CN115261783A - 一种掩膜版及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种掩膜版及其制备方法，其中，掩膜版包括：框架；至少一个掩膜条，包括贯穿其厚度方向的多个第一过孔，多个第一过孔沿第一方向间隔排布；至少一个支撑条，支撑条设置于掩膜条一侧，且与框架固定连接；支撑条包括贯穿其厚度方向的多个第二过孔，多个第二过孔沿第一方向间隔排布；支撑条与框架或掩膜条滑动连接；其中，当支撑条相对掩膜条沿第一方向运动至不同位置时，多个第一过孔和多个第二过孔相互配合以形成不同位置状态，位置状态至少包括：第一状态，至少一个第一过孔与至少一个第二过孔位置相对应，以形成至少一个贯通掩膜条厚度方向和支撑条厚度方向的通孔。通过上述方式，能够有效降低成本，减小生产过程的出错概率。

Description

一种掩膜版及其制备方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜版及其制备方法。

背景技术

目前的OLED显示面板的彩色化方法有许多种，现在较为成熟并大量量产的OLED彩色化技术是OLED蒸镀技术，具体是利用蒸镀成膜技术透过高精细金属掩膜版(Fine MetalMask，FMM)在array(阵列)基板上相应的像素开口位置形成有机发光元器件，上述高精细金属掩膜版也简称为蒸镀掩膜版。

然而，发明人经过长期研究发现，在蒸镀有机发光元器件的不同有机膜层时，不同有机膜层的蒸镀开口的大小和位置均相同，仅用于检测膜厚的通孔(TEG，Test ElementGroup)位置上存在区别。因此，现有技术中仍然需要制备不同种类的支撑条对掩膜版上的指定通孔进行遮挡，以实现不同有机膜层通孔的镀膜及膜厚的测量。现有技术中明显需要更多的制作成本以制备不同种类的支撑条，种类的增加同时也增加了生产过程中张网步骤出错的概率。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种掩膜版及其制备方法，能够有效降低成本，减小生产过程的出错概率。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种掩膜版，包括：框架；至少一个掩膜条，包括贯穿其厚度方向的多个第一过孔，多个所述第一过孔沿第一方向间隔排布；至少一个支撑条，所述支撑条设置于所述掩膜条一侧，且与所述框架固定连接；所述支撑条包括贯穿其厚度方向的多个第二过孔，多个所述第二过孔沿所述第一方向间隔排布；所述支撑条与所述框架或所述掩膜条滑动连接；其中，当所述支撑条相对所述掩膜条沿所述第一方向运动至不同位置时，多个所述第一过孔和多个所述第二过孔相互配合以形成不同位置状态，所述位置状态至少包括：第一状态，至少一个所述第一过孔与至少一个所述第二过孔位置相对应，以形成至少一个贯通所述掩膜条厚度方向和所述支撑条厚度方向的通孔。

为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种掩膜版的制备方法，包括：提供框架；将至少一个支撑条层叠设置于所述框架一侧并与所述框架固定连接、以及将至少一个掩膜条层叠设置于所述框架一侧并与所述框架固定连接；其中，所述掩膜条包括贯穿其厚度方向的多个第一过孔，多个所述第一过孔沿第一方向间隔排布；所述支撑条包括贯穿其厚度方向的多个第二过孔，多个所述第二过孔沿第一方向间隔排布；其中，当所述支撑条相对所述掩膜条沿所述第一方向运动至不同位置时，多个所述第一过孔和多个所述第二过孔相互配合以形成不同测试状态，所述测试状态至少包括：第一状态，至少一个所述第一过孔与至少一个所述第二过孔位置相对应，以形成至少一个贯通所述掩膜条厚度方向和所述支撑条厚度方向的通孔。

