CN115655998B - 一种磨粒检测方法、装置、设备、介质和产品 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种磨粒检测方法、装置、设备、介质和产品。该方法应用于磨粒检测设备中，该设备包括移动装置和检测装置；移动装置包括第1至第3样品区，第1样品区内无样品，第2样品区内布置有待测样品，第3样品区内布置有基准样品，移动装置用于使3个样品区分别移动至检测装置；检测装置执行的检测方法包括：分别检测第1至第3样品区，对得到的多个检测数据进行处理以获得第1样品区和待测样品的测量数据；根据预设校准算法对测量数据进行校准，获得待测样品的校准数据；根据待测样品的校准数据，确定待测样品中第一磨粒含量。本发明中，降低了外界环境对测试结果的影响，提高了检测精度和测试结果准确性。

Description

一种磨粒检测方法、装置、设备、介质和产品

技术领域

本发明涉及铁量检测技术领域，尤其涉及一种磨粒检测方法、装置、设备、介质和产品。

背景技术

目前，各种机械或电气等设备中机械部件多是以铁质材料为基础制成。在实际机械运行中，两个相对运动的机械部件之间会发生摩擦与磨损，此时润滑油可应用于两个相对运动的机械部件之间，减少两机械部件因接触而产生的磨擦与磨损。

两个相对运动的机械部件之间发生摩擦与磨损，机械部件的运动表面材料通常会以磨损颗粒的形式脱落，该脱落下来的铁磁颗粒会融入润滑油中。基于此，检测润滑油中的铁磁颗粒含量，可用于判断机械部件的磨损程度、使用寿命等。

然而，现有检测设备对润滑油中铁磁颗粒含量进行检测时，检测精度差。

发明内容

本发明提供了一种磨粒检测方法、装置、设备、介质和产品，以解决检测精度差的问题。

根据本发明的一方面，提供了一种磨粒检测方法，应用于磨粒检测设备中，该设备包括移动装置和检测装置；

所述移动装置包括第1至第3样品区，第1样品区内无样品，第2样品区内布置有待测样品，第3样品区内布置有基准样品，所述移动装置用于使3个所述样品区分别移动至所述检测装置；

所述检测装置执行的检测方法包括：

分别检测所述第1至第3样品区，对得到的多个检测数据进行处理以获得所述第1样品区和所述待测样品的测量数据；

根据预设校准算法对所述测量数据进行校准，获得所述待测样品的校准数据；

根据所述待测样品的校准数据，确定所述待测样品中第一磨粒含量。

根据本发明的另一方面，提供了一种磨粒检测装置，应用于磨粒检测设备中，该设备还包括移动装置，所述移动装置包括第1至第3样品区，第1样品区内无样品，第2样品区内布置有待测样品，第3样品区内布置有基准样品，所述移动装置用于使3个所述样品区分别移动至该检测装置；

所述检测装置包括：

检测模块，用于分别检测所述第1至第3样品区，对得到的多个检测数据进行处理以获得所述第1样品区和所述待测样品的测量数据；

校准模块，用于根据预设校准算法对所述测量数据进行校准，获得所述待测样品的校准数据；

计算模块，用于根据所述待测样品的校准数据，确定所述待测样品中第一磨粒含量。

根据本发明的另一方面，提供了一种电子设备，所述电子设备包括：

至少一个处理器；

以及与所述至少一个处理器通信连接的存储器；

其中，所述存储器存储有被所述至少一个处理器执行的计算机程序，所述计算机程序被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器用于执行如上所述的磨粒检测方法。

根据本发明的另一方面，提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序用于使处理器执行时实现如上所述的磨粒检测方法。

根据本发明的另一方面，提供了一种计算机程序产品，所述计算机程序产品包括计算机程序，所述计算机程序在被处理器执行时实现如上所述的磨粒检测方法。

本发明实施例中，移动装置将3个样品区分别移动至检测装置，检测装置对每个样品区进行检测，再对得到的检测数据进行处理以获得第1样品区和待测样品的测量数据；根据预设校准算法对得到的测量数据进行校准，获得待测样品的校准数据；根据待测样品的校准数据，确定待测样品中第一磨粒含量。由此可知，最终得到的待测样品的第一磨粒含量，降低了外界环境影响，排除了外界环境对测试结果的影响，提高了检测精度和测试结果准确性。

应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种磨粒检测设备的示意图；

图2是本发明实施例提供的一种磨粒检测方法的示意图；

图3是图1中磨粒检测设备的移动装置的示意图；

图4是本发明实施例提供的另一种磨粒检测方法的示意图；

图5是本发明实施例提供的一种磨粒检测装置的示意图；

图6是本发明实施例提供的电子设备的示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

图1是本发明实施例提供的一种磨粒检测设备的示意图，图2是本发明实施例提供的一种磨粒检测方法的示意图。本实施例提供的检测方法可适用于磨粒检测设备对样品中第一磨粒含量进行检测的情况，该第一磨粒可以是铁磁磨粒，则样品可以是任意一种包含铁磁颗粒的液体油。该方法可以由磨粒检测装置来执行，该磨粒检测装置可以采用硬件和/或软件的形式实现，该磨粒检测装置可配置于磨粒检测设备中。

图3是图1中磨粒检测设备的移动装置的示意图。如图1和图3所示，磨粒检测设备包括移动装置11和检测装置12；移动装置11包括第1至第3样品区13~15，第1样品区13内无样品，第2样品区14内布置有待测样品，第3样品区15内布置有基准样品，移动装置11用于使3个样品区分别移动至检测装置12。该检测装置12为执行磨粒检测方法的磨粒检测装置，下文简称为检测装置或装置。

