产生的显示装置DD的触摸事件。触摸传感器TS可以通过使用电容方法来识别触摸事件。
触摸传感器TS可以通过使用互电容方法来感测触摸输入，或者通过使用自电容方法来感测触摸输入。
用于保护显示模块DM的暴露表面的窗WD可以设置在显示模块DM上。窗WD可以保护显示模块DM免受外部冲击的影响，并且向用户提供输入表面和/或显示表面。窗WD可以通过使用光学透明粘合剂构件OCA联接到显示模块DM。
窗WD可以具有选自玻璃衬底、塑料膜和塑料衬底的多层结构。这种多层结构可以通过连续工艺或使用粘合剂层的粘附工艺形成。整个窗WD或窗WD的一部分可以具有柔性。
图3是示出图2中所示的显示面板DP的平面图。
参考图1至图3，显示面板DP可以包括衬底SUB、设置在衬底SUB中的像素PXL、设置在衬底SUB中并驱动像素PXL的驱动器(或驱动单元)、以及将像素PXL和驱动器彼此连接的线部分。
衬底SUB可以设置为具有近似矩形形状的一个区域。然而，设置在衬底SUB中的区域的数量可以与其不同，并且衬底SUB可以根据设置在衬底SUB中的区域而具有不同的形状。
衬底SUB可以由诸如玻璃或树脂的绝缘材料制成。此外，衬底SUB可以由具有柔性的材料制成以是可弯曲或可折叠的，并且具有单层或多层结构。例如，具有柔性的材料可以包括聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸甲酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、三乙酸纤维素和乙酸丙酸纤维素中的至少一种。然而，构成衬底SUB的材料可以被不同地改变，并且包括纤维玻璃增强塑料(FRP)等。
衬底SUB可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。显示区域DA可以是在其中设置像素PXL以显示图像的区域。非显示区域NDA是在其中不设置像素PXL的区域，并且可以是在其中不显示图像的区域。为了便于描述，在图3中仅示出了一个像素PXL，但是实质上，在衬底SUB的显示区域DA中可以设置多个像素PXL。
显示面板DP的显示区域DA可以对应于显示装置DD的显示区域DD_DA，并且显示面板DP的非显示区域NDA可以对应于显示装置DD的非显示区域DD_NDA。
用于驱动像素PXL的驱动器、以及将像素PXL和驱动器彼此连接的线部分(例如，扇出线)的一部分可以设置在非显示区域NDA中。非显示区域NDA可以对应于显示装置DD的边框区域。
像素PXL可以设置在衬底SUB的显示区域DA中。像素PXL中的每个可以是显示图像的最小单元。像素PXL中的每个可以包括用于发射白光和/或彩色光的发光元件。像素PXL中的每个可以发射红、绿和蓝中的任何一种颜色的光。然而，本公开不限于此，并且像素PXL中的每个可以发射诸如青色、品红色或黄色的颜色的光。
像素PXL可以沿着在第一方向DR1上延伸的行和在与第一方向DR1相交的第二方向DR2上延伸的列以矩阵形式布置。然而，像素PXL的布置形式没有特别限制，并且像素PXL可以以各种形式布置。
驱动器可以通过线部分向每个像素PXL提供信号(或预定信号)和电源(或预定电源)。因此，驱动器可以控制像素PXL的驱动。
图4是示出包括在图3中所示的像素PXL中的部件的电连接关系的电路图。
在图4中，为了方便，将示出位于第i水平线(或第i像素行)上并连接到第j数据线Dj的像素PXL(i和j是大于0的自然数)。
参考图1至图4，像素PXL中的每个可以包括发光元件LD和用于驱动发光元件LD的像素电路PXC。
发光元件LD的第一电极可以连接到第四节点N4，并且发光元件LD的第二电极可以连接到通过其传送第二驱动电压VSS的第二电力线PL2(或第二驱动电压线)。发光元件LD可以产生(或发射)具有与从第一晶体管T1提供的电流(或驱动电流)的量对应的亮度(或预定亮度)的光(或光束)。
在本公开的实施方式中，发光元件LD可以是包括有机发射层的有机发光二极管。在本公开的一些实施方式中，发光元件LD可以是由无机材料形成的无机发光元件或由无机材料和有机材料的组合构成的发光元件。可选地，发光元件LD可以具有多个无机发光元件在第二电力线PL2和第四节点N4之间并联和/或串联连接的形式。
第一晶体管T1(或驱动晶体管)的栅电极可以连接到第一节点N1，第一晶体管T1的第一电极可以连接到第二节点N2，并且第一晶体管T1的第二电极可以连接到第三节点N3。
第一晶体管T1可以对应于第一节点N1的电压，控制从通过其传送第一驱动电压VDD的第一电力线PL1(或第一驱动电压线)途经发光元件LD流到通过其传送第二驱动电压VSS的第二电力线PL2的电流的量。为了实现这一点，第一驱动电压VDD可以设定为高于第二驱动电压VSS的电压。
第二晶体管T2(或开关晶体管)可以连接在与像素PXL连接的第j数据线Dj(下文中，称为“数据线”)和第二节点N2之间。第二晶体管T2的栅电极可以连接到与像素PXL连接的第一扫描线S1i。当扫描信号被提供给第一扫描线S1i时，第二晶体管T2可以导通，以将数据线Dj和第二节点N2彼此电连接。
第三晶体管T3(或补偿晶体管)可以连接在第一晶体管T1的第二电极(例如，第三节点N3)和第一晶体管T1的栅电极(例如，第一节点N1)之间。第三晶体管T3的栅电极可以连接到第二扫描线S2i。当扫描信号被提供给第二扫描线S2i时，第三晶体管T3可以导通，以将第一晶体管T1的第二电极和栅电极(或第一节点N1和第三节点N3)彼此电连接。换言之，第一晶体管T1的第二电极(例如，漏电极)和第一晶体管T1的栅电极彼此连接的时序可以由扫描信号控制。当第三晶体管T3导通时，第一晶体管T1可以以二极管形式连接。
第四晶体管T4(或第一初始化晶体管)可以连接在第一节点N1(或第一晶体管T1的栅电极)和第一初始化电力线VINTL1之间。第四晶体管T4的栅电极可以连接到第三扫描线S3i。响应于提供给第三扫描线S3i的扫描信号，第四晶体管T4可以导通，以向第一节点N1提供第一初始化电压VINT1。第一初始化电压VINT1可以设定为低于提供给数据线Dj的数据电压VDATA的电压。因此，可以通过第四晶体管T4的导通将第一晶体管T1的栅极电压(或第一节点N1的电压)初始化为第一初始化电压VINT1。
第五晶体管T5(或第二发射控制晶体管)可以连接在第一电力线PL1(或第一驱动电压线)和第二节点N2之间。第五晶体管T5的栅电极可以连接到第i发射控制线Ei(下文中，称为“发射控制线”)。第五晶体管T5可以在发射控制信号被提供给发射控制线Ei时被导通，并且在其它情况下截止。例如，第五晶体管T5可以在发射控制信号没有被提供给发射控制线Ei时截止。
第六晶体管T6(或第一发射控制晶体管)可以连接在第一晶体管T1的第二电极(例如，第三节点N3)和第四节点N4之间。第六晶体管T6的栅电极可以连接到发射控制线Ei。第六晶体管T6可以与第五晶体管T5被基本上相同地控制。换言之，第六晶体管T6可以由通过发射控制线Ei提供的发射控制信号导通，并且在不提供发射控制信号时截止。
第五晶体管T5和第六晶体管T6可以响应于通过发射控制线Ei提供的发射控制信号而导通，并且在第一电力线PL1和第四节点N4之间(或者在第一电力线PL1和第二电力线PL2之间)形成驱动电流的流动路径。
在图4中，示出了第五晶体管T5和第六晶体管T6连接到相同的发射控制线Ei。然而，这仅是说明性的，并且第五晶体管T5和第六晶体管T6可以分别连接到向其提供不同的发射控制信号的单独的发射控制线。
第七晶体管T7(或第二初始化晶体管)可以连接在第四节点N4和第二初始化电力线VINTL2之间。第七晶体管T7的栅电极可以连接到第四扫描线S4i。当扫描信号被提供给第四扫描线S4i时，第七晶体管T7可以导通，以将第二初始化电压VINT2提供给第四节点N4。第一初始化电力线VINTL1和第二初始化电力线VINTL2可以是相同的电力线。
存储电容器Cst可以连接在第一电力线PL1和第一节点N1之间。存储电容器Cst可以存储通过第一电力线PL1提供的第一驱动电压VDD和通过从施加到第一节点N1的数据电压中减去第一晶体管T1的绝对阈值电压而获得的电压之间的差电压。
图5是图2中所示的显示面板DP的一部分的放大剖视图。
在图5中，为了便于描述，仅示出了与图4中所示的第一晶体管T1至第七晶体管T7中的第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个对应的部分的剖面。
参考图1至图5，显示面板DP可以包括衬底SUB、像素电路层PCL、显示元件层DPL和薄膜封装层TFE。
衬底SUB可以包括绝缘材料，诸如玻璃、有机聚合物或石英。此外，衬底SUB可以由具有柔性的材料制成以是可弯曲或可折叠的，并且具有单层或多层结构。
像素电路层PCL可以包括缓冲层BFL、第二晶体管T2和第六晶体管T6、以及钝化层PSV。
