CN115368722A - 一种抗静电母粒及其制备方法和应用 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种抗静电母粒，按重量份计，包括以下组分：羧酸基离聚体30‑70份；PC树脂15‑45份；抗静电剂15‑45份。本发明的抗静电母粒，应用于PC树脂中能够实现抗静电表面电阻均匀，并且保持良好的力学性能。

Description

一种抗静电母粒及其制备方法和应用
技术领域
本发明涉及高分子材料技术领域，特别是涉及一种抗静电母粒及其制备方法和应用。
背景技术
聚碳酸酯的抗静电技术主要通过添加抗静电剂来实现。但是，一方面，抗静电剂直接添加存在分散不均、难加工的缺陷，另一方面，抗静电剂需要富集在制件的表面才能够形成足够均匀、密集的导电网络。因此抗静电剂一般采用制备成母粒然后再加工的方式。但是，现有技术中PC（聚碳酸酯）用抗静电母粒的主要配方为抗静电剂/PC树脂，这样对于抗静电剂在PC树脂基体中的良好分散是极其有限的。
中国专利申请2013103243778公开了一种PC抗静电母粒，通过采用增塑剂（邻苯二甲酸二（2-乙基已酯）或邻苯二甲酸二丁酯）、分散剂（乙撑双硬脂酸酰胺）来解决分散性不足的缺陷。中国专利申请201510705392.6公开了一种PC用抗静电母粒，通过具有嵌段结构的两亲型硅氧烷复合物作为分散剂来改善抗静电剂分散不足的缺陷。但是，采用上述方法不能实现均匀的抗静电性，即抗静电剂集中、均匀的分布在制件的表面，同时内部也能够形成均匀抗静电网络。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种抗静电母粒，应用于PC复合材料中能够实现抗静电表面电阻均匀，并且保持良好的力学性能。
本发明是通过以下技术方案实现的：
一种抗静电母粒，按重量份计，包括以下组分：
羧酸基离聚体 30-70份；
PC树脂 15-45份；
抗静电剂 15-45份。
优选的，按重量份计，包括以下组分：
羧酸基离聚体 40-60份；
PC树脂 20-39份；
抗静电剂 25-40份。
所述的羧酸基离聚体为乙烯/甲基丙烯酸类共聚物，其中甲基丙烯酸单元中的25mol%-90mol%的羧基被金属离子中和；优选的，甲基丙烯酸单元中的40mol%-80mol%的羧基被金属离子中和。
羧基被金属离子中和的量可以根据酸碱滴定或者傅里叶红外检测仪测试后根据羧酸盐的特征吸收峰面积推算羧酸被离子中和的量。
所述的金属离子选自钠离子、锌离子、镁离子、钾离子中的至少一种，所述的羧酸基离聚体的熔融指数在0.5-6g/10min之间，测试条件为190℃、2.16kg。
本发明的抗静电母粒PC树脂的重均分子量范围可以是15000-30000，优选18000-25000。
所述的抗静电剂选自乙氧基化烷基胺、乙氧基月桂酰胺、甘油酸酯、高级醇硫酸酯盐、聚环氧乙烷（PEO）、聚醚酯酰胺（PEEA）、聚醚酯酰亚胺（PEAI）中的至少一种；优选的，所述的抗静电剂选自聚环氧乙烷（PEO）、聚醚酯酰胺（PEEA）中的至少一种。
为了提升抗静电母粒得到其他性能，可以选择性的加入一定量的助剂。按重量份计，还包括0-2份助剂；所述的助剂选自抗氧剂、润滑剂中的至少一种。
本发明的抗静电母粒的制备方法，包括以下步骤：按照配比，将羧酸基离聚体、PC树脂、抗静电剂和均匀后通过双螺杆挤出机挤出造粒，螺杆温度为200-270℃，转速范围是180-500r/min。
本发明的抗静电母粒的应用，其特征在于，用于制备抗静电PC复合材料，按重量份计，包括以下组分：
PC树脂 60-80份；
抗静电母粒 10-40份。
本发明具有如下有益效果：
本发明通过在传统抗静电母粒配方中添加一定量的羧酸基离聚体，一方面利用了羧酸基离聚体中离子基团能提高抗静电剂在离聚体中的分散，使得更多的抗静电剂分散在羧酸基离聚体中，一部分抗静电剂保留在PC树脂基体中，另一方面羧酸基离聚体与PC树脂具有一定的相容性但是羧酸基离聚体更倾向于分布在PC树脂的表面，因此将母粒应用于PC复合材料中后羧酸基离聚体携带大部分抗静电剂连续分散在PC复合材料的表面，达到电阻密度高、分布均匀的技术效果。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本发明，但不以任何形式限制本发明。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进。这些都属于本发明的保护范围。
本发明所用原料来源如下：
PC树脂：牌号为PC S-2000F，重均分子量为22000-25000。
PC树脂A：重均分子量19000，POLYCARBONATE RESIN TARFLON FN1900；
PC树脂B：重均分子量23000，POLYCARBONATE RESIN TARFLON FN2200；
PC树脂C：重均分子量15000，POLYCARBONATE RESIN TARFLON FN 1500；
PC树脂D：重均分子量30000，PC 7030PJ；
PC树脂E：重均分子量14000，牌号PC H-4000；
PC树脂F：重均分子量33000，牌号PC E-1000F。
羧酸基离聚体A：主链为乙烯/甲基丙烯酸共聚物，熔融指数3.5g/10min，测试条件为190℃、2.16kg，甲基丙烯酸单元的78mol%的羧基被钠离子中和。