本实施例中，移动装置11可以是一个转动装置，可沿轴心水平转动。移动装置11包括3个样品区，分别为第1样品区13、第2样品区14和第3样品区15，该3个样品区可以沿圆周均匀分布。但移动装置的结构、转动方式和样品区分布等不限于此。第1样品区13内为空白，未放置任何样品；第2样品区14内放置有待测样品，该待测样品的第一磨粒含量未知；第3样品区15内布置有与待测样品种类相同的基准样品。通常情况下，可选基准样品嵌入在第3样品区15内，即磨粒检测设备出厂后，其移动装置11的第3样品区15内嵌入式固定布置有一基准样品。

磨粒检测设备中，检测装置12相对移动装置11的位置是固定不变的，检测装置12和移动装置11间隔设置，图1中仅示出了两者的相对位置关系，并未示出两者的连接关系，另外磨粒检测设备还包括其他结构，在此并未示出。如图3所示，在垂直于移动装置11所在平面的方向上，检测装置12在移动装置11的垂直投影的位置固定不变，移动装置11可以任意转动，以将任意一个样品区移动至检测装置12。在此样品区移动至检测装置12具体是指，在垂直于移动装置11所在平面的方向上，检测装置12在移动装置11的垂直投影覆盖样品区(图3所示)，或检测装置12在移动装置11的垂直投影与样品区存在交叠(未示出)，或样品区位于检测装置12的检测范围内(参考图3)。例如图3所示，移动装置11将第1样品区13移动至检测装置12，则移动完成后，在垂直于移动装置11所在平面的方向上，检测装置12在移动装置11的垂直投影覆盖第1样品区13。移动装置11使3个样品区分别移动至检测装置12。检测装置12进行检测，处理以得到待测样品中第一磨粒含量。

如图2所示，磨粒检测设备中检测装置执行的检测方法包括：

步骤110、分别检测第1至第3样品区，对得到的多个检测数据进行处理以获得第1样品区和待测样品的测量数据；

步骤120、根据预设校准算法对测量数据进行校准，获得待测样品的校准数据；

步骤130、根据待测样品的校准数据，确定待测样品中第一磨粒含量。

目前，各种机械或电气等设备中机械部件多是以铁质材料为基础制成。在实际机械运行中，两个相对运动的机械部件之间会发生摩擦与磨损，此时润滑油可应用于两个相对运动的机械部件之间，减少两机械部件因接触而产生的磨擦与磨损。而两个相对运动的机械部件之间发生摩擦与磨损，机械部件的运动表面材料通常会以磨损颗粒的形式脱落，该脱落下来的铁磁颗粒会融入润滑油中。基于此，检测润滑油中的铁磁颗粒含量，可用于判断机械部件的磨损程度、使用寿命等。或者，各种机械或电气等设备中会有液压系统，液压系统中有传动介质液压油，杂质颗粒如机械部件磨损产生的铁磁颗粒可能进入液压油，加大事故风险。基于此，检测液压油中的铁磁颗粒含量，可用于判断设备故障等。可以理解，样品包括但不限于是各种机械或电气等设备中的液体油。

如上所述，可选第一磨粒为铁磁磨粒，布置在磨粒检测设备中的待测样品和嵌入在磨粒检测设备中的基准样品均为包含铁磁颗粒的液体油。但样品种类不限于液体油，第一磨粒不限于液体油中的铁磁磨粒。在其他实施例中，第一磨粒还可以是其他磁性或金属磨粒，则样品是包含相应材质颗粒的液体油或其他样品等；在下文中，以第一磨粒为铁磁颗粒做示例，对磨粒检测方法、装置和设备进行描述。

本实施例中，检测装置分别检测第1至第3样品区，对得到的至少3个检测数据进行处理以获得第1样品区和待测样品的测量数据。具体的，移动装置将第1样品区移动至检测装置，可选检测装置在移动装置的垂直投影覆盖第1样品区，检测装置检测第1样品区得到无样品情况下的检测数据；顺序的，移动装置将第2样品区移动至检测装置，可选检测装置在移动装置的垂直投影覆盖第2样品区，检测装置检测第2样品区得到待测样品的检测数据；顺序的，移动装置将第3样品区移动至检测装置，可选检测装置在移动装置的垂直投影覆盖第3样品区，检测装置检测第3样品区得到基准样品的检测数据。检测装置对该多个检测数据进行处理，可以获得第1样品区的测量数据以及待测样品的测量数据，因此第1样品区的测量数据与该多个检测数据存在关联，待测样品的测量数据与该多个检测数据存在关联。该多个检测数据为用户使用设备时，设备在当前所处外界环境下实际检测得到的检测数据，可以理解，设备处于不同外界环境时，相同样品的检测数据可能存在微小差异；基于此，检测装置对检测数据处理以得到样品的测量数据，可以降低甚至消除外界环境对最终检测结果的影响。外界环境影响至少包括设备自身、温度、位置等外界因素对检测的影响。

可选检测装置包括感应线圈，检测装置检测样品区实质为检测感应线圈，则样品区的检测数据为检测装置检测感应线圈得到的线圈值。因此，第1样品区的检测数据为，第1样品区被移动至检测装置，检测装置检测感应线圈得到的无样品时的线圈值，可以理解，无样品时的线圈值受外界环境影响；第2样品区的检测数据为，第2样品区被移动至检测装置，检测装置检测感应线圈得到的待测样品的线圈值；第3样品区的检测数据为，第3样品区被移动至检测装置，检测装置检测感应线圈得到的基准样品的线圈值。相应的，第1样品区的测量数据为处理3个检测数据后得到的线圈值，待测样品的测量数据为处理3个检测数据后得到的线圈值。待测样品的测量数据考虑了无样品时外界环境影响和基准样品的影响，即降低了外界环境对测试结果的影响，能够提高待测样品的第一磨粒含量的准确性，提高检测精度。

