CN115295586A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种显示面板及其制作方法;该显示面板包括衬底,位于该衬底一侧的发光功能层,该发光功能层包括多个子像素,位于该发光功能层远离该衬底一侧的彩膜层,该彩膜层包括多个色阻,每一该色阻与每一该子像素一一对应设置,位于该彩膜层远离该衬底一侧的平坦层,每一该色阻远离该发光功能层的一侧具有凹向该衬底的凹槽,该平坦层填充于该凹槽并覆盖该彩膜层,该平坦层的折射率大于该彩膜层的折射率,本发明通过在每一色阻远离发光功能层的一侧形成凹槽,平坦层填充于凹槽并覆盖彩膜层,且平坦层的折射率大于彩膜层的折射率,实现了微透镜和无偏光技术的集成,提高了显示面板的出光率并降低功耗,并节省了显示面板的生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域,具体涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
目前,OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)显示面板由于自发光、低功耗、轻薄等优点而受到广泛关注。现有OLED显示面板为了提高OLED显示面板的出光率以及降低偏光片对光线的损耗,分别研发了Micro Lens(微透镜)技术和POL-less(无偏光片)技术,前者通过在显示面板出光方向形成聚光透镜而将散向显示面板侧向的光尽可能聚集到正向从而实现显示面板亮度提升以及功耗降低,后者通过采用黑色矩阵和色阻替代偏光片从而提高显示面板的出光率,现有的OLED显示面板往往分别独立使用上述两种技术,导致生产成本的增加。
因此,亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述技术问题。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制作方法,可以缓解目前显示面板中独立使用微透镜技术和无偏光技术造成生产成本难以降低的问题。
本发明提供一种显示面板,包括:
衬底;
发光功能层,位于所述衬底一侧,所述发光功能层包括多个子像素;
彩膜层,位于所述发光功能层远离所述衬底一侧,所述彩膜层包括多个色阻,每一所述色阻与每一所述子像素一一对应设置;
平坦层,位于所述彩膜层远离所述衬底一侧;
其中,每一所述色阻远离所述发光功能层的一侧具有凹向所述衬底的凹槽,所述平坦层填充于所述凹槽并覆盖所述彩膜层,所述平坦层的折射率大于所述彩膜层的折射率。
优选的,多个所述色阻包括第一颜色子色阻、第二颜色子色阻以及第三颜色子色阻,所述凹槽包括位于所述第一颜色子色阻远离所述发光功能层一侧的第一凹槽、位于所述第二颜色子色阻远离所述发光功能层一侧的第二凹槽以及位于所述第三颜色子色阻远离所述发光功能层一侧的第三凹槽;
其中,每一所述第一凹槽与每一第一颜色子色阻一一对应设置,每一所述第二凹槽与每一第二颜色子色阻一一对应设置,每一所述第三凹槽与每一第三颜色子色阻一一对应设置。
优选的,所述第一颜色子色阻靠近所述衬底的一侧在所述衬底上的正投影位于所述第一凹槽在所述衬底上的正投影内,所述第二颜色子色阻靠近所述衬底的一侧在所述衬底上的正投影位于所述第二凹槽在所述衬底上的正投影内,所述第三颜色子色阻靠近所述衬底的一侧在所述衬底上的正投影位于所述第三凹槽在所述衬底上的正投影内。
优选的,所述第一凹槽、所述第二凹槽以及所述第三凹槽在所述衬底上的正投影的面积依次增大。
优选的,所述第一凹槽的曲率大于所述第二凹槽的曲率,所述第一凹槽的曲率大于所述第三凹槽的曲率。
优选的,所述第一凹槽的深度大于所述第二凹槽的深度,所述第一凹槽的深度大于所述第三凹槽的深度。
优选的,多个所述子像素包括与所述第一颜色子色阻对应设置的第一颜色子像素、与所述第二颜色子色阻对应设置的第二颜色子像素以及与所述第三颜色子色阻对应设置的第三颜色子像素;
其中,所述第一颜色子像素发出的第一颜色光在所述第一颜色子色阻内具有第一折射率,所述第二颜色子像素发出的第二颜色光在所述第二颜色子色阻内具有第二折射率,所述第三颜色子像素发出的第三颜色光在所述第三颜色子色阻内具有第三折射率,所述第二折射率、所述第一折射率以及所述第三折射率依次增大;
