CN115485452A - 叶片、加工系统以及加工方法 - Google Patents

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CN115485452A CN202080100058.7A CN202080100058A CN115485452A CN 115485452 A CN115485452 A CN 115485452A CN 202080100058 A CN202080100058 A CN 202080100058A CN 115485452 A CN115485452 A CN 115485452A
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Abstract

叶片(BL)是在流体中使用的叶片,包括:基材(BM)、以及形成在基材上的覆膜层(TBC),在覆膜层的表面,形成有多个第一槽(9)与多个第二槽(7),多个第一槽的间距(P9)与所述多个第二槽的间距(P7)不同。

Description

叶片、加工系统以及加工方法
技术领域
本发明例如涉及一种涡轮叶片(turbine blade)等的叶片与加工叶片的加工系统以及加工方法的技术领域。
背景技术
作为叶片的一例,可列举被用于涡轮的涡轮叶片。例如,专利文献1中记载了一种在表面形成有耐热层的涡轮叶片。此种涡轮叶片等的叶片要求适当降低叶片对流体的阻力。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:欧洲专利第2283169号
发明内容
根据第一实施例,提供一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括:基材;以及覆膜层,形成于所述基材上,在所述覆膜层的表面,形成有多个第一槽与多个第二槽,所述多个第一槽的间距与所述多个第二槽的间距不同。
根据第二实施例,提供一种叶片,被用于流体机械中,所述叶片包括:基材;以及覆膜层,形成于所述基材上,在所述覆膜层的表面,形成有多个第一槽与多个第二槽,所述多个第一槽的深度与所述多个第二槽的深度不同。
根据第三实施例,提供一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括:基材;以及覆膜层,形成于所述基材上,在所述覆膜层的表面,形成有多个第一槽与多个第二槽,所述多个第一槽的间隔与所述多个第二槽的间隔不同。
根据第四实施例,提供一种加工系统,包括:射束照射装置,对形成于基材上且形成有多个第二槽的覆膜层的表面照射能量射束;以及控制装置,控制所述射束照射装置,以使得以与所述多个第二槽的间距不同的间距在所述覆膜层的表面形成多个第一槽。
根据第五实施例,提供一种加工方法,包括:在形成于基材上的覆膜层的表面形成多个第二槽;以及在所述表面,以与所述多个第二槽的间距不同的间距形成多个第一槽。
根据第六实施例,提供一种涡轮叶片,是在流体中使用,所述涡轮叶片包括:基材;以及耐热层,形成于所述基材上,在与面向所述基材的第一面为相反侧的第二面形成有肋条结构,且降低来自流体的热朝向所述基材的传递。
根据第七实施例,提供一种加工系统,包括:射束照射装置,对形成于基材上的、降低来自流体的热朝向所述基材的传递的耐热层的表面,照射能量射束;以及控制装置,控制所述射束照射装置,以在所述表面形成肋条结构。
根据第八实施例,提供一种叶片,是在流体中使用,其中,在基材的表面形成肋条结构,在形成有所述肋条结构的所述表面形成有包覆层。
根据第九实施例,提供一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括:基材,在表面形成有肋条结构;以及覆膜层,形成在形成有所述肋条结构的所述表面。
根据第十实施例,提供一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括基材,在所述基材形成有:多个第一槽,沿第一间距方向排列在所述基材的表面上的第一分区;以及多个第二槽,沿与所述第一间距方向不同的第二间距方向排列在所述基材的所述表面上的与所述第一分区邻接的第二分区。
根据第十一实施例,提供一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括:基材;以及覆膜层,形成于所述基材上,在所述覆膜层形成有:多个第一槽,沿第一间距方向排列在所述覆膜层的表面上的第一分区;以及多个第二槽,沿与所述第一间距方向不同的第二间距方向排列在所述覆膜层的所述表面上的与所述第一分区邻接的第二分区。
根据第十二实施例,提供一种加工方法,包括:在基材的表面形成肋条结构;以及在形成有所述肋条结构的所述表面形成覆膜层。
附图说明
图1是示意性地表示本实施方式的加工系统的整体结构的剖面图。
图2是表示本实施方式的加工系统的系统结构的系统结构图。
图3是表示涡轮的外观的立体图。
图4是表示涡轮叶片的外观的立体图。
图5是表示涡轮叶片的结构的剖面图。
图6是表示本实施方式的加工头的结构的剖面图。
图7是表示入射至检测器的测量光与检测器所检测的干涉光的时序图。
图8(a)是表示肋条结构的立体图,图8(b)是表示肋条结构的剖面图(图8(a)的VIII-VIII'剖面图),图8(c)是表示肋条结构的俯视图。
图9(a)是表示为了形成肋条结构而对涡轮叶片照射的加工光EL的剖面图,图9(b)是表示涡轮叶片的表面上的加工光的照射位置的移动轨迹的平面图。
图10是表示肋条结构的立体图。
图11是表示肋条结构的立体图。
图12是表示第一变形例中所形成的肋条结构的一例的剖面图。
图13是表示第一变形例中所形成的肋条结构的一例的剖面图。
图14是表示第一变形例中所形成的肋条结构的一例的剖面图。
图15是表示第一变形例中所形成的肋条结构的一例的剖面图。
图16是表示第一变形例中所形成的肋条结构的一例的剖面图。
图17是表示第一变形例中所形成的肋条结构的一例的剖面图。
图18是表示第一变形例中所形成的肋条结构的一例的剖面图。
图19(a)是表示形成有多个槽的涡轮叶片的剖面图,图19(b)是表示形成有多个槽的涡轮叶片的俯视图。
图20是表示形成有槽与肋条结构这两者的涡轮叶片的剖面图。
图21是表示形成有槽与肋条结构这两者的涡轮叶片的立体图。
图22是表示形成有槽与肋条结构这两者的涡轮叶片的俯视图。
图23是表示形成有肋条结构与比肋条结构的槽浅的槽这两者的涡轮叶片的立体图。
图24是表示形成有槽与肋条结构这两者的涡轮叶片的俯视图。
图25是表示形成有槽与肋条结构这两者的涡轮叶片的俯视图。
图26是表示形成有肋条结构的涡轮叶片的俯视图。
图27是表示形成有肋条结构的辐流型涡轮叶片的立体图。
图28是表示装入涡轮叶片的涡轮机械的图。
具体实施方式
以下,一边参照附图,一边说明叶片、加工系统以及加工方法的实施方式。以下,使用进行利用加工光EL的加工处理的加工系统SYS,来说明叶片、加工系统以及加工方法的实施方式。但是,本发明并不限定于以下说明的实施方式。
而且,以下的说明中,使用由彼此正交的X轴、Y轴以及Z轴而定义的XYZ正交坐标系,对构成加工系统SYS的各种构成元件的位置关系进行说明。另外,以下的说明中,为了方便说明,设X轴方向以及Y轴方向分别为水平方向(即,水平面内的规定方向),Z轴方向为铅垂方向(即,与水平面正交的方向,实质上为上下方向)。而且,将绕X轴、Y轴以及Z轴的旋转方向(换言之,倾斜方向)分别称作θX方向、θY方向以及θZ方向。此处,也可将Z轴方向设为重力方向。而且,也可将XY平面设为水平方向。
(1)加工系统SYS的结构
首先,一边参照图1以及图2,一边对本实施方式的加工系统SYS的结构进行说明。图1是示意性地表示本实施方式的加工系统SYS的结构的剖面图。图2是表示本实施方式的加工系统SYS的系统结构的系统结构图。
如图1以及图2所示,加工系统SYS包括加工装置1、加工光源21、测量光源22、载台装置3以及控制装置4。加工装置1以及载台装置3的至少一部分被收容在框体5的内部空间。框体5的内部空间既可利用氮气等的吹洗气体来予以吹洗,也可不利用吹洗气体来予以吹洗。框体5的内部空间既可进行抽真空,也可不进行抽真空。但是,加工装置1以及载台装置3也可不收容于框体5的内部空间。即,加工系统SYS也可不包括收容加工装置1以及载台装置3的框体5。
加工装置1可在控制装置4的控制下,对作为加工对象物的工件W进行加工。工件W例如既可为金属,也可为合金(例如杜拉铝等),也可为半导体(例如硅),也可为树脂,也可为复合材料(例如,碳纤维增强塑料(Carbon Fiber Reinforced Plastic,CFRP)以及涂料(作为一例,为被涂布于基材的涂料层)等中的至少一种),也可为玻璃,还可为包含除此以外的任意材料的物体。
本实施方式中,加工装置1也可对作为工件W的一例的涡轮叶片BL进行加工。涡轮叶片BL是被用于作为流体机械的一例的涡轮T中的构件。具体而言,涡轮叶片BL是构成涡轮T的翼片的叶片状的构件。涡轮T的一例如图3以及图4所示。图3是表示涡轮T的外观的立体图。图4是表示涡轮叶片BL的外观的立体图。如图3以及图4所示,涡轮T包括多个涡轮叶片BL。涡轮叶片BL包含:叶柄(shank)91;以及叶片本体92,结合于叶柄91且从叶柄91朝涡轮T的半径方向外侧延伸。叶柄91以及叶片本体92的至少一者也可包含单一的金属。叶柄91以及叶片本体92的至少一者也可包含多个金属。叶柄91以及叶片本体92的至少一者也可通过现有的制造方法(例如使用铸造、锻造、增材加工、去除加工以及机械加工中的至少一种的制造方法)而制造。叶柄91以及叶片本体92也可一体地制造。或者,也可将独立制造的叶柄91以及叶片本体92通过现有的结合方法(例如使用熔接、钎焊以及粘合等中的至少一种的结合方法)予以结合。多个涡轮叶片BL各自包括的多个叶柄91也可彼此结合。经结合的多个叶柄91也可构成可旋转的转子RT的至少一部分。
叶片本体92从叶柄91的台座(platform)911朝涡轮T的半径方向外侧延伸。台座911包含正压侧台座9111与负压侧台座9112。叶片本体92包含正压面921、与正压面921朝向相反侧的负压面922、结合于叶柄91的根部923、以及构成与根部923为相反侧的端部的前端部924。叶片本体92进而包含:位于正压面921与负压面922之间的前缘面925、以及在与前缘面925为相反侧位于正压面921与负压面922之间的后缘面926。正压面921、负压面922、前缘面925以及后缘面926中的至少一个的表面也可包含曲面。例如,图4所示的示例中,至少正压面921以及负压面922各自的表面包含曲面。
另外,涡轮T也可为使转子RT与涡轮叶片BL一体形成者。
涡轮T可使用对涡轮T供给的流体的流动来旋转。具体而言,对涡轮T供给流体(例如水、蒸气、空气以及气体中的至少一种)。被供给至涡轮T的流体沿着多个涡轮叶片BL各自的表面而流动。因此,涡轮叶片BL是在流体中使用。其结果,流体的运动能量通过多个涡轮叶片BL而转换为涡轮T的旋转能量。作为此种涡轮T的一例,可列举使用蒸气来作为流体的蒸气涡轮、以及使用燃气来作为流体的燃气涡轮中的至少一者。作为此种涡轮T的另一例,可列举使用水来作为流体的水力涡轮以及使用空气来作为流体的浮力涡轮中的至少一者。而且,涡轮T也可通过其旋转来生成流体的流动。
对涡轮叶片BL供给的流体的温度有可能高。例如在涡轮叶片BL被用于喷气发动机的情况下(即,涡轮叶片BL被用于燃气涡轮的情况下),对于涡轮叶片BL供给高温的燃烧气体来作为流体。此时,为了降低构成涡轮叶片BL的基材BM相对于热的影响,也可对涡轮叶片BL实施有耐热处理。具体而言,如表示涡轮叶片BL的结构的剖面图(图4的IV-IV'剖面图)即图5所示,涡轮叶片BL也可包括:具有叶片状的形状的基材BM、以及形成在基材BM表面的耐热层TBC。耐热层TBC被形成在基材BM表面中的、受到来自流体的热的影响的部分。耐热层TBC是用于降低来自流体的热朝向基材BM的传递的覆膜层。因此,涡轮叶片BL在涡轮叶片BL的使用中(即,在对涡轮叶片BL供给有流体的期间中),经由耐热层TBC而接触至流体。即,在涡轮叶片BL的使用中,耐热层TBC(更具体而言,为耐热层TBC中的、与面向基材BM的面为相反侧的面,为露出至外部的耐热层TBC的表面)接触至流体。其结果,借助位于流体与基材BM之间的耐热层TBC,来自流体的热朝向基材BM的传递得以降低。因此,基材BM相对于热的影响得以降低。作为此种耐热层TBC的一例,可列举包含陶瓷的层。包含陶瓷的层例如也可为由多孔质材料所形成的层。