检测装置根据预设校准算法对得到的测量数据进行校准，获得待测样品的校准数据。检测装置中预先存储有预设校准算法，根据该预设校准算法，检测装置可以结合预设校准算法和第1样品区的测量数据，对待测样品的测量数据进行校准，以此获得待测样品的校准数据。显然，待测样品的校准数据考虑了第1样品区至第3样品区的线圈值的影响，校准后降低了外界环境影响，可以提高检测精度。

检测装置根据待测样品的校准数据，确定待测样品中第一磨粒含量。检测装置根据校准后的待测样品的校准数据，计算得到待测样品中第一磨粒的含量即第一磨粒含量。本实施例中，可选检测装置根据校准后的待测油样的校准数据，计算得到待测油样中铁磁磨粒含量，后续根据待测油样中铁磁磨粒含量，可以对待测油样应用的设备的磨损率、寿命等进行判断。最终得到的待测样品的第一磨粒含量，降低了外界环境影响，排除了外界环境对测试结果的影响，提高了检测精度。

本发明实施例中，移动装置将3个样品区分别移动至检测装置，检测装置对每个样品区进行检测，再对得到的检测数据进行处理以获得第1样品区和待测样品的测量数据；根据预设校准算法对得到的测量数据进行校准，获得待测样品的校准数据；根据待测样品的校准数据，确定待测样品中第一磨粒含量。由此可知，最终得到的待测样品的第一磨粒含量，降低了外界环境影响，排除了外界环境对测试结果的影响，提高了检测精度和测试结果准确性。

图4是本发明实施例提供的另一种磨粒检测方法的示意图。可选步骤110中，分别检测第1至第3样品区，对得到的多个检测数据进行处理以获得第1样品区和待测样品的测量数据，包括：

步骤111、检测第1至第3样品区，得到第1样品区的第1检测数据S_A1、待测样品的第2检测数据S_A2以及基准样品的第3检测数据S_A3；

步骤112、对该多个检测数据进行处理，获得第1样品区的测量数据S_B1以及待测样品的测量数据S_B2；

其中，S_B1=S_A3-S_A1，S_B2=S_A2-S_A1。

本实施例中，检测装置包括感应线圈。实际使用时，移动装置将第1样品区移动至检测装置，检测装置检测感应线圈的线圈值，该线圈值为无样品情况下的第1检测数据S_A1；顺序的，移动装置将第2样品区移动至检测装置，检测装置检测感应线圈的线圈值，该线圈值为待测样品的第2检测数据S_A2；顺序的，移动装置将第3样品区移动至检测装置，检测装置检测感应线圈的线圈值，该线圈值为基准样品的第3检测数据S_A3。

根据第1检测数据S_A1和第2检测数据S_A2，计算待测样品的测量数据S_B2，其中，S_B2=S_A2-S_A1。根据第1检测数据S_A1和第3检测数据S_A3，计算第1样品区的测量数据S_B1，其中，S_B1=S_A3-S_A1。

在其他实施例中，还可选对第1样品区进行两次检测。具体的，在对第2样品区进行检测之前，对第1样品区进行第一次检测，根据该第1样品区的第一次检测数据和第2样品区的检测数据，计算得到待测样品的测量数据；在对第3样品区进行检测之后，对第1样品区进行第二次检测，根据该第3样品区的检测数据和第1样品区的第二次检测数据，计算得到第1样品区的测量数据。通常情况下，第1样品区的两次检测数据一致，但也可能存在误差。采用以上方法，可以进一步提高检测精度。第1检测数据S_A1，第2检测数据S_A2，第3检测数据S_A3，均为线圈值，则根据多个检测数据计算得到的第1样品区的测量数据S_B1为线圈值，根据多个检测数据计算得到的待测样品的测量数据S_B2为线圈值。

如图4所示，可选步骤120中，根据预设校准算法对测量数据进行校准，获得待测样品的校准数据S_C2，包括：按照预设校准算法中的公式(1)计算待测样品的校准数据S_C2；

n₀为校准系数，S_B2为待测样品的测量数据，b₀为补偿系数，S_B1为第1样品区的测量数据。

本实施例中，检测装置得到第1样品区的测量数据S_B1以及待测样品的测量数据S_B2；再根据预设校准算法对得到的测量数据进行校准，校准后得到一个校准数据即待测样品的校准数据S_C2。预设校准算法包括公式(1)，根据公式(1)S_C2=n₀*(S_B2-b₀)/(S_B1-b₀)可计算得到待测样品的校准数据S_C2。公式(1)中校准系数n₀和补偿系数b₀均已知，则检测装置得到S_B1和S_B2后，将该两个测量数据代入公式(1)，可计算得到待测样品的校准数据S_C2。第1样品区的测量数据S_B1和待测样品的测量数据S_B2均为线圈值，校准系数n₀和补偿系数b₀均为常数，则计算得到的待测样品的校准数据S_C2为一线圈值。如上所述线圈值是与感应线圈关联的线圈信号。

如图4所示，可选步骤130中，根据待测样品的校准数据，确定待测样品中第一磨粒含量包括：根据预设磨粒含量模型，计算得出待测样品的校准数据对应的含量值，将该含量值确定为待测样品中的第一磨粒含量。

本实施例中，检测装置中包括预设磨粒含量模型，预设磨粒含量模型包括线圈值和铁磁磨粒值的对应关系。那么检测装置计算得到待测样品的校准数据S_C2后，将校准数据S_C2代入预设磨粒含量模型，从预设磨粒含量模型中查找出与待测样品的校准数据S_C2对应的铁磁磨粒含量值，该含量值即为待测样品中的第一磨粒含量。

