CN115582340B - 一种硅片清洗机喷淋用水加热设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了硅片清洗技术领域的一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,包括加热箱,所述加热箱内侧壁上固定连接有分隔板,所述分隔板将加热箱分为两个腔室,所述分隔板内部贯穿与其固定连接的U型抽吸管;本发明通过在每次对硅片清洗机喷淋用水进行加热时,利用加热箱、分隔板形成两个加热腔室,配合U型抽吸管、第一抽吸管、第二抽吸管和过滤机构,避免持续加热的冷水影响水体保持在℃,并将加热设置在外侧,能更好的保证通入硅片清洗机内水体始终处于℃,并且不断循环的水体,能及时将污物带出,有利于对硅片清洗机对硅片进行更好的清洗。

Description

一种硅片清洗机喷淋用水加热设备
技术领域
本发明涉及硅片清洗技术领域,具体为一种硅片清洗机喷淋用水加热设备。
背景技术
在生产硅片的过程中,需要对硅片进行清洗,去除硅片表面上的污物,所以需要每次向硅片清洗机中通入温水,且对硅片情急的温水需要最好在40℃,避免引起硅片的脏片和花片现象。
现有技术中在给硅片清洗机送入加热后的清洗水时,由于需要维持水温最好在40℃,在将通入硅片清洗机内的水清洗硅片后,水温会降低,若直接在硅片清洗机内进行加热,不仅可能会影响硅片的清洗,且加热存在时间,会影响硅片清洗的效果,并且将加热装置设置在清洗机内,占用空间较大,长时间使用后容易造成清洗机内附着大量的污物,不利于对硅片的清洗。
发明内容
本发明的目的在于提供一种循环、自清洁式硅片清洗机喷淋用水加热设备,以解决上述背景技术中提出了的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,包括加热箱,所述加热箱内侧壁上固定连接有分隔板,所述分隔板将加热箱分为两个腔室,所述分隔板内部贯穿与其固定连接的U型抽吸管,所述U型抽吸管连通两个腔室,所述两个所述腔室内侧壁上均固定连接有温度检测器,左侧所述温度检测器在检测到水温到达40℃后控制U型抽吸管启动抽吸,右侧所述腔室后侧壁上固定连通有第一抽吸管,所述第一抽吸管后端插入硅片清洗机内,右侧所述温度检测器在检测到右侧所述腔室水温到达40℃后启动第一抽吸管,左侧所述腔室左侧连通有过滤机构,所述过滤机构左侧连通有第二抽吸管,所述第二抽吸管后端插入硅片清洗机内,所述过滤机构用于对回抽的水流进行过滤处理,左侧所述腔室一侧固定连通有进水管;
所述过滤机构包括过滤箱,所述过滤箱右侧通过第一连通管与加热箱的左侧腔室相连通,所述过滤箱内侧设置有若干过滤板,若干所述过滤板横向排列在过滤箱内,所述过滤箱前侧设置有用于对若干所述过滤板交替进行清洗的清洗机构;
所述清洗机构包括清洗箱,所述清洗箱后侧壁与过滤箱固定连接,所述过滤箱前侧开设有若干供过滤板滑动的第一滑槽,所述过滤板后端位于第一滑槽内将第一滑槽进行密封,每个所述过滤板顶部均固定连接有第一滑板,所述过滤箱顶部开设有供第一滑板纵向滑动的第二滑槽,所述清洗箱和过滤箱上方设置有用于交替推动第一滑板向前侧滑出的推动机构,所述清洗箱上方设置有用于冲洗过滤板的冲洗机构;
所述推动机构包括两个U型支撑架,两个所述U型支撑架分别固定连接在过滤箱和清洗箱的外侧壁上,两个所述U型支撑架之间转动连接有两个第一丝杆,两个所述第一丝杆后端均固定连接有第一电机,所述第一电机固定连接在U型支撑架侧壁上,两个所述第一丝杆共同螺纹连接有第一安装板,所述第一安装板内部开设有若干第三滑槽,所述第三滑槽长度不小于相邻两个过滤板之间的距离,每个所述第三滑槽内均滑动连接有U型卡板,所述U型卡板用于卡住第一滑板的前后两侧,所述第一安装板顶部连接有用于变换若干U型卡板位置的调节机构;
所述调节机构包括第二丝杆,所述第二丝杆贯穿若干U型卡板并与其螺纹连接,所述第二丝杆转动连接在第一安装板的顶部,所述第二丝杆的左端固定连接有第二电机,所述第二电机固定连接在第一安装板的顶部;
所述冲洗机构包括第一安装架,所述第一安装架固定连接在前侧所述U型支撑架的侧壁上,所述第一安装架内侧安装有若干相互连通的喷淋管,所述喷淋管位于第一安装板的上方,所述喷淋管用于冲洗移动至清洗箱内的过滤板;
