CN115652289A - 同心定位结构及薄膜沉积设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种同心定位结构及薄膜沉积设备，涉及半导体设备的技术领域。同心定位结构包括固定件和工作件；工作件设置在固定件上；固定件上设置有多个定位销轴，工作件上开设有与定位销轴适配的定位槽孔，多个定位槽孔沿工作件的中心周向分布，且多个定位槽孔的延伸线相交于所述工作件的中心点。薄膜沉积设备包括反应腔壳体、晶圆托盘和同心定位结构；固定件固定在反应腔壳体的顶部，工作件设置在固定件上，固定件上开设有进气孔，工作件上开设有多个喷淋孔；晶圆托盘设置在反应腔壳体内，固定件的中心线与晶圆托盘的轴线重合。达到了同心度好的技术效果。
Description
技术领域
本发明涉及半导体设备技术领域，具体而言，涉及同心定位结构及薄膜沉积设备。
背景技术
在现有技术中，在晶圆上方进行薄膜沉积过程中，有多个参与构成此功能的关键部件，例如喷淋头，这些管件部件的位置需要被限定在一定范围内，通常使用止口配合，但是止口配合尺寸较大，且不适合多种温度条件下的配合精度，无法满足工艺过程中不同温度时的同心要求，影响晶圆上薄膜的质量。
因此，提供一种同心定位结构及薄膜沉积设备成为本领域技术人员所要解决的重要技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种同心定位结构及薄膜沉积设备，以缓解现有技术中同心度不达标的技术问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种同心定位结构，包括固定件和工作件；
所述工作件设置在所述固定件上；
所述固定件上设置有多个定位销轴，所述工作件上开设有与所述定位销轴适配的定位槽孔，多个所述定位槽孔沿所述工作件的中心周向分布，且多个所述定位槽孔的延伸线相交于所述工作件的中心点。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述多个所述定位槽孔沿所述工作件的中心周向均匀分布。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述定位槽孔的数量为三个，且相邻两个所述定位槽孔之间的夹角为120度。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述定位槽孔的槽宽等于所述定位销轴的直径。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述同心定位结构还包括螺纹连接件，所述固定件上开设有多个螺纹孔，所述工作件上开设有多个与所述螺纹孔适配的腰形光孔，所述螺纹连接件穿过所述腰形光孔与所述螺纹孔连接。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述多个所述腰形光孔的延伸线相交于所述工作件的中心点。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述螺纹连接件采用半牙螺栓。
结合第一方面，本发明实施例提供了第一方面的一种可能的实施方式，其中，上述工作件的纵截面呈U型，所述定位槽孔位于所述工作件的边缘处。
第二方面，本发明实施例提供了一种薄膜沉积设备，包括反应腔壳体、晶圆托盘和所述同心定位结构；
所述固定件固定在所述反应腔壳体的顶部，所述工作件设置在所述固定件上，所述固定件上开设有进气孔，所述工作件上开设有多个喷淋孔；
所述晶圆托盘设置在所述反应腔壳体内，所述固定件的中心线与所述晶圆托盘的轴线重合。
结合第二方面，本发明实施例提供了第二方面的一种可能的实施方式，其中，上述固定件为盖板，所述工作件为喷淋板。
有益效果：
本发明提供了一种同心定位结构，包括固定件和工作件；工作件设置在固定件上；固定件上设置有多个定位销轴，工作件上开设有与定位销轴适配的定位槽孔，多个定位槽孔沿工作件的中心周向分布，且多个定位槽孔的延伸线相交于所述工作件的中心点。
具体的，在固定件上设置有定位销轴，在工作件上设置有定位槽孔，并且多个定位槽孔的延伸线能够相交与一点，即多个定位槽孔的延伸线能够与同一个圆的半径线重合，因此当工作件受温度影响发生收缩膨胀时，工作件的尺寸会发生轻微变化，即向中心方向收缩或者沿中心向外膨胀，此时工作件的收缩或者膨胀方向与定位槽孔的延伸方向一致，使得定位槽孔能够相对定位销轴移动，从而工作件可以完成收缩或者膨胀，而工作件的中心线与固定件的中心线仍然共线同心，通过这样的设置，能够使得工作件不会因温度变化导致的收缩或者膨胀影响与固定件之间的同心度。
