CN115274942A - 一种微型倒装芯片的转移方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种微型倒装芯片的转移方法,包括:提供驱动基板和临时基板,临时基板的一侧表面粘接有若干微型倒装芯片;在微型倒装芯片的第二电连接件背离临时基板的一侧表面形成第一键合件,第一键合件的材料为导电胶;将若干微型倒装芯片转移至驱动基板上,且第一键合件连接微型倒装芯片的第二电连接件与驱动基板的第一电连接件;对若干微型倒装芯片进行检测,确定不良芯片在驱动基板上的坏点位置;激光照射位于坏点位置的第一键合件,移除不良芯片。上述方法不仅能够保证微型倒装芯片与驱动基板的稳定键合,还能在避免第一电连接件受到激光辐照的损伤,使原键合焊点可继续使用,且具有较高的不良芯片去除效率。
Description
技术领域
本发明涉及芯片组装技术领域,具体涉及一种微型倒装芯片的转移方法。
背景技术
Micro-LED显示技术是指以自发光的Micro-LED为发光像素单元,将其组装到驱动基板上形成高密度LED阵列的显示技术。由于Micro-LED芯片尺寸小、集成度高和自发光等特点,与LCD、OLED相比,Micro-LED芯片在亮度、分辨率、对比度、能耗、使用寿命、响应速度和热稳定性等方面具有更大的优势,被认为是最具有前途的新型显示与发光器件之一。当前产业界普遍预期Micro-LED显示技术能够替代现有OLED与液晶显示技术的一个重要切入点是面向于中低分辨率(PPI)显示场景应用的显示产品,如小尺寸可穿戴设备、电视显示与超大显示墙等。对于中低PPI显示产品,在完成Micro-LED芯片晶圆与驱动基板制造之后,需要通过巨量转移技术把数百万甚至数千万颗Micro-LED芯片移动到驱动基板上,使驱动基板上的第一电连接件与Micro-LED芯片上的第二电连接件电学连接。
转移良率为巨量转移过程中存在的主要技术难点之一。即使综合转移良率高为99.99%,转移一台8K电视仍需要修复50余万颗的不良芯片,且不良芯片多呈随机分布。选择性激光修复技术为多种Micro-LED坏点修复技术中最具潜力实现量产的技术,该技术通过激光振镜高速扫描并搭配位移平台精密控制,可实现大量随机不良芯片的高效去除。
然而,选择性激光修复技术所发射的激光容易对驱动基板上的第一电连接件造成不可逆破坏,使其无法用于连接替换芯片,进而导致原键合位置无法重复使用。
发明内容
因此,本发明要解决的技术问题在于克服现有选择性激光修复技术不良芯片去除后原键合位置无法重复使用的缺陷,从而提供一种微型倒装芯片的转移方法。
本发明提供一种微型倒装芯片的转移方法,包括:提供驱动基板,所述驱动基板的一侧表面形成有第一电连接件;提供临时基板,所述临时基板的一侧表面粘接有若干微型倒装芯片,所述微型倒装芯片背离所述临时基板的一侧表面形成有第二电连接件;在所述微型倒装芯片的第二电连接件背离所述临时基板的一侧表面形成第一键合件,所述第一键合件的材料为导电胶;将若干所述微型倒装芯片转移至所述驱动基板上,且所述第一键合件连接所述微型倒装芯片的第二电连接件与所述第一电连接件;对若干所述微型倒装芯片进行检测,确定不良芯片在所述驱动基板上的坏点位置;激光照射位于所述坏点位置的所述第一键合件,移除所述不良芯片。
可选的,在所述微型倒装芯片的第二电连接件背离所述临时基板的一侧表面形成第一键合件的步骤包括:在所述微型倒装芯片的第二电连接件背离所述临时基板的一侧表面涂覆导电胶;或者,将所述微型倒装芯片的第二电连接件背离所述临时基板的一侧表面浸渍至导电胶液中;将所述微型倒装芯片从所述导电胶液中移出,所述微型倒装芯片的第二电连接件的一侧表面包覆有导电胶。
可选的,所述第一键合件的厚度为2μm~10μm。
可选的,所述微型倒装芯片的转移方法还包括:提供替换芯片,所述替换芯片的一侧表面形成有所述第二电连接件;在所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面形成第二键合件,所述第二键合件的材料为导电胶;在移除所述不良芯片之后,将所述替换芯片转移至所述坏点位置,所述第二键合件连接所述替换芯片的第二电连接件与位于所述坏点位置的第一电连接件。
可选的,在所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面形成所述第二键合件的步骤包括:在所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面涂覆导电胶;或者,将所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面浸渍至导电胶液中;将所述替换芯片从所述导电胶液中移出,所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面包覆有导电胶。