左侧所述腔室内侧设置有过滤网,所述过滤网位于温度检测器的下方,所述清洗箱的内侧底部嵌设有刮板,所述刮板后侧壁上固定连接有第一电缸,所述第一电缸固定连接在加热箱的后侧壁上,所述加热箱的前侧固定连接有开合阀,所述开合阀位于刮板的前侧;
所述过滤网底部设置有密封板,所述密封板内部开设有与过滤网的网孔错位布置的通槽,所述加热箱内侧转动连接有两个第三丝杆,两个所述第三丝杆顶端均固定连接有第三电机,所述第三电机固定连接在加热箱的顶部,两个所述第三丝杆底端均贯穿密封板并与其螺纹连接。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1.本发明通过在每次对硅片清洗机喷淋用水进行加热时,利用加热箱、分隔板形成两个加热腔室,配合U型抽吸管、第一抽吸管、第二抽吸管和过滤机构,避免持续加热的冷水影响水体保持在℃,并将加热设置在外侧,能更好的保证通入硅片清洗机内水体始终处于℃,并且不断循环的水体,能及时将污物带出,有利于对硅片清洗机对硅片进行更好的清洗。
2.本发明通过在每次过滤一段时间后,启动推动机构,带动部分过滤板向右侧移动,使部门过滤板移动至清洗箱内,清洗箱上方的冲洗机构对移动后的过滤板进行冲洗,去除过滤板表面的污渍,然后推动机构再次带动过滤板移动回过滤箱内,下次在使用时,推动机构变换位置将上次未推出的几个过滤板推出,从而交替推动过滤板进行清洗,过滤板与过滤箱前侧始终接触,从而将过滤箱进行密封,从而不断交替对多个过滤板进行清洗,有利于对回抽的水体进出更好的处理,进而有利于硅片清洗机内进行供水,有利于对硅片的清洗。
附图说明
图1为本发明的总体结构第一立体视图;
图2为本发明的总体结构第二立体视图;
图3为本发明的总体结构第三立体剖视图;
图4为本发明的过滤机构结构示意图;
图5为本发明的加热箱内侧的刮板、过滤网位置示意图;
图6为本发明的推动机构结构示意图;
图7为本发明的加热箱外侧结构示意图;
图8为本发明的过滤箱、第一滑槽和过滤板位置示意图;
图9为本发明的第一安装板顶部调节机构结构示意图。
附图中,各标号所代表的部件列表如下:
加热箱1、分隔板2、腔室3、U型抽吸管4、温度检测器5、第一抽吸管6、第二抽吸管7、进水管8、过滤箱9、过滤板10、清洗箱11、第一滑槽12、第一滑板13、U型支撑架14、第一丝杆15、第一电机16、第一安装板17、第三滑槽18、U型卡板19、第二丝杆20、第二电机21、第一安装架22、喷淋管23、过滤网24、刮板25、第一电缸26、开合阀27、密封板28、第三丝杆29、第三电机30。
具体实施方式
请参阅图1-图9,本发明提供一种技术方案:一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,包括加热箱1,加热箱1内侧壁上固定连接有分隔板2,分隔板2将加热箱1分为两个腔室3,分隔板2内部贯穿与其固定连接的U型抽吸管4,U型抽吸管4连通两个腔室3,两个腔室3内侧壁上均固定连接有温度检测器5,左侧温度检测器5在检测到水温到达40℃后控制U型抽吸管4启动抽吸,右侧腔室3后侧壁上固定连通有第一抽吸管6,第一抽吸管6后端插入硅片清洗机内,右侧温度检测器5在检测到右侧腔室3水温到达40℃后启动第一抽吸管6,左侧腔室3左侧连通有过滤机构,过滤机构左侧连通有第二抽吸管7,第二抽吸管7后端插入硅片清洗机内,过滤机构用于对回抽的水流进行过滤处理,左侧腔室3一侧固定连通有进水管8;
