CN115356878A - 一种显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板和显示装置，显示面板包括显示区和围绕显示区的非显示区；显示面板还包括相对设置的阵列基板和对置基板，以及位于阵列基板与对置基板之间的框胶和液晶层；框胶位于非显示区；液晶层位于显示区；阵列基板包括增透结构和电路结构；增透结构位于非显示区，且在显示面板的厚度方向上，增透结构与框胶交叠；其中，用于固化框胶的第一光波在非显示区的增透结构的透过率大于第一光波在显示区的阵列基板的透过率。采用上述技术方案，能够缩短第一光波的照射时间，避免框胶中未固化的生胶与液晶层中的液晶分子发生反应，造成碎亮点的问题；还可以提升框胶的固化效果，减少液晶层的劣化，提高显示面板的质量和显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。通常液晶显示面板由彩膜(Color Filter，CF)基板、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LiquidCrystal，LC)及密封框胶(Sealant)组成，CF基板和TFT基板间通过密封框胶进行粘连和封闭，密封框胶的固化效果对显示面板的质量至关重要。
发明内容
本发明提供了一种显示面板和显示装置，以提升密封框胶的固化效果，进而提升显示面板的质量。
根据本发明的一方面，提供了一种显示面板，包括：显示区和围绕所述显示区的非显示区；
所述显示面板还包括相对设置的阵列基板和对置基板，以及位于所述阵列基板与所述对置基板之间的框胶和液晶层；所述框胶位于所述非显示区；所述液晶层位于所述显示区；
所述阵列基板包括增透结构和电路结构；所述增透结构位于所述非显示区，且在所述显示面板的厚度方向上，所述增透结构与所述框胶交叠；其中，用于固化所述框胶的第一光波在所述非显示区的增透结构的透过率大于所述第一光波在所述显示区的阵列基板的透过率。
根据本发明的另一方面，提供了显示装置，包括上述显示面板。
本发明实施例的技术方案，通过在非显示区的阵列基板中设置增透结构，使得第一光波在非显示区的增透结构的透过率大于第一光波在显示区的阵列基板的透过率，第一光波在增透结构的通过率较大，能照射至液晶层的第一光波增多，缩短了第一光波的照射时间，避免框胶固化不完全，框胶中未固化的生胶与液晶层中的液晶分子发生反应，造成碎亮点的问题；照射至框胶的第一光波增多还可以提升框胶的固化效果，提高显示面板的质量；第一光波的照射时间缩短还可减少液晶层的劣化，可提高显示面板的显示效果。
应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中的一种显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种增透结构的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的又一种增透结构的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的一种阵列基板的局部结构示意图；
图7为本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图；
图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图；
图10为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图；
图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图；
图12为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
图13为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图；
图14为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。
需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
图1为现有技术中的一种显示面板的结构示意图，参考图1，显示面板01包括相对设置的TFT基板02和CF基板03，以及位于TFT基板02与CF基板03之间的框胶04和液晶层05。框胶04通常通过UV光照射结合加热以实现最终固化的目的，但是在温度过高或UV光线的透过率较小时，框胶04无法在短时间内完成固化，需要较长时间的UV光照射，框胶04在固化过程中，液晶层05与框胶04未固化的生胶接触时间过长，液晶层05会与生胶里的分子基团发生反应并析出，影响液晶层05的配向，导致液晶层05靠近框胶04的区域遮光不完全，形成碎亮点06，影响显示面板01的质量。除此之外，长时间的UV光照射也会造成液晶层05的劣化，影响显示面板01的显示效果。