本发明提供了一种薄膜沉积设备，包括反应腔壳体、晶圆托盘和同心定位结构；固定件固定在反应腔壳体的顶部，工作件设置在固定件上，固定件上开设有进气孔，工作件上开设有多个喷淋孔；晶圆托盘设置在反应腔壳体内，固定件的中心线与晶圆托盘的轴线重合。薄膜沉积设备与现有技术相比具有上述的优势，此处不再赘述。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的同心定位结构用在薄膜沉积设备内的结构示意图；
图2为图1中A-A的剖视图；
图3为图2中B处的局部放大图；
图4为图1中C处的局部放大图。
图标：
100-固定件；110-定位销轴；120-进气孔；
200-工作件；210-定位槽孔；
300-反应腔壳体；
400-晶圆托盘。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面通过具体的实施例并结合附图对本发明做进一步的详细描述。
参见图1、图2、图3和图4所示，本发明实施例提供了一种同心定位结构，包括固定件100和工作件200；工作件200设置在固定件100上；固定件100上设置有多个定位销轴110，工作件200上开设有与定位销轴110适配的定位槽孔210，多个定位槽孔210沿工作件200的中心周向分布，且多个定位槽孔210的延伸线相交于所述工作件200的中心点。
具体的，在固定件100上设置有定位销轴110，在工作件200上设置有定位槽孔210，并且多个定位槽孔210的延伸线能够相交与一点，即多个定位槽孔210的延伸线能够与同一个圆的半径线重合，因此当工作件200受温度影响发生收缩膨胀时，工作件200的尺寸会发生轻微变化，即向中心方向收缩或者沿中心向外膨胀，此时工作件200的收缩或者膨胀方向与定位槽孔210的延伸方向一致，使得定位槽孔210能够相对定位销轴110移动，从而工作件200可以完成收缩或者膨胀，而工作件200的中心线与固定件100的中心线仍然共线同心，通过这样的设置，能够使得工作件200不会因温度变化导致的收缩或者膨胀影响与固定件100之间的同心度。
具体的，工作件200可以放置在固定件100的上表面，也可以通过其他辅助固定结构设置在固定件100的下表面，例如螺纹连接件或者卡具等。
参见图1、图2、图3和图4所示，本实施例的可选方案中，多个定位槽孔210沿工作件200的中心周向均匀分布。
具体的，多个定位槽孔210沿工作件200的中心轴线均匀分布，在工作件200受温度影响收缩或者膨胀时，均衡工作件200上的多个定位槽孔210与固定件100上的定位销轴110之间压力，避免某个定位销轴110受力过大导致断裂。
其中，定位槽孔210的数量至少为三个。
参见图1、图2、图3和图4所示，本实施例的可选方案中，定位槽孔210的数量为三个，且相邻两个定位槽孔210之间的夹角为120度。
具体的，定位槽孔210的数量可以设置为三个、四个或者五个等，并且多个定位槽孔210之间的角度相等，均衡工作件200上的多个定位槽孔210与固定件100上的定位销轴110之间压力，避免某个定位销轴110受力过大导致断裂。
具体的，定位槽孔210的数量设置为三个时，相邻两个定位槽孔210之间的夹角为120度。
参见图1、图2、图3和图4所示，本实施例的可选方案中，定位槽孔210的槽宽等于定位销轴110的直径。
具体的，定位槽孔210的槽宽等于定位销轴110的直径，通过这样的设置，以免工作件200相对固定件100出现水平方向的窜动，从而保证工作件200的中心线与固定件100的中心线重合。
其中，工作件200上设置有至少三个定位槽孔210，且多个定位槽孔210的延伸线能够相交于所述工作件200的中心点，因此当工作件200相对固定件100出现水平窜动时，至少存在两个定位槽孔210与定位销轴110抵接，从而约束工作件200的水平移动。
参见图1、图2、图3和图4所示，本实施例的可选方案中，同心定位结构还包括螺纹连接件，固定件100上开设有多个螺纹孔，工作件200上开设有多个与螺纹孔适配的腰形光孔，螺纹连接件穿过腰形光孔与螺纹孔连接。多个腰形光孔的延伸线相交于所述工作件200的中心点。
具体的，工作件200还可以通过螺纹连接件安装在固定件100的下表面，具体为，在固定件100上开设螺纹孔，在工作件200上开设有腰形光孔，并且多个腰形光孔的延伸线相交于所述工作件200的中心点。当工作件200受温度影响发生收缩膨胀时，工作件200的尺寸会发生轻微变化，即向中心方向收缩或者沿中心向外膨胀，此时工作件200的收缩或者膨胀方向与腰形光孔的延伸方向一致，使得腰形光孔能够相对螺纹连接件移动，从而工作件200可以完成收缩或者膨胀，而工作件200的中心线与固定件100的中心线仍然共线同心。