缓冲层BFL可以设置在衬底SUB上，并且防止杂质扩散到第二晶体管T2和第六晶体管T6中。缓冲层BFL可以是包括无机材料的无机绝缘层。缓冲层BFL可以包括例如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiOxNy)和诸如氧化铝(AlOx)的金属氧化物中的至少一种。缓冲层BFL可以设置成单层，但是也可以设置成包括至少两层的多层。当缓冲层BFL设置成多层时，所述层可以由相同的材料形成或由不同的材料形成。根据衬底SUB的材料和工艺条件，可以省略缓冲层BFL。
第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个可以包括半导体层SCL、栅电极GE、源电极SE和漏电极DE。
第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的半导体层SCL可以设置在缓冲层BFL上。半导体层SCL可以包括分别与源电极SE和漏电极DE接触的源极区域和漏极区域。源极区域和漏极区域之间的区域可以是沟道区域。换言之，半导体层SCL的在源极区域和漏极区域之间的部分可以是沟道区域。
半导体层SCL可以是由多晶硅、非晶硅、氧化物半导体等制成的半导体图案。沟道区域可以是未掺杂杂质的本征半导体图案。杂质可以包括诸如n型杂质、p型杂质和其它金属的杂质。源极区域和漏极区域中的每个可以是掺杂有杂质的半导体图案。
第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的栅电极GE可以设置在相应的半导体层SCL上，且栅极绝缘层GI插置在它们之间。
第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的源电极SE可以通过穿透层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的接触孔与相应的半导体层SCL的源极区域接触。在示例中，第二晶体管T2的源电极SE可以通过穿透层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的第一接触孔CH1与相应的半导体层SCL的源极区域接触，并且第六晶体管T6的源电极SE可以通过穿透层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的第三接触孔CH3与相应的半导体层SCL的源极区域接触。
第二晶体管T2和第六晶体管T6中的每个的漏电极DE可以通过穿透层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的接触孔与相应的半导体层SCL的漏极区域接触。在示例中，第二晶体管T2的漏电极DE可以通过穿透层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的第二接触孔CH2与相应的半导体层SCL的漏极区域接触，并且第六晶体管T6的漏电极DE可以通过穿透层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI的第四接触孔CH4与相应的半导体层SCL的漏极区域接触。
在本公开的实施方式中，层间绝缘层ILD和栅极绝缘层GI中的每个可以配置为包括无机材料的无机绝缘层或包括有机材料的有机绝缘层。
钝化层PSV可以设置成遍及第二晶体管T2和第六晶体管T6，以覆盖第二晶体管T2和第六晶体管T6。钝化层PSV可以包括将第六晶体管T6的漏电极DE暴露于外部的第五接触孔CH5。在这种情况下，第六晶体管T6的漏电极DE可以电连接到另一电路元件。
显示元件层DPL可以包括发光元件LD，其设置在钝化层PSV上并发光。
发光元件LD可以包括第一电极AE和第二电极CE、以及设置在第一电极AE和第二电极CE之间的发射层EML。第一电极AE和第二电极CE中的任何一个可以是阳极电极，并且第一电极AE和第二电极CE中的另一个可以是阴极电极。例如，第一电极AE可以是阳极电极，并且第二电极CE可以是阴极电极。当发光元件LD是顶部发射有机发光元件时，第一电极AE可以是反射电极，并且第二电极CE可以是透射电极。在本公开的实施方式中，对发光元件LD是顶部发射有机发光元件并且第一电极AE是阳极电极的情况进行描述。
第一电极AE可以通过穿透钝化层PSV的第五接触孔CH5电连接到第六晶体管T6的漏电极DE。第一电极AE可以包括能够反射光的反射层和设置在反射层的顶部或底部上的透明导电层。透明导电层和反射层中的至少一个可以电连接到第六晶体管T6的漏电极DE。
显示元件层DPL还可以包括像素限定层PDL，其具有暴露第一电极AE的一部分(例如，第一电极AE的顶表面)的开口OP。
设置在显示面板DP中的每个像素可以设置在包括在显示区域DA中的像素区域中。在本公开的实施方式中，像素区域可以包括发射区域EMA和与发射区域EMA相邻的非发射区域NEMA。非发射区域NEMA可以围绕发射区域EMA。在本公开的实施方式中，发射区域EMA可以对应于第一电极AE的由像素限定层PDL的开口OP暴露的部分。
显示元件层DPL可以包括空穴控制层HCL和电子控制层ECL。
空穴控制层HCL公共地设置在发射区域EMA和非发射区域NEMA中。诸如空穴控制层HCL或电子控制层ECL的公共层可以在多个像素PXL中公共地形成。
发射层EML可以设置在空穴控制层HCL上。在这种情况下，发射层EML可以设置在空穴控制层HCL和电子控制层ECL之间。发射层EML可以设置在对应于开口OP的区域中。换言之，发射层EML可以在多个像素PXL中的每个中分离地设置。发射层EML可以包括有机材料和/或无机材料。在本公开的实施方式中，发射层EML可以是图案化的发射层。然而，在本公开的一些实施方式中，发射层EML可以公共地设置在像素PXL中。从发射层EML产生的光的颜色可以是红色、绿色、蓝色和白色中的一种，但这不限于以上描述的实施方式。例如，从发射层EML产生的光的颜色可以是品红色、青色和黄色中的一种。
电子控制层ECL可以设置在发射层EML上。电子控制层ECL可以公共地形成在像素PXL中，并且用于将电子注入和/或传输到发射层EML中、和/或注入和/或传输到发射层EML。
第二电极CE可以设置在电子控制层ECL上。第二电极CE可以公共地设置在像素PXL中。
覆盖第二电极CE的薄膜封装层TFE可以设置在第二电极CE上。
薄膜封装层TFE可以设置为单层，但是也可以设置为多层。薄膜封装层TFE可以包括覆盖发光元件LD的多个绝缘层。具体地，薄膜封装层TFE可以包括至少一个无机层和至少一个有机层。例如，薄膜封装层TFE可以具有无机层和有机层在其中堆叠的结构。在本公开的一些实施方式中，薄膜封装层TFE可以是封装衬底，其设置在发光元件LD上并且通过密封剂与衬底SUB联结。
图6是图2中所示的触摸传感器TS的剖视图。
参考图1至图6，触摸传感器TS可以包括基础层BSL、第一导电图案CP1、第一绝缘层INS1、第二导电图案CP2、第二绝缘层INS2。
第一导电图案CP1可以直接设置在薄膜封装层TFE上，但本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，可以在第一导电图案CP1和薄膜封装层TFE之间设置另一绝缘层，例如基础层BSL。第一导电图案CP1可以直接设置在基础层BSL上。在本公开的一些实施方式中，基础层BSL可以是薄膜封装层TFE的最上层。
第一导电图案CP1和第二导电图案CP2中的每个可以具有单层结构或具有多个层在厚度方向上堆叠的多层结构。具有单层结构的导电图案可以包括金属层或透明导电层。金属层可以包括钼、银、钛、铜、铝及其合金。透明导电层可以包括透明导电氧化物，诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或氧化铟锡锌(ITZO)。此外，透明导电层可以包括PEDOT、金属纳米线和石墨烯。
具有多层结构的导电图案可以包括多个金属层。例如，多个金属层可以具有钛/铝/钛的三层结构。具有多层结构的导电图案可以包括单个金属层和透明导电层。具有多层结构的导电图案可以包括多个金属层和透明导电层。
在本公开的实施方式中，第一导电图案CP1和第二导电图案CP2中的每个可以包括构成触摸电极的传感器图案和感测线。
第一绝缘层INS1和第二绝缘层INS2中的每个可以包括包含无机材料的无机绝缘层或包含有机材料的有机绝缘层。
无机绝缘层可以包括无机绝缘材料，诸如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、氧化铝(AlxOy)、氧化钛(TiOx)、氧化钽(TaxOy)、氧化铪(HfOx)或氧化锌(ZnOx)。氧化锌(ZnOx)可以是氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。