为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种显示面板，包括：显示区和围绕显示区的非显示区；液晶显示面板还包括相对设置的阵列基板和对置基板，以及位于阵列基板与对置基板之间的框胶和液晶层；框胶位于非显示区；液晶层位于显示区；阵列基板包括增透结构和电路结构；增透结构位于非显示区，且在液晶显示面板的厚度方向上，增透结构与框胶交叠；其中，用于固化框胶的第一光波在非显示区的增透结构的透过率大于第一光波在显示区的阵列基板的透过率。
采用上述技术方案，通过设置在非显示区的阵列基板中设置增透结构，使得第一光波在非显示区的增透结构的透过率大于第一光波在显示区的阵列基板的透过率，第一光波在增透结构的透过率较大，能照射至框胶的第一光波增多，缩短了第一光波的照射时间，避免框胶固化不完全，框胶中未固化的生胶与液晶层中的液晶分子发生反应，造成碎亮点的问题；照射至框胶的第一光波增多还可以提升框胶的固化效果，提高显示面板的质量；第一光波的照射时间缩短还可减少液晶层的劣化，提高显示面板的显示效果。
以上是本发明的核心思想，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。以下将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，参考图2，显示面板100包括显示区101和围绕显示区的非显示区102；显示面板100还包括相对设置的阵列基板110和对置基板120，以及位于阵列基板110与对置基板120之间的框胶130和液晶层140；框胶130位于非显示区102；液晶层140位于显示区101；阵列基板110包括增透结构111和电路结构112；增透结构111位于非显示区102，且在显示面板100的厚度方向上，增透结构111与框胶130交叠。其中，用于固化框胶130的第一光波150在非显示区102的增透结构111的透过率大于第一光波150在显示区101的阵列基板110的透过率。
示例性的，继续参考图2，对置基板120包括黑色矩阵122和色阻层125层，黑色矩阵122的作用是具有遮挡来自液晶层140的杂乱散射光，防止非显示区102漏光和相邻子色素之间混色，以及防止环境光照射到电路结构112中薄膜晶体管的沟道上；色阻层125包括红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，可以分别透过红色光波、绿色光波和蓝色光波，以形成彩色显示。在一可选的实施例中，对置基板120还包括光学胶层121和配向膜124，光学胶层121可以减少外界环境光的反射光，提高显示面板100的显示对比度；配向膜124用来引导液晶层140中液晶分子的排列方向。可以理解的是，阵列基板110也可以包括配向膜，本发明实施例对比不做具体限定。对置基板120还包括第一衬底123，黑色矩阵122、色阻层125、光学胶层121和配向膜124均制备在第一衬底123的一侧。
继续参考图2，阵列基板110包括第二衬底115、增透结构111、电路结构112和像素电极114，增透结构111和电路结构112位于第二衬底115靠近液晶层140的一侧，像素电极114位于电路结构112靠近液晶层140的一侧，电路结构112可以包括位于显示区的像素电路，像素电极114可与电像素电路电连接，像素电路能够为像素电极114提供电信号，使得像素电极114和公共电极(图中未示出)之间形成电场，从而控制位于电场之中的液晶层140中液晶分子的扭转方向。其中，液晶层140可包括VA(垂直配向，Vertical Alignment)型液晶，此时，公共电极位和像素电极114位于液晶层140的相对两侧；液晶层140还可包括IPS(平面转换，In-Plane Switching)型液晶，此时，公共电极和像素电极114位于液晶层140的同一侧，且均位于液晶层靠近第二衬底115一侧。可以理解的是，图中仅示例性的展示出了位于显示区101的电路结构112的局部结构，电路结构112还包括位于非显示区102的电路，电路结构112中位于非显示区102中的电路包括晶体管等有源或无源器件，本发明实施例对此不做具体限定。