所述第二凹槽、所述第一凹槽以及所述第三凹槽的曲率依次减小。
优选的,所述色阻的折射率为1.4至1.5,所述平坦层的折射率为1.6至1.7。
优选的,所述彩膜层还包括位于多个所述色阻之间的黑色矩阵;
所述显示面板还包括位于所述彩膜层与所述发光功能层之间的触控层,所述触控层包括多个触控电极,所述触控电极在所述衬底上的正投影位于所述黑色矩阵在所述衬底上的正投影内;
其中,所述触控电极包括第一触控电极以及位于所述第一触控电极上的第二触控电极,所述显示面板还包括间隔于所述第二触控电极与所述黑色矩阵之间的无机层,所述无机层覆盖所述第二触控电极。
本发明还提供一种显示面板的制作方法,包括:
在衬底上形成发光功能层;
在所述发光功能层上形成彩膜层;
在所述彩膜层上形成平坦层;
其中,所述发光功能层包括多个子像素,所述彩膜层包括多个色阻,每一所述色阻与每一所述子像素一一对应设置,每一所述色阻远离所述发光功能层的一侧具有凹向所述衬底的凹槽,所述平坦层填充于所述凹槽并覆盖所述彩膜层,所述平坦层的折射率大于所述彩膜层的折射率。
本发明通过在每一色阻远离发光功能层的一侧形成凹槽,平坦层填充于凹槽并覆盖彩膜层,且平坦层的折射率大于彩膜层的折射率,实现了微透镜和无偏光技术的集成,提高了显示面板的出光率并降低功耗,并节省了显示面板的生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅是本发明的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的显示面板的第一种结构的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的显示面板的第二种结构的结构示意图;
图3是本发明实施例提供的显示面板的第三种结构的结构示意图;
图4是本发明实施例提供的凹槽的聚光远离示意图;
图5是本发明实施例提供的显示面板的第四种结构的结构示意图;
图6是本发明实施例提供的显示面板的制作方法的步骤流程图;
图7A至图7B是本发明实施例提供的显示面板的制作方法的第一种流程示意图;
图8A至图8C是本发明实施例提供的显示面板的制作方法的第二种流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。此外,应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。在本发明中,在未作相反说明的情况下,使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下,具体为附图中的图面方向;而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
目前,显示面板中独立使用微透镜技术和无偏光技术,存在生产成本难以降低的技术问题。
请参阅图1至图5,本发明实施例提供一种显示面板100,包括:
衬底101;
发光功能层102,位于所述衬底101一侧,所述发光功能层102包括多个子像素103;
彩膜层104,位于所述发光功能层102远离所述衬底101一侧,所述彩膜层104包括多个色阻105,每一所述色阻105与每一所述子像素103一一对应设置;
平坦层106,位于所述彩膜层104远离所述衬底101一侧;
其中,每一所述色阻105远离所述发光功能层102的一侧具有凹向所述衬底101的凹槽,所述平坦层106填充于所述凹槽并覆盖所述彩膜层104,所述平坦层106的折射率大于所述彩膜层104的折射率。
本发明实施例通过在每一色阻105远离发光功能层102的一侧形成凹槽107,平坦层106填充于凹槽107并覆盖彩膜层104,且平坦层106的折射率大于彩膜层104的折射率,实现了微透镜和无偏光技术的集成,提高了显示面板100的出光率并降低功耗的同时,节省了显示面板100的生产成本。
现结合具体实施例对本发明的技术方案进行描述。
请参阅图4,本实施例中,所述凹槽107凹向所述衬底101形成凹弧面,所述平坦层106填充于所述凹槽107内,以使所述子像素103发出的光线发生汇聚,从而在提高所述显示面板100的出光率的同时,降低所述显示面板100的功耗。
在一些实施例中,每一所述色阻105具有的所述凹槽107的个数可以为一个或多个。