有机绝缘层可以包括基于丙烯酸的树脂、基于甲基丙烯酸的树脂、聚异戊二烯、基于乙烯的树脂、基于环氧的树脂、基于氨基甲酸乙酯的树脂、基于纤维素的树脂、基于硅氧烷的树脂、基于聚酰亚胺的树脂、基于聚酰胺的树脂和基于二萘嵌苯的树脂中的至少一种。
可以在第二绝缘层INS2上设置和/或形成用于保护第二绝缘层INS2的封盖层。
图7是图2中所示的触摸传感器TS的平面图。图8是图7中所示的部分EA2的放大图。图9是沿着图8中所示的线I-I'截取的剖视图。图10是图8中所示的部分EA3的放大图。
在图7至图10中，为了便于描述，平面上的横向方向(或水平方向)由第一方向DR1表示，平面上的纵向方向(或竖直方向)由第二方向DR2表示，并且剖面上的衬底SUB的厚度方向由第三方向DR3表示。
参考图1至图10，触摸传感器TS可以包括基础层BSL，基础层BSL包括能够感测触摸输入的感测区域SA和围绕感测区域SA的至少一部分的非感测区域NSA。
基础层BSL可以由钢化玻璃、透明塑料、透明膜等制成。
感测区域SA可以设置在基础层BSL的中央区域中，以与显示面板DP的显示区域DA重叠。感测区域SA可以设置成与显示区域DA的形状基本上相同的形状，但是本公开不限于此。可以在感测区域SA中设置和/或形成用于感测触摸输入的传感器电极(或触摸电极)。
非感测区域NSA可以设置在基础层BSL的边缘处，以与显示面板DP的非显示区域NDA重叠。电连接到传感器电极(或触摸电极)以接收和传送触摸感测信号的感测线SL可以设置和/或形成在非感测区域NSA中。此外，连接到感测线SL以电连接到感测区域SA中的传感器电极的焊盘部分PDA可以设置在非感测区域NSA中。焊盘部分PDA可以包括多个焊盘PD。
传感器电极可以包括多个传感器图案SP以及第一桥接图案BRP1和第二桥接图案BRP2。
传感器图案SP可以包括多个第一传感器图案SP1和与第一传感器图案SP1电绝缘的多个第二传感器图案SP2。
第一传感器图案SP1可以在第一方向DR1上布置，并且通过第一桥接图案BRP1电连接到相邻的第一传感器图案SP1，以构成至少一个传感器行。第二传感器图案SP2可以在与第一方向DR1相交的第二方向DR2上布置，并且通过第二桥接图案BRP2电连接到相邻的第二传感器图案SP2，以构成至少一个传感器列。第二桥接图案BRP2可以与相邻的第二传感器图案SP2一体地形成。
第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2中的每个可以通过相应的感测线SL电连接到一个焊盘PD。
在本公开的实施方式中，触摸传感器TS可以感测在第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2之间形成的互电容的变化，从而识别用户的触摸。
在本公开的实施方式中，每个第二传感器图案SP2可以包括如图10中所示的多个导电细线CFL1和CFL2。在示例中，第二传感器图案SP2可以包括在第一方向DR1的倾斜方向上延伸并且彼此平行的多个第一导电细线CFL1和在第二方向DR2的倾斜方向上延伸并且彼此平行的多个第二导电细线CFL2。由于第一导电细线CFL1和第二导电细线CFL2，第二传感器图案SP2中的每个可以具有网格结构。网格结构可以包括多个开口，例如，当第一导电细线CFL1和第二导电细线CFL2彼此相交时形成的区域。
尽管第二传感器图案SP2中的每个具有网格结构的情况，但是本公开不限于此。例如，第一传感器图案SP1以及第一桥接图案BRP1和第二桥接图案BRP2也可以设置成包括第一导电细线CFL1和第二导电细线CFL2的网格结构。
当第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2具有网格结构时，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2与显示区域DA重叠的区域可以通过网格结构的开口减小。可以防止第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2与显示面板DP之间的电磁干扰。
第一桥接图案BRP1中的每个用于将沿着第一方向DR1平行布置的第一传感器图案SP1彼此电连接。每个第一桥接图案BRP1也可以设置成沿着第一方向DR1延伸的形状。每个第一桥接图案BRP1可以形成为与第一传感器图案SP1分离开，并通过接触孔连接到相邻的第一传感器图案SP1。
第二桥接图案BRP2中的每个用于将沿着第二方向DR2彼此平行布置的第二传感器图案SP2电连接。每个第二桥接图案BRP2也可以设置成沿着第二方向DR2延伸的形状。在本公开的实施方式中，每个第二桥接图案BRP2可以与第二传感器图案SP2成一体。
触摸传感器TS可以包括设置在基础层BSL上的第一导电图案(参见图6中所示的“CP1”)、设置在第一导电图案CP1上的第一绝缘层INS1、设置在第一绝缘层INS1上的第二导电图案(参见图6中所示的“CP2”)、以及设置在第二导电图案CP2上的第二绝缘层INS2。
基础层BSL可以设置在显示面板DP的薄膜封装层TFE上。
在本公开的一些实施方式中，基础层BSL可以是显示面板DP的薄膜封装层TFE的最上层。例如，基础层BSL可以是作为薄膜封装层TFE的最上层的无机绝缘层(或无机层)。在本公开的一些实施方式中，基础层BSL可以是另外设置在薄膜封装层TFE上的无机绝缘层(或无机缓冲层)。无机绝缘层可以包括选自构成第一绝缘层INS1和第二绝缘层INS2的材料中的至少一种材料。
第一导电图案CP1可以直接设置在基础层BSL上。第一导电图案CP1可以如图9中所示包括第一桥接图案BRP1。
第一导电图案CP1可以包括导电材料。导电材料可以包括透明导电氧化物或金属材料。此外，第一导电图案CP1可以包括多个堆叠的金属层。透明导电氧化物的示例可以是氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锑锌(AZO)、氧化铟锡锌(ITZO)、氧化锌(ZnOx)、氧化锡(SnOx)等。金属材料的示例可以是铜、银、金、铂、钯、镍、锡、铝、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅等。第一导电图案CP1可以包括单层结构或具有多层结构。
第一绝缘层INS1可以设置在第一导电图案CP1上。第一绝缘层INS1可以与第一导电图案CP1直接接触。在本公开的实施方式中，第一绝缘层INS1可以包括包含有机材料的有机绝缘层或包含无机材料的无机绝缘层。
与第一导电图案CP1类似，第二导电图案CP2可以包括单个导电材料层或包括多个堆叠的导电材料层。如图9中所示，第二导电图案CP2可以包括设置在第一绝缘层INS1上的第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2。在第一方向DR1上彼此相邻的第一传感器图案SP1可以通过穿透第一绝缘层INS1的接触孔CNT通过第一桥接图案BRP1彼此电连接和/或物理连接。第一桥接图案BRP1可以与第二传感器图案SP2重叠。
第二绝缘层INS2可以设置在其上设置有第二导电图案CP2的第一绝缘层INS1上。第二绝缘层INS2可以防止第二导电图案CP2暴露于外部，从而防止第二导电图案CP2的腐蚀。第二绝缘层INS2可以设置为由有机材料构成的有机绝缘层。有机材料可以包括丙烯酸、聚酰亚胺(PI)、聚酰胺(PA)和苯并环丁烯(BCB)中的一种。由于设置为有机绝缘层的第二绝缘层INS2是透明的并且具有柔性，因此第二绝缘层INS2减少了下部结构的弯曲，从而使下部结构平坦化。在本公开的一些实施方式中，第二绝缘层INS2可以设置为包括无机材料的无机绝缘层。
在本公开的实施方式中，尽管已经描述了第一桥接图案BRP1包括在第一导电图案CP1中，并且第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2包括在第二导电图案CP2中的情况作为示例，但是本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2以及第二桥接图案BRP2可以包括在第一导电图案CP1中，并且第一桥接图案BRP1可以包括在第二导电图案CP2中。
此外，在本公开的实施方式中，尽管已经描述了第一导电图案CP1设置在基础层BSL上并且第二导电图案CP2设置在第一绝缘层INS1上的情况作为示例，但是本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，第一导电图案CP1可以设置在第一绝缘层INS1上，并且第二导电图案CP2可以设置在基础层BSL上。