可选在设备出厂之前，工作人员测试得到预设校准算法和预设磨粒含量模型，并将其集成在设备中；设备出厂之后，用户使用时检测装置根据预存的预设校准算法和预设磨粒含量模型，对用户放置在设备中的待测样品进行检测，得到待测样品的第一磨粒含量。通常该设备应用于对液体油中的铁磁磨粒含量进行检测，用户根据待测样品中的铁磁磨粒含量可以对待测样品所应用设备的磨损率等参数进行判断。

可选预设校准算法包括校准系数和补偿系数；检测方法包括：在检测前，计算得到校准系数和补偿系数，在检测中根据校准系数和补偿系数对测量数据进行校准。

可选计算得到校准系数和补偿系数包括：

将不同第一磨粒值的第1至第X标准样依次布置在第2样品区并检测，根据X个标准样的第一磨粒值和基准检测数据形成预设磨粒含量模型，X为正整数且X≥3；

将第i和第j标准样依次布置在第2样品区并检测，根据该2个标准样的第一磨粒值和校准检测数据形成校准曲线模型，i≠j，X≥i≥1，X≥j≥1；

按照预设校准算法中的公式(2)~(4)，计算得到校准系数n₀和补偿系数b₀；

其中，Q_Ai和Q_Bi分别为第i标准样的校准检测数据和基准检测数据，Q_Aj和Q_Bj分别为第j标准样的校准检测数据和基准检测数据，S'_A3为基准样品的校准检测数据。

本实施例中，预先计算得到校准系数和补偿系数，将校准系数和补偿系数存储在检测装置中，便于检测装置根据预设校准算法进行校准计算。

计算校准系数和补偿系数的过程如下：

步骤201、选取X个标准样，每个标准样的第一磨粒PQ值已知，且不同标准样的第一磨粒PQ值不同。可选第一磨粒为铁磁磨粒，X为7，该7个标准样可选为：第1标准样，其PQ值为0即PQ0；第2标准样，其PQ值为60即PQ60；第3标准样，其PQ值为160即PQ160；第4标准样，其PQ值为400即PQ400；第5标准样，其PQ值为600即PQ600；第6标准样，其PQ值为750即PQ750；第7标准样，其PQ值为910即PQ910。但X不限于7，该X个标准样的PQ值也不限于以上示例，例如可选第5标准样的PQ值为580，等等，以上7个标准样及其铁磁磨粒PQ值仅为一种示例。

步骤202、将第1标准样布置在第2样品区，将第2样品区移动至检测装置，检测装置测量感应线圈的线圈值为Q_B1，该Q_B1为第1标准样的基准检测数据，如此可得到第1标准样的坐标为（PQ0，Q_B1）；然后，可将第2标准样布置在第2样品区并检测，检测装置测量感应线圈的线圈值为Q_B2，得到第2标准样的坐标为（PQ60，Q_B2）；依次类推，分别将第3至第7标准样布置在第2样品区并检测，得到第3标准样的坐标为（PQ160，Q_B3），得到第4标准样的坐标为（PQ400，Q_B4），得到第5标准样的坐标为（PQ600，Q_B5），得到第6标准样的坐标为（PQ750，Q_B6），得到第7标准样的坐标为（PQ910，Q_B7）。基准检测数据可以理解为工作人员在实验室中使用磨粒检测设备测得的标准样的检测数据。

步骤203、以PQ值为横坐标，以线圈值为纵坐标，建立PQ~线圈值坐标系，将第1至第X标准样的坐标代入该坐标系中，即可在坐标系中制作出分段函数并形成标准曲线，该坐标系中的标准曲线及其函数关系即构成预设磨粒含量模型。可选第1至第X标准样的PQ值由小到大依序排布，那么根据坐标系的不同设置，第1至第X标准样的线圈值可能从小到大依序排布或从大到小依序排布。相邻2个标准样的坐标构成分段函数。

需要说明的是，步骤201至203是出厂前完成的步骤，那么磨粒检测设备出厂时已存储有预设磨粒含量模型。预设校准算法也是在出厂前存储在磨粒检测设备的检测装置中，但出厂前n₀和b₀未知。

步骤204、X个标准样是与设备配套的。用户校准磨粒检测设备时，从7个标准样中选取2个标准样，例如i等于6，j等于1，则选取出第1标准样和第6标准样。将第1标准样布置在第2样品区，将第2样品区移动至检测装置，检测装置测量感应线圈的线圈值为Q_A1，该Q_A1为第1标准样的校准检测数据，如此可得到第1标准样的坐标为（PQ0，Q_A1）；再将第6标准样布置在第2样品区，将第2样品区移动至检测装置，检测装置测量感应线圈的线圈值为Q_A6，该Q_A6为第6标准样的校准检测数据，如此可得到第6标准样的坐标为（PQ750，Q_A6）。将（PQ0，Q_A1）和（PQ750，Q_A6）代入PQ~线圈值坐标系，形成校准曲线即校准曲线模型，由2个标准样如（PQ0，Q_A1）和（PQ750，Q_A6）构成的校准曲线实质为一线段且形成一次函数。但i不限于6，j不限于1，还可以从X个标准样中选取其他两个标准样进行校准曲线的形成。校准检测数据可以理解为用户在实际工作环境中使用磨粒检测设备测得的标准样的检测数据，显然，校准检测数据受到设备的外界环境影响。