区别于现有技术的情况，本申请的有益效果是：本申请中提供一种掩膜版及其制备方法，其中，掩膜版具体包括：框架；至少一个掩膜条，与框架固定连接；掩膜条包括贯穿其厚度方向的多个第一过孔，多个第一过孔沿第一方向间隔排布；至少一个支撑条，支撑条层叠设置于掩膜条一侧，且与框架固定连接；支撑条包括贯穿其厚度方向的多个第二过孔，多个第二过孔沿第一方向间隔排布；其中，当支撑条相对所述掩膜条沿第一方向运动至不同位置时，多个第一过孔和多个第二过孔相互配合以形成位置不同通孔。通过上述设计方案，利用可沿第一方向移动的掩膜条中的第一过孔以及支撑条上的第二过孔，配合形成不同类型的通孔，后续可以基于该通孔的类型区分出不同种类的膜层，即具有定位或标记作用；且后续可以对该通孔位置处的沉积膜层进行膜厚等检测，以确定与该通孔位置处的膜层相应的显示面板中的膜层是否符合要求。此外，本申请在使用同一种掩膜条的前提下，通过移动支撑条的位置进而获得不同位置的通孔，满足不同种类有机膜层的膜厚测试需求，且该过程无需制备多种类型的掩膜条，大大降低了掩膜版的制作成本；同时，由于在蒸镀过程中无需更换掩膜版上的掩膜条，有效提高生产效率，降低生产过程中的人工出错概率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1是本申请掩膜版一实施方式的结构示意图；

图2是本申请掩膜版一实施方式的局部放大图；

图3是本申请掩膜版另一实施方式的结构示意图；

图4是图1中掩膜条一实施方式的结构示意图；

图5是本申请掩膜版的制备方法一实施方式的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

请参阅图1，图1是本申请掩膜版一实施方式的结构示意图。本申请所提供的掩膜版100包括框架10、掩膜条20和支撑条30。其中，框架10包括框架本体(未标示)和由框架本体包围的区域(未标示)，该区域与后续固定设置的支撑条30和掩膜条20共同用于定义蒸镀或沉积的开口。

在本实施例中，如图1所示，以框架10的形状为长方形，由框架本体包围的区域的形状为长方形作为示例。当然，在其他实施方式中，框架的形状还可以为其他形状，例如圆形、多边形等等，此处不作具体限定。另外，框架10的材质可以为金属，例如铜、铝、铝合金或镍铁合金等。在其他实施方式中，框架10还可以选用其他具有耐高温耐腐蚀特性的材质。

在图1中，掩膜条20的数量为1个，且1个掩膜条20与框架10固定连接。当然，在其他实施方式中，掩膜条20的数量还可以为2个、3个或者更多，多个掩膜条20可以沿图1中第二方向Y间隔设置，每个掩膜条20的长度延伸方向与第一方向X平行，可选地，第二方向Y与第一方向X交叉，例如，第二方向Y与第一方向X垂直；且在第一方向X上，每个掩膜条20包括间隔设置的多个有效蒸镀区202。此处不作具体限定。如图1所示，掩膜条20包括贯穿其厚度方向的多个第一过孔201，且多个第一过孔201沿第一方向X间隔排列。优选地，多个第一过孔201沿第一方向X等距间隔排列，有利于多个第一过孔201位置的确定，节省加工多个第一过孔201所花费的时间。

在一具体的实施例中，第一过孔201的数量为三个，在其他实施方式中，第一过孔201的数量还以为其他，具体根据实际需要而定，此处不作具体限定。可选地，当掩膜条20包含多个有效蒸镀区202时，每个有效蒸镀区202可以对应设置有多个第一过孔201；且每个有效蒸镀区202对应的多个第一过孔201可以邻近相应的有效蒸镀区202设置。