此外，在本公开的实施方式中，尽管已经描述了第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2设置在相同的层上的情况作为示例，但是本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2可以设置在不同的层中。
设置和/或形成在感测区域SA中的传感器电极(或触摸电极)可以包括设置在第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2之间以彼此间隔开的虚设电极。虚设电极是浮置电极，并且可以不电连接到第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2。虚设电极设置在感测区域SA中，从而第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2之间的边界区域可以不被看到。此外，可以通过调节虚设电极的宽度和厚度来控制第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2之间的边缘效应，并且可以优化第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2之间的电容。
触摸传感器TS可以通过如图8中所示的单元传感器块USB的重复布置来设置。单元传感器块USB是具有包括相邻的第一传感器图案SP1中的至少一些和相邻的第二传感器图案SP2中的至少一些的区域(或预定区域)的虚设单元块，并且可以理解，单元传感器块USB对应于第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2的布置图案的最小重复单元。
在本公开的实施方式中，感测线SL可以包括多个第一感测线SL1和多个第二感测线SL2。
第一感测线SL1可以连接到第一传感器图案SP1。每个第一感测线SL1可以连接到由沿着第一方向DR1设置的多个第一传感器图案SP1形成的一个传感器行。例如，在图7中，第一感测线SL1可以在触摸传感器TS的左侧处连接到第一传感器图案SP1。
第二感测线SL2可以连接到第二传感器图案SP2。每个第二感测线SL2可以连接到由沿着第二方向DR2设置的多个第二传感器图案SP2形成的一个传感器列。例如，在图7中，第二感测线SL2可以在触摸传感器TS的顶侧处连接到第二传感器图案SP2。
第一感测线SL1和第二感测线SL2可以包括与第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2相同的材料，或者包括与第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2的材料基本上类似的材料。可选地，第一感测线SL1和第二感测线SL2可以包括选自构成第一传感器图案SP1和第二传感器图案SP2的材料的至少一种材料。
第一传感器图案SP1中的每个可以通过相应的第一感测线SL1施加用于触摸感测的驱动信号，并且第二传感器图案SP2中的每个可以通过相应的第二感测线SL2传送触摸感测信号。然而，本公开不限于此。例如，第一传感器图案SP1中的每个可以通过相应的第一感测线SL1传送触摸感测信号，并且第二传感器图案SP2中的每个可以通过相应的第二感测线SL2施加用于触摸感测的驱动信号。
图11是图1中所示的部分EA1的放大图。
参考图1至11，显示装置DD(或显示面板DP)可以包括设置在显示区域DA中的像素PXL。像素PXL中的每个可以设置于设置在显示区域DA中的像素区域PXA中。
在本公开的实施方式中，像素PXL可以包括多个第一像素PXL1和多个第二像素PXL2。
每个第一像素PXL1和每个第二像素PXL2可以以不同的视角发射光(或光束)。在示例中，第一像素PXL1中的每个可以以第一视角发射光，并且第二像素PXL2中的每个可以以大于第一视角的第二视角发射光。
以第二视角发射光的第二像素PXL2可以在正常模式下与第一像素PXL1一起被驱动，并且可以在私密模式下不被驱动。在私密模式下，仅具有比第二像素PXL2的视角窄的视角的第一像素PXL1可以被驱动以仅向用户提供图像信息，使得图像信息不会泄漏给第三人。换言之，在私密模式下，驱动第一像素PXL1，使得由此产生的图像可以不被用户以外的人看到。
每个第一像素PXL1可以设置在显示面板DP(或衬底SUB)的显示区域DA的第一像素区域PXA1中。每个第一像素PXL1可以包括至少一个子像素。在示例中，每个第一像素PXL1可以包括第一子像素SPX1、第二子像素SPX2、第三子像素SPX3和第四子像素SPX4。
第一子像素SPX1可以是用于发射红光R的红色子像素，第二子像素SPX2和第四子像素SPX4可以是用于发射绿光G的绿色子像素，并且第三子像素SPX3可以是用于发射蓝光B的蓝色子像素。在每个第一像素PXL1的发射区域中，可以发射通过组合从第一子像素SPX1至第四子像素SPX4发射的光而获得的光。
在每个第一像素区域PXA1中，第一子像素SPX1和第三子像素SPX3可以设置成沿着相同的列方向彼此相邻，第二子像素SPX2可以位于与设置有第一子像素SPX1和第三子像素SPX3的列不同的列中，并且第四子像素SPX4可以位于与设置有第一子像素SPX1和第三子像素SPX3的列不同的另一列中。
在每个第一像素区域PXA1中，第一子像素SPX1和第三子像素SPX3可以设置成沿着竖直方向(或纵向方向)彼此相邻，并且第二子像素SPX2和第四子像素SPX4可以设置成沿着水平方向(或横向方向)彼此相邻。
第一子像素SPX1、第二子像素SPX2、第三子像素SPX3和第四子像素SPX4可以包括具有菱形形状的发射区域，并且形成为具有彼此相等或类似的区域。然而，本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，第一子像素SPX1、第二子像素SPX2、第三子像素SPX3和第四子像素SPX4可以具有不同的结构，并且第一子像素SPX1、第二子像素SPX2、第三子像素SPX3和第四子像素SPX4中的一些的发射区域的面积(或尺寸)小于或大于其它子像素的发射区域的面积(或尺寸)。在图11中，为了方便，已经示出了第一子像素SPX1和第三子像素SPX3中的每个(或第一子像素SPX1和第三子像素SPX3中的每个的发射区域)的面积(或尺寸)大于第二子像素SPX2和第四子像素SPX4中的每个(或第二子像素SPX2和第四子像素SPX4中的每个的发射区域)的面积(或尺寸)。然而，本公开不限于此。例如，第二子像素SPX2可以大于第一子像素SPX1。
第一子像素SPX1、第二子像素SPX2、第三子像素SPX3和第四子像素SPX4中的每个可以包括像素电路，其包括用于发光的发光元件和用于驱动发光元件的至少一个晶体管。第一子像素SPX1、第二子像素SPX2、第三子像素SPX3和第四子像素SPX4可以包括具有彼此基本上相同或类似的结构的像素电路。
每个第二像素PXL2可以设置在显示面板DP(或衬底SUB)的显示区域DA的第二像素区域PXA2中。每个第二像素PXL2可以包括至少一个子像素。在示例中，每个第二像素PXL2可以包括第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8。
第五子像素SPX5可以是用于发射红光R的红色子像素，第六子像素SPX6和第八子像素SPX8可以是用于发射绿光G的绿色子像素，并且第七子像素SPX7可以是用于发射蓝光B的蓝色子像素。在每个第二像素PXL2的发射区域中，可以发射通过组合从第五子像素SPX5至第八子像素SPX8发射的光而获得的光。
在每个第二像素区域PXA2中，第五子像素SPX5和第七子像素SPX7可以设置成沿着相同的列方向彼此相邻，第六子像素SPX6可以位于与设置有第五子像素SPX5和第七子像素SPX7的列不同的列上，并且第八子像素SPX8可以位于与设置有第五子像素SPX5和第七子像素SPX7的列不同的另一列上。
在每个第二像素区域PXA2中，第五子像素SPX5和第七子像素SPX7可以设置成沿着竖直方向(或纵向方向)彼此相邻，并且第六子像素SPX6和第八子像素SPX8可以设置成沿着水平方向(或横向方向)彼此相邻。
第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8可以包括具有菱形形状的发射区域，并且形成为具有彼此相等或类似的面积(或尺寸)。然而，本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8可以具有不同的结构，并且第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8中的一些的发射区域的面积(或尺寸)小于或大于其它子像素的发射区域的面积(或尺寸)。在图11中，已示出了第五子像素SPX5和第七子像素SPX7中的每个(或第五子像素SPX5和第七子像素SPX7中的每个的发射区域)的面积(或尺寸)大于第六子像素SPX6和第八子像素SPX8中的每个(或第六子像素SPX6和第八子像素SPX8中的每个的发射区域)的面积(或尺寸)。然而，本公开不限于此。