步骤205、预设校准算法包括公式(2)，为k₀=(Q_Ai-Q_Aj)/(Q_Bi-Q_Bj)；将第1标准样的校准检测数据Q_A1和基准检测数据Q_B1代入公式(2)，还将第6标准样的校准检测数据Q_A6和基准检测数据Q_B6代入公式(2)，则计算得到系数k₀；其中，k₀=(Q_A6-Q_A1)/(Q_B6-Q_B1)。显然系数k₀表征了设备所处外界环境对标准样的影响程度，也可以说明磨粒检测设备受到的外界环境影响。

步骤206、预设校准算法包括公式(3)，为b₀=Q_Ai-Q_Bi*k₀；将计算得到系数k₀以及第6标准样的校准检测数据Q_A6和基准检测数据Q_B6代入公式(3)，则计算得到补偿系数b₀；其中，b₀=Q_A6-Q_B6*k₀。

步骤207、磨粒检测设备的第3样品区设置有基准样品，将第3样品区移动至检测装置，检测装置测量感应线圈的线圈值为S'_A3，该S'_A3是设备在校准过程中采集得到的基准样品的实际检测数据，S'_A3定义为基准样品的校准检测数据。

步骤208、预设校准算法包括公式(4)，为n₀=(S'_A3-b₀)/k₀；将计算得到的b₀、k₀以及S'_A3代入公式(4)，则计算得到校准系数n₀。

需要说明的是，步骤204至208是出厂后，用户校准磨粒检测设备的过程。用户可以仅在首次使用时对磨粒检测设备进行一次校准，用户还可以隔一段时间对磨粒检测设备进行一次校准。校准后得到n₀和b₀，将已知的n₀和b₀代入预设校准算法中，则用户在后续检测时预设校准算法中n₀和b₀为已知数值。

用户在检测过程中，按照步骤110~130对待测样品进行检测，检测装置检测各个样品区后，根据预设校准算法计算得到待测样品的校准数据S_C2后，从预设磨粒含量模型的标准曲线中查找出与待测样品的校准数据S_C2对应的分段函数，将S_C2代入该分段函数，并计算得到PQ值，则该PQ值为待测样品的第一磨粒含量值。

例如，预设磨粒含量模型的标准曲线中Q_B1为2，Q_B2为5，Q_B3为12，Q_B4为21，Q_B5为27，Q_B6为30，Q_B7为33；S_C2为14，则S_C2对应的分段函数为标准曲线中第3标准样（PQ160，Q_B3）和第4标准样（PQ400，Q_B4）构成的一次函数，S_C2代入该一次函数，可以计算得到待测样品的PQ值即铁磁磨粒含量。该测量结果消除了外界环境对样品的影响，提高了检测结果准确度，提高了设备检测精度。

可选计算得到校准系数和补偿系数包括：

形成Y个校准曲线模型，并得到Y个校准曲线模型的校准系数n₁~n_Y和补偿系数b₁~b_Y，任意两个校准曲线模型中存在不同的标准样，Y为正整数且Y≥2；

将该Y个校准系数n₁~n_Y的平均值确定为所述预设校准算法的校准系数n₀，且将该Y个补偿系数b₁~b_Y的平均值确定为所述预设校准算法的补偿系数b₀。

本实施例与上述实施例的区别在于，在校准磨粒检测设备时，可预先得到多个校准系数，求平均值以得到预设校准算法的校准系数n₀；且预先得到多个补偿系数，求平均值以得到预设校准算法的校准系数补偿系数b₀。如此可以提高预设校准算法中校准系数n₀和补偿系数b₀的准确度。

磨粒检测设备的校准过程包括连续的Y个阶段，Y大于等于2。

第1个阶段，从7个标准样中选取出第1标准样和第6标准样，按照步骤204至208计算得到校准系数和补偿系数，该校准系数可设定为n₁，该补偿系统可设定为b₁。

第2个阶段，从7个标准样中选取出另外2个标准样，例如第1和第7标准样，按照步骤204至208计算得到校准系数n₂和补偿系数b₂。

顺序的，第3个阶段，从7个标准样中选取出另外2个标准样，例如第2和第5标准样，按照步骤204至208计算得到校准系数n₃和补偿系数b₃。

以此类推，经过Y个阶段，得到Y个校准系数n₁~n_Y和Y个补偿系数b₁~b_Y，将Y个校准系数n₁~n_Y的平均值确定为预设校准算法的校准系数n₀，且将Y个补偿系数b₁~b_Y的平均值确定为预设校准算法的补偿系数b₀。

如此可以提高预设校准算法中校准系数n₀和补偿系数b₀的准确度，进而提高检测精度。

基于同一发明构思，本发明实施例提供一种磨粒检测装置，应用于磨粒检测设备中，该设备还包括移动装置，移动装置包括第1至第3样品区，第1样品区内无样品，第2样品区内布置有待测样品，第3样品区内布置有基准样品，移动装置用于使3个样品区分别移动至该检测装置。

图5是本发明实施例提供的一种磨粒检测装置的示意图。如图5所示，该检测装置包括：

检测模块310，用于分别检测第1至第3样品区，对得到的多个检测数据进行处理以获得第1样品区和待测样品的测量数据；

校准模块320，用于根据预设校准算法对测量数据进行校准，获得待测样品的校准数据；

计算模块330，用于根据待测样品的校准数据，确定待测样品中第一磨粒含量。

本发明实施例所提供的磨粒检测装置可执行本发明任意实施例所提供的磨粒检测方法，具备执行方法相应的功能模块和有益效果。

可选检测模块310用于执行以下步骤：

检测第1至第3样品区，得到第1样品区的第1检测数据S_A1、待测样品的第2检测数据S_A2以及基准样品的第3检测数据S_A3；

对该多个检测数据进行处理，获得第1样品区的测量数据S_B1以及待测样品的测量数据S_B2；其中，S_B1=S_A3-S_A1，S_B2=S_A2-S_A1。

可选校准模块320用于执行以下步骤：按照预设校准算法中的公式(1)计算待测样品的校准数据S_C2；

n₀为校准系数，S_B2为待测样品的测量数据，b₀为补偿系数，S_B1为第1样品区的测量数据。

可选计算模块330用于执行以下步骤：根据预设磨粒含量模型，计算得出待测样品的校准数据对应的含量值，将该含量值确定为待测样品中的第一磨粒含量。

可选预设校准算法包括校准系数和补偿系数；检测装置包括：系数计算模块，用于在检测前，计算得到校准系数和补偿系数，使检测模块在检测中根据校准系数和补偿系数对测量数据进行校准。