可选的,将所述替换芯片转移至所述坏点位置的工艺包括激光转移工艺、弹性印章转移工艺。
可选的,所述第二键合件的厚度为2μm~10μm。
可选的,所述导电胶包括有机胶液和均匀分散在所述有机胶液中的微纳级的导电颗粒,所述导电胶内导电颗粒的体积分数为10%~40%。
可选的,所述导电胶包括各向同性导电胶。
可选的,所述导电颗粒包括金属颗粒或复合金属颗粒,所述复合金属颗粒包括颗粒主体以及包裹所述颗粒主体的金属层。
可选的,所述金属颗粒的材料包括银、镍、铜,所述金属层的材料包括银,所述颗粒主体的材料包括镍、铜、碳纳米管中的至少一种。
可选的,所述导电颗粒呈片状,所述导电颗粒的纵向尺寸小于所述导电颗粒的横向尺寸,所述横向尺寸为1μm~20μm。
可选的,所述有机胶液的材料为热固性材料或热塑性材料。
可选的,所述有机胶液的材料为热固性材料。
可选的,所述热固性材料包括环氧树脂、氰酸酯树脂、聚酰亚胺。
可选的,所述激光的能量密度为100mJ/cm2~800mJ/cm2。
可选的,所述激光为紫外激光。
可选的,所述激光的波长为240nm~380nm。
可选的,将若干所述微型倒装芯片转移至驱动基板的工艺包括激光转移工艺、弹性印章转移工艺。
可选的,所述第一电连接件包括:阵列排布的接触电极,所述接触电极位于所述驱动基板的一侧表面;位于所述接触电极背离驱动基板的一侧表面的第一凸点;所述第二电连接件为所述微型倒装芯片的电极;或者,所述第一电连接件包括:所述微型倒装芯片的电极以及覆盖所述电极的第二凸点。
可选的,所述微型倒装芯片包括Micro-LED芯片。
本发明技术方案,具有如下优点:
1.本发明提供的微型倒装芯片的转移方法,采用导电胶作为电学连接微型倒装芯片与驱动基板的第一键合件,一方面,导电胶能够保证微型倒装芯片与驱动基板的稳定键合,另一方面,位于坏点位置的导电胶中的有机材料在激光照射过程中吸收激光能量发生气化,有机材料气化产生的气流实现不良芯片与驱动基板的分离;而激光照射至导电胶瞬间将即可实现不良芯片与基板的分离,且激光的能量主要被有机材料吸收并释放,这使实际作用在驱动基板的第一电连接件上能量较低,避免了第一电连接件受到激光辐照的损伤,使原键合焊点可继续使用,且具有较高的不良芯片去除效率。
2.本发明提供的微型倒装芯片的转移方法,所述微型倒装芯片包括Micro-LED芯片。上述微型倒装芯片的转移方法使第一电连接件能够用于电学连接替换芯片,从而使原键合位置能够用于显示图像,有利于提高Micro-LED显示技术的显示效果。
3.本发明提供的微型倒装芯片的转移方法,通过限定所述第一键合件的厚度为2μm~10μm,不仅保证了微型倒装芯片与驱动基板的稳定键合,还缩短了激光作用在第一键合件的时间,保证了去除不良芯片的效率。
4.本发明提供的微型倒装芯片的转移方法,通过限定所述导电胶内导电颗粒的体积分数为10%~40%,不仅保证了微型倒装芯片与驱动基板的稳定键合,还有利于微型倒装芯片与驱动基板的电连接效果。
5.本发明提供的微型倒装芯片的转移方法,所述有机胶液的材料优选为热固性材料,即,第一键合件与第二键合件中的有机材料优选为热固性材料,热固性材料在第一次加热固化后即得到稳定的结构,在使用过程中不会由于环境温度过高而软化,保证了微型倒装芯片与驱动基板的稳定键合。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1-图2为一种选择性激光修复技术的示意图;
图3为本发明实施例提供的微型倒装芯片的转移方法的工艺流程图;
图4-图16为本发明实施例微型倒装芯片的转移过程中的结构示意图;
附图标记说明:
1-驱动基板;11-接触电极;12-第一初始凸点;13-第一凸点;2-临时基板;21-粘接层;3-微型倒装芯片;31-第二凸点;32-不良芯片;4-第一键合件;41-导电胶液;5-激光;6-替换芯片;7-第二键合件;1'-驱动基板;11'-接触电极;13'-第一凸点;3'-微型倒装芯片;31'-第二凸点;32'-不良芯片;5'-激光。
具体实施方式
正如背景技术所述,采用现有选择性激光修复技术去除不良芯片导致原键合位置无法重复使用。