本设备在工作时,先从进水管8通入水,水进入加热箱1左侧的腔室3内,然后启动加热箱1,加热箱1内侧壁四周开设加热并保持在40℃,对水进行加热,将水快速快速加热,热水处于水体的上方,冷水处于下方,以水体的上方温度会先达到40℃,在左侧的温度检测器5检测到水温到达40℃后,启动U型抽吸管4,开始抽吸加热到40℃的水体,将水流抽入至加热箱1右侧的腔室3内,第一可加快对后续对硅片清洗机的供水,避免将有水体全部加热到左侧腔室3内加热后才能将水体通入硅片清洗机内,节省时间,并且随着不断从进水管8通入的冷水,容易再次降低加热后的水体,当将讲过左侧腔室3预加热后的水流通入右侧腔室3后,右侧腔室3继续对水体进行保温或加热,第一避免水体温度降低,第二可持续保持水流处于40℃,利用两个腔室3的加热,避免在冷水持续进入加热时能难以保证水体处于40℃的现象出现,有利于保证通入硅片清洗机内的水体始终处于40℃,在右侧的温度检测器5检测到位于右侧腔室3内的水体处于40℃时,启动第一抽吸管6,将右侧腔室3内的水抽入至硅片清洗机内,喷出对硅片清洗机内的硅片进行清洗,对硅片清洗后的水流温度降低,利用第二抽吸管7从另一侧将温度降低后的水流回抽,经过滤过机构后再次导入加热箱1左侧的腔室3内,进行再次加热,第一可节省水资源,第二可节省加热能量,回抽的水体内仍带有大量的热量,只需进行少量的加热即可再次回到40℃,再次进行使用,同上,不断循环保持水体处于40℃通途硅片清洗机内进行使用,从而实现在每次对硅片清洗机喷淋用水进行加热时,利用加热箱1、分隔板2形成两个加热腔室3,配合U型抽吸管4、第一抽吸管6、第二抽吸管7和过滤机构,避免持续加热的冷水影响水体保持在40℃,并将加热设置在外侧,能更好的保证通入硅片清洗机内水体始终处于40℃,并且不断循环的水体,能及时将污物带出,有利于对硅片清洗机对硅片进行更好的清洗。
作为本发明的进一步方案,过滤机构包括过滤箱9,过滤箱9右侧通过第一连通管与加热箱1的左侧腔室3相连通,过滤箱9内侧设置有若干过滤板10,若干过滤板10横向排列在过滤箱9内,过滤箱9前侧设置有用于对若干过滤板10交替进行清洗的清洗机构;工作时,由于在水体清洗过硅片后,水体内含有污渍,需要进行处理后方可再次使用,通过在每次第二抽吸管7从硅片清洗机内抽出水流时,水流先经过过滤箱9,被过滤箱9内侧的过滤板10进行多层过滤处理,取出水体中的杂质,然后,在将水流通入加热箱1左侧的腔室3内,从而有效去除回抽的水体中的污渍,有利于后续将水体再次通入硅片清洗机中进行使用。
作为本发明的进一步方案,清洗机构包括清洗箱11,清洗箱11后侧壁与过滤箱9固定连接,过滤箱9前侧开设有若干供过滤板10滑动的第一滑槽12,过滤板10后端位于第一滑槽12内将第一滑槽12进行密封,每个过滤板10顶部均固定连接有第一滑板13,过滤箱9顶部开设有供第一滑板13纵向滑动的第二滑槽,清洗箱11和过滤箱9上方设置有用于交替推动第一滑板13向前侧滑出的推动机构,清洗箱11上方设置有用于冲洗过滤板10的冲洗机构;工作时,由于在过滤板10多次过滤后,过滤板10内会残留有杂质,需要对过滤板10进行清洗,通过在每次过滤一段时间后,启动推动机构,带动部分过滤板10向右侧移动,使部门过滤板10移动至清洗箱11内,清洗箱11上方的冲洗机构对移动后的过滤板10进行冲洗,去除过滤板10表面的污渍,然后推动机构再次带动过滤板10移动回过滤箱9内,下次在使用时,推动机构变换位置将上次未推出的几个过滤板10推出,从而交替推动过滤板10进行清洗,过滤板10与过滤箱9前侧始终接触,从而将过滤箱9进行密封,从而不断交替对多个过滤板10进行清洗,有利于对回抽的水体进出更好的处理,进而有利于硅片清洗机内进行供水,有利于对硅片的清洗。
作为本发明的进一步方案,推动机构包括两个U型支撑架14,两个U型支撑架14分别固定连接在过滤箱9和清洗箱11的外侧壁上,两个U型支撑架14之间转动连接有两个第一丝杆15,两个第一丝杆15后端均固定连接有第一电机16,第一电机16固定连接在U型支撑架14侧壁上,两个第一丝杆15共同螺纹连接有第一安装板17,第一安装板17内部开设有若干第三滑槽18,第三滑槽18长度不小于相邻两个过滤板10之间的距离,每个第三滑槽18内均滑动连接有U型卡板19,U型卡板19用于卡住第一滑板13的前后两侧,第一安装板17顶部连接有用于变换若干U型卡板19位置的调节机构;
作为本发明的进一步方案,调节机构包括第二丝杆20,第二丝杆20贯穿若干U型卡板19并与其螺纹连接,第二丝杆20转动连接在第一安装板17的顶部,第二丝杆20的左端固定连接有第二电机21,第二电机21固定连接在第一安装板17的顶部;