可选系数计算模块用于执行以下步骤：

将不同第一磨粒值的第1至第X标准样依次布置在第2样品区并检测，根据X个标准样的第一磨粒值和基准检测数据形成预设磨粒含量模型，X为正整数且X≥3；

将第i和第j标准样依次布置在第2样品区并检测，根据该2个标准样的第一磨粒值和校准检测数据形成校准曲线模型，i≠j，X≥i≥1，X≥j≥1；

按照预设校准算法中的公式(2)~(4)，计算得到校准系数n₀和补偿系数b₀；

其中，Q_Ai和Q_Bi分别为第i标准样的校准检测数据和基准检测数据，Q_Aj和Q_Bj分别为第j标准样的校准检测数据和基准检测数据，S'_A3为基准样品的校准检测数据。

可选系数计算模块还用于执行以下步骤：

形成Y个校准曲线模型，并得到Y个校准曲线模型的校准系数n₁~n_Y和补偿系数b₁~b_Y，任意两个校准曲线模型中存在不同的标准样，Y为正整数且Y≥2；

将该Y个校准系数n₁~n_Y的平均值确定为预设校准算法的校准系数n₀，且将该Y个补偿系数b₁~b_Y的平均值确定为预设校准算法的补偿系数b₀。

可选检测装置包括感应线圈，检测装置检测样品区得到的检测数据为感应线圈的线圈值。

磨粒检测设备可以是铁磁指数仪，磨粒检测设备可根据磁场的变化来计算液体的铁磁性磨粒含量。本发明中，通过磨粒检测装置的软件算法可消除外界环境对测量结果产生的影响。

图6是本发明实施例提供的电子设备的示意图。如图6所示，电子设备410包括至少一个处理器411；以及与至少一个处理器411通信连接的存储器；其中，存储器存储有被至少一个处理器411执行的计算机程序，计算机程序被至少一个处理器411执行，以使至少一个处理器411用于执行本发明任意实施例中的磨粒检测方法。该电子设备410可集成在磨粒检测设备中。

电子设备410旨在表示各种形式的数字计算机，诸如，膝上型计算机、台式计算机、工作台、个人数字助理、服务器、刀片式服务器、大型计算机、和其它适合的计算机。电子设备410还可以表示各种形式的移动装置，诸如，个人数字处理、蜂窝电话、智能电话、可穿戴设备（如头盔、眼镜、手表等）和其它类似的计算装置。本文所示的部件、它们的连接和关系、以及它们的功能仅仅作为示例，并且不意在限制本文中描述的和/或者要求的本发明的实现。

如图6所示，电子设备410包括至少一个处理器411，以及与至少一个处理器411通信连接的存储器，存储器如只读存储器（ROM）412、随机访问存储器（RAM）413等，其中，存储器存储有可被至少一个处理器411执行的计算机程序，处理器411可以根据存储在只读存储器（ROM）412中的计算机程序或者从存储单元418加载到随机访问存储器（RAM）413中的计算机程序，来执行各种适当的动作和处理。在RAM413中，还可存储电子设备410操作所需的各种程序和数据。处理器411、ROM412以及RAM413通过总线414彼此相连。输入/输出（I/O）接口415也连接至总线414。

电子设备410中的多个部件连接至I/O接口415，包括：输入单元416，例如键盘、鼠标等；输出单元417，例如各种类型的显示器、扬声器等；存储单元418，例如磁盘、光盘等；以及通信单元419，例如网卡、调制解调器、无线通信收发机等。通信单元419允许电子设备410通过诸如因特网的计算机网络和/或各种电信网络与其他设备交换信息/数据。

处理器411可以是各种具有处理和计算能力的通用和/或专用处理组件。处理器411的一些示例包括但不限于中央处理单元（CPU）、图形处理单元（GPU）、各种专用的人工智能（AI）计算芯片、各种运行机器学习模型算法的处理器、数字信号处理器（DSP）、以及任何适当的处理器、控制器、微控制器等。处理器411执行上文所描述的各个方法和处理，例如本发明任意实施例所述的磨粒检测方法。

在一些实施例中，本发明任意实施例所述的磨粒检测方法可被实现为计算机程序，其被有形地包含于计算机可读存储介质，例如存储单元418。在一些实施例中，计算机程序的部分或者全部可以经由ROM412和/或通信单元419而被载入和/或安装到电子设备410上。当计算机程序加载到RAM413并由处理器411执行时，可以执行本发明任意实施例所述的磨粒检测方法的一个或多个步骤。备选地，在其他实施例中，处理器411可以通过其他任何适当的方式（例如，借助于固件）而被配置为执行本发明任意实施例所述的磨粒检测方法。

本文中以上描述的系统和技术的各种实施方式可以在数字电子电路系统、集成电路系统、场可编程门阵列（FPGA）、专用集成电路（ASIC）、专用标准产品（ASSP）、芯片上系统的系统（SOC）、负载可编程逻辑设备（CPLD）、计算机硬件、固件、软件、和/或它们的组合中实现。