具体的,通常通过驱动基板的第一电连接件与微型倒装芯片的第二电连接件的合金化实现微型倒装芯片与驱动基板的键合。示例性的,如图1所示,所述第一电连接件包括位于所述驱动基板1'的一侧表面的接触电极11'以及位于所述接触电极11'背离驱动基板1'的一侧表面的第一凸点13',所述第一电连接件包括所述微型倒装芯片3'的电极(图中未示出)以及覆盖所述电极的第二凸点31',第一凸点13'与第二凸点31'的连接处形成了合金,对合金处进行激光5'照射;如图2所示,待激光照射合金一定时间之后,合金发生熔解破坏从而实现不良芯片32'的脱落,此时第一电连接件不具有最初的形貌,即,第一电连接件的形貌被破坏,无法用来连接替换芯片以满足修复键合的要求,也即,原键合位置无法重复使用;同时,由于合金的熔点较高,激光照射相对较长的时间才能够使其发生熔接破裂,这一定程度上限制了不良芯片的去除效率。
为此,参见图3,本实施例提供一种微型倒装芯片的转移方法,包括:
S1、提供驱动基板,所述驱动基板的一侧表面形成有第一电连接件;
S2、提供临时基板,所述临时基板的一侧表面粘接有若干微型倒装芯片,所述微型倒装芯片背离所述临时基板的一侧表面形成有第二电连接件;
S3、在所述微型倒装芯片的第二电连接件背离所述临时基板的一侧表面形成第一键合件,所述第一键合件的材料为导电胶;
S4、将若干所述微型倒装芯片转移至所述驱动基板上,且所述第一键合件连接所述微型倒装芯片的第二电连接件与所述第一电连接件;
S5、对若干所述微型倒装芯片进行检测,确定不良芯片在所述驱动基板上的坏点位置;
S6、激光照射位于所述坏点位置的所述第一键合件,移除所述不良芯片。
上述微型倒装芯片的转移方法,采用导电胶作为电学连接微型倒装芯片与驱动基板的第一键合件,一方面,导电胶能够保证微型倒装芯片与驱动基板的稳定键合,另一方面,位于坏点位置的导电胶中的有机材料在激光照射过程中吸收激光能量发生气化,有机材料气化产生的气流实现不良芯片与驱动基板的分离;而激光照射至导电胶的瞬间将即可实现不良芯片与基板的分离,且激光的能量主要被有机材料吸收并释放,这使实际作用在驱动基板的第一电连接件上能量较低,避免了第一电连接件受到激光辐照的损伤,使原键合焊点可继续使用,且具有较高的不良芯片去除效率。
激光照射使不良芯片脱离的具体原理如下:激光照射第一键合件后,第一键合件中的有机材料吸收光子,光子促使有机大分子发生化学键断裂而形成有机小分子。由于激光中光子密度较高,第一键合件中化学键断裂的速率超过化学键重新复合的速率,致使第一键合件中的有机大分子迅速分解成有机小分子。这些有机小分子的存在导致第一键合件的比容积突然增大、压强急剧升高,体积迅速膨胀,最终发生体爆炸,使不良芯片脱离并带走过剩热量。
进一步地,所述微型倒装芯片包括Micro-LED芯片。上述微型倒装芯片的转移方法使第一电连接件能够用于电学连接替换芯片,从而使原键合位置能够用于显示图像,有利于提高Micro-LED显示技术的显示效果。
具体的,所述第一电连接件包括:阵列排布的接触电极,所述接触电极位于所述驱动基板的一侧表面;位于所述接触电极背离驱动基板的一侧表面的第一凸点。所述第二电连接件为所述微型倒装芯片的电极;或者,所述第一电连接件包括:所述微型倒装芯片的电极以及覆盖所述电极的第二凸点。
下面以所述第二电连接件包括微型倒装芯片的电极以及覆盖所述电极的第二凸点为例,结合图4-图16对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。
参见图4,提供驱动基板1,在所述驱动基板1的一侧表面形成阵列排布的接触电极11。
参见图5,在所述接触电极11背离驱动基板1的一侧表面形成第一初始凸点12。
具体的,所述第一初始凸点12的材料包括但不限于In、Sn、Ag、Au、Cu中的至少一种。
参见图6,对第一初始凸点12进行回流焊,使第一初始凸点12形成第一凸点13。
参见图7,提供临时基板2,所述临时基板2的一侧表面形成有粘接层21。
参见图8,将微型倒装芯片3阵列分类转移至临时基板2上,微型倒装芯片3与粘接层21粘接,且微型倒装芯片3的电极以及覆盖所述电极的第二凸点31均背离临时基板2,所述电极和第二凸点31构成第二电连接件。
参见图9-图10,在所述微型倒装芯片3的第二电连接件背离所述临时基板2的一侧表面形成第一键合件4,所述第一键合件4的材料为导电胶。
具体的,在所述微型倒装芯片3的第二电连接件背离所述临时基板2的一侧表面形成第一键合件4的步骤包括:参见图9,将所述微型倒装芯片3的第二凸点31背离所述临时基板的一侧表面浸渍至导电胶液41中;参见图10,将所述微型倒装芯片3从所述导电胶液41中移出,所述微型倒装芯片3的第二凸点31的一侧表面包覆有导电胶。
进一步地,所述导电胶包括有机胶液和均匀分散在所述有机胶液中的微纳级的导电颗粒。所述有机胶液的材料可以为热固性材料或热塑性材料,如环氧树脂、氰酸酯树脂、聚酰亚胺、聚酰亚胺、氰基丙烯酸酯、硅胶;所述导电颗粒包括金属颗粒或复合金属颗粒,所述复合金属颗粒包括颗粒主体以及包裹所述颗粒主体的金属层,所述金属颗粒的材料包括但不限于银、镍、铜,所述金属层的材料包括银,所述颗粒主体的材料包括但不限于镍、铜、碳纳米管中的至少一种。