请参阅图1至图3,优选的,每一所述凹槽107与每一所述色阻105一一对应设置,有利于所述凹槽107的形成工艺的控制,降低所述凹槽107的形成难度,节省所述显示面板100的制作成本。
多个所述色阻105包括第一颜色子色阻108、第二颜色子色阻109以及第三颜色子色阻110,所述凹槽107包括位于所述第一颜色子色阻108远离所述发光功能层102一侧的第一凹槽111、位于所述第二颜色子色阻109远离所述发光功能层102一侧的第二凹槽112以及位于所述第三颜色子色阻110远离所述发光功能层102一侧的第三凹槽113。
每一所述第一凹槽111与每一第一颜色子色阻108一一对应设置,每一所述第二凹槽112与每一第二颜色子色阻109一一对应设置,每一所述第三凹槽113与每一第三颜色子色阻110一一对应设置。
在一些实施例中,多个所述子像素103包括与所述第一颜色子色阻108对应设置的第一颜色子像素114、与所述第二颜色子色阻109对应设置的第二颜色子像素115以及与所述第三颜色子色阻110对应设置的第三颜色子像素116。
所述第一颜色子像素114可以为绿色子像素,所述第二颜色子像素115可以为红色子像素,所述第三颜色子像素116可以为蓝色子像素。
所述第一颜色子色阻108靠近所述衬底101的一侧在所述衬底101上的正投影位于所述第一凹槽111在所述衬底101上的正投影内,所述第二颜色子色阻109靠近所述衬底101的一侧在所述衬底101上的正投影位于所述第二凹槽112在所述衬底101上的正投影内,所述第三颜色子色阻110靠近所述衬底101的一侧在所述衬底101上的正投影位于所述第三凹槽113在所述衬底101上的正投影内,以便于使所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116发出的光线尽可能多的分别通过所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113进行汇聚,以便于提高所述显示面板100的整体出光率,降低功耗。
所述第一颜色子色阻108可以为绿色子色阻,所述第二颜色子色阻109可以为红色子色阻,所述第三颜色子色阻110可以为蓝色子色阻。
所述彩膜层104还包括黑色矩阵117,所述黑色矩阵117位于多个所述色阻之间,即,所述黑色矩阵117间隔于所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116之间。
所述色阻远离所述衬底101的一侧至少部分覆盖所述黑色矩阵117,即,所述第一颜色子色阻108靠近所述衬底101的一侧在所述衬底101上的正投影位于所述第一颜色子色阻108远离所述衬底101的一侧在所述衬底101上的正投影内;所述第二颜色子色阻109靠近所述衬底101的一侧在所述衬底101上的正投影位于所述第二颜色子色阻109远离所述衬底101的一侧在所述衬底101上的正投影内;所述第三颜色子色阻110靠近所述衬底101的一侧在所述衬底101上的正投影位于所述第三颜色子色阻110远离所述衬底101的一侧在所述衬底101上的正投影内。
请参阅图3,当所述第一颜色子像素114为绿色子像素,所述第二颜色子像素115为红色子像素,所述第三颜色子像素116为蓝色子像素时,由于所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116的发光层中的发光材料不同,导致所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116的发光寿命不同,且人眼对不同颜色的光的感知程度不同,其中,蓝色发光材料的发光寿命最短,人眼对绿色光的感知最敏感,因此,对应的所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113分别在所述衬底101上的正投影的面积也有所不同,以便于平衡第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116分别经所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113汇聚后的出光亮度,提高所述显示面板100的显示质量。其中,所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113在所述衬底101上的正投影的面积依次增大。