本发明实施例提供一种计算机可读存储介质，计算机可读存储介质存储有计算机程序，计算机程序用于使处理器执行时实现本发明任意实施例所述的磨粒检测方法。本发明实施例还提供一种计算机程序产品，计算机程序产品包括计算机程序，计算机程序在被处理器执行时实现本发明任意实施例所述的磨粒检测方法。

这些各种实施方式可以包括：实施在一个或者多个计算机程序中，该一个或者多个计算机程序可在包括至少一个可编程处理器的可编程系统上执行和/或解释，该可编程处理器可以是专用或者通用可编程处理器，可以从存储系统、至少一个输入装置、和至少一个输出装置接收数据和指令，并且将数据和指令传输至该存储系统、该至少一个输入装置、和该至少一个输出装置。

用于实施本发明的方法的计算机程序可以采用一个或多个编程语言的任何组合来编写。这些计算机程序可以提供给通用计算机、专用计算机或其他可编程数据处理装置的处理器，使得计算机程序当由处理器执行时使流程图和/或框图中所规定的功能/操作被实施。计算机程序可以完全在机器上执行、部分地在机器上执行，作为独立软件包部分地在机器上执行且部分地在远程机器上执行或完全在远程机器或服务器上执行。

在本发明的上下文中，计算机可读存储介质可以是有形的介质，其可以包含或存储以供指令执行系统、装置或设备使用或与指令执行系统、装置或设备结合地使用的计算机程序。计算机可读存储介质可以包括但不限于电子的、磁性的、光学的、电磁的、红外的、或半导体系统、装置或设备，或者上述内容的任何合适组合。备选地，计算机可读存储介质可以是机器可读信号介质。机器可读存储介质的更具体示例会包括基于一个或多个线的电气连接、便携式计算机盘、硬盘、随机存取存储器（RAM）、只读存储器（ROM）、可擦除可编程只读存储器（EPROM或快闪存储器）、光纤、便捷式紧凑盘只读存储器（CD-ROM）、光学储存设备、磁储存设备、或上述内容的任何合适组合。

为了提供与用户的交互，可以在电子设备上实施此处描述的系统和技术，该电子设备具有：用于向用户显示信息的显示装置（例如，CRT（阴极射线管）或者LCD（液晶显示器）监视器）；以及键盘和指向装置（例如，鼠标或者轨迹球），用户可以通过该键盘和该指向装置来将输入提供给电子设备。其它种类的装置还可以用于提供与用户的交互；例如，提供给用户的反馈可以是任何形式的传感反馈（例如，视觉反馈、听觉反馈、或者触觉反馈）；并且可以用任何形式（包括声输入、语音输入或者、触觉输入）来接收来自用户的输入。

可以将此处描述的系统和技术实施在包括后台部件的计算系统（例如，作为数据服务器）、或者包括中间件部件的计算系统（例如，应用服务器）、或者包括前端部件的计算系统（例如，具有图形用户界面或者网络浏览器的用户计算机，用户可以通过该图形用户界面或者该网络浏览器来与此处描述的系统和技术的实施方式交互）、或者包括这种后台部件、中间件部件、或者前端部件的任何组合的计算系统中。可以通过任何形式或者介质的数字数据通信（例如，通信网络）来将系统的部件相互连接。通信网络的示例包括：局域网（LAN）、广域网（WAN）、区块链网络和互联网。

计算系统可以包括客户端和服务器。客户端和服务器一般远离彼此并且通常通过通信网络进行交互。通过在相应的计算机上运行并且彼此具有客户端-服务器关系的计算机程序来产生客户端和服务器的关系。服务器可以是云服务器，又称为云计算服务器或云主机，是云计算服务体系中的一项主机产品，以解决了传统物理主机与VPS服务中，存在的管理难度大，业务扩展性弱的缺陷。

应该理解，可以使用上面所示的各种形式的流程，重新排序、增加或删除步骤。例如，本发明中记载的各步骤可以并行地执行也可以顺序地执行也可以不同的次序执行，只要能够实现本发明的技术方案所期望的结果，本文在此不进行限制。

上述具体实施方式，并不构成对本发明保护范围的限制。本领域技术人员应该明白的是，根据设计要求和其他因素，可以进行各种修改、组合、子组合和替代。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明保护范围之内。

Claims (8)

1.一种磨粒检测方法，其特征在于，应用于磨粒检测设备中，该设备包括移动装置和检测装置；

所述移动装置包括第1至第3样品区，第1样品区内无样品，第2样品区内布置有待测样品，第3样品区内布置有基准样品，所述移动装置用于使3个所述样品区分别移动至所述检测装置；