作为一种优选的实施方式,所述有机胶液的材料为热固性材料,即,第一键合件4中的有机材料优选为热固性材料。热固性材料在第一次加热固化后即得到稳定的结构,在使用过程中不会由于环境温度过高而软化,保证了微型倒装芯片3与驱动基板1的稳定键合。
进一步地,所述导电胶内导电颗粒的体积分数为10%~40%。示例性的,所述导电颗粒的体积分数可以为10%、15%、20%、25%、30%、35%或40%。导电颗粒的体积分数过小,则有机胶液的体积分数过大,这虽然有利于微型倒装芯片3与驱动基板1的稳定键合,但导致键合件的导电性较差,从而限制了微型倒装芯片3与驱动基板1的电连接效果;导电颗粒的体积分数过大,则有机胶液的体积分数过小,虽然有利于微型倒装芯片3与驱动基板1的电连接效果,但是不利于微型倒装芯片3与驱动基板1的连接稳定性。通过限定所述导电胶内导电颗粒的体积分数为10%~40%,不仅保证了微型倒装芯片3与驱动基板1的稳定键合,还有利于微型倒装芯片3与驱动基板1的电连接效果。
可选的,所述导电颗粒呈片状,所述导电颗粒的纵向尺寸小于所述导电颗粒的横向尺寸,所述横向尺寸为1μm~20μm。示例性的,所述导电颗粒的横向尺寸为1μm、2.5μm、5μm、7.5μm、10μm、12.5μm、15μm、17.5μm或20μm。
进一步地,所述导电胶可以选用各向同性导电胶,也可以选用各向异性导电胶。优选的,所述导电胶选用各向同性导电胶,各向同性导电胶能够保证第一键合件4的电连接能力。
需要理解的是,也可以通过在第二凸点31表面涂覆导电胶形成所述第一键合件4,或者其他微纳加工方式形成所述第一键合件4。
进一步地,所述第一键合件4的厚度为2μm~10μm。示例性的,所述第一键合件4的厚度可以为2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm或10μm。当第一键合件4过薄时,则微型倒装芯片3与驱动基板1的粘接稳定性无法得到保证;当第一键合件4过厚时,则需要激光5照射第一键合件4较长的时间才能实现不良芯片的分离,降低了去除不良芯片的效率。通过限定所述第一键合件4的厚度为2μm~10μm,不仅保证了微型倒装芯片3与驱动基板1的稳定键合,还缩短了激光5作用在第一键合件4的时间,保证了去除不良芯片的效率。
参见图11-图12,将若干所述微型倒装芯片3转移至所述驱动基板1上,且所述第一键合件4连接所述微型倒装芯片3的第二电连接件与所述第一电连接件,使所述微型倒装芯片3与驱动基板1键合在一起。
具体的,参见图11,将临时基板2与驱动基板1相对设置,使微型倒装芯片3一侧的第一键合件4与驱动基板1表面的第一凸点13键合;参见图12,移除临时基板2,所述临时基板2的一侧表面的粘接层21也一同移除。将若干所述微型倒装芯片3转移至驱动基板1的工艺包括但不限于激光转移工艺、弹性印章转移工艺。
在所述微型倒装芯片3与驱动基板1键合在一起之后,对驱动基板1上的若干微型倒装芯片3进行检测,确定不良芯片在所述驱动基板1上的坏点位置。具体的,所述检测包括光学检测与电学检测;在确定不良芯片在所述驱动基板1上的坏点位置之后,获取坏点位置在所述驱动基板1上的坐标值,所述坐标系以驱动基板1的边缘作为坐标轴。
参见图13-图14,激光5照射位于所述坏点位置的所述第一键合件4,移除所述不良芯片32。
具体的,参见图13,激光5经不良芯片32照射至第一键合件4,且激光光斑的尺寸与微型倒装芯片3的尺寸相适应,即,激光光斑的尺寸大于等于微型倒装芯片的尺寸,且仅覆盖一个微型倒装芯片。示例性的,若干微型倒装芯片呈阵列排布,相邻微型倒装芯片的中轴线之间的间距(Pitch)相同,微型倒装芯片的阵列基板上的投影呈矩形(a×b),则激光光斑的尺寸大于等于a×b且小于等于(Pitch×2-a)×(Pitch×2-b);当a=15μm,b=25μm,Pitch=35μm时,激光光斑的尺寸则大于等于15μm×25μm且小于等于55μm×45μm。
进一步地,所述激光5的能量密度为100mJ/cm2~800mJ/cm2。示例性的,所述激光5的能量密度可以为100mJ/cm2、200mJ/cm2、300mJ/cm2、400mJ/cm2、500mJ/cm2、600mJ/cm2、700mJ/cm2或800mJ/cm2。