工作时,由于需要变换位置交替推出过滤板10进行清洗,通过启动第一电机16,驱动第一丝杆15转动,驱动第一安装板17、若干U型卡板19向前侧移动,U型卡板19将其中部分过滤板10顶部的第一滑板13卡住,从而带动过滤板10和第一滑板13向前侧移动退出,留下的过滤板10可继续对回抽的水体进行过滤,避免中断水体循环,可在任意需要时对过滤板10清洗,当清洗机构对推出的过滤板10清洗后,第一丝杆15反转,带动推出的过滤板10后退复位,复位后,启动第二电机21,带动第二丝杆20转动,驱动若干U型卡板19沿着第三滑槽18横向滑动,使U型卡板19移动至相邻的第一滑板13的前后两侧,同理,再次启动第一电机16,可将上次未清理的过滤板10推出进行清理,从而交替对多个过滤板10进行清理,避免中断对水体的循环加热。
作为本发明的进一步方案,冲洗机构包括第一安装架22,第一安装架22固定连接在前侧U型支撑架14的侧壁上,第一安装架22内侧安装有若干相互连通的喷淋管23,喷淋管23位于第一安装板17的上方,喷淋管23用于冲洗移动至清洗箱11内的过滤板10;工作时,由于需要推出的过滤板10进行清理,向若干喷淋管23内部通入清洗液,对移动至清洗箱11内侧的过滤网24进行喷射冲洗,方便快捷。
作为本发明的进一步方案,左侧腔室3内侧设置有过滤网24,过滤网24位于温度检测器5的下方,清洗箱11的内侧底部嵌设有刮板25,刮板25后侧壁上固定连接有第一电缸26,第一电缸26固定连接在加热箱1的后侧壁上,加热箱1的前侧固定连接有开合阀27,开合阀27位于刮板25的前侧;工作时,由于在多次使用加热箱1进行加热后,左侧的腔室3由于是首先水体接触的,在加热后,左侧的腔室3内容易残留污渍,通过在每次左侧的腔室3内设置的过滤网24,避免进入的水体内含有的杂质上浮而被抽入至右侧的腔室3内,并在在每硅片清洗机清洗完成后,可打开开合阀27,将左侧腔室3内的水体放出,并启动第一电缸26,推动刮板25对左侧腔室3底部进行刮动清理,将杂质向前推动排出,清理加热箱1的内部,有利于保证通入硅片清洗机内的水体清洁。
作为本发明的进一步方案,过滤网24底部设置有密封板28,密封板28内部开设有与过滤网24的网孔错位布置的通槽,加热箱1内侧转动连接有两个第三丝杆29,两个第三丝杆29顶端均固定连接有第三电机30,第三电机30固定连接在加热箱1的顶部,两个第三丝杆29底端均贯穿密封板28并与其螺纹连接;工作时,由于在每次打开开合阀27时,左侧腔室3内的水体会全部流出,其实部分位于过滤网24上方的水体无需排出,可节省能源,通过在每次需要清理时,启动两个第三电机30,带动两个第三丝杆29转动,驱动密封板28向上移动,将过滤网24底部密封,然后在打开开合阀27,进行清理,而处于过滤网24上方的水体则被阻挡在过滤网24的上方,可在下次再次使用。

Claims (5)

1.一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,包括加热箱(1),其特征在于:所述加热箱(1)内侧壁上固定连接有分隔板(2),所述分隔板(2)将加热箱(1)分为两个腔室(3),所述分隔板(2)内部贯穿与其固定连接的U型抽吸管(4),所述U型抽吸管(4)连通两个腔室(3),每个所述腔室(3)内侧壁上均固定连接有温度检测器(5),左侧所述温度检测器(5)在检测到水温到达40℃后控制U型抽吸管(4)启动抽吸,右侧所述腔室(3)后侧壁上固定连通有第一抽吸管(6),所述第一抽吸管(6)后端插入硅片清洗机内,右侧所述温度检测器(5)在检测到右侧所述腔室(3)水温到达40℃后启动第一抽吸管(6),左侧所述腔室(3)左侧连通有过滤机构,所述过滤机构左侧连通有第二抽吸管(7),所述第二抽吸管(7)后端插入硅片清洗机内,所述过滤机构用于对回抽的水流进行过滤处理,左侧所述腔室(3)一侧固定连通有进水管(8);
所述过滤机构包括过滤箱(9),所述过滤箱(9)右侧通过第一连通管与加热箱(1)的左侧腔室(3)相连通,所述过滤箱(9)内侧设置有若干过滤板(10),若干所述过滤板(10)横向排列在过滤箱(9)内,所述过滤箱(9)前侧设置有用于对若干所述过滤板(10)交替进行清洗的清洗机构;