羧酸基离聚体B：主链为乙烯/甲基丙烯酸共聚物，熔融指数1.4g/10min，测试条件为190℃、2.16kg，甲基丙烯酸单元的45mol%的羧基被锌离子中和。
羧酸基离聚体C：主链为乙烯/甲基丙烯酸共聚物，熔融指数5.9g/10min，测试条件为190℃、2.16kg，甲基丙烯酸单元的26mol%的羧基被锌离子中和。
羧酸基离聚体D：主链为乙烯/甲基丙烯酸共聚物，熔融指数4.0g/10min，测试条件为190℃、2.16kg，甲基丙烯酸单元的86mol%的羧基被锌离子中和。
抗静电剂A：聚环氧乙烷，厂家Sanyo Chemical industries；
抗静电剂B：聚醚酯酰胺，厂家IonPhasE；
抗静电剂C：乙氧基月桂酰胺，厂家Adeka；
A系列和B系列抗静电母粒的制备方法：按照配比，将羧酸基离聚体、PC树脂、抗静电剂混和均匀后通过双螺杆挤出机挤出造粒，螺杆温度为200-270℃，转速范围是180-500r/min。
实施例和对比例PC复合材料的制备方法：PC树脂、抗静电母粒（或抗静电剂）混合均匀，再通过双螺杆挤出机挤出造粒（螺杆转速为150-450r/min，温度区间为210-300℃），得到PC/ABS合金。
各项测试方法：
（1）悬臂梁缺口冲击强度：按照标准ISO 180进行测试，测试温度 23℃。
（2）表面电阻：按照标准ASTM D257进行测试。
表1：A1-A4抗静电母粒各组分配比（重量份）
A1 A2 A3 A4
羧酸基离聚体A 45
羧酸基离聚体B 45
羧酸基离聚体C 45
羧酸基离聚体D 45
PC树脂A 28 28 28 28
抗静电剂A 27 27 27 27
表2 ：A5-A9抗静电母粒各组分配比（重量份）
A5 A6 A7 A8 A9
羧酸基离聚体A 45 45 45 45 45
PC树脂B 28
PC树脂C 28
PC树脂D 28
PC树脂E 28
PC树脂F 28
抗静电剂A 27 27 27 27 27
表3：A10-A15抗静电母粒各组分配比（重量份）
A10 A11 A12 A13 A14 A15
羧酸基离聚体A 45 45 30 40 60 70
PC树脂A 28 28 40 35 20 15
抗静电剂A 40 35 25 15
抗静电剂B 27
抗静电剂C 27
表4：B抗静电母粒各组分配比（重量份）
B1 B2 B3 B4
羧酸基离聚体A 50 10 80
PC树脂A 50 40 10
抗静电剂A 40 40 40 25
表5：实施例和对比例PC/ABS合金各组分配比（重量份）及测试结果
实施例1 实施例2 实施例3 实施例4
PC树脂 70 70 70 70
抗静电母粒，种类 A1 A2 A3 A4
抗静电母粒，添加量 30 30 30 30
抗静电剂 - - - -
表面电阻-正面Ω 10^10 10^9 10^9 10^9
表面电阻-反面Ω 10^10 10^9 10^10 10^10
悬臂梁缺口冲击强度kJ/m<sup>2</sup> 62 52 41 48
续表5：
实施例5 实施例6 实施例7 实施例8 实施例9 实施例10 实施例11
PC树脂 70 70 70 70 70 70 70
抗静电母粒，种类 A5 A6 A7 A8 A9 A10 A11
抗静电母粒，添加量 30 30 30 30 30 30 30
抗静电剂 - - - - - - -
表面电阻-正面Ω 10^9 10^8 10^8 10^7 10^8 10^9 10^9
表面电阻-反面Ω 10^9 10^9 10^9 10^9 10^10 10^9 10^10
悬臂梁缺口冲击强度kJ/m<sup>2</sup> 56 47 38 32 41 59 44
由实施例1-4可知，羧酸基离聚体优选甲基丙烯酸单元中的40mol%-90mol%的羧基被金属离子中和，不仅正反面电阻值更稳定，而且悬臂梁缺口冲击强度更好。
由实施例1/5-10可知，优选PC树脂的重均分子量为18000-25000。
由实施例1/10/11可知，抗静电剂优选聚环氧乙烷、聚醚酯酰胺。
续表5：
实施例12 实施例13 实施例14 实施例15
PC树脂 70 70 70 70
抗静电母粒，种类 A12 A13 A14 A15
抗静电母粒，添加量 22.3 25.5 34 54
抗静电剂 - - - -
表面电阻-正面Ω 10^8 10^9 10^9 10^9
表面电阻-反面Ω 10^9 10^9 10^9 10^10
悬臂梁缺口冲击强度kJ/m<sup>2</sup> 46 56 58 53
由实施例1/12-15可知，优选羧酸基离聚体40-60份、PC树脂20-39份、抗静电剂25-40份。
续表5：
对比例1 对比例2 对比例3 对比例4 对比例5
PC树脂 70 70 70 70 70
抗静电母粒，种类 B1 B2 B3 B4 -
抗静电母粒，添加量 18.2 18.2 18.2 37.3 -
抗静电剂 - - - - 8.1
表面电阻-正面Ω 10^6 10^7 10^6 10^7 10^8
表面电阻-反面Ω 10^10 10^10 10^9 10^10 10^11
悬臂梁缺口冲击强度kJ/m<sup>2</sup> 57 46 42 39 44
由对比例1可知，不添加羧酸基离聚体的抗静电母粒正反面电阻值差别大。
由对比例2可知，抗静电母粒中不添加PC树脂正反面电阻值差别较大。
由对比例3/4可知，羧酸基离聚体添加量过低或过高，也很难实现抗静电剂的均匀分布（电阻值也较低）。
由对比例5可知，直接添加抗静电剂正反面电阻值不稳定。