请参阅图2,在一些实施例中,当所述第一颜色子像素114为绿色子像素,所述第二颜色子像素115为红色子像素,所述第三颜色子像素116为蓝色子像素时,由于所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116的发光层中的发光材料不同,导致所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116的发光效率也有所不同,其中,绿色发光材料的发光效率最低,因此,对应的所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113凹向所述衬底101的凹弧面的曲率也有所不同,以便于提高发光效率最低的所述第一发光子像素的出光效率,以便降低所述显示面板100功耗的同时延长所述显示面板100的使用寿命。其中,所述第一凹槽111的曲率大于所述第二凹槽112的曲率,所述第一凹槽111的曲率大于所述第三凹槽113的曲率。
优选的,所述第一凹槽111的深度大于所述第二凹槽112的深度,所述第一凹槽111的深度大于所述第三凹槽113的深度。通过调节所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113的深度,从而简便调节所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113的凹弧面的曲率。
在一些实施例中,所述第一凹槽111具有第一凹弧面、所述第二凹槽112具有第二凹弧面以及所述第三凹槽113具有第三凹弧面,所述第一凹弧面关于所述第一凹弧面的主光轴对称设置,所述第二凹弧面关于所述第二凹弧面的主光轴对称设置,所述第三凹弧面关于所述第三凹弧面的主光轴对称设置。通过所述第一凹弧面、所述第二凹弧面以及所述第三凹弧面分别关于各自的主光轴对称设置,有利于所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116分别发出的光线经过所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113的汇聚后在各个方向的出光更为均匀,提高所述显示面板100的显示质量。
在一些实施例中,所述第一颜色子像素114具有第一对称中心,所述第二颜色子像素115具有第二对称中心,所述第三颜色子像素116具有第三对称中心,所述第一主光轴在所述衬底101上的正投影与所述第一对称中心在所述衬底101上的正投影重叠,所述第二主光轴在所述衬底101上的正投影与所述第二对称中心在所述衬底101上的正投影重叠,所述第三主光轴在所述衬底101上的正投影与所述第三对称中心在所述衬底101上的正投影重叠,以便于进一步提高所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116分别发出的光线经过所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113的汇聚后在各个方向的出光的均匀度,提高所述显示面板100的产品质量。
在一些实施例中,同一介质对不同波长的光的折射率略有差异,波长越长的光在同一介质内的折射率越小,当所述第一颜色子像素114为绿色子像素,所述第二颜色子像素115为红色子像素,所述第三颜色子像素116为蓝色子像素时,所述第一颜色子像素114发出的第一颜色光在所述第一颜色子色阻108内具有第一折射率,所述第二颜色子像素115发出的第二颜色光在所述第二颜色子色阻109内具有第二折射率,所述第三颜色子像素116发出的第三颜色光在所述第三颜色子色阻110内具有第三折射率,所述第二折射率、所述第一折射率以及所述第三折射率依次增大,所述第二凹槽112、所述第一凹槽111以及所述第三凹槽113的曲率依次减小,以便于使所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116的出光效率保持一致,提高所述显示面板100的显示质量。
在一些实施例中,所述色阻的折射率与所述平坦层106的折射率之差大于或等于0.1且小于或等于0.3,利用该折射率之差,有利于使所述第一颜色子像素114、所述第二颜色子像素115以及所述第三颜色子像素116分别发出的光线经过所述第一凹槽111、所述第二凹槽112以及所述第三凹槽113的汇聚效果最优化的同时光线的出射量达到最多,避免由于折射率之差过大而导致的光线出射范围的增加反而导致的所述显示面板100的正向出光效率的降低。