在本实施例中，支撑条30层叠设置于掩膜条20一侧，且与框架10固定连接。图1中示意画出支撑条30的数量为3个，且3个支撑条30均与框架10固定连接。当然，在其他实施方式中，支撑条30的数量还可以为其他，此处不作具体限定。另外，支撑条30包括贯穿其厚度方向的多个第二过孔301，且多个第二过孔301沿第一方向X间隔排列。优选地，多个第二过孔301沿第一方向X等距间隔排列，有利于多个第二过孔301位置的确定，且便于加工。在一具体的实施场景中，以第二过孔301的数量为2个作为示例。在其他实施方式中，第二过孔301的数量还可以为其他任意数个，具体根据需要的材料检测单元的数量而定，此处不作具体限定。

在本实施例中，支撑条30与框架10或掩膜条20滑动连接，当支撑条30相对掩膜条20沿第一方向X运动至不同位置时，多个第一过孔201和多个第二过孔301相互配合以形成不同的位置状态。其中，上述位置状态至少包括第一状态，即至少一个第一过孔201与至少一个第二过孔301的位置相对应，以形成至少一个贯通掩膜条20厚度方向和支撑条30厚度方向的通孔(未标示)。需要说明的是，上述第一过孔201和第二过孔301的位置相对应具体是指第一过孔201位于第二过孔301的上方，或者第二过孔301在掩膜条20上的正投影覆盖第一过孔201，有利于保证后续通孔的贯通形貌优良，便于测试的进行。最终配合形成的通孔主要用于当使用掩膜版100进行蒸镀或者沉积工艺时，蒸镀或者沉积的材料经由通孔堆积在基底上，形成材料检测单元，材料检测单元可以定位实际蒸镀或沉积的材料层的种类(例如，定位出是发光层还是补偿层等)，以及可以反馈实际蒸镀或沉积的材料层质量和厚度；通过检测材料检测单元的材料质量和厚度，可以获知实际蒸镀或沉积的材料层是否符合要求。

本实施例中，在平行于支撑条30平面方向上，第一过孔201和第二过孔301的在掩膜条20上的正投影形状相同，均为圆形。在其他实施方式中，正投影形状还可以为椭圆形、三角形、矩形或六边形中的任意一种。需要说明的是，对于同一个掩膜条20或支撑条30而言，第一过孔201或第二过孔301的形状可以相同，也可以不同。

通过上述方式，利用可沿第一方向X移动的支撑条30中的第二过孔301以及掩膜条20上的第一过孔201，配合形成符合不同类型有机层需求的材料检测单元。本申请在使用同一种掩膜条20的前提下，通过移动支撑条30的位置进而获得不同位置的通孔，满足不同种类有机膜层的定位以及膜厚测试需求，无需制备多种类型的掩膜条20，大大降低了掩膜版100的制作成本；同时，由于在蒸镀过程中无需更换掩膜版100上的掩膜条20，有效提高生产效率，降低生产过程中的人工出错概率。

在一具体的实施方式中，请继续参阅图1，本申请所提供的掩膜版100还包括遮挡条40。其中，遮挡条40层叠设置于掩膜条20和支撑条30之间，且遮挡条40与框架10固定连接。当然，在其他实施方式中，遮挡条40的数量还可以为1个、3个、4个或者更多，此处不作具体限定。遮挡条40的形状为条状，在垂直于第一方向X上，遮挡条40相对设置的两端与框架10固定连接，此时支撑条30和遮挡条40垂直交叉，用于将后续固定设置的掩膜条20划分为若干蒸镀单元。基于蒸镀单元的不同形状，可以调整支撑条30和遮挡条40之间的交叉夹角。为保证通孔的测试性能，保证其形貌的贯通性，第二过孔301应从遮挡条40露出，其应位于横跨相邻遮挡条40之间的支撑条30内。可选地，如图1所示，遮挡条40的长度延伸方向与掩膜条20的长度延伸方向相同，且遮挡条40可以位于掩膜条20在第二方向Y上的两侧。