第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8中的每个可以包括像素电路，其包括用于发光的发光元件和用于驱动发光元件的至少一个晶体管。第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8可以包括具有彼此基本上相同或类似的结构的像素电路。
图12A和图12B是图11中所示的部分EA4的放大图。图13是图12A中所示的部分EA4的立体图。图14是沿着图12A中所示的线II-II'截取的剖视图。
关于图12A至图14中所示的第一像素PXL1和第二像素PXL2，将主要描述与以上描述的实施方式的部分不同的部分以避免冗余。
为了方便，衬底SUB的厚度方向由第三方向DR3指示。
参考图1至图14，第一像素PXL1和第二像素PXL2中的每个可以包括四个子像素。在示例中，第一像素PXL1可以包括第一子像素SPX1、第二子像素SPX2、第三子像素SPX3和第四子像素SPX4，并且第二像素PXL2可以包括第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8。
包括在第二像素PXL2中的第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8中的每个可以包括在其中发射光的发射区域EMA和在其中不发射光的非发射区域NEMA。
第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8中的每个可以包括设置和/或形成在衬底SUB上的像素电路层PCL以及设置和/或形成在像素电路层PCL上的显示元件层DPL。第五子像素SPX5至第八子像素SPX8可以具有彼此基本上类似或相同的结构。为了方便，将代表性地描述第五子像素SPX5至第八子像素SPX8中的第五子像素SPX5。
第五子像素SPX5可以包括设置在衬底SUB上并且包括具有至少一个晶体管T的像素电路PXC的像素电路层PCL、设置在像素电路层PCL上的显示元件层DPL、以及薄膜封装层TFE。在图14中，为了便于描述，仅示出了电连接到发光元件LD的一个晶体管T。图14中所示的晶体管T可以是参考图4和图5描述的第六晶体管T6。
像素电路层PCL可以包括晶体管T和至少一个绝缘层(膜)。绝缘层可以包括顺序地堆叠在衬底SUB上的缓冲层BFL、栅极绝缘层GI、层间绝缘层ILD和钝化层PSV。缓冲层BFL、栅极绝缘层GI、层间绝缘层ILD和钝化层PSV可以与参考图5描述的缓冲层BFL、栅极绝缘层GI、层间绝缘层ILD和钝化层PSV相同。
晶体管T可以包括半导体层SCL、栅电极GE、以及源电极SE和漏电极DE，并且可以被设置为具有与图5中所示的第二晶体管T2和第六晶体管T6相同结构的薄膜晶体管。
第五子像素SPX5的显示元件层DPL可以包括发光元件LD和像素限定层PDL。发光元件LD可以包括第一电极AE(或第三电极)、发射层EML(或第二发射层)和第二电极CE(或第四电极)。发射层EML可以发射红光R。
第五子像素SPX5的发射区域EMA是其中发射红光R的区域，并且可以被限定(或分隔)成对应于第一电极AE或发射层EML的由像素限定层PDL的开口OP暴露的一个区域。
可以在显示元件层DPL上设置和/或形成薄膜封装层TFE。
第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8中的每个的发射区域EMA可以设置成如图12A中所示的多边形形状(例如，菱形形状)，但是本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，第五子像素SPX5、第六子像素SPX6、第七子像素SPX7和第八子像素SPX8中的每个的发射区域EMA可以设置成如图12B中所示的圆形形状。
第一子像素SPX1、第二子像素SPX2、第三子像素SPX3和第四子像素SPX4中的每个可以包括在其中发射光的发射区域EMA'和在其中不发射光的非发射区域NEMA。发射区域EMA'和第五子像素SPX5至第八子像素SPX8中的每个的发射区域EMA可以具有相同的形状，但是本公开不限于此。
包括在第一像素PXL1中的第一子像素SPX1至第四子像素SPX4中的每个可以包括设置和/或形成在衬底SUB上的像素电路层PCL以及设置和/或形成在像素电路层PCL上的显示元件层DPL。第一子像素SPX1至第四子像素SPX4可以具有彼此基本上类似或相同的结构。为了方便，将代表性地描述第一子像素SPX1至第四子像素SPX4中的第二子像素SPX2。
第二子像素SPX2可以包括设置在衬底SUB上并且包括具有至少一个晶体管T的像素电路PXC的像素电路层PCL、设置在像素电路层PCL上的显示元件层DPL、以及薄膜封装层TFE。该像素电路层PCL与第五子像素SPX5的像素电路层PCL基本上相同，并且因此，将省略其详细描述。
第二子像素SPX2的显示元件层DPL可以包括发光元件LD和像素限定层PDL。发光元件LD可以包括第一电极AE、发射层EML(或第一发射层)和第二电极CE。发射层EML可以发射绿光G。
第二子像素SPX2的发射区域EMA'是在其中发射绿光G的区域，并且可以限定(或分隔)成对应于第一电极AE或发射层EML的由像素限定层PDL的开口OP暴露的一个区域。
可以在显示元件层DPL上设置和/或形成薄膜封装层TFE。
可以在第一像素PXL1和第二像素PXL2中的每个的薄膜封装层TFE上设置和/或形成触摸传感器TS。
触摸传感器TS可以包括设置在薄膜封装层TFE上的传感器图案SP、第一桥接图案BRP1和第二桥接图案BRP2、以及第一绝缘层INS1和第二绝缘层INS2。此外，触摸传感器TS可以包括位于第二绝缘层INS2上的封盖层。封盖层可以包括位于第二绝缘层INS2上的第一封盖层CPL1和位于第一封盖层CPL1上的第二封盖层CPL2。
第一封盖层CPL1可以在位于第一绝缘层INS1上的同时覆盖第一绝缘层INS1，从而保护第一绝缘层INS1。第一封盖层CPL1可以是包括无机材料的无机绝缘层或包括有机材料的有机绝缘层。可以选择性地设置第一封盖层CPL1。
第二封盖层CPL2可以整体地设置和/或形成在第一封盖层CPL1上。第二封盖层CPL2可以是整体地设置在感测区域SA(或显示区域DA)中的有机层，并且通过固化工艺固化以用作显示装置DD的窗构件。
第一光阻挡图案LBP1可以针对第一像素PXL1设置在第一封盖层CPL1和第二封盖层CPL2之间。
在本公开的实施方式中，第一光阻挡图案LBP1不针对第二像素PXL2设置。换言之，第一光阻挡图案LBP1可以仅设置在第一像素PXL1上。在示例中，第一光阻挡图案LBP1可以位于第一封盖层CPL1的一个表面上，以对应于第一像素PXL1的像素限定层PDL。换言之，第一光阻挡图案LBP1可以与第一像素PXL1中的像素限定层PDL重叠。第一光阻挡图案LBP1可以包括光阻挡材料，其用于防止光(或光束)在相邻的子像素之间泄漏的光泄漏缺陷。在示例中，第一光阻挡图案LBP1可以包括黑色矩阵。
第一光阻挡图案LBP1可以部分地开口，以包括与第一像素区域PXA1中的发射区域EMA'的一个区域对应的至少一个第一开口OPN1。在示例中，第一光阻挡图案LBP1可以包括多个第一开口OPN1。第一开口OPN1可以对应于第一像素PXL1的像素限定层PDL的开口OP。第一光阻挡图案LBP1在第一像素区域PXA1中可以具有包括第一开口OPN1的网格形状(或网状形状)。
在本公开的实施方式中，第一开口OPN1可以限定第一子像素SPX1至第四子像素SPX4中的每个的发射区域EMA'。
第一光阻挡图案LBP1可以允许从第一子像素SPX1至第四子像素SPX4中的每个发射的光的一部分选择性地透射穿过其中，使得每个第一像素PXL1的视角变得比每个第二像素PXL2的视角窄，从而实现私密模式。
在本公开的实施方式中，第二光阻挡图案LBP2可以位于第一光阻挡图案LBP1下方。在示例中，第二光阻挡图案LBP2可以位于在第一像素PXL1上的第一绝缘层INS1上，并对应于第一光阻挡图案LBP1。第二光阻挡图案LBP2不设置在第二像素PXL2上。换言之，第二光阻挡图案LBP2可以仅设置在第一像素PXL1上。在示例中，第二光阻挡图案LBP2可以位于第一绝缘层INS1的一个表面上，以对应于第一像素PXL1的像素限定层PDL。因此，像素限定层PDL、第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2可以彼此对应。