另外,图5所示的示例中,如上所述,正压面921以及负压面922各自包含曲面,因此,基材BM以及耐热层TBC的表面也包含曲面。即,面向耐热层TBC的基材BM的表面包含曲面。耐热层TBC的露出至外部的表面也包含曲面。但是,不论正压面921以及负压面922是否包含曲面,基材BM以及耐热层TBC的表面既可包含曲面,也可不包含曲面。另外,曲面既可为像圆柱的一部分那样表面上的各点的曲率仅沿着一方向变化的曲面,也可为像球的一部分那样表面上的各点的曲率沿着两方向变化的曲面。基材BM以及耐热层TBC的表面也可为平面。
再次在图1以及图2中,加工装置1为了对工件W进行加工而对工件W照射加工光EL。因此,加工装置1也可被称作射束照射装置。加工光EL只要可通过照射至工件W来加工工件W,则为任何种类的光皆可。本实施方式中,使用加工光EL为激光的示例来进行说明,但加工光EL也可为与激光为不同种类的光。进而,加工光EL的波长只要可通过照射至工件W来加工工件W,则为任何波长皆可。例如,加工光EL既可为可见光,也可为不可见光(例如红外光、紫外光以及极紫外光等中的至少一种)。加工光EL也可包含脉冲光(例如发光时间为皮秒以下的脉冲光)。或者,加工光EL也可不包含脉冲光。换言之,加工光EL也可为连续光。
加工装置1也可进行通过对工件W照射加工光EL来去除工件W的一部分的去除加工。在进行去除加工的情况下,加工装置1也可在工件W上形成在后文一边参照图8(a)至图8(c)一边详述的肋条结构RB。肋条结构RB为能够降低工件W的表面对流体的阻力(尤其是摩擦阻力以及湍流摩擦阻力中的至少一者)的结构。另外,此处所说的流体是指相对于工件W的表面而流动的介质(例如气体以及液体中的至少一者)。例如,在介质自身静止的状况下,工件W的表面相对于介质而移动的情况下,也可将所述介质称作流体。
加工装置1也可除了去除加工以外或者取代去除加工,而进行通过对工件W照射加工光EL来对工件W附加新的结构物的增材加工。此时,加工装置1也可通过进行增材加工而在工件W的表面形成所述的肋条结构RB。或者,加工装置1也可除了去除加工以及增材加工中的至少一者或者取代于此,而进行通过使工具接触至工件W来加工工件W的机械加工。此时,加工装置1也可通过进行机械加工而在工件W的表面形成所述的肋条结构RB。
加工光EL是从生成加工光EL的加工光源21经由未图示的光传播构件(例如光纤以及镜中的至少一者)供给至加工装置1。加工装置1将从加工光源21供给的加工光EL照射至工件W。
加工装置1进而可在控制装置4的控制下测量工件W。加工装置1为了测量工件W而对工件W照射测量光ML。测量光ML只要可通过照射至工件W来测量工件W,则为任何种类的光皆可。本实施方式中,使用测量光ML为激光的示例来进行说明,但测量光ML也可为与激光为不同种类的光。进而,测量光ML的波长只要可通过照射至工件W来测量工件W,则为任何波长皆可。例如,测量光ML既可为可见光,也可为不可见光(例如红外光、紫外光以及极紫外光等中的至少一种)。测量光ML也可包含脉冲光(例如,发光时间为皮秒以下的脉冲光)。或者,测量光ML也可不包含脉冲光。换言之,测量光ML也可为连续光。
测量光ML的波长也可与加工光EL的波长不同。例如,测量光ML的波长也可短于加工光EL的波长。作为一例,也可为,作为测量光ML,使用266nm或355nm的波段的光,作为加工光EL,使用532nm、1μm或10μm的波段的光。此时,工件W上的测量光ML的点径小于工件W上的加工光EL的点径。其结果,借助测量光ML的测量分辨率高于借助加工光EL的加工分辨率。但是,测量光ML的波长也可不短于加工光EL的波长。测量光ML的波长也可与加工光EL的波长相同。
测量光ML是从作为测量光ML的产生源的测量光源22经由未图示的光传播构件(例如光纤以及镜中的至少一者)而供给至加工装置1。加工装置1将从测量光源22供给的测量光ML照射至工件W。
本实施方式中,测量光源22也可包含光梳(optical comb)光源。光梳光源是可生成包含在频率轴上等间隔地排列的频率成分的光(以下称作“光频梳”)来作为脉冲光的光源。此时,测量光源22射出包含在频率轴上等间隔地排列的频率成分的脉冲光来作为测量光ML。但是,测量光源22也可包含与光梳光源不同的光源。
图2所示的示例中,加工系统SYS包括多个测量光源22。例如,加工系统SYS也可包括测量光源22#1与测量光源22#2。多个测量光源22分别射出彼此经相位同步且具有干涉性的多个测量光ML。例如,多个测量光源22的振荡频率也可不同。因此,多个测量光源22分别射出的多个测量光ML成为脉冲频率(例如每单位时间的脉冲光的数量,为脉冲光的发光周期的倒数)不同的多个测量光ML。作为一例,也可为,测量光源22#1射出脉冲频率为25GHz的测量光ML#1,测量光源22#2射出脉冲频率为25GHz+α(例如,+100kHz)的测量光ML#2。但是,加工系统SYS也可包括单个测量光源22。
也可为,加工装置1可使用测量光ML来测量工件W的状态。工件W的状态也可包含工件W的位置。工件W的位置也可包含工件W的表面的位置。工件W的表面的位置也可包含将工件W的表面细分化的各面部分在X轴方向、Y轴方向以及Z轴方向中的至少一个方向上的位置。工件W的表面的位置也可包含将工件W的表面细分化的各面部分在θX方向、θY方向以及θZ方向中的至少一个方向上的位置。另外,各面部分在θX方向、θY方向以及θZ方向中的至少一个方向上的位置也可视为等价于各面部分的姿势(即,为各面部分的方向(例如各面部分的法线的方向),实质上等价于各面部分相对于X轴、Y轴以及Z轴中的至少一个方向的倾斜量)。此时,工件的状态也可以说实质上包含工件W的形状(例如三维形状)。而且,工件W的状态也可包含工件W的大小(例如,在X轴方向、Y轴方向以及Z轴方向中的至少一个方向上的大小)。
为了对工件W进行加工以及测量,加工装置1包括:加工头11,对工件W分别射出加工光EL以及测量光ML;头驱动系统12,使加工头11移动;以及位置测量装置13。进而,加工头11包括加工光学系统111、测量光学系统112以及射出光学系统113。另外,关于加工头11的结构,将在后文详述。
头驱动系统12在控制装置4的控制下,使加工头11沿着X轴方向、Y轴方向以及Z轴方向中的至少一个方向移动。另外,头驱动系统12也可除了X轴方向、Y轴方向以及Z轴方向中的至少一个方向以外或者取代于此,使加工头11沿着θX方向、θY方向以及θZ方向中的至少一个方向移动。
当加工头11移动时,后述的载台32(进而,被载置于载台32的工件W)与加工头11的位置关系发生变化。即,当载台32移动时,载台32以及工件W与加工头11的相对位置发生变化。进而,当载台32以及工件W与加工头11的位置关系发生变化时,载台32以及工件W与加工头11所包括的各光学系统(即,加工光学系统111、测量光学系统112以及射出光学系统113中的至少一者)的位置关系发生变化。进而,当载台32以及工件W与加工头11的位置关系发生变化时,工件W上的加工光EL以及测量光ML各自的照射位置发生变化。
位置测量装置13是可测量加工头11的位置的传感器。位置测量装置13例如也可包含编码器以及激光干涉仪中的至少一者。控制装置4也可基于位置测量装置13得出的测量结果来使加工头11移动。即,控制装置4也可基于位置测量装置13得出的测量结果来变更载台32以及工件W与加工头11的位置关系。
载台装置3包括台板31、载台32、载台驱动系统33以及位置测量装置34。台板31被配置在未图示的支撑面上。在台板31上配置有载台32。在支撑面与台板31之间,也可设置有用于降低台板31的振动朝向载台32的传递的、未图示的抗振装置。
在载台32上载置工件W。载台32也可保持所载置的工件W。例如,载台32也可通过对工件W进行真空吸附和/或静电吸附来保持工件W。或者,载台32也可不保持所载置的工件W。
载台驱动系统33在控制装置4的控制下使载台32移动。具体而言,载台驱动系统33使载台32相对于台板31以及加工装置1中的至少一者而移动。例如,载台驱动系统33也可在控制装置4的控制下,使载台32沿着X轴方向、Y轴方向、Z轴方向、θX方向、θY方向以及θZ方向中的至少一个方向移动。
当载台32移动时,载台32(进而,被载置于载台32的工件W)与加工头11的位置关系发生变化。进而,当载台32以及工件W与加工头11的位置关系发生变化时,载台32以及工件W与加工头11所包括的各光学系统的位置关系发生变化。进而,当载台32以及工件W与加工头11的位置关系发生变化时,工件W上的加工光EL以及测量光ML各自的照射位置发生变化。
位置测量装置34是可测量载台32的位置的传感器。位置测量装置34例如也可包含编码器以及激光干涉仪中的至少一者。控制装置4也可基于位置测量装置34得出的测量结果来使载台32移动。即,控制装置4也可基于位置测量装置34得出的测量结果来变更载台32以及工件W与加工头11的位置关系。
控制装置4控制加工系统SYS的动作。例如,控制装置4设定工件W的加工条件,并且控制加工装置1以及载台装置3依据所设定的加工条件来加工工件W。例如,控制装置4设定工件W的测量条件,并且控制加工装置1以及载台装置3依据所设定的测量条件来测量工件W。
控制装置4例如也可包含运算装置与存储装置。运算装置例如也可包含中央处理器(Central Processing Unit,CPU)、图形处理器(Graphics Processing Unit,GPU)中的至少其中一种。控制装置4通过运算装置执行计算机程序,从而作为控制加工系统SYS的动作的装置发挥功能。所述计算机程序是用于使控制装置4(例如,运算装置)进行(即,执行)控制装置4应进行的后述动作的计算机程序。即,所述计算机程序是用于使控制装置4发挥功能以使加工系统SYS进行后述动作的计算机程序。运算装置所执行的计算机程序既可记录在控制装置4所包括的存储装置(即,记录介质)中,也可记录在内置于控制装置4或者可外置于控制装置4的任意的存储介质(例如硬盘或半导体存储器)中。或者,运算装置也可经由网络接口来从控制装置4外部的装置下载应执行的计算机程序。
控制装置4也可不设在加工系统SYS的内部。例如,控制装置4也可在加工系统SYS外作为服务器等而设。此时,控制装置4与加工系统SYS也可利用有线和/或无线的网络(或者数据总线和/或通信线路)而连接。作为有线的网络,例如也可使用采用以电气与电子工程师协会(Institute of Electrical and Electronics Engineers,IEEE)1394、RS-232x、RS-422、RS-423、RS-485及通用串行总线(Universal Serial Bus,USB)中的至少一种为代表的串行总线方式的接口的网络。作为有线的网络,也可使用采用并行总线方式的接口的网络。作为有线的网络,也可使用采用以10BASE-T、100BASE-TX及1000BASE-T中的至少一种为代表的遵循以太网(注册商标)的接口的网络。作为无线的网络,也可使用利用电波的网络。作为利用电波的网络的一例,可列举遵循IEEE802.1x的网络(例如无线局域网(LocalArea Network,LAN)以及蓝牙(Bluetooth(注册商标))中的至少一者)。作为无线的网络,也可使用利用红外线的网络。作为无线的网络,也可使用利用光通信的网络。此时,控制装置4与加工系统SYS也可构成为,可经由网络来收发各种信息。而且,控制装置4也可能够经由网络来对加工系统SYS发送命令或控制参数等的信息。加工系统SYS也可包括接收装置,所述接收装置经由所述网络接收来自控制装置4的命令或控制参数等的信息。或者,也可将进行控制装置4所进行的处理中的一部分处理的第一控制装置设在加工系统SYS的内部,另一方面,将进行控制装置4所进行的处理中的另一部分处理的第二控制装置设在加工系统SYS的外部。