在又一具体的实施方式中，请再次参阅图1，上述实施例中所提及的第二方向Y与支撑条30的长度方向相互平行，与掩膜条20的长度方向相互垂直。换言之，支撑条30的长度方向沿第二方向Y设置，掩膜条20的长度方向沿第一方向(未标示)设置，其中，第一方向X与第二方向Y相互垂直，即支撑条30和掩膜条20相互垂直设置。此时，支撑条30沿其长度方向相对设置的两端分别与框架10固定连接；而掩膜条20沿其长度方向相对设置的两端也分别与框架10固定连接。通过上述实施方式，能够实现掩膜条20和支撑条30的位置固定，保证支撑条30和掩膜条20相互垂直设置。

请参阅图2，图2是本申请掩膜版一实施方式的局部放大图。在本实施方式中，相邻两个第一过孔201的中心点之间具有第一间距L，相邻两个第二过孔301的中心点之间同样具有第一间距L。换言之，相邻第一过孔201的中心点间距和相邻第二过孔301的中心点间距相等，该实施方式有利于提高第一过孔201和第二过孔301的对位精度，保证第二过孔301完全落入第一过孔201内部。

请重新参阅图1，当支撑条30相对掩膜条20沿第一方向X运动至第一位置时，至少部分第一过孔201在支撑条30上的正投影分别位于对应位置处的第二过孔301内以形成第一类型通孔(未标示)，后续利用第一类型通孔可以定位出对应蒸镀的膜层以及反馈蒸镀的对应材料层质量和膜厚。在本实施例中，例如蒸镀显示面板中的发光层时，利用靠近支撑条30设置的两个第一过孔201与两个第二过孔301进行对位，以得到与发光层对应的第一类型通孔，即第一类型通孔能够定位出对应的发光层，并反馈发光层的蒸镀质量和膜厚。

请参阅图3，图3是本申请掩膜版另一实施方式的结构示意图。在本实施例中，当支撑条30相对掩膜条20沿第一方向X运动(例如，沿第一方向X向下运动)至第二位置时，至少部分第一过孔201在支撑条30上的正投影分别位于对应位置处的第二过孔301内以形成第二类型通孔(未标示)。在本实施例中，例如蒸镀显示面板中的补偿层时，利用靠近支撑条30设置的一个第一过孔201与支撑条30上的一个第二过孔301进行对位，以得到与补偿层对应的第二类型通孔，即第二类型通孔能够定位出补偿层，并反馈补偿层的蒸镀质量和膜厚。

需要说明的是，上述实施例中所提及的第一类型通孔与第二类型通孔位置不同，分别用以定位显示面板中不同的膜层，并用以测量显示面板中不同膜层的膜厚测定。

通过上述实施方式，调整支撑条30的位置，利用掩膜条20上的不同位置的第一过孔201和支撑条30上的第二过孔301进行对位，得到不同类型的通孔，以满足不同种类有机膜层的膜厚测试需求。在上述测试过程中，无需进行掩膜条20的更换操作，大大降低了掩膜版100的制作成本。

请一并参阅图1和图4，图4是图1中掩膜条一实施方式的结构示意图。在第一方向X上，掩膜条20包括间隔设置的多个有效蒸镀区202，在每个有效蒸镀区202内设置有若干有效像素开口203；且在第一方向X上，相邻两个有效像素开口203的中心点之间具有第一间距L。换言之，有效像素开口203的中心点间距和相邻第一过孔201的中心点间距、以及相邻第二过孔301的中心点间距均相等。该实施方式能够保证当掩膜条20沿第一方向X移动至不同位置时，有效像素开口203仅在第一方向X上移动第一间距L，仍能确保蒸镀过程的实现。