阵列基板110还包括平坦化层116，以增加阵列基板110的平坦性，但是平坦化层116一般包括有机层，有机层具有一定的吸水性，水氧容易通过平坦化层116的有机层浸入显示区101，腐蚀电路结构112。在一可选的实施例中，阵列基板110还包括保护层117，保护层117位于平坦化层116远离第二衬底115的一侧，能够隔绝水氧。此外，平坦化层116在框胶130远离显示区101的一侧设置有留白区(该区域不设置平坦化层116)，且在显示面板100的厚度方向上，留白区与框胶130交叠，可以防止水氧从平坦化层116的侧边渗入；平坦化层116还设置凹槽区，凹槽区位于非显示区102，且位于留白区靠近显示区101的一侧，进一步隔绝水氧，保护显示区101的电路结构112不被水氧腐蚀。
除上述结构外，阵列基板110还包括多层导电层，导电层包括为电路结构112提供扫描信号的信号线和为电路结构112提供数据信号的数据线等连接线(图中均未示出)。阵列基板110还包括多层介电层，相邻导电层之间均设置有介电层，以隔绝相邻的导电层互不连接。因此，阵列基板110包括多个膜层结构，且列基板110的多个膜层结构可采用不同的膜层材料并设置不同的膜层厚度，使得不同的膜层结构对同一光波的折射率不同，通过设置膜层结构之间的堆叠方式及各膜层结构的厚度等，可改变某一光波在该位置处的透过率。
如此，通过设置阵列基板110中至少部分区域的膜层结构的膜厚可以改变第一光波150在该区域的光程差，以满足薄膜干涉的条件。例如通过设置增透结构111中一层或多层膜层结构的厚度，可以使得第一光波150在增透结构111的膜层结构中的透射光和反射光发生薄膜干涉，使得第一光波150在非显示区101的增透结构111的透过率大于第一光波150在显示区101的阵列基板110的透过率。
其中，第一光波150包括UV(紫外，Ultraviolet)光线，以UV光线为365纳米的光线为例，第一光波150在显示区101的阵列基板110的透过率仅为69％，而第一光波150在非显示区102的增透结构111的透过率可达到81％，透过率提升了18％。通过设置增透结构111中的膜层材料、膜层厚度等，还可以进一步提高第一光波在增透结构111中的透过率。
需要说明的是，增透结构111可以由非显示区102的阵列基板110中的任意膜层结构组成，可以仅由一层膜层结构，也可以由多层膜层结构组成，本发明实施例对此不做限定；当增透结构111由多层膜层结构组成时，增透结构111中的膜层结构的膜厚可以均与增透结构111以外的膜层结构的厚度不同，增透结构111中的膜层结构的膜厚也可以仅有部分与增透结构111以外的膜层结构的厚度不同，本发明实施例对此也不做具体限定。可以理解的是，增透结构111中的膜层结构可以是和显示区101中的阵列基板的部分膜层结构同层设置，增透结构111中的膜层结构也可以仅设置于非显示区102，显示区101中的阵列基板中可不设置该膜层结构。
此外，设置膜层结构的膜厚时，可以仅设置非显示区102的增透结构111中的膜层结构，对增透结构111以外的膜层结构不做设置，尤其是对显示区101的膜层结构不做设置，维持设置增透结构111之前的状态即可，可以在增大第一光波150在增透结构111的透过率的同时，不影响显示区101的显示效果。
本发明实施例提供的显示面板，通过在非显示区的阵列基板中设置增透结构，使得第一光波在非显示区的增透结构的透过率大于第一光波在显示区的阵列基板的透过率，第一光波在增透结构的通过率较大，能照射至框胶的第一光波增多，缩短了第一光波的照射时间，避免框胶固化不完全，框胶中未固化的生胶与液晶层中的液晶分子发生反应，造成碎亮点的问题；照射至框胶的第一光波增多还可以提升框胶的固化效果，提高显示面板的质量；第一光波的照射时间缩短还可减少液晶层的劣化，提高显示面板的显示效果。
可选的，图3为本发明实施例提供的一种增透结构的结构示意图，参考图2和图3，增透结构111包括第一增透结构31、第二增透结构32、以及位于第一增透结构31和第二增透结构32之间的第三增透结构33；第一增透结构31的折射率为n1，第二增透结构32的折射率为n2，第三增透结构33的折射率为n3，其中，n3＞n1，且n3＞n2。
具体的，第一光波150分别在第三增透结构33靠近第一增透结构31一侧的表面和第三增透结构33靠近第二增透结构32一侧的表面发生透射和反射，将第一光波150中不同振幅的光分割，以形成相干光，利用薄膜干涉的原理，增大第一光波150在增透结构111中的透过率。其中，本发明实施例对n1和n2的大小关系不做限定。
可选的，第一增透结构31和第二增透结构32包括氧化硅或有机材料；第三增透结构33包括氮化硅。其中，氮化硅的折射率大于氧化硅的折射率，也大于有机材料的折射率。第一增透结构31和第二增透结构32还可以包括其他折射率较小的材料，第三增透结构33还可以包括其他折射率较大的材料，本发明实施例不做具体限定。
当第一增透结构31、第二增透结构32和第三增透结构33三者中，第三增透结构33的折射率n3最大时，第三增透结构的厚度d1可满足n3*d1＝K1*λ，其中，λ为第一光波的波长，K1为正整数。如此，可以使得第一光波150在第三增透结构33表面的反射光发生相消干涉，在第三增透结构33表面的透射光发生相长干涉，从而增大第一光波150在增透结构111中的透过率。