另外,作为记录运算装置所执行的计算机程序的记录介质,也可使用只读光盘(Compact Disc Read Only Memory,CD-ROM)、可刻录光盘(Compact Disc-Recordable,CD-R)、可擦写光盘(Compact Disc Rewritable,CD-RW)或软盘、磁光盘(Magneto-Opticaldisc,MO)、只读数字多功能光盘(Digital Versatile Disc Read Only Memory,DVD-ROM)、随机存取数字多功能光盘(Digital Versatile Disc Random Access Memory,DVD-RAM)、可刻录数字多功能光盘(Digital Versatile Disc-Recordable,DVD-R)、DVD+R、可擦写数字多功能光盘(Digital Versatile Disc-Rewritable,DVD-RW)、DVD+RW以及蓝光(Blu-ray(注册商标))等的光盘、磁带等的磁介质、光磁盘、USB存储器等的半导体存储器、以及其他可保存程序的任意介质中的至少一种。记录介质也可包含可记录计算机程序的机器(例如以能够以软件及固件等的至少一种形态来执行的状态安装有计算机程序的通用机器或专用机器)。进而,计算机程序中所含的各处理或功能既可由通过控制装置4(即,计算机)执行计算机程序而在控制装置4内实现的逻辑处理块来实现,也可由控制装置4所包括的规定的门阵列(FPGA、ASIC)等的硬件来实现,还可利用逻辑处理块与实现硬件的一部分要素的局部硬件模块混合存在的形式来实现。
(2)加工头11的结构
继而,一边参照图6,一边说明加工头11的结构的一例。图6是表示加工头11的结构的一例的剖面图。
如图6所示,加工头11包括加工光学系统111、测量光学系统112以及射出光学系统113。加工光学系统111、测量光学系统112以及射出光学系统113被收容在框体114内。但是,也可为,加工光学系统111、测量光学系统112以及射出光学系统113中的至少一个未被收容在框体114内。
加工光学系统111是使从加工光源21射出的加工光EL入射的光学系统。加工光学系统111是将入射至加工光学系统111的加工光EL朝向射出光学系统113射出的光学系统。即,加工光学系统111是将从加工光源21射出的加工光EL导向射出光学系统113的光学系统。加工光学系统111所射出的加工光EL经由射出光学系统113而照射至工件W。
加工光学系统111例如也可包含位置调整光学系统1111与角度调整光学系统1112。位置调整光学系统1111可调整来自加工光学系统111的加工光EL的射出位置。位置调整光学系统1111例如也可包括可相对于加工光EL的行进方向而倾斜的平行平面板,通过改变平行平面板的倾斜角来变更加工光EL的射出位置。角度调整光学系统1112可调整来自加工光学系统111的加工光EL的射出角度。角度调整光学系统1112例如也可包括可相对于加工光EL的行进方向而倾斜的镜,通过改变所述镜的倾斜角来变更加工光EL的射出角度。但是,加工光学系统111也可不包含位置调整光学系统1111以及角度调整光学系统1112中的至少一个。加工光学系统111也可除了位置调整光学系统1111以及角度调整光学系统1112中的至少一个以外或者取代于此,而包含其他光学元件或光学构件。
从加工光学系统111射出的加工光EL入射至射出光学系统113。射出光学系统113包含分束器(例如,偏振分束器)1131、检流计镜1132以及fθ透镜1133。
分束器1131将入射至分束器1131的加工光EL朝向检流计镜1132射出。图6所示的示例中,入射至分束器1131的加工光EL通过偏振分离面,由此朝向检流计镜1132射出。因此,图6所示的示例中,加工光EL以具有可通过偏振分离面的偏振方向(例如,相对于偏振分离面成为p偏振光的偏振方向)的状态入射至分束器1131的偏振分离面。
从分束器1131射出的加工光EL入射至检流计镜1132。检流计镜1132通过使加工光EL偏向(即,变更加工光EL的射出角度),从而变更工件W上的加工光EL的照射位置。例如,检流计镜1132包含X扫描镜1132X与Y扫描镜1132Y。X扫描镜1132X以及Y扫描镜1132Y分别为相对于入射至检流计镜1132的加工光EL的光路的角度受到变更的倾斜角可变镜。X扫描镜1132X通过摆动或旋转(即,变更X扫描镜1132X相对于加工光EL的光路的角度)来使加工光EL偏向,以变更工件W上的加工光EL的沿着X轴方向的照射位置。Y扫描镜1132Y通过摆动或旋转(即,变更Y扫描镜1132Y相对于加工光EL的光路的角度)来使加工光EL偏向,以变更工件W上的加工光EL的沿着Y轴方向的照射位置。
来自检流计镜1132的加工光EL入射至fθ透镜1133。fθ透镜1133是用于将来自检流计镜1132的加工光EL照射至工件W的光学系统。尤其,fθ透镜1133是用于将来自检流计镜1132的加工光EL聚光至工件W上的光学系统。因此,fθ透镜1133将收敛状态的加工光EL照射至工件W。其结果,通过加工光EL来对工件W进行加工。
测量光学系统112是从测量光源22射出的测量光ML所入射的光学系统。测量光学系统112是将入射至测量光学系统112的测量光ML朝向射出光学系统113射出的光学系统。即,测量光学系统112是将从测量光源22射出的测量光ML导向射出光学系统113的光学系统。测量光学系统112所射出的测量光ML经由射出光学系统113而照射至工件W。
测量光学系统112例如包括镜1120、分束器1121、分束器1122、检测器1123、分束器1124、镜1125、检测器1126以及镜1127。
从测量光源22射出的测量光ML入射至分束器1121。具体而言,从测量光源22#1射出的测量光ML(以下称作“测量光ML#1”)入射至分束器1121。从测量光源22#2射出的测量光ML(以下称作“测量光ML#2”)经由镜1120而入射至分束器1121。分束器1121将入射至分束器1121的测量光ML#1以及ML#2朝向分束器1122射出。
分束器1122将入射至分束器1122的测量光ML#1的一部分即测量光ML#1-1朝向检测器1123反射。分束器1122将入射至分束器1122的测量光ML#1的另一部分即测量光ML#1-2朝向分束器1124射出。分束器1122将入射至分束器1122的测量光ML#2的一部分即测量光ML#2-1朝向检测器1123反射。分束器1122将入射至分束器1122的测量光ML#2的另一部分即测量光ML#2-2朝向分束器1124射出。
从分束器1122射出的测量光ML#1-1以及ML#2-1入射至检测器1123。检测器1123对通过测量光ML#1-1与测量光ML#2-1发生干涉而生成的干涉光进行检测。具体而言,检测器1123通过接收干涉光来检测干涉光。因此,检测器1123也可包括可接收光的受光元件(为受光部,典型的是光电转换元件)。检测器1123的检测结果被输出至控制装置4。
从分束器1122射出的测量光ML#1-2以及ML#2-2入射至分束器1124。分束器1124将入射至分束器1124的测量光ML#1-2的至少一部分朝向镜1125射出。分束器1124将入射至分束器1124的测量光ML#2-2的至少一部分朝向镜1127射出。
从分束器1124射出的测量光ML#1-2入射至镜1125。入射至镜1125的测量光ML#1-2被镜1125的反射面(反射面也可被称作参照面)反射。具体而言,镜1125将入射至镜1125的测量光ML#1-2朝向分束器1124反射。即,镜1125将入射至镜1125的测量光ML#1-2作为所述反射光即测量光ML#1-3而朝向分束器1124射出。从镜1125射出的测量光ML#1-3入射至分束器1124。分束器1124将入射至分束器1124的测量光ML#1-3朝向分束器1122射出。从分束器1124射出的测量光ML#1-3入射至分束器1122。分束器1122将入射至分束器1122的测量光ML#1-3朝向检测器1126射出。
另一方面,从分束器1124射出的测量光ML#2-2入射至镜1127。镜1127将入射至镜1127的测量光ML#2-2朝向射出光学系统113反射。即,镜1127将入射至镜1127的测量光ML#2-2朝向射出光学系统113射出。
从镜1127射出的测量光ML#2-2入射至射出光学系统113。射出光学系统113的分束器1131将入射至分束器1131的测量光ML#2-2朝向检流计镜1132射出。图4所示的示例中,入射至分束器1131的测量光ML#2-2在偏振分离面上受到反射,由此朝向检流计镜1132射出。因此,图4所示的示例中,测量光ML#2-2以具有可被偏振分离面反射的偏振方向(例如,相对于偏振分离面成为s偏振光的偏振方向)的状态而入射至分束器1131的偏振分离面。
此处,如上所述,除了测量光ML#2-2以外,还有加工光EL入射至分束器1131。即,测量光ML#2-2以及加工光EL这两者通过分束器1131。分束器1131将从不同的方向分别入射至分束器1131的加工光EL以及测量光ML#2-2朝向相同的方向(即,朝向相同的检流计镜1132)射出。因而,分束器1131实质上作为对加工光EL以及测量光ML#2-2进行合成的合成光学系统发挥功能。
从分束器1131射出的测量光ML#2-2入射至检流计镜1132。检流计镜1132通过使测量光ML#2-2偏向,从而变更工件W上的测量光ML#2-2的照射位置。例如,X扫描镜1132X通过摆动或旋转(即,变更X扫描镜1132X相对于测量光ML#2-2的光路的角度)来使测量光ML#2-2偏向,以变更工件W上的测量光ML#2-2的沿着X轴方向的照射位置。Y扫描镜1132Y通过摆动或旋转(即,变更Y扫描镜1132Y相对于测量光ML#2-2的光路的角度)来使测量光ML#2-2偏向,以变更工件W上的测量光ML#2-2的沿着Y轴方向的照射位置。
来自检流计镜1132的测量光ML#2-2入射至fθ透镜1133。fθ透镜1133是用于将来自检流计镜1132的测量光ML#2-2聚光至工件W上的光学系统。fθ透镜1133是用于将来自检流计镜1132的测量光ML#2-2照射至工件W的光学系统。通过测量光ML(具体而言,测量光ML#2-2)来测量工件W。
此处,如上所述,除了测量光ML#2-2以外,还有加工光EL入射至检流计镜1132。即,分束器1131所合成的加工光EL以及测量光ML#2-2入射至检流计镜1132。因而,测量光ML#2-2以及加工光EL这两者通过相同的检流计镜1132。因此,检流计镜1132能够同步地变更工件W上的加工光EL的照射位置与工件W上的测量光ML#2-2的照射位置。即,检流计镜1132能够联动地变更工件W上的加工光EL的照射位置与工件W上的测量光ML#2-2的照射位置。
当测量光ML#2-2被照射至工件W时,从工件W产生因测量光ML#2-2的照射引起的光。即,当测量光ML#2-2被照射至工件W时,从工件W射出因测量光ML#2-2的照射引起的光。因测量光ML#2-2的照射引起的光(换言之,因测量光ML#2-2的照射而从工件W射出的光)也可包含被工件W反射的测量光ML#2-2(即,反射光)、因测量光ML#2-2照射至工件W而产生的散射光、被工件W衍射的测量光ML#2-2(即,衍射光)、以及透射过工件W的测量光ML#2-2(即,透射光)中的至少一个。
因测量光ML#2-2的照射而从工件W射出的光的至少一部分(以下,将此光称作“测量光ML#2-3”)入射至射出光学系统113。入射至射出光学系统113的测量光ML#2-3经由fθ透镜1133以及检流计镜1132而入射至分束器1131。分束器1131将入射至分束器1131的测量光ML#2-3朝向测量光学系统112射出。图6所示的示例中,入射至分束器1131的测量光ML#2-3在偏振分离面被反射,由此朝向测量光学系统112射出。因此,图6所示的示例中,测量光ML#2-3以具有可被偏振分离面反射的偏振方向的状态而入射至分束器1131的偏振分离面。
从分束器1131射出的测量光ML#2-3入射至测量光学系统112的镜1127。镜1127将入射至镜1127的测量光ML#2-3朝向分束器1124反射。分束器1124将入射至分束器1124的测量光ML#2-3的至少一部分朝向分束器1122射出。分束器1122将入射至分束器1122的测量光ML#2-3的至少一部分朝向检测器1126射出。