在又一实施方式中，请继续参阅图1和图4，每个有效蒸镀区202外围还包括过渡蒸镀区204；在第一方向X上，过渡蒸镀区204内设置有至少一排过渡像素开口205，每排过渡像素开口205沿第二方向Y延伸，且最靠近有效蒸镀区202的过渡像素开口205与相邻有效像素开口203的中心点之间具有第一间距L。在本实施例中，位于有效蒸镀区202下方的过渡蒸镀区204内设置有一排过渡像素开口205，如图3所示，当掩膜条20沿第一方向X向下移动第一间距L时，此时，有效蒸镀区202内的一排有效像素开口203被支撑条30遮挡，过渡像素开口205会与有效蒸镀区域202内从支撑条30中露出的有效像素开口203相配合，以使得过渡像素开口205与从支撑条30中露出的有效像素开口203构成的有效蒸镀面积与原先的有效蒸镀区域202的有效蒸镀面积相同。该实施方式能够保证蒸镀位置不受掩膜条20移动的影响，有效保障蒸镀效果。需要说明的是，图1中在蒸镀时，虽然过渡像素开口205位置处也会被蒸镀上，由于过渡像素开口205对应的是显示面板的边缘区域，故后续可以通过切割等方式去除。

当然，在其他实施方式中，在第一方向X上，过渡蒸镀区204内还可以设置有多排过渡像素开口205，且相邻两排过渡像素开口205的中心线之间具有第一间距L。该实施方式能够保证当支撑条沿第一方向移动的距离为第一间距L的倍数时，多排过渡像素开口205能够与显示区域内的有效像素开口203相对应，使得蒸镀效果不会受到影响。

本申请实施例还从制备方法角度对掩膜版的制备过程进行详细的介绍。请参阅图5和图1，图5是本申请掩膜版的制备方法一实施方式的流程示意图。本申请所提供的掩膜版的制备方法具体包括如下步骤：

S101：提供框架10。

具体地，在本实施例中，框架10的形状为长方形，框架10的材质为金属。当然，在其他实施方式中，框架的形状还可以为其他形状，例如圆形、多边形等等，框架10还可以选用其他具有耐高温耐腐蚀特性的材质。

S102：将至少一个支撑条30层叠设置于框架10一侧并与框架10固定连接、以及将至少一个掩膜条20层叠设置于框架10一侧并与框架10固定连接；其中，掩膜条20包括贯穿其厚度方向的多个第一过孔201，多个第一过孔201沿第一方向X间隔排布；支撑条30包括贯穿其厚度方向的多个第二过孔301，多个第二过孔301沿第一方向X间隔排布。

具体地，在本实施例中，支撑条30的数量为多个，例如，图1中的3个，且3个支撑条30均与框架10固定连接，并沿第一方向X间隔设置。当然，在其他实施方式中，支撑条30的数量还可以为1个、2个或者更多，此处不作具体限定。在一具体的实施场景中，至少部分支撑条30上设置有多个第二过孔301；例如，图1中至少部分支撑条30上设置有两个第二过孔301。在其他实施方式中，第二过孔301的数量还可以为其他任意数个，具体根据需要的材料检测单元的数量而定，此处不作具体限定。

此外，在本实施例中，掩膜条20的数量为1个，且1个掩膜条20与框架10固定连接。当然，在其他实施方式中，掩膜条20的数量还可以为2个、3个或者更多，此处不作具体限定。在一具体的实施场景中，第一过孔201的数量为三个，在其他实施方式中，第一过孔的数量还以为其他，具体根据需要检测的监测单元的数量而定，此处不作具体限定。

在本实施例中，掩膜条20与支撑条30滑动连接，当支撑条30相对掩膜条20沿第一方向X运动至不同位置时，多个第一过孔201和多个第二过孔301相互配合以形成位置不同的位置状态。上述位置状态至少包括第一状态，即至少一个第一过孔201与至少一个第二过孔301的位置相对应，以形成至少一个贯通掩膜条20厚度方向和支撑条30厚度方向的通孔(未标示)。需要说明的是，上述第一过孔201和第二过孔301的位置相对应具体是指第一过孔201位于第二过孔301的上方，或者第二过孔301在掩膜条20上的正投影覆盖第一过孔201，有利于保证后续通孔的贯通形貌优良，便于测试的进行。最终配合形成的通孔主要用于当使用掩膜版100进行蒸镀或者沉积工艺时，蒸镀或者沉积的材料经由通孔堆积在基底上，形成材料检测单元，材料检测单元可以定位当前蒸镀或沉积的膜层的种类，以及反馈实际蒸镀或沉积的材料层质量和厚度；通过检测材料检测单元的材料质量和厚度，可以获知实际蒸镀或沉积的材料层是否符合要求。