在一些实施例中,所述色阻的折射率为1.4至1.5,所述平坦层106的折射率为1.6至1.7。所述平坦层106的材料可以为透明的有机光阻材料,折射率为1.6至1.7的透明有机光阻材料较为普遍,以便于降低所述平坦层106的制作成本。
在一些实施例中,所述显示面板100还包括位于所述彩膜层104与所述发光功能层102之间的触控层118,所述触控层118包括多个触控电极,所述触控电极在所述衬底101上的正投影位于所述黑色矩阵117在所述衬底101上的正投影内。其中,所述触控电极包括第一触控电极以及位于所述第一触控电极上的第二触控电极119,所述显示面板100还包括间隔于所述第二触控电极119与所述黑色矩阵117之间的无机层120,所述无机层120覆盖所述第二触控电极119。
所述无机层120的材料可以为氮硅化合物,通过所述无机层120的设置,避免所述黑色矩阵117的形成中对所述触控电极的损伤。
所述触控层118包括位于所述发光功能层102上的第一触控绝缘层、位于所述第一触控绝缘层上的第一触控电极、位于所述第一触控电极上的第二触控绝缘层以及位于所述第二触控绝缘层上的第二触控电极119。其中,所述第一触控绝缘层的材料优选为氮硅化合物,厚度为240纳米至360纳米,优选为300纳米;所述第一触控电极优选为Ti/Al/Ti叠层,厚度分别为40纳米至60纳米/160纳米至240纳米/64纳米至96纳米,优选为50纳米/200纳米/80纳米;所述第二触控绝缘层的材料优选为氮硅化合物,厚度为240纳米至360纳米,优选为300纳米;所述第二触控电极119优选为Ti/Al/Ti叠层,厚度分别为40纳米至60纳米/160纳米至240纳米/40纳米至60纳米,优选为50纳米/200纳米/50纳米。
请参阅图5,在上述实施例中,所述发光功能层102包括阳极层121、像素定义层122、发光层以及阴极层,所述阳极层121位于靠近所述衬底101一侧,所述像素定义层122位于所述阳极层121远离所述衬底101的一侧;所述像素定义层122包括若干像素开口,所述像素开口暴露所述阳极层121,所述发光层位于像素开口内,即所述子像素103位于所述像素开口内,且所述发光层与是阳极层121电连接,所述阴极层覆盖所述像素定义层122和所述发光层,并与所述发光层电连接。所述阳极层121的厚度为112纳米至168纳米,优选为140纳米;所述像素定义层122的厚度为1.2微米至1.8微米,优选为1.5微米。
所述显示面板100还包括位于所述衬底101与所述发光功能层102之间的驱动电路层123,所述驱动电路层123包括位于所述衬底101上的有源层124、位于所述有源层124上的第一栅极绝缘层、位于所述第一栅极绝缘层上的第一栅极层125、位于所述第一栅极层125上的第二栅极绝缘层、位于所述第二栅极绝缘层上的第二栅极层126、位于所述第二栅极层126上的层间绝缘层、位于所述层间绝缘层上的源漏极层127及位于所述源漏极层127上的有机绝缘层,所述源漏极层127包括源极和漏极,所述源极或所述漏极与所述阳极层121电连接。其中,所述层间绝缘层可以包括位于所述第二栅极层126上的第一子层间绝缘层以及位于所述第一子层间绝缘层上的第二子层间绝缘层。其中,所述有源层124的厚度为36纳米至54纳米,优选为45纳米;所述第一栅极绝缘层的厚度为104纳米至156纳米,优选为130纳米;所述第一栅极的厚度为200纳米至300纳米,优选为250纳米;所述第二栅极绝缘层的厚度为104纳米至156纳米,优选为130纳米;所述第二栅极的厚度为200纳米至300纳米,优选为250纳米;所述第一子层间绝缘层的厚度为240纳米至360纳米,优选为300纳米;所述第二子层间绝缘层的厚度为160纳米至240纳米,优选为200纳米;所述源漏极层127的厚度为480纳米至720纳米,优选为600纳米,且所述源漏极层127优选为Ti/Al/Ti叠层。
所述有源层124可以包括低温多晶硅半导体层或金属氧化物半导体层。所述驱动电路层123还包括位于所述有源层124靠近所述衬底101一侧的第一缓冲层128以及位于所述第一缓冲层128靠近所述衬底101一侧的阻隔层129。其中,所述第一缓冲层128的厚度为400纳米至600纳米,优选为500纳米。