需要说明的是，当n3＜n1，且n3＜n2时，也可以利用薄膜干涉的原理，达到增大第一光波150在增透结构111中的透过率的目的，不再一一赘述。
在一可选的实施例中，图4为本发明实施例提供的又一种增透结构的结构示意图，参考图4，增透结构111还包括第四增透结构34和第五增透结构35，第四增透结构34位于第一增透结构31远离第三增透结构33的一侧，或者第四增透结构34位于第二增透结构32远离第三增透结构33的一侧；第五增透结构35位于第四增透结构34远离第三增透结构的一侧；第四增透结构34的折射率为n4，第五增透结构35的折射率为n5，其中，n4＞n1，或者，n4＞n2，且n4＞n5。
示例性的，当非显示区102的阵列基板110中的相邻的膜层结构的折射率满足上述条件时，可以通过设置第三增透结构33的厚度和第四增透结构34的厚度，使得第一光波150可以在增透结构111中发生多次薄膜干涉，进一步增加第一光波150在非显示区102的阵列基板110中的透过率，进一步提升框胶130的固化效果。可以理解的是，增透结构111还可以包括第六增透结构和第七增透结构，不再一一说明。
可选的，图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图，参考图5，所述阵列基板110还包括增反结构113；增反结构113位于增透结构111与电路结构112之间；第一光波150在增反结构113的反射率大于第一光波150在增透结构111的反射率。
示例性的，通过设置增反结构113中一层或多层膜层结构的厚度，可以使得第一光波150在增反结构113透射光和反射光发生薄膜干涉，使得第一光波150在增反结构113的反射率大于第一光波150在增透结构111的反射率，以降低第一光波150在增反结构113的的透射率，可以减少照射至液晶层140的第一光波150，避免因第一光波的照射对液晶层140中的液晶分子的劣化，影响液晶分子的质量。
示例性的，以第一光波150包括365纳米的UV光线为例，第一光波150在未设置增透结构111和未设置增反结构113的阵列基板110的透过率为69％，而第一光波150在增反结构113的透过率为65％，第一光波150在阵列基板110的增反结构113中透过率降低了。通过设置增反结构113中的膜层材料、膜层结构等，还可以进一步提高第一光波在增透结构111中的反射率，减少照射至液晶层140的第一光波150，进而减少第一光波150的照射对液晶层140中的液晶分子的劣化。
需要说明的是，增反结构113和增透结构111类似，可以由阵列基板110中的任意膜层结构组成，增反结构113和增透结构111可以由相同的膜层结构组成，也可以由不同的膜层结构组成，本发明实施例对此不做限定。
在一可选的实施例中，增反结构113和增透结构111均位于非显示区102；增反结构113位于增透结构111靠近显示区101的一侧。如此，一方面可增大显示区101的阵列基板110的空间，增大显示面板100的像素分辨率；另一方面，可避免增反结构113阻挡背光源的光波照射至对置基板120，影响显示区101的显示亮度。
可选的，在显示面板100的厚度方向上，增透结构111覆盖框胶130，增反结构113与增透结构111不交叠，可避免增反结构113阻挡第一光波照射至框胶130，影响框胶130的固化效果。
可选的，图6为本发明实施例提供的一种阵列基板的局部结构示意图，参考图5和图6，增反结构113包括第一增反结构41、第二增反结构42以及位于第一增反结构41和第二增反结构42之间的第三增反结构43；第一增反结构41与第一增透结构31同层设置；第二增反结构42与第二增透结构32同层设置；第三增反结构43与第三增透结构33同层设置；第三增反结构43的厚度为d2，第一光波的波长为λ，其中，
K2为正整数。
具体的，第一光波150分别在第三增反结构43靠近第一增反结构41一侧的表面和第三增反结构43靠近第二增反结构42一侧的表面发生透射和反射，将第一光波150中不同振幅的光分割开形成相干光，利用薄膜干涉的原理，增大第一光波150在增反结构111中的反射率。
其中，增反结构113相对于增透结构111的区别在于折射率较高的中间膜层的厚度，通过设置第三增反结构43与第三增透结构33的厚度关系，增透结构111和增反结构113可以对第一光波150的透射光和反射光造成不同的影响，以达到不同的效果。增反结构113和增透结构111同层设置可以避免在显示面板100的厚度方向，第一光波150从增反结构113和增透结构111之间的膜层结构中漏出照射至液晶层140，对液晶层140造成不良影响；此外，增反结构113和增透结构111同层设置还可以简化阵列基板110的膜层结构的堆叠方式，有利于显示面板100的轻薄化。