此外，可选地，在本实施例中，可以先将掩膜条20与框架10固定，或者，也可先将支撑条30与框架10固定，本申请对此不作限定。

另外，在上述步骤S101之后，还可以包括：将至少一个遮挡条40层叠设置于掩膜条20和支撑条30之间，且遮挡条40与框架10固定连接；其中，第二过孔301位于横跨相邻遮挡条40之间的支撑条30内。

具体地，在本实施方式中，遮挡条40的数量为2个，当然，在其他实施方式中，遮挡条40的数量还可以为1个、3个、4个或者更多，此处不作具体限定。遮挡条40的形状为条状，在第一方向X上，遮挡条40相对设置的两端与框架10固定连接，此时支撑条30和遮挡条40垂直交叉。需要说明的是，为保证通孔的测试性能，保证其形貌的贯通性，第二过孔301应从遮挡条40露出，其应位于横跨相邻遮挡条40之间的支撑条30内。

可选地，在本实施例中，可以先固定支撑条30以及遮挡条40，后固定设置掩膜条20，不仅有利于减少制造的工艺难度，且能够避免固定设置的支撑条30和遮挡条40的工艺对掩膜条20造成工艺损伤，该工艺损伤可能使得第一过孔201的形貌受到破坏。而对于支撑条30和遮挡条40与框架10的固定顺序并无太大限定。

在本实施例中，当掩膜条相对支撑条在第一方向上位于不同位置时，多个第一过孔和多个第二过孔相互配合以形成位置不同通孔。在一个应用场景中，可以先使掩膜条相对支撑条在第一方向上处于第一位置，以蒸镀第一有机膜层。当第一有机膜层蒸镀完成后，将支撑条从框架上分离，并将支撑条相对掩膜条在第一方向上处于第二位置，以蒸镀第二有机膜层。总而言之，区别于现有技术的情况，本申请中提供一种掩膜版及其制备方法，其中，掩膜版具体包括：框架；至少一个掩膜条，与框架固定连接；掩膜条包括贯穿其厚度方向的多个第一过孔，多个第一过孔沿第一方向间隔排布；至少一个支撑条，支撑条层叠设置于掩膜条一侧，且与框架固定连接；支撑条包括贯穿其厚度方向的多个第二过孔，多个第二过孔沿第一方向间隔排布；其中，当支撑条相对所述掩膜条沿第一方向运动至不同位置时，多个第一过孔和多个第二过孔相互配合以形成位置不同通孔。通过上述设计方案，利用可沿第一方向移动的掩膜条中的第一过孔以及支撑条上的第二过孔，配合形成不同类型的通孔，后续可以基于该通孔的类型区分出不同种类的膜层，即具有定位或标记作用；且后续可以对该通孔位置处的沉积膜层进行膜厚等检测，以确定与该通孔位置处的膜层相应的显示面板中的膜层是否符合要求。此外，本申请在使用同一种掩膜条的前提下，通过移动支撑条的位置进而获得不同位置的通孔，满足不同种类有机膜层的膜厚测试需求，且该过程无需制备多种类型的掩膜条，大大降低了掩膜版的制作成本；同时，由于在蒸镀过程中无需更换掩膜版上的掩膜条，有效提高生产效率，降低生产过程中的人工出错概率。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：