在上述实施例中,所述衬底101包括第一子衬底、位于所述第一子衬底靠近所述驱动电路层123一侧的第二子衬底以及位于所述第一子衬底与所述第二子衬底之间的第二缓冲层。所述第一子衬底、所述第二子衬底的材料可以为聚酰亚胺材料。所述第二缓冲层可以为硅氧化合物材料、非晶硅材料沉积形成。所述第一子衬底的厚度为8微米至12微米,优选为10微米;所述第二子衬底的厚度为4.8微米至7.2微米,优选为6微米;所述第二缓冲层的厚度为400纳米至600纳米,优选为500纳米。
所述显示面板100包括显示区以及位于所述显示区一侧的非显示区,所述显示面板100还包括贯通所述驱动电路层123的通孔130,所述通孔130位于所述非显示区内,所述通孔130内填充有机填充层,以增强所述显示面板100的抗弯折性能。所述通孔130的深度为1.2微米至1.8微米,优选为1.5微米。
所述显示面板100还包括位于所述像素定义层122上的支撑层131,所述支撑层131包括至少一支撑柱,所述支撑层131用于支撑起所述像素定义层122上的膜层,所述支撑层131的材料可以为有机光阻材料,所述显示面板100还包括位于所述支撑层131与所述触控电极层之间的封装层。
所述显示面板100还包括位于所述平坦层106上的光学胶层以及位于所述光学胶层上的盖板层。
本发明实施例通过在每一所述色阻远离所述发光功能层102的一侧形成所述凹槽107,所述平坦层106填充于所述凹槽107并覆盖所述彩膜层104,且所述平坦层106的折射率大于所述彩膜层104的折射率,实现了微透镜和无偏光技术的集成,提高了所述显示面板100的出光率并降低功耗的同时,节省了所述显示面板100的生产成本。
请参阅图6、图7A至图7B以及图8A至图8C,本发明实施例还提供一种显示面板100的制作方法,用于制作如前所述的显示面板100,所述显示面板100的制作方法包括:
S100、在衬底101上形成发光功能层102。
所述发光功能层102包括多个子像素103。
在一些实施例中,步骤S100包括:
S110、在玻璃基板上形成衬底101。
在一些实施例中,步骤S110包括:
S111、在玻璃基板上形成第一子衬底。
S112、在所述第一子衬底上形成第二缓冲层。
S113、在所述第二缓冲层上形成第二子衬底。
S120、在衬底101上形成驱动电路层123。
在一些实施例中,步骤S120包括:
S121、在衬底101上形成阻隔层129。
S122、在所述阻挡层上形成第一缓冲层128。
S123、在所述第一缓冲层128上形成有源层124、位于所述有源层124上的第一栅极绝缘层以及位于所述栅极绝缘层上的第一栅极。
S124、在所述第一栅极上形成第二栅极绝缘层。
S125、在所述第二栅极绝缘层上形成第二栅极。
S126、在所述第二栅极上形成层间绝缘层上形成源漏极层127。
S127、在所述源漏极层127上形成有机绝缘层。
S130、在所述驱动电路层123上形成发光功能层102。
在一些实施例中,步骤S130包括:
S131、在所述有机绝缘层上形成阳极层121。
S132、在所述阳极层121上形成像素定义层122,所述像素定义层122包括若干像素开口,所述像素开口暴露所述阳极层121。
S133、在所述像素开口内形成发光层。
S134、在所述发光层上形成阴极层,所述阴极层覆盖所述像素定义层122和所述发光层。
S200、在所述发光功能层102上形成彩膜层104。
在一些实施例中,步骤S200包括:
S210、在所述发光功能层102上形成支撑层131,所述支撑层131包括至少一支撑柱。
S220、在所述支撑层131上形成封装层,所述封装层覆盖所述支撑柱及所述像素定义层122。
S230、在所述封装层上形成触控层118。
在一些实施例中,步骤S230包括:
S231、在所述封装层上形成第一触控绝缘层。
S232、在所述第一触控绝缘层上形成第一触控电极。
S233、在所述第一触控电极上形成第二触控绝缘层。
S234、在所述第二触控绝缘层上形成第二触控电极119。
S240、在所述触控层118上形成无机层120。
在一些实施例中,步骤S240包括:
S241、在所述第二触控电极119上形成一无机物层。
S242、所述无机物层经第一图案化处理形成所述无机层120。