如上所述,除了测量光ML#2-3以外,还有测量光ML#1-3入射至检测器1126。即,经由工件W朝向检测器1126的测量光ML#2-3与未经由工件W而朝向检测器1126的测量光ML#1-3入射至检测器1126。另外,测量光ML#1-3也可被称作参照光。检测器1126对通过测量光ML#1-3与测量光ML#2-3发生干涉而生成的干涉光进行检测。具体而言,检测器1126通过接收干涉光来检测干涉光。因此,检测器1126也可包括可接收光的受光元件(受光部)。检测器1126的检测结果被输出至控制装置4。
控制装置4基于检测器1123的检测结果以及检测器1126的检测结果来算出工件W的状态。此处,一边参照图7,一边对基于检测器1123的检测结果以及检测器1126的检测结果来算出工件W的状态的原理进行说明。
图7是表示入射至检测器1123的测量光ML#1-1、入射至检测器1123的测量光ML#2-1、检测器1123所检测的干涉光、入射至检测器1126的测量光ML#1-3、入射至检测器1126的测量光ML#2-3以及检测器1126所检测的干涉光的时序图。测量光ML#1的脉冲频率与测量光ML#2的脉冲频率不同,因此测量光ML#1-1的脉冲频率与测量光ML#2-1的脉冲频率不同。因而,测量光ML#1-1和测量光ML#2-1的干涉光成为与构成测量光ML#1-1的脉冲光和构成测量光ML#2-1的脉冲光同时入射至检测器1123的时机同步地出现脉冲光的干涉光。同样地,测量光ML#1-3的脉冲频率与测量光ML#2-3的脉冲频率不同。因而,测量光ML#1-3和测量光ML#2-3的干涉光成为与构成测量光ML#1-3的脉冲光和构成测量光ML#2-3的脉冲光同时入射至检测器1126的时机同步地出现脉冲光的干涉光。
此处,形成检测器1126所检测的干涉光的脉冲光的位置(时间轴上的位置)基于加工头11与工件W的位置关系而变动。其原因在于,检测器1126所检测的干涉光是经由工件W朝向检测器1126的测量光ML#2-3与未经由工件W而朝向检测器1126的测量光ML#1-3的干涉光。另一方面,形成检测器1123所检测的干涉光的脉冲光的位置(时间轴上的位置)不会基于加工头11与工件W的位置关系而变动。因此可以说,形成检测器1126所检测的干涉光的脉冲光与形成检测器1123所检测的干涉光的脉冲光的时间差间接地表示了加工头11与工件W的位置关系(典型的是,加工头11与工件W之间的距离)。因此,控制装置4能够基于形成检测器1126所检测的干涉光的脉冲光与形成检测器1123所检测的干涉光的脉冲光的时间差来算出工件W的状态。具体而言,控制装置4能够基于形成检测器1126所检测的干涉光的脉冲光与形成检测器1123所检测的干涉光的脉冲光的时间差,来算出工件W中的被照射有测量光ML#2-2的部分的位置。即,控制装置4能够求出与工件W中的被照射有测量光ML#2-2的部分的位置相关的信息。进而,若对工件W的多处部位照射测量光ML#2-2,和/或若以对工件W的表面进行扫描的方式来照射测量光ML#2-2,则控制装置4也能够算出工件W的形状。
所算出的工件W的状态也可被用于控制加工系统SYS。具体而言,所算出的工件W的状态也可被用于控制加工装置1。所算出的工件W的状态也可被用于控制加工头11。所算出的工件W的状态也可被用于控制头驱动系统12。所算出的工件W的状态也可被用于控制载台装置3。所算出的工件W的状态也可被用于控制载台驱动系统33。
例如,控制装置4也可基于所算出的工件W的状态来变更工件W与加工头11的相对位置关系,以使工件W与加工头11的相对位置关系成为所期望的位置关系。即,控制装置4也可基于所算出的工件W的状态来控制可变更工件W与加工头11的相对位置关系的装置,以使工件W与加工头11的相对位置关系成为所期望的位置关系。作为可变更工件W与加工头11的相对位置关系的装置的一例,可列举头驱动系统12以及载台驱动系统33的至少一者。另外,作为“所期望的位置关系”的一例,可列举对工件W上的期望位置照射加工光EL和/或测量光ML的位置关系。
例如,控制装置4也可基于所算出的工件W的状态来变更加工光EL的照射位置,以对工件W上的期望位置照射加工光EL。作为可变更加工光EL的照射位置的装置的一例,可列举加工光学系统111的角度调整光学系统1112、射出光学系统113的检流计镜1132、头驱动系统12以及载台驱动系统33。
例如,控制装置4也可基于所算出的工件W的状态来变更测量光ML的照射位置,以对工件W上的期望位置照射测量光ML。作为可变更测量光ML的照射位置的装置的一例,可列举加工光学系统111的角度调整光学系统1112、射出光学系统113的检流计镜1132、头驱动系统12以及载台驱动系统33。
(3)肋条结构RB
继而,一边参照图8(a)至图8(b),一边对通过加工系统SYS形成于工件W的肋条结构RB进行说明。图8(a)是表示肋条结构RB的立体图,图8(b)是表示肋条结构RB的剖面图(图8(a)的VIII-VIII'剖面图),图8(c)是表示肋条结构RB的俯视图。另外,以下,尤其在以下对形成于作为工件W的一具体例的涡轮叶片BL的肋条结构RB进行说明。但是,也可为,形成于与涡轮叶片BL不同的工件W的肋条结构RB也具有同样的结构。
如图8(a)至图8(c),肋条结构RB也可包含多个沿着顺着涡轮叶片BL表面(即,基材BM以及耐热层TBC的至少一者的表面)的第一方向延伸的凸状结构体8沿着第二方向排列而成的结构,所述第二方向沿着涡轮叶片BL的表面且与第一方向交叉。图8(a)至图8(c)所示的示例中,肋条结构RB包含多个沿着X轴方向延伸的凸状结构体8沿着Y轴方向排列而成的结构。
凸状结构体8是沿着与凸状结构体8所延伸的方向以及凸状结构体8所排列的方向这两方向交叉的方向而突出的结构体。凸状结构体8是从涡轮叶片BL的表面突出的结构体。在图8(a)至图8(c)所示的示例中,凸状结构体8是沿着Z轴方向突出的结构体。
在相邻的凸状结构体8之间,形成有与周围相比较而凹陷的槽9。因此,肋条结构RB也可包含由多个槽9所形成的结构,所述多个槽9沿着顺着涡轮叶片BL表面的第一方向延伸且沿着第二方向而排列,所述第二方向沿着涡轮叶片BL的表面且与第一方向交叉。
如上所述,本实施方式的加工系统SYS通过进行去除加工而形成肋条结构RB。因此,加工系统SYS也可通过进行将涡轮叶片BL中的、形成槽9的部分予以去除的去除加工,而形成肋条结构RB。即,加工系统SYS也可通过进行去除涡轮叶片BL的一部分以保留涡轮叶片BL中的形成凸状结构体8的部分的去除加工,来形成肋条结构RB。例如,如表示为了形成肋条结构RB而对涡轮叶片BL照射的加工光EL的剖面图即图9(a)、以及表示涡轮叶片BL的表面上的加工光EL的照射位置的移动轨迹的平面图即图9(b)所示,加工系统SYS也可以对涡轮叶片BL的表面中的形成槽9的部分照射加工光EL的方式,来对涡轮叶片BL照射加工光EL。具体而言,加工系统SYS也可通过重复扫描动作与步进动作来形成肋条结构RB,所述扫描动作是一边使加工光EL的照射位置沿着槽9所延伸的X轴方向移动一边对涡轮叶片BL的表面照射加工光EL的动作,所述步进动作是不对涡轮叶片BL的表面照射加工光EL而使加工光EL的照射位置沿着与槽9所延伸的X轴方向交叉的Y轴移动的动作。此时也可以说,加工系统SYS是通过形成槽9来形成肋条结构RB(即,形成凸状结构体8)。
再次在图8(a)至图8(c)中,凸状结构体8例如包括彼此朝向相反侧的一对侧面81以及82。图8(a)至图8(c)所示的示例中,凸状结构体8包括朝向-Y侧的侧面81与朝向+Y侧的侧面82。一对侧面81以及82各自为平面。但是,一对侧面81以及82的至少一者也可包含曲面。
一对侧面81以及82也可彼此不平行。此时,凸状结构体8所包括的一对侧面81以及82也可经由它们的一端部(图8(a)至图8(c)所示的示例中,为+Z侧的上端部)而连接。连接凸状结构体8所包括的一对侧面81以及82的部分构成凸状结构体8的顶部83。此时也可视为,一对侧面81以及82经由凸状结构体8的顶部83而连接。图8(a)至图8(c)所示的示例中,一对侧面81以及82以侧面81的上端部与侧面82的上端部相接的方式而连接。此时,凸状结构体8的包含Z轴的剖面的形状呈三角形的形状。但是,凸状结构体8的包含Z轴的剖面的形状也可具有与三角形的形状不同的任意形状。而且,一对侧面81以及82也可彼此平行。
一个凸状结构体8的侧面81与沿着凸状结构体8所排列的方向而跟一个凸状结构体8邻接的另一凸状结构体8的侧面82也可在它们的另一端部(图8(a)至图8(c)所示的示例中,为-Z侧的下端部)相连接。连接一个凸状结构体8的侧面81与另一凸状结构体8的侧面82的部分构成一个凸状结构体8与另一凸状结构体8的边界部84。换言之,在相邻的两个凸状结构体8之间,存在相当于与周围相比较而凹陷的凹状区域的边界部84。此时也可视为,相邻的两个凸状结构体8经由边界部84而连接。图8(a)至图8(c)所示的示例中,相邻的两个凸状结构体8是以一个凸状结构体8的侧面81的下端部与另一凸状结构体8的侧面82的下端部相接的方式而连接。此时,槽9的包含Z轴的剖面的形状呈倒三角形的形状。但是,槽9的包含Z轴的剖面的形状也可具有与倒三角形的形状不同的任意形状。
在涡轮叶片BL包括基材BM以及耐热层TBC的情况下,如图8(a)至图8(c)所示,加工系统SYS也可在耐热层TBC形成肋条结构RB。具体而言,加工系统SYS也可在与基材BM朝向相反侧的耐热层TBC的表面(图8(a)至图8(c)所示的示例中,为朝向+Z侧的上表面)形成肋条结构RB。加工系统SYS也可在耐热层TBC中的、与面向基材BM的表面为相反侧的表面形成肋条结构RB。加工系统SYS也可在涡轮叶片BL的使用中跟流体接触的耐热层TBC的表面形成肋条结构RB。此时,加工系统SYS并非直接加工基材BM,因此能够相对较容易地重新形成肋条结构RB。具体而言,在肋条结构RB的重新形成时,首先,暂时剥离形成有肋条结构RB的耐热层TBC,随后,形成新的耐热层TBC。随后,加工系统SYS在新形成的耐热层TBC上形成新的肋条结构RB。因而,对于肋条结构RB的劣化(例如,破损等),能够通过肋条结构RB的重新形成来相对较容易地应对。进而,由于加工系统SYS并非直接加工基材BM,因此在难以直接加工或者原本便未形成肋条结构RB的基材BM的表面,也能够形成肋条结构RB。即,只要在基材BM的表面形成耐热层TBC后,由加工系统SYS来加工耐热层TBC,便能够相对较容易地形成肋条结构RB。
或者,在涡轮叶片BL包括基材BM以及耐热层TBC的情况下,如表示肋条结构RB的立体图即图10所示,加工系统SYS也可在基材BM上形成肋条结构RB。具体而言,加工系统SYS也可在面向耐热层TBC的基材BM的表面(图示的示例中,为朝向+Z侧的上表面)形成肋条结构RB。此时,如图10所示,也可在基材BM上形成有肋条结构RB之后,在基材BM的表面(尤其是形成有肋条结构RB的表面)形成耐热层TBC。由于耐热层TBC覆盖基材BM的表面,因此耐热层TBC的表面形状也可与形成有耐热层TBC的基材BM的表面形状大致相同。因此,在形成有肋条结构RB的基材BM上形成有耐热层TBC的涡轮叶片BL也可视为实质上等价于在耐热层TBC上形成有肋条结构RB的涡轮叶片BL。
或者,在涡轮叶片BL包括基材BM,另一方面不包括耐热层TBC的情况下,也如表示肋条结构RB的立体图即图11所示,加工系统SYS也可在基材BM上形成肋条结构RB。即,也可未必在形成有肋条结构RB的基材BM上形成耐热层TBC。
(4)形成肋条结构RB的动作的变形例
继而,对形成肋条结构RB的动作的变形例进行说明。
(4-1)形成肋条结构RB的动作的第一变形例
第一变形例中,加工系统SYS也可形成凸状结构体8的顶部83以及凸状结构体8的边界部84中的至少一者的形状与所述的图8(a)至图8(c)以及图10至图11所示的形状不同的肋条结构RB。以下,一边参照图12至图18,一边对在第一变形例中形成的肋条结构RB进行说明。图12至图18分别为表示在第一变形例中形成的肋条结构RB的一例的剖面图。
如图12所示,加工系统SYS也可以凸状结构体8的顶部83包含平面831的方式来形成肋条结构RB。平面831连接凸状结构体8所包括的一对侧面81以及82的一端部(图12所示的示例中,为+Z侧的上端部)。即,一对侧面81以及82经由构成顶部83的平面831而连接。因此,图12所示的示例中,侧面81的上端部与侧面82的上端部不直接相接。平面831与一对侧面81以及82分别交叉。平面831是与基材BM朝向相反侧(图12所示的示例中,为+Z侧,且为上方)的面。因此,平面831也可被称作上表面。