可选的，图7为本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图，图8为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图，参考图7和图8，电路结构112包括第一绝缘结构201、第二绝缘结构202和第三绝缘结构203；阵列基板还包括第一介电层211、第二介电层212以及位于第一介电层211和第二介电层212之间的第三介电层213；第一介电层211包括第一增透结构31和第一绝缘结构201；第二介电层212包括第二增透结构32和第二绝缘结构202；第三介电层213包括第三增透结构33和第三绝缘结构203。
示例性的，增透结构111位于平坦化层116靠近第二衬底115一侧，可以由介电层中的多种膜层结构组成，介电层包括氧化硅、氮化硅等膜层，例如第一增透结31可以是第一氧化硅层，第二增透结构32可以是第二氧化硅层，第三增透结构33可以是第一氮化硅层，第一氧化硅层、第二氧化硅层和第一氮化硅层还可以是电路结构112中的绝缘层，以绝缘电路结构112中的导电层。将增透结构111设置于阵列基板110的介电层中，无需因设置增透结构111而在阵列基板110中增加额外的膜层，仅需要设置非显示区102的阵列基板110中的氮化硅层的至少部分区域的厚度即可实现增大第一光波150在增透结构111的透过率，有利于显示面板的轻薄化，且增透结构111的设置较为简单，成本较低。
可选的，第三绝缘结构203的厚度与第三增透结构33的厚度不同，一方面，可以减少薄膜干涉现象对第三绝缘结构203的影响，使得第一光波150在电路结构中的透过率较小；另一方面，第三绝缘结构203的厚度可不随第三增透结构33的厚度而发生变化，电路结构112中的第一绝缘结构201、第二绝缘结构202和第三绝缘结构203可以维持为阵列基板110中未设置增透结构111时的状态，不影响显示面板的显示效果。
在一可选的实施例中，第一介电层211还包括第一增反结构41，第二介电层212还包括第二增反结构42，第三介电层213还包括第三增反结构43。
可选的，图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图，参考图9，阵列基板110还包括平坦化层116和第一保护层71；平坦化层116位于电路结构112靠近液晶层140的一侧；第一保护层71位于平坦化层116靠近液晶层140的一侧；第二增透结构32位于第一保护层71靠近液晶层140的一侧；平坦化层116包括第一增透结构31和位于显示区101的平坦化结构61；第一保护层71包括位于非显示区102的第一保护结构711和位于显示区101的第二保护结构712；第一保护结构711包括至少部分第三增透结构33。
示例性的，第一保护层71可以是无机层，用于隔绝水氧，保护平坦化层116不被水氧渗入，从而保护电路结构112不被水氧腐蚀，在第一保护层71远离平坦化层116一侧设置第二增透结构32，为保证显示面板100的轻薄化，第二增透结构32的厚度可以设置在1μm以内。第三增透结构33可仅由第一保护结构711组成，第三增透结构33也可由第一保护结构711和第一保护结构711之外的其他膜层结构组成。
在一可选的实施例中，平坦化层116还包括第一增反结构，第一增反结构位于第一增透结构和平坦化结构61之间；第一保护层71还可以包括第三增反结构，第三增反结构位于第一保护结构711和第二保护结构712中间；在第三增反结构远离第一保护结构711的一侧设置有第二增反结构(图中未示出)。如此，可以减少照射至液晶层140的第一光波150，避免因第一光波的照射对液晶层140中的液晶分子的劣化，影响液晶分子的质量。
可选的，阵列基板还包括第二保护层；第二保护层位于第一保护层背离平坦化层的一侧。其中，第二保护层可以仅处于显示区，也可以仅位于非显示区，可以位于第二增透结构靠近第一保护结构的一侧，也可以位于第二增透结构远离第一保护结构的一侧，本发明实施例对第二保护层的位置不做限定。第二保护层可进一步阻挡水汽渗入平坦化层，避免电路结构被水氧腐蚀
在一可选的实施例中，第一保护层与第二保护层的材料相同，例如第一保护层和第二保护层的材料均包括氮化硅。
可选的，图10为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图，参考图10，第二保护层72包括位于非显示102的第三保护结构723和位于显示区101的第四保护结构724；第三保护结构723位于第一保护结构711与第二增透结构32之间；第三保护结构723包括部分第三增透结构33。示例性的，第三增透结构33由第一保护结构711和第三保护结构723组成。