进一步地,所述激光5可以为紫外激光。第一键合件4中的有机材料对紫外光具有强烈吸收作用,使不良芯片32具有较高的脱离效率。可选的,所述激光5的波长为240nm~380nm;示例性的,所述激光5的波长可以为248nm、266nm、280nm、355nm、365nm或375nm。
进一步地,所述激光5为单脉冲激光,脉宽为纳秒或皮秒量级。
参见图15,提供替换芯片6,所述替换芯片的一侧表面形成有所述第二电连接件;在所述替换芯片6的第二电连接件的一侧表面形成第二键合件7,所述第二键合件7的材料为导电胶。替换芯片6与坏点位置的原微型倒装芯片的结构相同。
具体的,在所述替换芯片6的第二电连接件的一侧表面形成所述第二键合件7的步骤包括:将所述替换芯片6的第二凸点的一侧表面浸渍至导电胶液41中;将所述替换芯片6从所述导电胶液41中移出,所述替换芯片6的第二凸点的一侧表面包覆有导电胶。也可以通过在所述替换芯片6的第二凸点的一侧表面涂覆导电胶形成所述第二键合件7。形成所述第二键合件7的方法包括但不限于上述方式。
进一步地,所述第二键合件7可以采用与第一键合件4相同的材料,在此不再赘述。
进一步地,所述第二键合件7的厚度为2μm~10μm。示例性的,所述第二键合件7的厚度可以为2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm或10μm。通过限定所述第二键合件7的厚度为2μm~10μm,不仅保证了微型倒装芯片3与驱动基板1的稳定键合,还使激光作用在第二键合件7后产生足够气流,保证了去除不良芯片32的效率。
参见图16,在移除所述不良芯片32之后,将所述替换芯片6转移至所述坏点位置,所述第二键合件7连接所述替换芯片6的第二电连接件以及位于所述坏点位置的第一电连接件。
具体的,将所述替换芯片6转移至所述坏点位置的工艺包括但不限于激光转移工艺、弹性印章转移工艺。
需要理解的是,可以在移除所述不良芯片32之前,在所述替换芯片6的第二凸点的表面形成所述第二键合件7;在移除所述不良芯片32之后,直接将替换芯片6转移至所述坏点位置,有利于缩短时间。
需要理解的是,对驱动基板上的微型倒装芯片进行检测、不良芯片去除以及替换芯片转移组成了原位修复步骤,在将替换芯片转移至坏点位置之后,可以重复进行原位修复步骤,直至驱动基板表面不具有坏点。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。在本发明的描述中,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
Claims (10)
1.一种微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,包括:
提供驱动基板,所述驱动基板的一侧表面形成有第一电连接件;
提供临时基板,所述临时基板的一侧表面粘接有若干微型倒装芯片,所述微型倒装芯片背离所述临时基板的一侧表面形成有第二电连接件;
在所述微型倒装芯片的第二电连接件背离所述临时基板的一侧表面形成第一键合件,所述第一键合件的材料为导电胶;
将若干所述微型倒装芯片转移至所述驱动基板上,且所述第一键合件连接所述微型倒装芯片的第二电连接件与所述第一电连接件;
对若干所述微型倒装芯片进行检测,确定不良芯片在所述驱动基板上的坏点位置;
激光照射位于所述坏点位置的所述第一键合件,移除所述不良芯片。
2.根据权利要求1所述的微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,在所述微型倒装芯片的第二电连接件背离所述临时基板的一侧表面形成第一键合件的步骤包括:在所述微型倒装芯片的第二电连接件背离所述临时基板的一侧表面涂覆导电胶;
或者,将所述微型倒装芯片的第二电连接件背离所述临时基板的一侧表面浸渍至导电胶液中;将所述微型倒装芯片从所述导电胶液中移出,所述微型倒装芯片的第二电连接件的一侧表面包覆有导电胶。
3.根据权利要求1或2所述的微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,所述第一键合件的厚度为2μm~10μm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,还包括:
提供替换芯片,所述替换芯片的一侧表面形成有所述第二电连接件;
在所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面形成第二键合件,所述第二键合件的材料为导电胶;
在移除所述不良芯片之后,将所述替换芯片转移至所述坏点位置,所述第二键合件连接所述替换芯片的第二电连接件与位于所述坏点位置的第一电连接件;