如图13所示,加工系统SYS也可以凸状结构体8的顶部83包含曲面832的方式来形成肋条结构RB。曲面832连接凸状结构体8所包括的一对侧面81以及82的一端部(图13所示的示例中,为+Z侧的上端部)。即,一对侧面81以及82经由构成顶部83的曲面832而连接。因此,图13所示的示例中,侧面81的上端部与侧面82的上端部不直接相接。曲面832与一对侧面81以及82分别交叉。曲面832是与基材BM朝向相反侧(图13所示的示例中,为+Z侧,且为上方)的面。因此,曲面832也可被称作上表面。曲面832也可为与基材BM朝相反侧呈凸出的曲面。
如图14所示,加工系统SYS也可以凸状结构体8的顶部83包含平面831以及曲面832这两者的方式来形成肋条结构RB。例如,顶部83也可包含平面831与包夹平面831的一对曲面832。一对曲面832的一端部分别连接于凸状结构体8所包括的一对侧面81以及82的一端部(例如,上端部)。进而,平面831连接一对曲面832的另一端部。即,一对曲面832中的其中一者连接平面831与侧面81,一对曲面832中的另一者连接平面831与侧面82。此时,一对侧面81以及82经由构成顶部83的平面831以及一对曲面832而连接。因此,图14所示的示例中,侧面81的上端部与侧面82的上端部不直接相接。
图12至图14所示的示例中,顶部83的尺寸D83也可基于凸状结构体8的间距P8而设定。例如,顶部83的尺寸D83也可被设定为处于凸状结构体8的间距P8的至少1%至9%(即,数%)的范围内。例如,顶部83的尺寸D83也可被设定为处于凸状结构体8的间距P8的至少1%至6%的范围内。例如,顶部83的尺寸D83也可被设定为处于凸状结构体8的间距P8的至少1%至3%的范围内。另外,本实施方式中的“顶部83的尺寸D83”也可指凸状结构体8所排列的方向上的、构成顶部83的面的尺寸(典型的是宽度)。图12所示的示例中,顶部83的尺寸D83也可指顶部83中所含的平面831在Y轴方向上的尺寸。图13所示的示例中,顶部83的尺寸D83也可指顶部83中所含的曲面832在Y轴方向上的尺寸。图14所示的示例中,顶部83的尺寸D83也可指顶部83中所含的平面831以及一对曲面832在Y轴方向上的尺寸的总和。而且,本实施方式中的“凸状结构体8的间距P8”也可指在与凸状结构体8所延伸的方向交叉的方向(间距方向)上相邻的两个凸状结构体8的间隔。图12所示的示例中,“凸状结构体8的间距P8”也可指在Y轴方向上相邻的两个凸状结构体8的间隔。由于在与凸状结构体8所延伸的方向交叉的方向上交替地形成有凸状结构体8与槽9,因此“凸状结构体8的间距P8”也可视为与“槽9的间距P9”实质上相同。另外,本实施方式中的“槽9的间距P9”也可指在与槽9所延伸的方向交叉的方向(间距方向)上相邻的两个槽9的间隔。图12所示的示例中,“槽9的间距P9”也可指在Y轴方向上相邻的两个槽9的间隔。
图13至图14所示的示例中,曲面832的曲率半径被设定为处于1微米至9微米(即,数微米)的范围内。曲面832的曲率半径也可被设定为处于1微米至6微米的范围内。曲面832的曲率半径也可被设定为处于1微米至4微米的范围内。曲面832的曲率半径也可被设定为处于1微米至2微米的范围内。
这样,在顶部83包含平面831以及曲面832中的至少一者的情况下,与顶部83不包含平面831以及曲面832(其结果,侧面81的上端部与侧面82的上端部直接相接)的情况相比较,形成于顶部83的角的角度变得平缓(即,变大)。其结果,在顶部83产生裂纹的可能性变小。因而,加工系统SYS能够形成耐久性相对较高的肋条结构RB。尤其,包含曲面832的顶部83也可视为实质上等价于实施有倒角加工的顶部83。其结果,在顶部83包含曲面832的情况下,与顶部83包含平面831的情况相比较,在顶部83产生裂纹的可能性变得更小。即,因而,加工系统SYS能够形成耐久性更高的肋条结构RB。
如图15所示,加工系统SYS也可以凸状结构体8的边界部84包含平面841的方式来形成肋条结构RB。平面841连接相邻的两个凸状结构体8。即,相邻的两个凸状结构体8经由构成边界部84的平面841而连接。具体而言,平面841连接一个凸状结构体8的侧面81的下端部与跟一个凸状结构体8邻接的另一凸状结构体8的侧面82的下端部。因此,图15所示的示例中,一个凸状结构体8的侧面81的下端部与另一凸状结构体8的侧面82的下端部不直接相接。平面841与一对侧面81以及82分别交叉。平面841是与基材BM朝向相反侧(图12所示的示例中,为+Z侧,且为上方)的面。因此,平面841也可被称作上表面。
如图16所示,加工系统SYS也可以凸状结构体8的边界部84包含曲面842的方式来形成肋条结构RB。曲面842连接相邻的两个凸状结构体8。即,相邻的两个凸状结构体8经由构成边界部84的曲面842而连接。具体而言,曲面842连接一个凸状结构体8的侧面81的下端部与跟一个凸状结构体8邻接的另一凸状结构体8的侧面82的下端部。因此,图16所示的示例中,一个凸状结构体8的侧面81的下端部与另一凸状结构体8的侧面82的下端部不直接相接。曲面842与一对侧面81以及82分别交叉。曲面842是与基材BM朝向相反侧(图12所示的示例中,为+Z侧,且为上方)的面。因此,曲面842也可被称作上表面。曲面842也可为朝基材BM侧呈凸出的曲面。
如图17所示,加工系统SYS也可以凸状结构体8的边界部84包含平面841以及曲面842这两者的方式来形成肋条结构RB。例如,边界部84也可包含平面841与一对曲面842。一对曲面842的其中一者的一端部连接于一个凸状结构体8所包括的侧面81的另一端部(例如,下端部)。一对曲面842的另一者的一端部连接于跟一个凸状结构体8邻接的另一凸状结构体8所包括的侧面82的另一端部(例如,下端部)。进而,平面841连接一对曲面842的另一端部。即,也可为,一对曲面842中的其中一者连接平面841与一个凸状结构体8的侧面81,一对曲面842中的另一者连接平面841与另一凸状结构体8的侧面82。此时,相邻的两个凸状结构体8经由构成边界部84的平面841以及一对曲面842而连接。因此,图17所示的示例中,侧面81的下端部与侧面82的下端部不直接相接。
图17所示的示例中,一对曲面842的尺寸D842的总和(即,2×D842)也可基于凸状结构体8的间距P8来设定。例如,一对曲面842的尺寸D842的总和也可小于凸状结构体8的间距P8。另外,本实施方式中的“曲面842的尺寸D842”也可指凸状结构体8所排列的方向上的曲面842的尺寸(典型的是宽度)。图17所示的示例中,曲面842的尺寸D842也可指曲面842在Y轴方向上的尺寸。而且,图16以及图17所示的示例中,曲面842的曲率半径也可被设定为处于1微米至9微米(即,数微米)的范围内。曲面842的曲率半径也可被设定为处于1微米至6微米的范围内。曲面842的曲率半径也可被设定为处于1微米至4微米的范围内。曲面842的曲率半径也可被设定为处于1微米至2微米的范围内。
这样,在边界部84包含平面841以及曲面842中的至少一个的情况下,与边界部84不包含平面841以及曲面842(其结果,侧面81的下端部与侧面82的下端部直接相接)的情况相比较,形成于边界部84的角的角度变得平缓。其结果,在边界部84产生裂纹的可能性变小。因而,加工系统SYS能够形成耐久性相对较高的肋条结构RB。尤其,包含曲面842的边界部84也可视为实质上等价于实施有倒角加工的边界部84。其结果,在边界部84包含曲面842的情况下,与边界部84包含平面841的情况相比较,在边界部84产生裂纹的可能性变得更小。因而,加工系统SYS能够形成耐久性更高的肋条结构RB。
如图18所示,加工系统SYS也可以凸状结构体8的顶部83包含平面831以及曲面832的至少一者,且凸状结构体8的边界部84包含平面841以及曲面842的至少一者的方式来形成肋条结构RB。图18表示了顶部83包含平面831以及一对曲面832,且边界部84包含平面841以及一对曲面842的肋条结构RB。此时,加工系统SYS也能够形成耐久性更高的肋条结构RB。
另外,所述的图12至图18表示了加工系统SYS在耐热层TBC上形成肋条结构RB的示例。但是,加工系统SYS也可在基材BM上形成具有图12至图18所示的形状的肋条结构RB。此时,加工系统SYS也能够形成耐久性相对较高的肋条结构RB。
而且,在基材BM上形成具有图12至图18所示的形状的肋条结构RB的情况下,如上所述,在形成肋条结构RB的凸状结构体8的顶部83以及边界部84的至少一者形成的角的角度变得平缓。其结果,与形成于顶部83以及边界部84的至少一者的角的角度相对较陡(即,相对较小)的情况相比较,耐热层TBC相对于所述角的附着性提高。
而且,在形成于顶部83以及边界部84的至少一者的角的角度变得平缓的情况下,与形成于顶部83以及边界部84的至少一者的角的角度相对较陡的情况相比较,也能够享有适当地进行对形成有肋条结构RB的基材BM的表面的表面处理的可能性变高的效果。例如,也能够享有对形成有肋条结构RB的基材BM的表面适当地进行作为表面处理的一例的淬火的可能性变高的效果。其结果,如后所述,在通过对基材BM的表面进行淬火等的表面处理而在基材BM上形成任意的覆膜层的情况下,能够享有在形成有肋条结构RB的基材BM上适当地形成任意覆膜层的可能性变高的效果。
(4-2)形成肋条结构RB的动作的第二变形例
第二变形例中,加工系统SYS也可在形成有与用于形成肋条结构RB的槽9不同的槽7的涡轮叶片BL上形成肋条结构RB。此处,一边参照图19(a)以及图19(b),一边对形成有槽7的涡轮叶片BL进行说明。图19(a)是表示形成有槽7的涡轮叶片BL的剖面图,图19(b)是表示形成有槽7的涡轮叶片BL的俯视图。
如图19(a)以及图19(b)所示,在涡轮叶片BL,也可形成有沿着顺着涡轮叶片BL表面的方向延伸的槽7。例如,在涡轮叶片BL,也可形成有沿着顺着涡轮叶片BL表面的第三方向延伸的单个槽7。例如,在涡轮叶片BL,也可形成有沿着顺着涡轮叶片BL表面的第三方向延伸的多个槽7。沿着第三方向延伸的多个槽7也可沿着与第三方向交叉的第四方向排列。例如,在涡轮叶片BL,也可形成有沿着顺着涡轮叶片BL表面的多个不同的方向分别延伸的多个槽7。例如,在涡轮叶片BL,也可形成有沿着顺着涡轮叶片BL表面的第三方向延伸的至少一个槽7、与沿着第四方向延伸的至少一个槽7,所述第四方向为顺着涡轮叶片BL表面的方向且与第三方向交叉。图19(a)以及图19(b)所示的示例中,在涡轮叶片BL,形成有沿着X轴方向延伸且沿着Y轴方向排列的多个槽7(以下,将沿着X轴方向延伸的槽7称作“槽7X”)、与沿着Y轴方向延伸且沿着X轴方向排列的多个槽7(以下,将沿着Y轴方向延伸的槽7称作“槽7Y”)。
槽7的深度D7(图19(a)所示的示例中,为沿着Z轴方向的尺寸)也可基于形成槽7的耐热层TBC的厚度D(图19(a)所示的示例中,为沿着Z轴方向的尺寸)来设定。例如,槽7的深度D7也可被设定为小于耐热层TBC的厚度D9。槽7的深度D7也可被设定为成为耐热层TBC的厚度D9的30%以下。例如,在耐热层TBC的厚度D9为300微米至1毫米的情况下,槽7的深度D7也可被设定为成为90微米(=300微米×30%)至300微米(=1毫米×30%)以下。
在形成多个槽7的情况下,多个槽7的深度D7也可彼此相同。或者,也可为,多个槽7中的至少两个的深度D7互不相同。例如,形成于涡轮叶片BL表面的第一部分的槽7的深度也可与形成于涡轮叶片BL表面的第二部分的槽7的深度不同。例如,沿着第三方向延伸的槽7的深度D7也可与沿着与第三方向交叉的第四方向延伸的槽7的深度D7不同。
在形成多个槽7的情况下,多个槽7也可形成为,以相同的间距P7而排列。另外,本实施方式中的“槽7的间距P7”也可指在与槽7所延伸的方向交叉的方向(间距方向)上相邻的两个槽7的间隔。图19所示的示例中,“槽7X的间距P7”也可指在Y轴方向上相邻的两个槽7X的间隔。“槽7Y的间距P7”也可指在X轴方向上相邻的两个槽7X的间隔。或者,多个槽7也可形成为,以不同的间距P7而排列。例如,沿着第三方向延伸的槽7的间距P7也可与沿着第四方向延伸的槽7的间距P7不同。例如,形成于涡轮叶片BL表面的第三部分的槽7的间距P7也可与形成于涡轮叶片BL的第四部分的槽7的间距P7不同。