所述检测装置执行的检测方法包括：

分别检测所述第1至第3样品区，对得到的多个检测数据进行处理以获得所述第1样品区和所述待测样品的测量数据；

根据预设校准算法对所述测量数据进行校准，获得所述待测样品的校准数据；

根据所述待测样品的校准数据，确定所述待测样品中第一磨粒含量；

分别检测所述第1至第3样品区，对得到的多个检测数据进行处理以获得所述第1样品区和所述待测样品的测量数据，包括：

检测所述第1至第3样品区，得到所述第1样品区的第1检测数据S_A1、所述待测样品的第2检测数据S_A2以及所述基准样品的第3检测数据S_A3；

对该多个检测数据进行处理，获得所述第1样品区的测量数据S_B1以及所述待测样品的测量数据S_B2；

其中，S_B1=S_A3-S_A1，S_B2=S_A2-S_A1；

根据预设校准算法对所述测量数据进行校准，获得所述待测样品的校准数据S_C2，包括：

按照所述预设校准算法中的公式(1)计算所述待测样品的校准数据S_C2；

S_C2=n₀*(S_B2-b₀)/(S_B1-b₀) (1)；

n₀为校准系数，S_B2为所述待测样品的测量数据，b₀为补偿系数，S_B1为所述第1样品区的测量数据；

所述预设校准算法包括校准系数和补偿系数；

所述检测方法包括：

在检测前，计算得到所述校准系数和所述补偿系数，在检测中根据所述校准系数和所述补偿系数对所述测量数据进行校准；

计算得到所述校准系数和所述补偿系数包括：

将不同第一磨粒值的第1至第X标准样依次布置在所述第2样品区并检测，根据X个所述标准样的第一磨粒值和基准检测数据形成预设磨粒含量模型，X为正整数且X≥3；

将第i和第j标准样依次布置在所述第2样品区并检测，根据该2个所述标准样的第一磨粒值和校准检测数据形成校准曲线模型，i≠j，X≥i≥1，X≥j≥1；

按照所述预设校准算法中的公式(2)~(4)，计算得到所述校准系数n₀和所述补偿系数b₀；

k₀=(Q_Ai-Q_Aj)/(Q_Bi-Q_Bj) (2)；

b₀=Q_Ai-Q_Bi*k₀ (3)；

n₀=(S'_A3-b₀)/k₀ (4)；

其中，Q_Ai和Q_Bi分别为第i标准样的校准检测数据和基准检测数据，Q_Aj和Q_Bj分别为第j标准样的校准检测数据和基准检测数据，S'_A3为所述基准样品的校准检测数据。

2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，根据所述待测样品的校准数据，确定所述待测样品中第一磨粒含量包括：

根据预设磨粒含量模型，计算得出所述待测样品的校准数据对应的含量值，将该含量值确定为所述待测样品中的第一磨粒含量。

3.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，计算得到所述校准系数和所述补偿系数包括：

形成Y个所述校准曲线模型，并得到Y个所述校准曲线模型的校准系数n₁~n_Y和补偿系数b₁~b_Y，任意两个所述校准曲线模型中存在不同的标准样，Y为正整数且Y≥2；

将该Y个校准系数n₁~n_Y的平均值确定为所述预设校准算法的校准系数n₀，且将该Y个补偿系数b₁~b_Y的平均值确定为所述预设校准算法的补偿系数b₀。

4.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述检测装置包括感应线圈，所述检测装置检测所述样品区得到的所述检测数据为所述感应线圈的线圈值。

5.一种磨粒检测装置，其特征在于，应用于磨粒检测设备中，该设备还包括移动装置，所述移动装置包括第1至第3样品区，第1样品区内无样品，第2样品区内布置有待测样品，第3样品区内布置有基准样品，所述移动装置用于使3个所述样品区分别移动至该检测装置；

所述检测装置包括：

检测模块，用于分别检测所述第1至第3样品区，对得到的多个检测数据进行处理以获得所述第1样品区和所述待测样品的测量数据；

校准模块，用于根据预设校准算法对所述测量数据进行校准，获得所述待测样品的校准数据；

计算模块，用于根据所述待测样品的校准数据，确定所述待测样品中第一磨粒含量；

所述检测模块具体用于：

检测第1至第3样品区，得到所述第1样品区的第1检测数据S_A1、所述待测样品的第2检测数据S_A2以及所述基准样品的第3检测数据S_A3；

对该多个检测数据进行处理，获得第1样品区的测量数据S_B1以及所述待测样品的测量数据S_B2；其中，S_B1=S_A3-S_A1，S_B2=S_A2-S_A1；

所述校准模块具体用于：

按照预设校准算法中的公式(1)计算待测样品的校准数据S_C2；

S_C2=n₀*(S_B2-b₀)/(S_B1-b₀) (1)；

n₀为校准系数，S_B2为待测样品的测量数据，b₀为补偿系数，S_B1为第1样品区的测量数据；

所述预设校准算法包括校准系数和补偿系数；

所述检测装置还包括：

系数计算模块，用于在检测前，计算得到所述校准系数和所述补偿系数，使所述检测模块在检测中根据所述校准系数和所述补偿系数对测量数据进行校准；

所述系数计算模块具体用于：

将不同第一磨粒值的第1至第X标准样依次布置在所述第2样品区并检测，根据X个所述标准样的第一磨粒值和基准检测数据形成预设磨粒含量模型，X为正整数且X≥3；

将第i和第j标准样依次布置在所述第2样品区并检测，根据该2个所述标准样的第一磨粒值和校准检测数据形成校准曲线模型，i≠j，X≥i≥1，X≥j≥1；

按照所述预设校准算法中的公式(2)~(4)，计算得到所述校准系数n₀和所述补偿系数b₀；

k₀=(Q_Ai-Q_Aj)/(Q_Bi-Q_Bj) (2)；

b₀=Q_Ai-Q_Bi*k₀ (3)；

n₀=(S'_A3-b₀)/k₀ (4)；

其中，Q_Ai和Q_Bi分别为第i标准样的校准检测数据和基准检测数据，Q_Aj和Q_Bj分别为第j标准样的校准检测数据和基准检测数据，S'_A3为所述基准样品的校准检测数据。

6.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括：

至少一个处理器；

以及与所述至少一个处理器通信连接的存储器；

其中，所述存储器存储有被所述至少一个处理器执行的计算机程序，所述计算机程序被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器用于执行权利要求1-4中任一项所述的磨粒检测方法。

7.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序用于使处理器执行时实现权利要求1-4中任一项所述的磨粒检测方法。

8.一种计算机程序产品，其特征在于，所述计算机程序产品包括计算机程序，所述计算机程序在被处理器执行时实现权利要求1-4中任一项所述的磨粒检测方法。

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