第二光阻挡图案LBP2可以反射或屏蔽(或阻挡)在相邻子像素之间的区域中发射的光。为了实现这一点，第二光阻挡图案LBP2可以包括具有恒定反射率的导电材料。第二光阻挡图案LBP2可以包括至少一个反射电极层。此外，第二光阻挡图案LBP2可以选择性地进一步包括设置在反射电极层的顶部和/或底部上的至少一个透明电极层和覆盖反射电极层和/或透明电极层的顶部的至少一个导电封盖层中的至少一个。
在本公开的一些实施方式中，第二光阻挡图案LBP2可以配置为第二导电图案CP2。第二光阻挡图案LBP2可以设置在与位于在第二像素PXL2上的第一绝缘层INS1上的第二导电图案CP2(例如，传感器图案SP或第二桥接图案BRP2)相同的层中。第二光阻挡图案LBP2可以连接到位于在第二像素PXL2上的第一绝缘层INS1上的第二导电图案CP2，同时与第二导电图案CP2直接接触。第二光阻挡图案LBP2可以用作识别用户的触摸的触摸电极，并且同时用作光控制构件，其通过阻挡从第一子像素SPX1至第四子像素SPX4中的每个发射的光的一部分并允许其它光仅在特定方向上前进而使第一像素PXL1的视角变窄。
第二光阻挡图案LBP2可以部分地开口，以包括与第一像素区域PXA1中的发射区域EMA'的一个区域对应的至少一个第二开口OPN2。在示例中，第二光阻挡图案LBP2可以包括多个第二开口OPN2。第二开口OPN2可以对应于第一像素PXL1的像素限定层PDL的开口OP。此外，第二开口OPN2可以对应于第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1。取决于实施方式，第二开口OPN2可以具有与第一开口OPN1相同的尺寸。第二光阻挡图案LBP2在第一像素区域PXA1中可以具有包括第二开口OPN2的网格形状(或网状形状)。
在本公开的实施方式中，第二光阻挡图案LBP2的宽度(例如，临界尺寸(CD)，“每个电极的线宽或电极之间的间隙的宽度”)可以不同于在第二像素PXL2上的第二导电图案CP2的宽度。在示例中，位于两个第二开口OPN2之间的第二光阻挡图案LBP2的宽度d1可以大于在第二像素PXL2上的第二导电图案CP2的宽度d2。
在以上描述的实施方式中，第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2可以在第一像素区域PXA1中具有相同的平面形状，或者在第一像素区域PXA1中具有基本上彼此类似的平面形状。
第二光阻挡图案LBP2可以与第一光阻挡图案LBP1一起构成光阻挡图案LBP，其允许第一像素PXL1的视角变窄。
在本公开的实施方式中，包括在第一像素PXL1中的第一子像素SPX1至第四子像素SPX4中的每个可以包括由第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2限定的四个发射区域EMA1、EMA2、EMA3或EMA4。在示例中，第一子像素SPX1可以包括由第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2限定的四个第一发射区域EMA1，第二子像素SPX2可以包括由第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2限定的四个第二发射区域EMA2，第三子像素SPX3可以包括由第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2限定的四个第三发射区域EMA3，并且第四子像素SPX4可以包括由第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2限定的四个第四发射区域EMA4。
四个第一发射区域EMA1可以构成第一子像素SPX1的发射区域EMA'，四个第二发射区域EMA2可以构成第二子像素SPX2的发射区域EMA'，四个第三发射区域EMA3可以构成第三子像素SPX3的发射区域EMA'，并且四个第四发射区域EMA4可以构成第四子像素SPX4的发射区域EMA'。
第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2可以位于四个第一发射区域EMA1中的彼此相邻的两个第一发射区域EMA1之间的区域(例如，非发射区域NEMA)中。
四个第一发射区域EMA1可以具有相同的尺寸并且具有相同的形状。在示例中，四个第一发射区域EMA1可以形成如图12A中所示的多边形形状(例如，菱形形状)，但是本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，四个第一发射区域EMA1可以形成如图12B中所示的圆形形状。
在本公开的实施方式中，每个第一发射区域EMA1可以对应于位于第一子像素SPX1上的第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1。因此，当每个第一发射区域EMA1具有菱形形状时，第一开口OPN1可以具有菱形形状。当每个第一发射区域EMA1具有圆形形状时，第一开口OPN1可以具有圆形形状。此外，由于第二光阻挡图案LBP2的第二开口OPN2对应于第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1，因此第二开口OPN2可以具有与第一开口OPN1的形状相同的形状。
第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2可以位于四个第二发射区域EMA2中的彼此相邻的两个第二发射区域EMA2之间的区域(例如，非发射区域NEMA)中。
四个第二发射区域EMA2可以具有相同的尺寸并且具有相同的形状。在示例中，四个第二发射区域EMA2可以形成如图12A中所示的多边形形状(例如，菱形形状)或者形成如图12B中所示的圆形形状。
在本公开的实施方式中，每个第二发射区域EMA2可以对应于位于第二子像素SPX2上的第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1。因此，当每个第二发射区域EMA2具有菱形形状时，第一开口OPN1可以具有菱形形状。当每个第二发射区域EMA2具有圆形形状时，第一开口OPN1可以具有圆形形状。此外，由于第二光阻挡图案LBP2的第二开口OPN2对应于第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1，因此第二开口OPN2可以具有与第一开口OPN1的形状相同的形状。
第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2可以位于四个第三发射区域EMA3中的彼此相邻的两个第三发射区域EMA3之间的区域(例如，非发射区域NEMA)中。
四个第三发射区域EMA3可以具有相同的尺寸并且具有相同的形状。在示例中，四个第三发射区域EMA3可以形成如图12A中所示的多边形形状(例如，菱形形状)或者形成如图12B中所示的圆形形状。
在本公开的实施方式中，每个第三发射区域EMA3可以对应于位于第三子像素SPX3上的第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1。因此，当每个第三发射区域EMA3具有菱形形状时，第一开口OPN1可以具有菱形形状。当每个第三发射区域EMA3具有圆形形状时，第一开口OPN1可以具有圆形形状。此外，由于第二光阻挡图案LBP2的第二开口OPN2对应于第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1，因此第二开口OPN2可以具有与第一开口OPN1的形状相同的形状。
第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2可以位于四个第四发射区域EMA4中的彼此相邻的两个第四发射区域EMA4之间的区域(例如，非发射区域NEMA)中。
四个第四发射区域EMA4可以具有相同的尺寸并且具有相同的形状。在示例中，四个第四发射区域EMA4可以形成如图12A中所示的多边形形状(例如，菱形形状)或者形成如图12B中所示的圆形形状。
在本公开的实施方式中，每个第四发射区域EMA4可以对应于位于第四子像素SPX4上的第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1。因此，当每个第四发射区域EMA4具有菱形形状时，第一开口OPN1可以具有菱形形状。当每个第四发射区域EMA4具有圆形形状时，第一开口OPN1可以具有圆形形状。此外，由于第二光阻挡图案LBP2的第二开口OPN2对应于第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1，因此第二开口OPN2可以具有与第一开口OPN1的形状相同的形状。