槽7也可为可缓和涡轮叶片BL的应力的槽。即,槽7也可具有可缓和涡轮叶片BL的应力的功能。尤其,由于槽7形成于耐热层TBC,因此槽7也可为能够缓和耐热层TBC的应力的槽。例如,当耐热层TBC的温度发生变化时,耐热层TBC有可能伸缩。即,耐热层TBC有可能膨胀或收缩。槽7也可为对因耐热层TBC的伸缩而在耐热层TBC中产生的应力进行缓和的槽。例如,此时,若耐热层TBC以槽7的宽度对应于耐热层TBC的伸缩发生变化的方式而变形,则因耐热层TBC的伸缩而在耐热层TBC中产生的应力相关。其结果,因应力导致耐热层TBC发生破损的可能性相对变小。因此,能够制造对应力的耐受性相对较强且对流体的阻力得到适当降低的涡轮叶片BL。
槽7也可通过与加工系统SYS不同的加工系统而形成。例如,槽7也可通过可利用激光切割或激光蚀刻来形成槽7的其他加工系统而形成。加工系统SYS也可在控制装置4的控制下,在通过其他加工系统而形成有槽7的涡轮叶片BL上形成所述的肋条结构RB。此时,加工系统SYS也可基于与已形成的槽7相关的信息来形成肋条结构RB。例如,加工系统SYS也可使用测量光ML来测量已形成的槽7,基于与测量光ML对槽7的测量结果相关的信息来形成肋条结构RB。作为一具体例,加工系统SYS也可基于与测量光ML对槽7的测量结果相关的信息,来确定涡轮叶片BL的表面(例如,耐热层TBC的表面)上的槽7的位置,对与所确定的槽7的位置存在规定的位置关系的位置照射加工光EL,由此来形成肋条结构RB。即,与槽7的测量结果相关的信息也可被用作用于控制加工光EL的照射位置的信息(所谓的伺服信息)。
或者,槽7也可通过加工系统SYS而形成。即,加工系统SYS也可在控制装置4的控制下,与形成用于形成肋条结构RB的槽9的情况同样地,通过使用加工光EL的去除加工来形成槽7。此时,加工系统SYS也可在控制装置4的控制下形成槽9之后,形成肋条结构RB。或者,加工系统SYS也可在控制装置4的控制下形成肋条结构RB后,形成槽7。
加工系统SYS在形成有槽7的涡轮叶片BL上形成肋条结构RB(或者,在形成槽7之前在涡轮叶片BL上形成肋条结构RB)的情况下,也可形成满足以下所示的结构条件的肋条结构RB。以下,一边参照图20至图22,一边对肋条结构RB应满足的结构条件进行说明。图20是表示形成有槽7与肋条结构RB这两者的涡轮叶片BL的剖面图。图21是表示形成有槽7与肋条结构RB这两者的涡轮叶片BL的立体图。图22是表示形成有槽7与肋条结构RB这两者的涡轮叶片BL的俯视图。另外,图20至图22所示的示例中,加工系统SYS形成顶部83包含平面831,边界部84包含平面841,且满足结构条件的肋条结构RB(即,包含图12所示的顶部83以及图15所示的边界部84,且满足结构条件的肋条结构RB)。但是,加工系统SYS也可形成如下所述的肋条结构RB,即,包含具有与图12所示的形状为不同形状的顶部83和/或具有与图15所示的形状为不同形状的边界部84,并且满足后述的结构条件。
结构条件也可包含与形成肋条结构RB的槽9的深度D9相关的深度条件。例如,深度条件也可包含与槽9的深度D9自身相关的第一深度条件。第一深度条件也可包含槽9的深度D9为1微米至99微米(即,数微米至数十微米)这一条件。例如,深度条件也可除了第一深度条件以外或者取代于此,而包含与槽9的深度D9和耐热层TBC的厚度D的关系相关的第二深度条件。如图20以及图21所示,第二深度条件也可包含槽9的深度D9小于耐热层TBC的厚度D这一条件。第二深度条件也可包含槽9的深度D9为耐热层TBC的厚度D的0.2%以上且20%以下这一条件。例如,深度条件也可除了第一深度条件及第二深度条件中的至少一者或者取代于此,而包含与槽9的深度D9和槽7的深度D7的关系相关的第三深度条件。如图20以及图21所示,第三深度条件也可包含槽9的深度D9与槽7的深度D7不同这一条件。如图20以及图21所示,第三深度条件也可包含槽9的深度D9小于槽7的深度D7(即,槽9比槽7浅)这一条件。换言之,如图20以及图21所示,第三深度条件也可包含槽7的深度D7大于槽9的深度D9(即,槽7比槽9深)这一条件。第三深度条件也可包含槽7的深度D7为槽9的深度D9的1.5倍以上且15倍以下这一条件。
此处,在满足深度条件中的第三深度条件(尤其是槽9的深度D9小于槽7的深度D7这一条件)的情况下,肋条结构RB带来的效果(即,涡轮叶片BL的表面对流体的阻力的降低效果)被槽9妨碍的可能性变小。具体而言,如图23所示,假设在槽9的深度D9大于槽7的深度D7的情况下,槽7的底部71比槽9的底部(即,边界部84)位于上方。其结果,在多个凸状结构体8之间,出现槽7的底部71成为上表面的间隔壁72。所述间隔壁72如图23所示,有可能遮挡在多个凸状结构体8之间(即,槽9的内部)沿着多个凸状结构体8而流动的流体。即,间隔壁72如图23所示,有可能扰乱沿着凸状结构体8的流体的流动。尤其,在凸状结构体8所延伸的方向与槽7所延伸的方向交叉的情况下,间隔壁72扰乱沿着凸状结构体8的流体的流动的可能性变高。但是,若槽9的深度D9小于槽7的深度D7,则如图21所示,在多个凸状结构体8之间不会出现槽7的底部71成为上表面的间隔壁72。其结果,如图21所示,在多个凸状结构体8之间(即,槽9的内部)沿着多个凸状结构体8流动的流体的流动被间隔壁72扰乱的可能性小。因此,能够适当地享有肋条结构RB所带来的、涡轮叶片BL的表面对流体的阻力的降低效果。另外,在凸状结构体8所延伸的方向与槽7所延伸的方向平行的情况下,在包含多个凸状结构体8的肋条结构RB中,会因槽7而形成高度不同的部分(例如,高度与凸状结构体8不同的结构体),因此有可能导致肋条结构RB的效果降低。
结构条件也可包含与形成肋条结构RB的槽9的间距P9相关的间距条件。间距条件也可包含与槽9的间距P9和槽7的间距P7的关系相关的条件。尤其,间距条件也可包含与一方向上的槽9的间距P9和相同的一方向上的槽7的间距P7的关系相关的条件。图20以及图22所示的示例中,间距条件也可包含与Y轴方向上的槽9的间距P9和Y轴方向上的槽7的间距P7的关系相关的条件。但是,间距条件也可包含一方向上的槽9的间距P9和跟一方向不同的另一方向上的槽7的间距P7的关系相关的条件。图20以及图22所示的示例中,间距条件也可包含与Y轴方向上的槽9的间距P9和X轴方向上的槽7的间距P7的关系相关的条件。例如,间距条件也可包含槽9的间距P9与槽7的间距P7不同这一条件。例如,间距条件也可包含槽7的间距P7大于槽9的间距P9这一条件。例如,间距条件也可包含槽7的间距P7为槽9的间距P9的两倍以上这一条件。在满足槽7的间距P7为槽9的间距P9的两倍以上这一条件的情况下,如图20以及图22所示,在沿着与槽7所延伸的方向交叉的方向(即,槽7的短边方向)相邻的两个槽7之间形成两个以上的槽9。此时,间距条件也可包含下述条件,即,槽7的间距P7以及槽9的间距P9被设定为,在沿着与槽7所延伸的方向交叉的方向相邻的两个槽7之间形成两个以上的槽9。例如,间距条件也可包含槽7的间距P7处于槽9的间距P9的20倍以上且30倍以下的范围这一条件。换言之,间距条件也可包含下述条件,即,槽7的间距P7以及槽9的间距P9被设定为,在沿着与槽7所延伸的方向交叉的方向相邻的两个槽7之间形成20条以上且30条以下的槽9。例如,间距条件也可包含槽7的间距P7为槽9的间距P9的整数倍这样一条件。在满足槽7的间距P7为槽9的间距P9的整数倍这一条件的情况下,在沿着与槽7所延伸的方向交叉的方向相邻的两个槽7之间形成整数条槽9。此时,加工系统SYS能够对形成有槽7的涡轮叶片BL相对较容易地形成具有规则结构的肋条结构RB。
结构条件也可包含与形成肋条结构RB的槽9的宽度W9相关的宽度条件。宽度条件也可包含与槽9的宽度W9和槽7的宽度W7的关系相关的条件。另外,本实施方式中的“槽9的宽度W9”也可指与槽9所延伸的方向交叉的方向(即,槽9的短边方向)上的槽9的尺寸。同样,本实施方式中的“槽7的宽度W7”也可指与槽7所延伸的方向交叉的方向(即,槽7的短边方向)上的槽7的尺寸。例如,宽度条件也可包含槽9的宽度W9与槽7的宽度W7不同这一条件。例如,宽度条件也可包含槽7的宽度W7宽于槽9的宽度W9这一条件。例如,宽度条件也可包含槽7的宽度W7处于槽9的宽度W9的1倍以上且10倍以下的范围这一条件。
结构条件也可包含与形成肋条结构RB的槽9所延伸的方向相关的延伸方向条件。延伸方向条件也可包含与至少一个槽9所延伸的方向和至少一个槽7所延伸的方向的关系相关的条件。另外,本实施方式中的“槽9所延伸的方向”也可指槽9沿着形成有槽9的涡轮叶片BL的表面(例如,耐热层TBC的表面)延伸的方向。同样,本实施方式中的“槽7所延伸的方向”也可指槽7沿着形成有槽7的涡轮叶片BL的表面(例如,耐热层TBC的表面)延伸的方向。例如,延伸方向条件也可包含至少一个槽9所延伸的方向与至少一个槽7所延伸的方向相同这一条件。即,延伸方向条件也可包含至少一个槽9所延伸的方向与至少一个槽7所延伸的方向平行这一条件。例如,延伸方向条件也可包含至少一个槽9所延伸的方向与至少一个槽7所延伸的方向不同这一条件。即,延伸方向条件也可包含至少一个槽9所延伸的方向与至少一个槽7所延伸的方向交叉这一条件。尤其,延伸方向条件也可包含至少一个槽9所延伸的方向与至少一个槽7所延伸的方向正交这一条件。图21以及图22所示的示例中,延伸方向条件包含下述条件,即,在至少一个槽7X沿着X轴方向延伸,且至少一个槽7Y沿着Y轴方向延伸的状况下,多个槽9各自延伸的方向与槽7X所延伸的方向(即,X轴方向)相同。但是,延伸方向条件也可包含下述条件,即,在至少一个槽7沿着X轴方向延伸,且至少一个槽7沿着Y轴方向延伸的状况下,多个槽9中的至少一个沿着X轴方向以及Y轴方向中的至少一方向延伸。
而且,结构条件也可包含与形成肋条结构RB的槽9的间距方向相关的间距方向条件。间距方向条件也可包含与多个槽9的间距方向和多个槽7的间距方向的关系相关的条件。另外,本实施方式中的“多个槽9的间距方向”也可指沿着形成有多个槽9的涡轮叶片BL的表面(例如,耐热层TBC的表面)的间距方向。同样,本实施方式中的“多个槽7的间距方向”也可指沿着形成有槽7的涡轮叶片BL的表面(例如,耐热层TBC的表面)的间距方向。例如,间距方向条件也可包含多个槽9的间距方向与多个槽7的间距方向相同这一条件。即,间距方向条件也可包含多个槽9的间距方向与多个槽7的间距方向平行这一条件。例如,间距方向条件也可包含多个槽9的间距方向与多个槽7的间距方向不同这一条件。即,间距方向条件也可包含多个槽9的间距方向与多个槽7的间距方向交叉这一条件。尤其,间距方向条件也可包含多个槽9的间距方向与多个槽7的间距方向正交这一条件。图21以及图22所示的示例中,间距方向条件也可包含下述条件,即,在多个槽7X的间距方向为Y轴方向,且多个槽7Y的间距方向为X轴方向的状况下,多个槽9各自的间距方向与槽7X的间距方向(即,Y轴方向)相同。但是,间距方向条件也可包含下述条件,即,在多个槽7的间距方向为X轴方向,且多个槽7的间距方向为Y轴方向的状况下,多个槽9的间距方向为与X轴方向以及Y轴方向中的至少一个方向相同的方向。
以上说明的结构条件例如是基于下述观点而设定的条件的一例,即,制造对应力的耐受性相对较强且对流体的阻力得到适当降低的涡轮叶片BL。因此,在满足结构条件的情况下,与不满足结构条件的情况相比较,涡轮叶片BL对应力的耐受性相对变强,和/或,涡轮叶片BL对流体的阻力变小。
在形成多个槽7的情况下,如图22所示,涡轮叶片BL的表面(例如,耐热层TBC的表面)可由多个槽7划分为多个表面区域SA。此时,跟形成于多个表面区域SA中的第一表面区域SA的槽9相关的结构条件,也可与跟形成于多个表面区域SA中的与第一表面区域SA不同的第二表面区域SA的槽9相关的结构条件相同。如上所述,结构条件是与槽9的深度W9、间距P9、宽度W9、间距方向以及延伸方向中的至少一者相关的条件。槽9的深度W9、间距P9、宽度W9、间距方向以及延伸方向中的至少一者为槽9的特性的一例。因此,形成于多个表面区域SA中的第一表面区域SA的槽9的特性也可与形成于多个表面区域SA中的第二表面区域SA的槽9的特性相同。另外,图22表示了在所有的多个表面区域SA中结构条件相同的示例。