所述清洗机构包括清洗箱(11),所述清洗箱(11)后侧壁与过滤箱(9)固定连接,所述过滤箱(9)前侧开设有若干供过滤板(10)滑动的第一滑槽(12),所述过滤板(10)后端位于第一滑槽(12)内将第一滑槽(12)进行密封,每个所述过滤板(10)顶部均固定连接有第一滑板(13),所述过滤箱(9)顶部开设有供第一滑板(13)纵向滑动的第二滑槽,所述清洗箱(11)和过滤箱(9)上方设置有用于交替推动第一滑板(13)向前侧滑出的推动机构,所述清洗箱(11)上方设置有用于冲洗过滤板(10)的冲洗机构;
所述推动机构包括两个U型支撑架(14),两个所述U型支撑架(14)分别固定连接在过滤箱(9)和清洗箱(11)的外侧壁上,两个所述U型支撑架(14)之间转动连接有两个第一丝杆(15),两个所述第一丝杆(15)后端均固定连接有第一电机(16),所述第一电机(16)固定连接在U型支撑架(14)侧壁上,两个所述第一丝杆(15)共同螺纹连接有第一安装板(17),所述第一安装板(17)内部开设有若干第三滑槽(18),所述第三滑槽(18)长度不小于相邻两个过滤板(10)之间的距离,每个所述第三滑槽(18)内均滑动连接有U型卡板(19),所述U型卡板(19)用于卡住第一滑板(13)的前后两侧,所述第一安装板(17)顶部连接有用于变换若干U型卡板(19)位置的调节机构。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,其特征在于:所述调节机构包括第二丝杆(20),所述第二丝杆(20)贯穿若干U型卡板(19)并与其螺纹连接,所述第二丝杆(20)转动连接在第一安装板(17)的顶部,所述第二丝杆(20)的左端固定连接有第二电机(21),所述第二电机(21)固定连接在第一安装板(17)的顶部。
3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,其特征在于:所述冲洗机构包括第一安装架(22),所述第一安装架(22)固定连接在前侧所述U型支撑架(14)的侧壁上,所述第一安装架(22)内侧安装有若干相互连通的喷淋管(23),所述喷淋管(23)位于第一安装板(17)的上方,所述喷淋管(23)用于冲洗移动至清洗箱(11)内的过滤板(10)。
4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,其特征在于:左侧所述腔室(3)内侧设置有过滤网(24),所述过滤网(24)位于温度检测器(5)的下方,所述清洗箱(11)的内侧底部嵌设有刮板(25),所述刮板(25)后侧壁上固定连接有第一电缸(26),所述第一电缸(26)固定连接在加热箱(1)的后侧壁上,所述加热箱(1)的前侧固定连接有开合阀(27),所述开合阀(27)位于刮板(25)的前侧。
5.根据权利要求4所述的一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,其特征在于:所述过滤网(24)底部设置有密封板(28),所述密封板(28)内部开设有与过滤网(24)的网孔错位布置的通槽,所述加热箱(1)内侧转动连接有两个第三丝杆(29),两个所述第三丝杆(29)顶端均固定连接有第三电机(30),所述第三电机(30)固定连接在加热箱(1)的顶部,两个所述第三丝杆(29)底端均贯穿密封板(28)并与其螺纹连接。
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Denomination of invention: A silicon wafer cleaning machine spray water heating equipment

Granted publication date: 20230815

Pledgee: Haining Zhejiang rural commercial bank, Limited by Share Ltd.

Pledgor: Zhejiang Aike Semiconductor Equipment Co.,Ltd.

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