优选的,在所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面形成所述第二键合件的步骤包括:在所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面涂覆导电胶;
或者,将所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面浸渍至导电胶液中;将所述替换芯片从所述导电胶液中移出,所述替换芯片的第二电连接件的一侧表面包覆有导电胶;
优选的,将所述替换芯片转移至所述坏点位置的工艺包括激光转移工艺、弹性印章转移工艺;
优选的,所述第二键合件的厚度为2μm~10μm。
5.根据权利要求2或4所述的微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,所述导电胶包括有机胶液和均匀分散在所述有机胶液中的微纳级的导电颗粒,所述导电胶内导电颗粒的体积分数为10%~40%;
优选的,所述导电胶包括各向同性导电胶。
6.根据权利要求5所述的微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,所述导电颗粒包括金属颗粒或复合金属颗粒,所述复合金属颗粒包括颗粒主体以及包裹所述颗粒主体的金属层;
优选的,所述金属颗粒的材料包括银、镍、铜,所述金属层的材料包括银,所述颗粒主体的材料包括镍、铜、碳纳米管中的至少一种;
优选的,所述导电颗粒呈片状,所述导电颗粒的纵向尺寸小于所述导电颗粒的横向尺寸,所述横向尺寸为1μm~20μm。
7.根据权利要求5所述的微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,所述有机胶液的材料为热固性材料或热塑性材料;
优选的,所述有机胶液的材料为热固性材料;
优选的,所述热固性材料包括环氧树脂、氰酸酯树脂、聚酰亚胺。
8.根据权利要求1所述的微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,所述激光的能量密度为100mJ/cm2~800mJ/cm2;
优选的,所述激光为紫外激光;
优选的,所述激光的波长为240nm~380nm。
9.根据权利要求1所述的微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,将若干所述微型倒装芯片转移至驱动基板的工艺包括激光转移工艺、弹性印章转移工艺。
10.根据权利要求1所述的微型倒装芯片的转移方法,其特征在于,所述第一电连接件包括:阵列排布的接触电极,所述接触电极位于所述驱动基板的一侧表面;位于所述接触电极背离驱动基板的一侧表面的第一凸点;
所述第二电连接件为所述微型倒装芯片的电极;或者,所述第一电连接件包括:所述微型倒装芯片的电极以及覆盖所述电极的第二凸点;
优选的,所述微型倒装芯片包括Micro-LED芯片。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115911240A (zh) * | 2022-12-29 | 2023-04-04 | 重庆惠科金渝光电科技有限公司 | 显示面板及其制备方法 |
WO2024027201A1 (zh) * | 2022-08-02 | 2024-02-08 | 厦门大学 | 一种微型倒装芯片的转移方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103295893A (zh) * | 2013-05-29 | 2013-09-11 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 一种晶圆级微组装工艺 |
CN110148655A (zh) * | 2019-05-21 | 2019-08-20 | 北京易美新创科技有限公司 | 微型led芯片巨量转移方法 |
WO2019205437A1 (zh) * | 2018-04-28 | 2019-10-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Micro LED显示面板的制作方法及Micro LED显示面板 |
CN110660681A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-01-07 | 上海怡英新材料科技有限公司 | 一种倒装芯片组件及其封装方法 |
CN111489991A (zh) * | 2020-04-22 | 2020-08-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及制作方法 |