或者,与形成于多个表面区域SA中的第一表面区域SA的槽9相关的结构条件、和与形成于多个表面区域SA中的第二表面区域SA的槽9相关的结构条件也可不同。即,形成于多个表面区域SA中的第一表面区域SA的槽9的特性与形成于多个表面区域SA中的第二表面区域SA的槽9的特性也可不同。例如,如表示形成有槽7与肋条结构RB这两者的涡轮叶片BL的俯视图即图24所示,形成于表面区域SA#1至SA#3的槽9的间距P9与形成于表面区域SA#4至SA#6的槽9的间距P9也可不同。如图24所示,形成于表面区域SA#1至SA#3的槽9所延伸的方向与形成于表面区域SA#4至SA#6的槽9所延伸的方向也可不同。而且,如图24所示,形成于表面区域SA#1至SA#3的多个槽9的间距方向与形成于表面区域SA#4至SA#6的多个槽9的间距方向也可不同。
而且,如表示形成有槽7与肋条结构RB这两者的涡轮叶片BL的俯视图即图25所示,形成于表面区域SA#1的槽9的间距P9、与形成于表面区域SA#1在槽9的延伸方向上所邻接的表面区域SA#2的槽9的间距P9也可不同。形成于表面区域SA#2的槽9的延伸方向(或间距方向)、与形成于表面区域SA#2在槽9的延伸方向上所邻接的表面区域SA#3的槽9的延伸方向(或间距方向)也可不同。形成于表面区域SA#2的槽9的延伸方向(或间距方向)、与形成于表面区域SA#5的槽9的延伸方向(或间距方向)也可不同,所述表面区域SA#5是在与形成于所述表面区域SA#2的槽9的延伸方向交叉的方向(间距方向)上邻接。而且,形成于表面区域SA#5的槽9的延伸方向(或间距方向)以及间距P9、与形成于所述表面区域SA#5在槽9的延伸方向上所邻接的表面区域SA#6的槽9的延伸方向(或间距方向)以及间距P9也可各自不同。
适用于各表面区域SA的结构条件(换言之,槽9的特性)也可根据与各表面区域SA接触的流体的特性来设定。例如,适用于各表面区域SA的结构条件(换言之,槽9的特性)也可被设定为可降低各表面区域SA对与各表面区域SA接触的流体的阻力的条件(特性)。其结果,与适用于多个表面区域SA的结构条件(换言之,槽9的特性)相同的情况相比较,能够制造对流体的阻力得到适当降低的涡轮叶片BL。
另外,所述的图19至图24表示了在耐热层TBC形成槽7的示例。但是,槽7也可形成于基材BM。此时,加工系统SYS也可在形成有槽7的基材BM上形成肋条结构RB。或者,加工系统SYS也可在基材BM上形成肋条结构RB之后,在基材BM上形成槽7。此时,也可为,加工系统SYS也以满足所述结构条件的方式在基材BM上形成肋条结构RB。
而且,如图26所示,也可不在耐热层TBC上形成槽7。另外,图26中,为了便于理解,图示了表示各表面区域SA#1至SA#6的边界的线,但所述线为假想的线。
(5)变形例
加工系统SYS也可各别地包括:加工头,将加工光EL照射至工件W,另一方面,不将测量光ML照射至工件W;以及测量头,将测量光ML照射至工件W,另一方面,不将加工光EL照射至工件W。
所述的说明中,加工系统SYS包括将加工光EL以及测量光ML这两者朝向工件W射出的射出光学系统113。但是,加工系统SYS也可各别地包括:射出光学系统113,将加工光EL朝向工件W射出;以及射出光学系统113,将测量光ML朝向工件W射出。此时,各射出光学系统113也可不包括将加工光EL与测量光ML予以合成的分束器1131。
所述的说明中,加工装置1可测量工件W。但是,加工装置1也可为不可测量工件W。此时,加工装置1也可不包括测量光学系统112。加工系统SYS也可不包括测量光源22。
所述的说明中,加工装置1包括头驱动系统12。但是,加工装置1也可不包括头驱动系统12。即,加工头11也可为不可移动。此时,加工装置1也可不包括位置测量装置13。
所述的说明中,载台装置3包括载台驱动系统33。但是,载台装置3也可不包括载台驱动系统33。即,载台32也可为不可移动。此时,载台装置3也可不包括位置测量装置34。
所述的说明中,加工系统SYS对包括基材BM与耐热层TBC的涡轮叶片BL进行加工。但是,加工系统SYS也可对包括基材BM与形成于基材BM上且跟耐热层TBC不同的任意的覆膜层的涡轮叶片BL进行加工。此时,加工系统SYS也可在任意的覆膜层上形成肋条结构RB。例如,加工系统SYS也可在任意的覆膜层上形成包含一边参照图12至图18一边说明的顶部83以及边界部84中的至少一者的肋条结构RB。例如,加工系统SYS也可在形成有与形成肋条结构RB的槽7不同的槽9的任意的覆膜层上形成肋条结构RB。例如,加工系统SYS也可在任意的覆膜层上形成肋条结构RB和与形成肋条结构RB的槽7不同的槽9。例如,加工系统SYS也可在形成有肋条结构RB的基材BM上形成任意的覆膜层。另外,作为任意的覆膜层的一例,可列举用于保护基材BM的保护层。
形成于基材BM的任意的覆膜层也可包含通过对基材BM附加材料而新形成的层。或者,形成于基材BM的任意的覆膜层也可包含相当于基材BM中的特性发生了变化的一部分的层。即,任意的覆膜层也可包含如下所述的层,所述层是通过使基材BM的一部分的特性发生变化而以与基材BM中的特性未发生变化的部分相接的方式新形成,且相当于基材BM中的特性发生了变化的部分。换言之,也可将基材BM中的特性发生了变化的部分用作覆膜层,将基材BM中的特性未发生变化的部分用作基材BM。作为此种相当于基材BM中的特性发生了变化的部分的层的一例,可列举通过淬火而特性发生了变化的部分。此时,覆膜层也可通过对基材BM的表面的表面处理而形成。作为表面处理的一例,可列举淬火。淬火例如也可包含高频淬火、火焰淬火、激光淬火以及电子束淬火中的至少一种。通过此种淬火而形成的覆膜层比基材BM中的未通过淬火而使特性发生变化的部分坚硬。淬火也可以说是用于使基材BM的表面硬化的表面硬化处理的一具体例。此时,覆膜层可作为用于保护基材BM的表面的保护层发挥功能。
所述的说明中,加工系统SYS对轴流型的涡轮叶片BL进行加工。但是,如图27所示,加工系统SYS也可对径流型(辐流型)涡轮叶片BL进行加工。图27中,如箭头F1以及F2所示,流体相对于涡轮叶片BL的旋转轴120而平行地侵入涡轮叶片BL,并从出口部分160沿与旋转轴线120交叉的方向流出。
此时,肋条结构RB也可划分为多个表面区域SA。跟形成于多个表面区域SA中的第一表面区域SA#1的槽9相关的结构条件也可与跟形成于多个表面区域SA中的与第一表面区域SA#1不同的第二表面区域SA#2的槽9相关的结构条件相同。如上所述,结构条件是与槽9的深度W9、间距P9、宽度W9、间距方向以及延伸方向中的至少一者相关的条件。槽9的深度W9、间距P9、宽度W9、间距方向以及延伸方向中的至少一者为槽9的特性的一例。因此,形成于多个表面区域SA中的第一表面区域SA的槽9的特性也可与形成于多个表面区域SA中的第二表面区域SA的槽9的特性相同。并且,与形成于多个表面区域SA中的第一表面区域SA#1的槽9相关的结构条件和与形成于多个表面区域SA中的第三表面区域SA#3的槽9相关的结构条件也可不同。此处,多个表面区域SA#1至SA#4的分区形状也可并非如图27所示那样为矩形。
所述的说明中,加工系统SYS对作为工件W的一例的涡轮叶片BL进行加工。但是,加工系统SYS也可对与涡轮叶片BL不同且作为工件W的另一例的任意的叶片进行加工。任意的叶片也可与所述的涡轮叶片BL同样,包括基材与形成于基材表面的任意的覆膜层。此时,例如加工系统SYS也可在与涡轮叶片BL不同的任意的叶片上形成肋条结构RB。即,加工系统SYS也可在任意的叶片所包括的基材以及覆膜层的至少一者上形成肋条结构RB。作为任意的叶片的一例,可列举构成螺旋桨的翼片的叶片。螺旋桨例如是将从包含发动机及马达中的至少一者的原动机输出的旋转力转换为包含飞机及船舶等中的至少一者的移动体的推进力的构件。
或者,加工系统SYS也可对与叶片不同且作为工件W的另一例的任意物体进行加工。任意物体也可与所述的涡轮叶片BL同样,包括基材与形成于基材表面的任意的覆膜层。此时,例如加工系统SYS也可在任意物体上形成肋条结构RB。即,加工系统SYS也可在任意物体所包括的基材以及覆膜层的至少一者上形成肋条结构RB。
所述的说明中,加工系统SYS形成具有降低工件W的表面对流体的阻力的功能的肋条结构RB。但是,加工系统SYS也可在工件W上形成具有与降低工件W的表面对流体的阻力的功能不同的功能的结构。例如,加工系统SYS也可在工件W上形成用于降低流体与工件W的表面相对移动时所产生的噪音的肋条结构。例如,加工系统SYS也可在工件W上形成使工件W的表面上的流体的流动产生旋涡的肋条结构。例如,加工系统SYS也可在工件W上形成用于对工件W的表面给予疏水性的结构。
所述的说明中,加工系统SYS在工件W的表面形成肋条结构RB。但是,加工系统SYS也可在工件W的表面上形成具有任意形状的任意结构。作为任意结构的一例,可列举规则或者不规则地形成的微型纳米级的微细纹理结构(典型的是凹凸结构)。此种微细纹理结构也可包含具有使流体(气体和/或液体)造成的阻力降低的功能的鲨鱼皮结构以及微坑(dimple)结构中的至少一者。微细的纹理结构也可包含具有疏液功能以及自清洁功能中的至少一者(例如具有荷叶效应(lotus effect))的荷叶表面结构。微细的纹理结构也可包含具有液体输送功能的微细突起结构(参照美国专利公开第2017/0044002号公报)、具有亲液性功能的凹凸结构、具有防污功能的凹凸结构、具有反射率降低功能及疏液功能的至少一者的蛾眼(moth-eye)结构、仅使特定波长的光通过干涉而加强以呈结构色的凹凸结构、具有利用范德瓦尔斯力(van der Waals'force)的粘合功能的柱阵列(pillar array)结构、具有空气动力噪音降低功能的凹凸结构、具有液滴捕集功能的蜂窝结构以及提高与形成于表面上的层的密接性的凹凸结构等中的至少一种。
所述的说明中,加工系统SYS通过对工件W照射加工光EL来加工工件W。但是,加工系统SYS也可将与光不同的任意的能量射束照射至工件W来加工工件W。此时,加工系统SYS也可除了加工光源21以外或者取代加工光源21,而包括可照射任意的能量射束的射束照射装置。作为任意的能量射束的一例,可列举带电粒子束以及电磁波中的至少一者。作为带电粒子束的一例,可列举电子束以及聚焦离子束中的至少一者。
所述的说明中,涡轮T也可被称作涡轮机械。所述涡轮机械也可包括多个涡轮T。而且,如图28所示,涡轮机械TM也可连接于发电机DY以驱动所述发电机DY。图28中,涡轮机械TM包括:压缩机CO,对空气进行压缩;燃烧器BU,将燃料FU混合至经压缩机CO压缩的空气而使其燃烧;涡轮单元TU,包括多个涡轮T;以及可旋转的轴SH,连接压缩机CO以及涡轮单元TU。并且,通过来自燃烧器BU的燃烧气体来使涡轮单元TU绕轴SH旋转。所述旋转力通过轴SH传递至发电机DY,并且也传递至压缩机CO。而且,涡轮机械也可包含喷气发动机。
所述的各实施方式的要件能够适当组合。也可不使用所述的各实施方式的要件中的一部分。所述的各实施方式的要件能够适当地与其他实施方式的要件置换。而且,在法律允许的范围内,援引在所述的各实施方式中所引用的与装置等相关的所有公开公报以及美国专利公开作为本文记载的一部分。
而且,本发明可在不违背能够从权利要求以及说明书整体读取的发明的主旨或思想的范围适当变更,伴随如上所述的变更的叶片、加工系统以及加工方法也包含在本发明的技术思想中。
符号的说明
1:加工装置
11:加工头
111:加工光学系统
112:测量光学系统
113:射出光学系统
4:控制装置
8:凸状结构体
81、82:侧面
83:顶部
84:边界部
7、9:槽
EL:加工光
ML:测量光
SYS:加工系统
W:工件
BL:涡轮叶片
BM:基材
TBC:耐热层
RB:肋条结构

Claims (72)

1.一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括:
基材;以及
覆膜层,形成于所述基材上,
在所述覆膜层的表面,形成有多个第一槽与多个第二槽,
所述多个第一槽的间距与所述多个第二槽的间距不同。
2.根据权利要求1所述的叶片,其中
所述第一槽的深度与所述第二槽的深度不同。
3.一种叶片,被用于流体机械中,所述叶片包括:
基材;以及
覆膜层,形成于所述基材上,
在所述覆膜层的表面,形成有多个第一槽与多个第二槽,
所述多个第一槽的深度与所述多个第二槽的深度不同。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的叶片,其中