框架；

至少一个掩膜条，包括贯穿其厚度方向的多个第一过孔，多个所述第一过孔沿第一方向间隔排布；

至少一个支撑条，所述支撑条设置于所述掩膜条一侧，且与所述框架固定连接；所述支撑条包括贯穿其厚度方向的多个第二过孔，多个所述第二过孔沿所述第一方向间隔排布；

所述支撑条与所述框架或所述掩膜条滑动连接；

其中，当所述支撑条相对所述掩膜条沿所述第一方向运动至不同位置时，多个所述第一过孔和多个所述第二过孔相互配合以形成不同位置状态，所述位置状态至少包括：

第一状态，至少一个所述第一过孔与至少一个所述第二过孔位置相对应，以形成至少一个贯通所述掩膜条厚度方向和所述支撑条厚度方向的通孔。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

所述掩膜条的长度方向沿所述第一方向设置，所述支撑条的长度方向沿第二方向设置，所述第一方向和所述第二方向相互垂直；

其中，所述支撑条沿其长度方向相对设置的两端分别与所述框架固定连接；所述掩膜条沿其长度方向相对设置的两端分别与所述框架固定连接。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，

相邻两个所述第一过孔的中心点之间具有第一间距，相邻两个所述第二过孔的中心点之间具有所述第一间距。

4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，

当所述支撑条相对所述掩膜条沿所述第一方向运动至第一位置时，至少部分所述第一过孔在所述支撑条上的正投影分别位于对应位置处的所述第二过孔内以形成第一类型通孔；

当所述支撑条相对所述掩膜条沿所述第一方向运动至第二位置时，至少部分所述第一过孔在所述支撑条上的正投影分别位于对应位置处的所述第二过孔内以形成第二类型通孔；

其中，所述第一类型通孔与所述第二类型通孔位置不同。

5.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，

所述掩膜条沿所述第一方向间隔设置有多个有效蒸镀区，在每个所述有效蒸镀区内设置有有效像素开口；且在所述第一方向上，相邻两个所述有效像素开口的中心点之间具有所述第一间距。

6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，

每个所述有效蒸镀区外围还包括过渡蒸镀区；在所述第一方向上，所述过渡蒸镀区内设置有至少一排过渡像素开口，每排所述过渡像素开口沿所述第二方向延伸，且最靠近所述有效蒸镀区的所述过渡像素开口与相邻所述有效像素开口的中心点之间具有所述第一间距；

优选地，在所述第一方向上，所述过渡蒸镀区内设置有多排过渡像素开口，且相邻两排所述过渡像素开口的中心线之间具有所述第一间距。

7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，还包括：

至少一个遮挡条，层叠设置于所述掩膜条和所述支撑条之间，且所述遮挡条与所述框架固定连接；

其中，所述第二过孔位于横跨相邻所述遮挡条之间的所述支撑条内。

8.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

所述第一过孔和所述第二过孔在所述掩膜条上的正投影形状相同；

优选地，所述正投影形状包括圆形、椭圆形、三角形、矩形或六边形中的任意一种。

9.一种掩膜版的制备方法，其特征在于，包括：

提供框架；

将至少一个支撑条层叠设置于所述框架一侧并与所述框架固定连接、以及将至少一个掩膜条层叠设置于所述框架一侧并与所述框架固定连接；其中，所述掩膜条包括贯穿其厚度方向的多个第一过孔，多个所述第一过孔沿第一方向间隔排布；所述支撑条包括贯穿其厚度方向的多个第二过孔，多个所述第二过孔沿第一方向间隔排布；

其中，当所述支撑条相对所述掩膜条沿所述第一方向运动至不同位置时，多个所述第一过孔和多个所述第二过孔相互配合以形成不同测试状态，所述测试状态至少包括：第一状态，至少一个所述第一过孔与至少一个所述第二过孔位置相对应，以形成至少一个贯通所述掩膜条厚度方向和所述支撑条厚度方向的通孔。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述提供框架的步骤之后，包括：

将至少一个遮挡条层叠设置于所述掩膜条和所述支撑条之间，且所述遮挡条与所述框架固定连接；其中，所述第二过孔位于横跨相邻所述遮挡条之间的所述支撑条内。

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