KR20210091640A (ko) * | 2020-01-14 | 2021-07-22 | 삼성전자주식회사 | 디스플레이 장치의 제조 방법, 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조용 구조물 |
CN113450681A (zh) * | 2020-03-24 | 2021-09-28 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 一种微发光二极管显示器生产检测方法及其显示器 |
CN113690149A (zh) * | 2020-05-16 | 2021-11-23 | 佛山市国星光电股份有限公司 | 一种芯片键合结构、方法及设备 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
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-
2023
- 2023-04-14 WO PCT/CN2023/088493 patent/WO2024027201A1/zh unknown
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103295893A (zh) * | 2013-05-29 | 2013-09-11 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 一种晶圆级微组装工艺 |
WO2019205437A1 (zh) * | 2018-04-28 | 2019-10-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Micro LED显示面板的制作方法及Micro LED显示面板 |
CN110660681A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-01-07 | 上海怡英新材料科技有限公司 | 一种倒装芯片组件及其封装方法 |
CN110148655A (zh) * | 2019-05-21 | 2019-08-20 | 北京易美新创科技有限公司 | 微型led芯片巨量转移方法 |
KR20210091640A (ko) * | 2020-01-14 | 2021-07-22 | 삼성전자주식회사 | 디스플레이 장치의 제조 방법, 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 제조용 구조물 |
JP2021110875A (ja) * | 2020-01-14 | 2021-08-02 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co., Ltd. | ディスプレイ装置の製造方法、ディスプレイ装置、およびディスプレイ装置製造用中間体 |
CN113450681A (zh) * | 2020-03-24 | 2021-09-28 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 一种微发光二极管显示器生产检测方法及其显示器 |
CN111489991A (zh) * | 2020-04-22 | 2020-08-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及制作方法 |
CN113690149A (zh) * | 2020-05-16 | 2021-11-23 | 佛山市国星光电股份有限公司 | 一种芯片键合结构、方法及设备 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024027201A1 (zh) * | 2022-08-02 | 2024-02-08 | 厦门大学 | 一种微型倒装芯片的转移方法 |
CN115911240A (zh) * | 2022-12-29 | 2023-04-04 | 重庆惠科金渝光电科技有限公司 | 显示面板及其制备方法 |
CN115911240B (zh) * | 2022-12-29 | 2024-01-26 | 重庆惠科金渝光电科技有限公司 | 显示面板及其制备方法 |
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