在本公开的实施方式中，第一发射区域EMA1、第二发射区域EMA2、第三发射区域EMA3和第四发射区域EMA4中的每个的尺寸可以由于第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2而小于第五子像素SPX5至第八子像素SPX8中的每个的发射区域EMA的尺寸。因此，第一像素PXL1可以显示其视角相对小于第二像素PXL2的视角的图像。
如上所述，当具有包括第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2(其位于不同层中、配置成具有不同的材料并且具有相同的平面形状)的双层结构的光阻挡图案LBP在触摸传感器TS中设置成仅对应于第一像素PXL1时，每个第一像素PXL1具有比每个第二像素PXL2的视角相对窄的视角，从而更容易实现私密模式。此外，由于第二光阻挡图案LBP2位于第一光阻挡图案LBP1下方，所以第二光阻挡图案LBP2吸收可能不被第一光阻挡图案LBP1阻挡的另外的光，从而进一步防止个人信息被发射到外部并且可能被用户以外的人看到。因此，可以进一步最大化私密模式下所需的特性(例如，保护个人的私人生活、保护信息等)。
在以上描述的实施方式中，已经描述了光阻挡图案LBP被配置成包括第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2的双层结构，但是本公开不限于此。在本公开的一些实施方式中，可以通过进一步包括除了以上描述的第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2之外的附加光阻挡图案来将光阻挡图案LBP配置成多层结构。
在下文中，将参考图15至图17描述光阻挡图案LBP被配置成多层结构的本公开的实施方式。
图15和图16示出了包括第三光阻挡图案LBP3的第一像素PXL1和与其相邻的第二像素PXL2，并且其是对应于图11中所示的部分EA4的立体图。图17是沿着图15中所示的线III-III'截取的剖视图。
在图15至图17中，除了第三光阻挡图案LBP3被设置在第一像素PXL1上，并且第一导电图案CP1被设置在第二像素PXL2上之外，第一像素PXL1和第二像素PXL2可以配置为与图12A至图14中所示的第一像素PXL1和第二像素PXL2基本上相同或类似。
关于图15至图17中所示的实施方式，将主要描述与以上描述的实施方式的部分不同的部分以避免冗余。
参考图1至图11和图15至图17，第一光阻挡图案LBP1可以设置在第一像素PXL1上的第一封盖层CPL1上。第一光阻挡图案LBP1可以位于第一封盖层CPL1的一个表面上以对应于第一像素PXL1的像素限定层PDL。第一光阻挡图案LBP1可以包括黑色矩阵。
第一光阻挡图案LBP1可以包括与第一像素区域PXA1中的发射区域EMA'的一个区域对应的多个第一开口OPN1。
第二光阻挡图案LBP2可以位于第一光阻挡图案LBP1下方。在示例中，第二光阻挡图案LBP2可以位于在第一像素PXL1上的第一绝缘层INS1上，并且对应于第一光阻挡图案LBP1。第二光阻挡图案LBP2可以被配置为第二导电图案CP2，并且被连接到在第二像素PXL2上的第二导电图案CP2。
第二光阻挡图案LBP2可以包括与第一像素区域PXA1中的发射区域EMA'的一个区域对应的多个第二开口OPN2。每个第二开口OPN2可以对应于每个第一开口OPN1。
在本公开的实施方式中，第三光阻挡图案LBP3可以位于第二光阻挡图案LBP2下方。在示例中，第三光阻挡图案LBP3可以位于在第一像素PXL1上的基础层BSL上，并且对应于第二光阻挡图案LBP2。第三光阻挡图案LBP3不设置在第二像素PXL2上。换言之，第三光阻挡图案LBP3可以仅设置在第一像素PXL1上。在示例中，第三光阻挡图案LBP3可以位于基础层BSL的一个表面上，以对应于第一像素PXL1的像素限定层PDL。因此，像素限定层PDL、第一光阻挡图案LBP1、第二光阻挡图案LBP2和第三光阻挡图案LBP3可以彼此对应。
第三光阻挡图案LBP3可以反射或屏蔽(或阻挡)在相邻子像素之间的区域中发射的光。为了实现这一点，第三光阻挡图案LBP3可以包括具有恒定反射率的导电材料。第三光阻挡图案LBP3可以包括至少一个反射电极层。
在本公开的一些实施方式中，第三光阻挡图案LBP3可以被配置为第一导电图案CP1。第三光阻挡图案LBP3可以设置在与位于在第二像素PXL2上的基础层BSL上的第一导电图案CP1(例如，第一桥接图案BRP1)相同的层中。第三光阻挡图案LBP3可以在与第一导电图案CP1接触的同时，连接到位于在第二像素PXL2上的基础层BSL上的第一导电图案CP1。第三光阻挡图案LBP3可以用作识别用户的触摸的触摸电极，并且同时用作光控制构件，其通过阻挡从第一子像素SPX1至第四子像素SPX4中的每个发射的光的一部分并且允许其它光仅在特定方向上前进而使第一像素PXL1的视角变窄。
在本公开的实施方式中，第三光阻挡图案LBP3的宽度(例如，临界尺寸(CD)，“每个电极的线宽或电极之间的间隙的宽度”)可以不同于在第二像素PXL2上的第一导电图案CP1的宽度。在示例中，位于两个第三开口OPN3之间的第三光阻挡图案LBP3的宽度d3可以大于在第二像素PXL2上的第一导电图案CP1的宽度d4。
第三光阻挡图案LBP3和第二光阻挡图案LBP2可以在第三方向DR3上彼此面对，且第一绝缘层INS1插置在它们之间。第三光阻挡图案LBP3和第二光阻挡图案LBP2可以是彼此不连接的单独部件。
第三光阻挡图案LBP3可以部分地开口，以包括与第一像素区域PXA1中的发射区域EMA'的一个区域对应的至少一个第三开口OPN3。在示例中，第三光阻挡图案LBP3可以包括多个第三开口OPN3。第三开口OPN3可以对应于像素限定层PDL的开口OP。此外，第三开口OPN3可以对应于第二光阻挡图案LBP2的第二开口OPN2。此外，第三开口OPN3可以对应于第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1。第三光阻挡图案LBP3在第一像素区域PXA1中可以具有包括第三开口OPN3的网格形状(或网状形状)。
在以上描述的实施方式中，第一光阻挡图案LBP1、第二光阻挡图案LBP2和第三光阻挡图案LBP3可以在第一像素区域PXA1中具有相同的平面形状，或者在第一像素区域PXA1中具有基本上彼此类似的平面形状。
第三光阻挡图案LBP3可以与第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2一起构成光阻挡图案LBP，其允许第一像素PXL1的视角变窄。
在本公开的实施方式中，每个第一发射区域EMA1可以对应于位于第一子像素SPX1上的第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1、第二光阻挡图案LBP2的第二开口OPN2和第三光阻挡图案LBP3的第三开口OPN3。因此，当每个第一发射区域EMA1具有如图15中所示的菱形形状时，第一开口OPN1、第二开口OPN2和第三开口OPN3可以具有菱形形状。当每个第一发射区域EMA1具有如图16中所示的圆形形状时，第一开口OPN1、第二开口OPN2和第三开口OPN3可以具有圆形形状。
在本公开的实施方式中，每个第二发射区域EMA2可以对应于位于第二子像素SPX2上的第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1、第二光阻挡图案LBP2的第二开口OPN2和第三光阻挡图案LBP3的第三开口OPN3。因此，当每个第二发射区域EMA2具有如图15中所示的菱形形状时，第一开口OPN1、第二开口OPN2和第三开口OPN3可以具有菱形形状。当每个第二发射区域EMA2具有如图16中所示的圆形形状时，第一开口OPN1、第二开口OPN2和第三开口OPN3可以具有圆形形状。
在本公开的实施方式中，每个第三发射区域EMA3可以对应于位于第三子像素SPX3上的第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1、第二光阻挡图案LBP2的第二开口OPN2和第三光阻挡图案LBP3的第三开口OPN3。因此，当每个第三发射区域EMA3具有如图15中所示的菱形形状时，第一开口OPN1、第二开口OPN2和第三开口OPN3可以具有菱形形状。当每个第三发射区域EMA3具有如图16中所示的圆形形状时，第一开口OPN1、第二开口OPN2和第三开口OPN3可以具有圆形形状。
在本公开的实施方式中，每个第四发射区域EMA4可以对应于位于第四子像素SPX4上的第一光阻挡图案LBP1的第一开口OPN1、第二光阻挡图案LBP2的第二开口OPN2和第三光阻挡图案LBP3的第三开口OPN3。因此，当每个第四发射区域EMA4具有如图15中所示的菱形形状时，第一开口OPN1、第二开口OPN2和第三开口OPN3可以具有菱形形状。当每个第四发射区域EMA4具有如图16中所示的圆形形状时，第一开口OPN1、第二开口OPN2和第三开口OPN3可以具有圆形形状。