所述第一图案化处理包括在所述无机物层上形成一光阻层,对所述光阻层进行曝光并显影以形成第一图案,对所述无机物层进行刻蚀工艺处理,最后去除所述光阻层以最终形成所述无机层120。
S250、在所述无机层120上形成彩膜层104。
所述彩膜层104包括多个色阻105,每一所述色阻105与每一所述子像素103一一对应设置,每一所述色阻105远离所述发光功能层102的一侧具有凹向所述衬底101的凹槽107。
在一些实施例中,步骤S250包括:
S251、在所述无机层120上形成黑色矩阵117。
在一些实施例中,步骤S251包括:
S251a、在所述无机层120上形成一黑色色阻层。
S252b、对所述黑色色阻层进行第二图案化处理以形所述黑色矩阵117。
所述第二图案化处理包括对所述黑色色阻层曝光并显影以形成所述黑色矩阵117。
S252、在所述黑色矩阵117上形成多个色阻105。
在一些实施例中,步骤S252包括:
S252a、在所述黑色矩阵117上经第三图案化处理形成第二颜色子色阻109。
所述第三图案化处理包括在所述黑色矩阵117上形成一红色色阻材料层,所述红色色阻材料层经曝光并显影以形成所述第二颜色子色阻109。
S252b、在所述黑色矩阵117上经第四图案化处理形成第一颜色子色阻108。
所述第四图案化处理包括在所述黑色矩阵117上形成一绿色色阻材料层,所述绿色色阻材料层经曝光并显影以形成所述第一颜色子色阻108。
S252c、在所述黑色矩阵117上经第五图案化处理形成第三颜色子色阻110。
所述第五图案化处理包括在所述黑色矩阵117上形成一蓝色色阻材料层,所述蓝色色阻材料层经曝光并显影以形成所述第三颜色子色阻110。
其中,所述第三图案化处理、所述第四图案化处理以及所述第五图案化处理中所使用的的光罩可以为半色调光罩132,所述半色调光罩132包括多个第一透光区以及多个第二透光区,所述第一透光区为半透光区,透光率为40%至60%,优选为50%,所述第二透光区为透光区,透光率大于或等于90%。通过所述半色调光罩132的使用,以在所述第一颜色子色阻108形成的同时在所述第一颜色子色阻108远离所述衬底101一侧形成第一凹槽111,所述第二颜色子色阻109形成的同时在所述第二颜色子色阻109远离所述衬底101一侧形成第二凹槽112,以及所述第三颜色子色阻110形成的同时在所述第三颜色子色阻110远离所述衬底101一侧形成第三凹槽113。
S300、在所述彩膜层104上形成平坦层106。
所述平坦层106填充于所述凹槽107并覆盖所述彩膜层104,所述平坦层106的折射率大于所述彩膜层104的折射率。
在一些实施例中,步骤S300包括:
S310、在所述彩膜层104上形成一平坦材料层。
S320、所述平坦材料层经第六图案化处理形成所述平坦层106。
所述第六图案化处理包括对所述平坦材料层曝光并显影以形成所述平坦层106。
在一些实施例中,所述显示面板100的制作方法还包括:
S400、在所述平坦层106上形成盖板层。
在一些实施例中,步骤S400包括:
S410、在所述平坦层106上形成光学胶层。
S420、在所述光学胶层上形成所述盖板层。
本发明实施例提供的显示面板100的制作方法,在每一所述色阻105远离所述发光功能层102的一侧形成所述凹槽107,所述平坦层106填充于所述凹槽107并覆盖所述彩膜层104,且所述平坦层106的折射率大于所述彩膜层104的折射率,实现了微透镜和无偏光技术的集成,提高了所述显示面板100的出光率并降低功耗的同时,节省了所述显示面板100的生产成本。
本发明实施例公开了一种显示面板及其制作方法;该显示面板包括衬底,位于该衬底一侧的发光功能层,该发光功能层包括多个子像素,位于该发光功能层远离该衬底一侧的彩膜层,该彩膜层包括多个色阻,每一该色阻与每一该子像素一一对应设置,位于该彩膜层远离该衬底一侧的平坦层,每一该色阻远离该发光功能层的一侧具有凹向该衬底的凹槽,该平坦层填充于该凹槽并覆盖该彩膜层,该平坦层的折射率大于该彩膜层的折射率,本发明通过在每一色阻远离发光功能层的一侧形成凹槽,平坦层填充于凹槽并覆盖彩膜层,且平坦层的折射率大于彩膜层的折射率,实现了微透镜和无偏光技术的集成,提高了显示面板的出光率并降低功耗,并节省了显示面板的生产成本。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及其制作方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底;