其中，在组装时，螺纹连接件的螺纹端穿过腰形光孔与固定件100上的螺纹孔连接，从而将工作件200固定在固定件100上。
本实施例的可选方案中，螺纹连接件采用半牙螺栓。
具体的，螺纹连接件可以采用半牙螺栓或者全压螺栓，另外，本领域技术人员还可以根据实际需求自行选择螺纹连接件的类型，在此不再进行赘述。
参见图1、图2、图3和图4所示，本实施例的可选方案中，工作件200的纵截面呈U型，定位槽孔210位于工作件200的边缘处。
具体的，将工作件200的纵截面设置成U型，从而使得工作件200与固定件100之间能够形成腔体，以备流体工作。
其中，将定位槽孔210设置在工作件200的边缘处，避免工作件200与固定件100之间形成的腔体内的流体从定位槽孔210排出。
参见图1、图2、图3和图4所示，本实施例提供了一种薄膜沉积设备，包括反应腔壳体300、晶圆托盘400和同心定位结构；固定件100固定在反应腔壳体300的顶部，工作件200设置在固定件100上，固定件100上开设有进气孔120，工作件200上开设有多个喷淋孔；晶圆托盘400设置在反应腔壳体300内，固定件100的中心线与晶圆托盘400的轴线重合。
具体的，镀膜气体从固定件100上的进气孔120进入到工作件200与固定件100之间形成的腔体内，然后镀膜气体能够从工作件200上的喷淋孔进入到反应腔壳体300内，对放置在晶圆托盘400上的晶圆进行镀膜工作，其中，固定件100的中心线与晶圆托盘400的轴线重合，并且通过同心定位结构的设置，即工作件200的中心线始终与固定件100的中心线重合，从而使得工作件200的中心线能够始终与晶圆托盘400的轴线重合，从而能够满足不同工艺的同心度要求，保证晶圆镀膜的质量。
具体的，实际使用过程中，固定件100可以作为反应腔壳体300的盖板，工作件200可以设置为喷淋板，工作件200上设置有多个喷淋孔。
需要指出的是，本实施例提供的薄膜沉积设备与现有技术相比还具有上述同心定位结构的优势，在此不再进行赘述。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种同心定位结构，其特征在于，包括：固定件(100)和工作件(200)；
所述工作件(200)设置在所述固定件(100)上；
所述固定件(100)上设置有多个定位销轴(110)，所述工作件(200)上开设有与所述定位销轴(110)适配的定位槽孔(210)，多个所述定位槽孔(210)沿所述工作件(200)的中心周向分布，且多个所述定位槽孔(210)的延伸线相交于所述工作件(200)的中心点。
2.根据权利要求1所述的同心定位结构，其特征在于，多个所述定位槽孔(210)沿所述工作件(200)的中心周向均匀分布。
3.根据权利要求2所述的同心定位结构，其特征在于，所述定位槽孔(210)的数量为三个，且相邻两个所述定位槽孔(210)之间的夹角为120度。
4.根据权利要求1所述的同心定位结构，其特征在于，所述定位槽孔(210)的槽宽等于所述定位销轴(110)的直径。
5.根据权利要求1-4任一项所述的同心定位结构，其特征在于，还包括螺纹连接件，所述固定件(100)上开设有多个螺纹孔，所述工作件(200)上开设有多个与所述螺纹孔适配的腰形光孔，所述螺纹连接件穿过所述腰形光孔与所述螺纹孔连接。
6.根据权利要求5所述的同心定位结构，其特征在于，多个所述腰形光孔的延伸线相交于所述工作件(200)的中心点。
7.根据权利要求5所述的同心定位结构，其特征在于，所述螺纹连接件采用半牙螺栓。
8.根据权利要求1-4任一项所述的同心定位结构，其特征在于，所述工作件(200)的纵截面呈U型，所述定位槽孔(210)位于所述工作件(200)的边缘处。
9.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括反应腔壳体(300)、晶圆托盘(400)和权利要求1-8任一项所述的同心定位结构；
所述固定件(100)固定在所述反应腔壳体(300)的顶部，所述工作件(200)设置在所述固定件(100)上，所述固定件(100)上开设有进气孔(120)，所述工作件(200)上开设有多个喷淋孔；
所述晶圆托盘(400)设置在所述反应腔壳体(300)内，所述固定件(100)的中心线与所述晶圆托盘(400)的轴线重合。
10.根据权利要求9所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述固定件(100)为盖板，所述工作件(200)为喷淋板。
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