可选的，参考图9和图10，阵列基板还包括位于第二保护层背离第一保护层一侧的支撑层81；支撑层81包括至少一个支撑结构811和第二增透结构32；其中，支撑结构811位于显示区101。
其中，支撑结构811可以起到支撑液晶层140所在液晶盒的厚度的作用，还可以增加显示面板的抗压能力，支撑结构811可以是有机物凸起，可与第二增透结构32同层设置，并在采用同一工艺在同一流程中制备，无需增加额外的工序，降低了生产成本，并提高了生产效率。
可选的，图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图，参考图11，第二保护层72包括位于非显示102的第三保护结构723和位于显示区101的第四保护结构724；其中，至少部分第三保护结构723位于第二增透结构32远离第一保护结构711的一侧。示例性的，第二增透结构32包括有机材料时，通过设置第三保护结构723至少部分均位于第二增透结构32远离第一保护结构711的一侧，可以保护第二增透结构32不被水氧渗入。
可选的，图12为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图，图13为本发明实施例提供的又一种阵列基板的局部结构示意图，参考图12和图13，非显示区102包括第一非显示区103；位于第一非显示区103的第三保护结构723包括相连接的第一部7231和第二部7232；第一部7231位于第二增透结构32远离第一保护结构711的一侧；第二部7232位于第二增透结构32远离显示区101的一侧。
示例性的，第一非显示区103包括显示面板100的上边框、左边框和右边框。一方面，第一光波150在显示面板100的上边框、左边框和右边框透过率一般较高，可以适当减小增透结构111的面积，即可以适当减小第二增透结构32和第一部7231的面积；另一方面，显示面板100的上边框、左边框和右边框的宽度一般较窄，第二增透结构32位于非显示区102内远离显示区101的外侧，容易引发水氧渗入，经由第二增透结构32中的有机物俯视电路结构113，因此可将第三保护结构723的第二部7232设置于第二增透结构32远离显示区101的一侧，以达到隔绝水氧的作用。
可选的，参考图11和图12，非显示区102还包括第二非显示区104；沿显示区101指向非显示区102的方向上，第一非显示区103的宽度小于第二非显示区104的宽度；位于第二非显示区104的第三保护结构723均位于第二增透结构32远离第一保护结构711的一侧。
示例性的，第二非显示区104包括显示面板100的下边框，显示面板的下边框一般较其他边框宽，水氧不易渗入第二非显示区104的第二增透结构32，无需在于第二增透结构32远离显示区101的一侧设置第二部7232，可简化工艺，降低生产成本。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种显示装置，图14为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，如图14，该显示装置300包括本发明任一实施例提供的显示面板100。本发明实施例提供的显示装置300可以为图14所示的手机，也可以为任何具有显示功能的电子产品，包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、工控设备、触摸交互终端等，本发明实施例对此不作特殊限定
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (18)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：显示区和围绕所述显示区的非显示区；
所述显示面板还包括相对设置的阵列基板和对置基板，以及位于所述阵列基板与所述对置基板之间的框胶和液晶层；所述框胶位于所述非显示区；所述液晶层位于所述显示区；
所述阵列基板包括增透结构和电路结构；所述增透结构位于所述非显示区，且在所述显示面板的厚度方向上，所述增透结构与所述框胶交叠；其中，用于固化所述框胶的第一光波在所述非显示区的增透结构的透过率大于所述第一光波在所述显示区的阵列基板的透过率。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述增透结构包括第一增透结构、第二增透结构、以及位于所述第一增透结构和所述第二增透结构之间的第三增透结构；
所述第一增透结构的折射率为n1，所述第二增透结构的折射率为n2，所述第三增透结构的折射率为n3，其中，n3＞n1，且n3＞n2。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第三增透结构的厚度为d1，所述第一光波的波长为λ，其中，n3*d1＝K1*λ，K1为正整数。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一增透结构和所述第二增透结构均包括氧化硅或有机材料；所述第三增透结构包括氮化硅。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括增反结构；