发光功能层,位于所述衬底一侧,所述发光功能层包括多个子像素;
彩膜层,位于所述发光功能层远离所述衬底一侧,所述彩膜层包括多个色阻,每一所述色阻与每一所述子像素一一对应设置;
平坦层,位于所述彩膜层远离所述衬底一侧;
其中,每一所述色阻远离所述发光功能层的一侧具有凹向所述衬底的凹槽,所述平坦层填充于所述凹槽并覆盖所述彩膜层,所述平坦层的折射率大于所述彩膜层的折射率。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,多个所述色阻包括第一颜色子色阻、第二颜色子色阻以及第三颜色子色阻,所述凹槽包括位于所述第一颜色子色阻远离所述发光功能层一侧的第一凹槽、位于所述第二颜色子色阻远离所述发光功能层一侧的第二凹槽以及位于所述第三颜色子色阻远离所述发光功能层一侧的第三凹槽;
其中,每一所述第一凹槽与每一第一颜色子色阻一一对应设置,每一所述第二凹槽与每一第二颜色子色阻一一对应设置,每一所述第三凹槽与每一第三颜色子色阻一一对应设置。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一颜色子色阻靠近所述衬底的一侧在所述衬底上的正投影位于所述第一凹槽在所述衬底上的正投影内,所述第二颜色子色阻靠近所述衬底的一侧在所述衬底上的正投影位于所述第二凹槽在所述衬底上的正投影内,所述第三颜色子色阻靠近所述衬底的一侧在所述衬底上的正投影位于所述第三凹槽在所述衬底上的正投影内。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第一凹槽、所述第二凹槽以及所述第三凹槽在所述衬底上的正投影的面积依次增大。
5.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一凹槽的曲率大于所述第二凹槽的曲率,所述第一凹槽的曲率大于所述第三凹槽的曲率。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一凹槽的深度大于所述第二凹槽的深度,所述第一凹槽的深度大于所述第三凹槽的深度。
7.根据权利要求2所述的显示面板,多个所述子像素包括与所述第一颜色子色阻对应设置的第一颜色子像素、与所述第二颜色子色阻对应设置的第二颜色子像素以及与所述第三颜色子色阻对应设置的第三颜色子像素;
其中,所述第一颜色子像素发出的第一颜色光在所述第一颜色子色阻内具有第一折射率,所述第二颜色子像素发出的第二颜色光在所述第二颜色子色阻内具有第二折射率,所述第三颜色子像素发出的第三颜色光在所述第三颜色子色阻内具有第三折射率,所述第二折射率、所述第一折射率以及所述第三折射率依次增大;
所述第二凹槽、所述第一凹槽以及所述第三凹槽的曲率依次减小。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述色阻的折射率为1.4至1.5,所述平坦层的折射率为1.6至1.7。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜层还包括位于多个所述色阻之间的黑色矩阵;
所述显示面板还包括位于所述彩膜层与所述发光功能层之间的触控层,所述触控层包括多个触控电极,所述触控电极在所述衬底上的正投影位于所述黑色矩阵在所述衬底上的正投影内;
其中,所述触控电极包括第一触控电极以及位于所述第一触控电极上的第二触控电极,所述显示面板还包括间隔于所述第二触控电极与所述黑色矩阵之间的无机层,所述无机层覆盖所述第二触控电极。
10.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底上形成发光功能层;
在所述发光功能层上形成彩膜层;
在所述彩膜层上形成平坦层;
其中,所述发光功能层包括多个子像素,所述彩膜层包括多个色阻,每一所述色阻与每一所述子像素一一对应设置,每一所述色阻远离所述发光功能层的一侧具有凹向所述衬底的凹槽,所述平坦层填充于所述凹槽并覆盖所述彩膜层,所述平坦层的折射率大于所述彩膜层的折射率。
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