Claims (9)

1.一种抗静电母粒，其特征在于，按重量份计，包括以下组分：
羧酸基离聚体 30-70份；
PC树脂 15-45份；
抗静电剂 15-45份。
2.根据权利要求1所述的抗静电母粒，其特征在于，按重量份计，包括以下组分：
羧酸基离聚体 40-60份；
PC树脂 20-39份；
抗静电剂 25-40份。
3.根据权利要求1所述的抗静电母粒，其特征在于，所述的羧酸基离聚体为乙烯/甲基丙烯酸类共聚物，其中甲基丙烯酸单元中的25mol%-90mol%的羧基被金属离子中和；优选的，甲基丙烯酸单元中的40mol%-80mol%的羧基被金属离子中和。
4.根据权利要求3所述的抗静电母粒，其特征在于，所述的金属离子选自钠离子、锌离子、镁离子、钾离子中的至少一种，所述的羧酸基离聚体的熔融指数在0.5-6g/10min之间，测试条件为190℃、2.16kg。
5.根据权利要求1所述的抗静电母粒，其特征在于，所述的PC树脂的重均分子量范围是15000-30000，优选18000-25000。
6.根据权利要求1所述的抗静电母粒，其特征在于，所述的抗静电剂选自乙氧基化烷基胺、乙氧基月桂酰胺、甘油酸酯、高级醇硫酸酯盐、聚环氧乙烷、聚醚酯酰胺、聚醚酯酰亚胺中的至少一种；优选的，所述的抗静电剂选自聚环氧乙烷、聚醚酯酰胺中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的抗静电母粒，其特征在于，按重量份计，还包括0-2份助剂；所述的助剂选自抗氧剂、润滑剂中的至少一种。
8.权利要求1-7任一项所述的抗静电母粒的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：按照配比，将羧酸基离聚体、PC树脂、抗静电剂混和均匀后通过双螺杆挤出机挤出造粒，螺杆温度为200-270℃，转速范围是180-500r/min。
9.权利要求1-7任一项所述的抗静电母粒的应用，其特征在于，用于制备抗静电PC复合材料，按重量份计，包括以下组分：
PC树脂 60-80份；
抗静电母粒 10-40份。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL282755A (zh) * 1961-08-31 1900-01-01
US20080132628A1 (en) * 2006-11-30 2008-06-05 Karlheinz Hausmann Antistatic styrenic polymer compositions and articles therefrom
CN104341755A (zh) * 2013-07-30 2015-02-11 青岛欣展塑胶有限公司 Pc抗静电母粒
CN104419159A (zh) * 2013-09-04 2015-03-18 青岛欣展塑胶有限公司 Pc抗静电填充母粒
CN109370022B (zh) * 2018-08-22 2021-02-12 江苏万纳普新材料科技有限公司 一种直接注射成型用增韧抗静电双功能塑料母粒及其制备方法
CN112322015B (zh) * 2020-10-16 2022-06-24 金发科技股份有限公司 一种聚碳酸酯/聚苯乙烯合金及其制备方法和应用
CN112280273B (zh) * 2020-10-16 2021-12-10 金发科技股份有限公司 一种pmma/离聚体/pc三元合金及其制备方法
CN112391045B (zh) * 2020-10-16 2021-11-12 金发科技股份有限公司 一种聚碳酸酯组合物及其制备方法及应用

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