在本公开的实施方式中，第一发射区域EMA1、第二发射区域EMA2、第三发射区域EMA3和第四发射区域EMA4中的每个的尺寸可以由于第一光阻挡图案LBP1、第二光阻挡图案LBP2和/或第三光阻挡图案LBP3而小于第五子像素SPX5至第八子像素SPX8中的每个的发射区域EMA的尺寸。因此，第一像素PXL1可以显示其视角相对小于第二像素PXL2的视角的图像。
如上所述，当具有包括第一光阻挡图案LBP1、第二光阻挡图案LBP2和第三光阻挡图案LBP3(其位于不同层中、配置成具有不同的材料并且具有相同的平面形状)的多层结构的光阻挡图案LBP在触摸传感器TS中设置成仅对应于第一像素PXL1时，每个第一像素PXL1具有比每个第二像素PXL2的视角相对窄的视角，从而更容易实现私密模式。此外，由于第三光阻挡图案LBP3位于第二光阻挡图案LBP2下方，所以第三光阻挡图案LBP3吸收可能不被第一光阻挡图案LBP1和第二光阻挡图案LBP2阻挡的另外的光，从而防止个人信息被发射到外部并且可能被用户以外的人看到。因此，可以进一步最大化私密模式下所需的特性(例如，保护个人的私人生活、保护信息等)。
根据本公开的实施方式，在当设定私密模式时被独立驱动的第一像素(或窄像素)中设置具有与黑色矩阵相同的平面形状的导电图案。此外，导电图案与黑色矩阵一起用作光阻挡图案。因此，可以进一步最大化私密模式的特性。
本文中已经公开了本公开的示例性实施方式，并且尽管使用了特定的术语，但是它们以常规的和描述性的含义使用或将以常规的和描述性的含义进行解释，而不是出于限制的目的。在一些情况下，如对于本领域普通技术人员将显而易见的，除非另外特别指示，否则结合特定实施方式描述的特征、特性和/或元件可以单独使用或与结合其它实施方式描述的特征、特性和/或元件组合使用。因此，本领域的技术人员将理解的是，在不背离如所附权利要求中阐述的本公开的精神和范围的情况下，可以在形式和细节上做出各种改变。

Claims (20)

1.显示装置，包括：
显示面板，包括第一像素和第二像素，其中，所述第一像素和所述第二像素设置在衬底上；以及
触摸传感器，设置在所述显示面板上，
其中，所述触摸传感器包括：
传感器图案，设置在所述显示面板上；
桥接图案，电连接到所述传感器图案；
第一光阻挡图案，设置在所述传感器图案上，其中，所述第一光阻挡图案针对所述第一像素中的每个设置，所述第一光阻挡图案包括与所述第一像素中的每个的发射区域对应的第一开口；以及
第二光阻挡图案，位于所述第一光阻挡图案下方，其中，所述第二光阻挡图案针对所述第一像素中的每个设置，所述第二光阻挡图案包括与所述第一像素中的每个的所述发射区域对应的第二开口，以及
其中，所述第一光阻挡图案和所述第二光阻挡图案在所述第一像素中的每个上具有相同的平面形状。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一光阻挡图案和所述第二光阻挡图案包括不同的材料。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一光阻挡图案包括黑色矩阵，并且所述第二光阻挡图案包括导电材料。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述第二光阻挡图案电连接到所述传感器图案中的位于所述第二像素上的至少一个传感器图案。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述第一像素中的每个包括至少一个第一子像素，
其中，所述第一子像素包括设置在所述衬底上的第一电极、包括暴露所述第一电极的一区域的开口的像素限定层、设置在所述第一电极的所述一区域上的第一发射层、以及设置在所述第一发射层上的第二电极，以及
其中，所述第一子像素包括四个发射区域。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述像素限定层的所述开口、所述第一光阻挡图案的所述第一开口和所述第二光阻挡图案的所述第二开口彼此重叠。
7.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述第二像素中的每个包括至少一个第二子像素，
其中，所述第二子像素包括设置在所述衬底上的第三电极、包括暴露所述第三电极的一区域的开口的所述像素限定层、设置在所述第三电极的所述一区域上的第二发射层、以及设置在所述第二发射层上的第四电极，以及
其中，所述第二子像素包括一个发射区域。
8.根据权利要求7所述的显示装置，其中，所述第一子像素和所述第二子像素具有不同的尺寸。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，当在平面上观察时，所述第一子像素的所述四个发射区域和所述第二子像素的所述一个发射区域具有菱形形状或圆形形状。
10.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述触摸传感器还包括：
基础层，位于所述显示面板上；
第一导电图案，位于所述基础层上；
第一绝缘层，设置在所述第一导电图案和所述基础层上；
第二导电图案，位于所述第一绝缘层上；
第二绝缘层，设置在所述第二导电图案和所述第一绝缘层上；以及
封盖层，设置在所述第二绝缘层上，
其中，所述第一光阻挡图案设置在所述封盖层上。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述传感器图案包括沿着第一方向布置的第一传感器图案和沿着与所述第一方向相交的第二方向布置的第二传感器图案，
其中，所述桥接图案包括将所述第一传感器图案彼此连接的第一桥接图案和将所述第二传感器图案彼此连接的第二桥接图案，以及
其中，所述第一导电图案包括所述第一桥接图案，以及
所述第二导电图案包括所述第一传感器图案、所述第二传感器图案和所述第二桥接图案。
12.根据权利要求11所述的显示装置，其中，所述第二光阻挡图案设置在与所述第一传感器图案、所述第二传感器图案和所述第二桥接图案相同的层中。
13.根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述第二光阻挡图案的宽度大于位于所述第二像素中的每个上的至少一个所述传感器图案的宽度。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述触摸传感器还包括位于所述第二光阻挡图案下方的第三光阻挡图案，其中，所述第三光阻挡图案针对所述第一像素中的每个设置，所述第三光阻挡图案包括与所述第一像素中的每个的所述发射区域对应的第三开口。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述第一光阻挡图案、所述第二光阻挡图案和所述第三光阻挡图案在所述第一像素中的每个上具有相同的平面形状。
16.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述第三光阻挡图案包括导电材料。
17.根据权利要求16所述的显示装置，其中，所述第三光阻挡图案设置在与所述第一桥接图案相同的层中。
18.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述像素限定层的所述开口、所述第一光阻挡图案的所述第一开口、所述第二光阻挡图案的所述第二开口和所述第三光阻挡图案的所述第三开口彼此重叠。
19.根据权利要求7所述的显示装置，其中，所述第一子像素和所述第二子像素中的每个还包括设置在所述衬底上的像素电路层，所述像素电路层包括至少一个晶体管。
20.显示装置，包括：
显示面板，包括第一像素和第二像素；以及
触摸传感器，设置在所述显示面板上，
其中，所述触摸传感器包括：
传感器图案，设置在所述显示面板上；
桥接图案，电连接到所述传感器图案；
第一光阻挡图案，设置在所述传感器图案上，其中，所述第一光阻挡图案针对所述第一像素中的每个设置，所述第一光阻挡图案包括与所述第一像素中的每个的发射区域对应的第一开口；
第二光阻挡图案，与所述第一光阻挡图案重叠，其中，
所述第二光阻挡图案针对所述第一像素中的每个设置，所述
第二光阻挡图案包括与所述第一开口对应的第二开口；以及
第三光阻挡图案，与所述第二光阻挡图案重叠，其中，
所述第三光阻挡图案针对所述第一像素中的每个设置，所述第三光阻挡图案包括与所述第二开口对应的第三开口，
其中，所述第一光阻挡图案、所述第二光阻挡图案和所述第三光阻挡图案在所述第一像素中的每个上具有相同的平面形状。
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