所述第一槽的深度为所述覆膜层的厚度的0.2%以上且20%以下。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的叶片,其中
所述第二槽的深度为所述覆膜层的厚度的30%以下。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的叶片,其中
所述第二槽的深度比所述第一槽的深度深。
7.根据权利要求1至6[中任一项所述的叶片,其中
所述第二槽的深度为所述第一槽的深度的1.5倍以上且15倍以下。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的叶片,其中
所述第一槽的宽度与所述第二槽的宽度不同。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的叶片,其中
所述第二槽的宽度为所述第一槽的宽度以上。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的叶片,其中
所述第二槽的宽度为所述第一槽的宽度的1倍以上且10倍以下。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的叶片,其中
所述第二槽的间距大于所述第一槽的间距。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的叶片,其中
所述第二槽的间距为所述第一槽的间距的20倍以上且30倍以下。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的叶片,其中
所述第二槽的间距为所述第一槽的间距的整数倍。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的叶片,其中
在所述多个第二槽中的相邻的两个第二槽之间,形成有所述多个第一槽中的至少两个。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的叶片,其中
所述多个第二槽中的至少一个沿着所述覆膜层的表面延伸的方向与所述多个第一槽中的至少一个沿着所述覆膜层的表面延伸的方向相同。
16.根据权利要求1至15中任一项所述的叶片,其中
所述多个第二槽中的至少一个沿着所述覆膜层的表面延伸的方向与所述多个第一槽中的至少一个沿着所述覆膜层的表面延伸的方向不同。
17.根据权利要求1至16中任一项所述的叶片,其中
所述多个第二槽中的至少一个沿着顺着所述覆膜层的表面的第一方向延伸,
所述多个第二槽中的至少另一个沿着顺着所述覆膜层的表面且与所述第一方向交叉的第二方向延伸,
所述多个第一槽中的至少一个沿着所述第一方向以及第二方向中的其中任一个方向延伸。
18.根据权利要求1至17中任一项所述的叶片,其中
所述多个第二槽中的至少一个沿着顺着所述覆膜层的表面的第一方向延伸,
所述多个第二槽中的至少另一个沿着顺着所述覆膜层的表面且与所述第一方向交叉的第二方向延伸,
所述多个第一槽分别沿着所述第一方向以及第二方向中的其中任一个方向延伸。
19.根据权利要求1至18中任一项所述的叶片,其中
所述覆膜层的表面由所述多个第二槽分区为多个区域,
形成于所述多个区域中的第一区域的所述第一槽的特性与形成于所述多个区域中的跟所述第一区域不同的第二区域的所述第一槽的特性不同。
20.根据权利要求19所述的叶片,其中
所述特性包含深度、宽度、间距以及延伸方向中的至少一个。
21.根据权利要求1至20中任一项所述的叶片,其中
所述第一槽包含能够降低所述覆膜层对流体的阻力的槽,
所述第二槽包含能够缓和所述覆膜层的应力的槽。
22.根据权利要求1至21中任一项所述的叶片,其中
所述第一槽包含形成肋条结构的槽。
23.根据权利要求1至22中任一项所述的叶片,其中
所述覆膜层包含降低来自流体的热朝向所述基材的传递的耐热层。
24.根据权利要求23所述的叶片,其中
所述耐热层包含陶瓷。
25.根据权利要求23或24所述的叶片,其中
所述耐热层是由多孔质材料所形成。
26.根据权利要求1至25中任一项所述的叶片,其中
所述叶片为涡轮叶片。
27.根据权利要求1至26中任一项所述的叶片,其中
所述基材的所述覆膜层侧的面具有曲面。
28.根据权利要求1至27中任一项所述的叶片,其中
所述覆膜层的表面在所述叶片的使用中与所述流体接触。
29.根据权利要求1至28中任一项所述的叶片,其中
所述多个第一槽的间隔与所述多个第二槽的间隔不同。
30.一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括:
基材;以及
覆膜层,形成于所述基材上,
在所述覆膜层的表面,形成有多个第一槽与多个第二槽,
所述多个第一槽的间隔与所述多个第二槽的间隔不同。
31.一种加工系统,包括:
射束照射装置,对形成于基材上且形成有多个第二槽的覆膜层的表面照射能量射束;以及
控制装置,控制所述射束照射装置,以使得以与所述多个第二槽的间距不同的间距在所述覆膜层的表面形成多个第一槽。
32.根据权利要求31所述的加工系统,还包括:
测量装置,对所述多个第二槽进行测量,
所述控制装置基于所述测量装置所测量出的与所述多个第二槽相关的信息来控制所述射束照射装置,以形成所述多个第一槽。
33.一种加工方法,包括:
在形成于基材上的覆膜层的表面形成多个第二槽;以及
在所述表面,以与所述多个第二槽的间距不同的间距形成多个第一槽。
34.一种涡轮叶片,是在流体中使用,所述涡轮叶片包括:
基材;以及
耐热层,形成于所述基材上,在与面向所述基材的第一面为相反侧的第二面形成有肋条结构,且降低来自流体的热朝向所述基材的传递。
35.根据权利要求34所述的涡轮叶片,其中
所述耐热层的所述第二面在所述涡轮叶片的使用中与所述流体接触。
36.根据权利要求34或35所述的涡轮叶片,其中
所述肋条结构包含多个沿着顺着所述第二面的第一方向延伸且从所述第二面突出的凸状结构体沿着第二方向排列而成的结构,所述第二方向沿着所述第二面且与所述第一方向交叉。
37.根据权利要求36所述的涡轮叶片,其中
所述多个凸状结构体中的沿着所述第二方向相邻的两个凸状结构体之间的凹状区域的表面包含平面以及曲面中的至少一者。
38.根据权利要求37所述的涡轮叶片,其中
所述凹状区域的表面包含:连接于所述相邻的两个凸状结构体中的其中一者的第一曲面、连接于所述相邻的两个凸状结构体中的另一者的第二曲面、以及连接所述第一曲面及第二曲面的平面。
39.根据权利要求38所述的涡轮叶片,其中
所述第一曲面以及第二曲面在所述第二方向上的尺寸小于所述相邻的两个凸状结构体在所述第二方向上的间隔。
40.根据权利要求38或39所述的涡轮叶片,其中
所述第一曲面以及第二曲面中的至少一者的曲率半径为1微米至9微米的范围。
41.根据权利要求36至40中任一项所述的涡轮叶片,其中
所述多个凸状结构体中的至少一个包括:彼此朝向相反侧的一对侧面、以及与所述一对侧面交叉且在所述一对侧面的端部连接所述一对侧面的上表面。
42.根据权利要求41所述的涡轮叶片,其中
所述上表面包含平面以及曲面中的至少一者。
43.根据权利要求41或42所述的涡轮叶片,其中
所述上表面包含:与所述一对侧面分别连接的一对曲面、以及连接所述一对曲面的平面。
44.根据权利要求43所述的涡轮叶片,其中
所述一对曲面的曲率半径处于1微米至9微米的范围内。
45.根据权利要求41至44中任一项所述的涡轮叶片,其中
所述上表面在所述第二方向上的尺寸至少处于所述相邻的两个凸状结构体在所述第二方向上的间隔的1%至9%的范围内。
46.根据权利要求34至45中任一项所述的涡轮叶片,其中
在所述第二面,形成有构成所述肋条结构的多个第一槽,
在所述第二面上,以与所述多个第一槽的间距不同的间距形成有多个第二槽。
47.根据权利要求34至46中任一项所述的涡轮叶片,其中
在所述第二面,形成有构成所述肋条结构的多个第一槽,
在所述第二面,形成有具有与所述多个第一槽的深度不同的深度的多个第二槽。
48.根据权利要求34至47中任一项所述的涡轮叶片,其中
所述耐热层包含陶瓷。
49.根据权利要求34至48中任一项所述的涡轮叶片,其中
所述耐热层是由多孔质材料所形成。
50.根据权利要求34至49中任一项所述的涡轮叶片,其中
所述基材的所述耐热层侧的面具有曲面。
51.一种加工系统,包括:
射束照射装置,对形成于基材上的、降低来自流体的热朝向所述基材的传递的耐热层的表面,照射能量射束;以及
控制装置,控制所述射束照射装置,以在所述表面形成肋条结构。
52.一种叶片,是在流体中使用,其中
在基材的表面形成肋条结构,
在形成有所述肋条结构的所述表面形成有包覆层。
53.一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括:
基材,在表面形成有肋条结构;以及
覆膜层,形成在形成有所述肋条结构的所述表面。
54.根据权利要求52或53所述的叶片,其中
所述肋条结构包含多个沿着顺着所述表面的第一方向延伸且从所述表面突出的凸状结构体沿着第二方向排列而成的结构,所述第二方向沿着所述表面且与所述第一方向交叉。
55.根据权利要求54所述的叶片,其中
所述多个凸状结构体中的沿着所述第二方向相邻的两个凸状结构体之间的凹状区域的表面包含平面以及曲面中的至少一者。
56.根据权利要求55所述的叶片,其中
所述凹状区域的表面包含:连接于所述相邻的两个凸状结构体中的其中一者的第一曲面、连接于所述相邻的两个凸状结构体中的另一者的第二曲面、以及连接所述第一曲面及第二曲面的平面。
57.根据权利要求56所述的叶片,其中
所述第一曲面以及第二曲面在所述第二方向上的尺寸小于所述相邻的两个凸状结构体在所述第二方向上的间隔。
58.根据权利要求56或57所述的叶片,其中
所述第一曲面以及第二曲面的至少一者的曲率半径处于1微米至9微米的范围内。
59.根据权利要求54至58中任一项所述的叶片,其中
所述多个凸状结构体中的至少一个包括:彼此朝向相反侧的一对侧面、以及与所述一对侧面交叉且在所述一对侧面的端部连接所述一对侧面的上表面。
60.根据权利要求59所述的叶片,其中
所述上表面包含平面以及曲面中的至少一者。
61.根据权利要求59或60所述的叶片,其中
所述上表面包含:分别连接于所述一对侧面的一对曲面、以及连接所述一对曲面的平面。
62.根据权利要求61所述的叶片,其中
所述一对曲面的曲率半径处于1微米至9微米的范围内。
63.根据权利要求59至62中任一项所述的叶片,其中
所述上表面在所述第二方向上的尺寸处于所述相邻的两个凸状结构体在所述第二方向上的间隔的1%至9%的范围内。
64.根据权利要求52至63中任一项所述的叶片,其中
所述覆膜层是通过对所述基材的淬火而形成。
65.一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括基材,
在所述基材,形成有:多个第一槽,沿第一间距方向排列在所述基材的表面上的第一分区;以及多个第二槽,沿与所述第一间距方向不同的第二间距方向排列在所述基材的所述表面上的与所述第一分区邻接的第二分区。
66.一种叶片,是在流体中使用,所述叶片包括:
基材;以及
覆膜层,形成于所述基材上,
在所述覆膜层,形成有:多个第一槽,沿第一间距方向排列在所述覆膜层的表面上的第一分区;以及多个第二槽,沿与所述第一间距方向不同的第二间距方向排列在所述覆膜层的所述表面上的与所述第一分区邻接的第二分区。
67.根据权利要求65或66所述的叶片,其中
所述第一槽与所述第二槽接触至所述流体。
68.一种加工方法,包括:
在基材的表面形成肋条结构;以及
在形成有所述肋条结构的所述表面形成覆膜层。
69.一种涡轮叶片,是在流体中使用,所述涡轮叶片包括如权利要求1至30以及52至67中任一项所述的叶片。
70.一种涡轮机械,包括如权利要求34至50以及69中任一项所述的涡轮叶片。
71.根据权利要求70所述的涡轮机械,其中
所述涡轮机械驱动发电机。
72.根据权利要求70所述的涡轮机械,其中
所述涡轮机械为喷气发动机。
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