CN115619983B - 一种基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例中提供了一种基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法,属于图像生成技术领域,具体包括:步骤1,对于三维空间中一组点集,根据每个点处相应的单位法向量和平均曲率建立隐函数的约束条件;步骤2,将径向基函数推广得到其二阶导形式,并将其作为步骤1中的隐函数;步骤3,使用高次幂径向基核函数并根据隐函数需要满足的约束条件建立求解方程组;步骤4,将求解方程组组装为求解矩阵,并求解得到待定系数,将隐函数的零水平集可视化,得到隐式曲面;步骤5,修改相应控制点处的平均曲率,重复步骤3和步骤4获得更新后的隐式曲面。通过本发明的方案,提高了隐式曲面生成的可控性和准确性,降低了生成过程中对控制点的依赖性。
Description
技术领域
本发明实施例涉及图像生成技术领域,尤其涉及一种基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法。
背景技术
目前,径向基函数插值法是许多隐式曲面生成问题中采用的方法,该方法通常会选择一个合适的核函数,利用离散点位置信息与法向量信息约束隐函数以重建曲面,然而对于稀疏点云数据,由于缺少控制点,生成的隐式曲面与实际情况存在较大误差;且使用法向量信息约束对于隐式曲面表达的控制能力有限,对于点云稀疏区域,重建的曲面往往不能正确表达。
可见,亟需一种提高隐式曲面生成的可控性和准确性,降低曲面生成过程中对控制点的依赖性的基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供一种基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法,至少部分解决现有技术中存在隐式曲面生成的可控性和准确性较差的问题。
本发明实施例提供了一种基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法,包括:
根据本发明实施例的一种具体实现方式,所述步骤3中建立的求解方程组的表达式
其中,
根据本发明实施例的一种具体实现方式,所述步骤4具体包括:
其中,
其中,
本发明实施例中的基于径向基函数的隐式曲面生成方案,包括:步骤1,对于三维空间中一组点集,根据每个点处相应的单位法向量和平均曲率建立隐函数的约束条件;步骤2将径向基函数推广得到其二阶导形式,并将其作为步骤1中的隐函数;步骤3,使用高次幂径向基核函数并根据隐函数的约束条件建立求解方程组;步骤4,将求解方程组组装为求解矩阵,并求解得到待定系数,,,使用Marchingcubes算法将隐函数的零水平集可视化,得到隐式曲面;步骤5,修改相应控制点处的平均曲率,重复步骤3和步骤4获得更新后的隐式曲面。
本发明实施例的有益效果为:通过本发明的方案,利用控制点的法线信息和平均曲率信息,以及推广得到的径向基函数的二阶导形式,对隐函数附加额外曲率信息的约束,并使用一种高次幂径向基核函数,从而实现控制生成的隐式曲面在指定控制点处曲面形态的表达,提高隐式曲面生成的可控性和准确性,降低曲面生成过程中对控制点的依赖性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本发明实施例提供的一种基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法的流程示意图;
图2为本发明实施例提供的一种同一平面上不同平均曲率的点对应的法向量以及附近区域曲率示意图;
图3为本发明实施例提供的一种同一球面上不同平均曲率对应的曲面生成结果示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不冲突的情况下,以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明的是,下文描述在所附权利要求书的范围内的实施例的各种方面。应显而易见,本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中,且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本发明,所属领域的技术人员应了解,本文中所描述的一个方面可与任何其它方面独立地实施,且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说,可使用本文中所阐述的任何数目个方面来实施设备及/或实践方法。另外,可使用除了本文中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。
还需要说明的是,以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想,图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。
另外,在以下描述中,提供具体细节是为了便于透彻理解实例。然而,所属领域的技术人员将理解,可在没有这些特定细节的情况下实践所述方面。
本发明实施例提供一种基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法,所述方法可以应用于计算机图形生成过程中。
参见图1,为本发明实施例提供的一种基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法的流程示意图。如图1所示,所述方法主要包括以下步骤:
已知与这组点集相对应的单位法向量,若存在某些点单位法向量未知,此时;同时已知与这组点集相对应的平均曲率,若存在某些点平均曲率未知,此时;且存在关系,即法向量未知的点,其平均曲率也未知。则函数满足以下条件:
具体实施时,可以首先引入径向基函数一阶导形式Hermite型径向基函数:
为实现对曲面平均曲率的控制,本发明根据(3)式构造一个额外的求和项加入(4)式中,于是推广得到径向基函数的二阶导形式:
进一步的,所述求解方程组的表达式为
其中,
具体实施时,可以将(5)式作为隐函数,则其零水平集即为待求曲面。规定隐函数梯度为单位向量,根据(2)式可以得到(5)式中系数的求解方程组:
其中,
由于(6)式中涉及四阶偏导,本发明中提出使用核函数:
在上述实施例的基础上,所述步骤4具体包括:
其中,
其中,
其中,
其中,
具体实施时,从隐函数的公式可知,生成的隐式曲面的形状与控制点的平均曲率关联,则若需要更新控制点平均曲率信息,仅需修改(8)式中曲率列向量即可,然后重复步骤3和步骤4即可获得更新后的隐式曲面。具体的,如图2所示,在一个平面上,设置P1点与P2点平均曲率分别为-1和1,图中显示了它们的法向量以及附近区域曲率表达。
图3均匀采样了半径为1的球面上42个点,其法向量方向均垂直于原始球面向外,并对其设置了不同的平均曲率,其中:
(a)每个点平均曲率设置为-1,生成光滑球面,验证了平均曲率表达的准确性。
(b)将P1点平均曲率设置为-7,P2点平均曲率设置为7。
(c)将所有点平均曲率设置为-7。
(d)将所有点平均曲率设置为7。
本实施例提供的基于径向基函数的平均曲率可控隐式曲面生成方法,通过利用控制点的法线信息和平均曲率信息,以及推广得到的径向基函数的二阶导形式,对隐函数附加额外曲率信息的约束,并使用一种高次幂径向基核函数,从而实现控制生成的隐式曲面在指定控制点处曲面形态的表达,提高隐式曲面生成的可控性和准确性,降低曲面生成过程中对控制点的依赖性。
描述于本发明实施例中所涉及到的单元可以通过软件的方式实现,也可以通过硬件的方式来实现。
应当理解,本发明的各部分可以用硬件、软件、固件或它们的组合来实现。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (6)
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述步骤4具体包括:
其中,
其中,
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