所述增反结构位于所述增透结构与所述电路结构之间；所述第一光波在所述增反结构的反射率大于所述第一光波在所述增透结构的反射率。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的厚度方向，所述增反结构与所述增透结构不交叠。
7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述增反结构包括第一增反结构、第二增反结构以及位于所述第一增反结构和所述第二增反结构之间的第三增反结构；
所述第一增反结构与所述第一增透结构同层设置；所述第二增反结构与所述第二增透结构同层设置；所述第三增反结构与所述第三增透结构同层设置；所述第三增反结构的厚度为d2，所述第一光波的波长为λ，其中，
K2为正整数。
8.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括第一介电层、第二介电层以及位于所述第一介电层和所述第二介电层之间的第三介电层；
所述第一介电层包括所述第一增透结构和第一绝缘结构；所述第二介电层包括所述第二增透结构和第二绝缘结构；所述第三介电层包括所述第三增透结构和第三绝缘结构；
所述电路结构包括所述第一绝缘结构、所述第二绝缘结构和所述第三绝缘结构。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第三绝缘结构的厚度与所述第三增透结构的厚度不同。
10.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括平坦化层和第一保护层；
所述平坦化层位于所述电路结构靠近所述液晶层的一侧；所述第一保护层位于所述平坦化层靠近所述液晶层的一侧；所述第二增透结构位于所述第一保护层靠近所述液晶层的一侧；
所述平坦化层包括所述第一增透结构和位于所述显示区的平坦化结构；所述第一保护层包括位于所述非显示区的第一保护结构和位于所述显示区的第二保护结构；所述第一保护结构包括至少部分所述第三增透结构。
11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括第二保护层；
所述第二保护层位于所述第一保护层背离所述平坦化层的一侧。
12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第二保护层包括位于所述非显示的第三保护结构和位于所述显示区的第四保护结构；至少部分所述第三保护结构位于所述第二增透结构远离所述第一保护结构的一侧。
13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，所述非显示区包括第一非显示区；位于所述第一非显示区的所述第三保护结构包括相连接的第一部和第二部；所述第一部位于所述第二增透结构远离所述第一保护结构的一侧；所述第二部位于所述第二增透结构远离所述显示区的一侧。
14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述非显示区还包括第二非显示区；沿所述显示区指向所述非显示区的方向上，所述第一非显示区的宽度小于所述第二非显示区的宽度；
位于所述第二非显示区的所述第三保护结构均位于所述第二增透结构远离所述第一保护结构的一侧。
15.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第二保护层包括位于所述非显示的第三保护结构和位于所述显示区的第四保护结构；所述第三保护结构位于所述第一保护结构与所述第二增透结构之间；所述第三保护结构包括部分所述第三增透结构。
16.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括位于所述第二保护层背离所述第一保护层一侧的支撑层；
所述支撑层包括至少一个支撑结构和所述第二增透结构；所述支撑结构位于所述显示区。
17.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述第一保护层与所述第二保护层的材料相同。
18.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-17任一项所述的显示面板。
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