CN115172435A - 显示面板、显示面板的制作方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种显示面板、显示面板的制作方法及显示装置，显示面板包括衬底基板、多个像素单元、封装层、第一触控层、黑矩阵层、彩膜层、第二触控层；封装层设于多个像素单元远离衬底基板的一侧；第一触控层设于封装层远离衬底基板的一侧；黑矩阵层设于封装层远离衬底基板的一侧，黑矩阵层包括间隔设置的多个第一开口；彩膜层设于封装层远离衬底基板的一侧，彩膜层包括填充多个第一开口的多个色阻块；第二触控层包括触控部分及多个反射部分，触控部通过第一过孔与第一触控层连接，反射部分设于第一开口的侧壁与色阻块之间，反射部分配置为对入射至反射部分的光线进行反射，以使反射后的部分光线入射至多个色阻块内。

Description

显示面板、显示面板的制作方法及显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板、显示面板的制作方法及显示装置。

背景技术

由于具有自发光、发光亮度高、分辨率高、宽视角、响应速度快、可柔性化等优点，OLED(Organic Light Emitting Display，有机发光二极管)广泛应用于手机、平板、电视等显示装置中。相关技术中，为降低OLDE显示面板的厚度，且降低外挂式触控基板及滤光组件对OLED显示面板的柔性效果的影响，OLED显示面板多通过FMLOC(Flexible Multi-LayerOn Cell，柔性多层触控结构)及COE(Color Filter on Encapsulation，封装层上彩膜结构)相结合实现显示面板的触控及滤光性能。其中，FMLOC为在OLED显示面板的封装层上制作金属网格电极层来实现显示面板的触控控制，COE是指将彩色滤光片直接制作在OLED显示面板的封装层上以替代偏光片实现滤光彩显功能。

COE包括彩膜层和黑矩阵层，彩膜层包括多个色阻块。由于黑矩阵层为不透光层且具有较强的吸光性能，当OLED显示面板内的光线传输至黑矩阵层时，光线被黑矩阵层吸收，影响OLED显示面板的出光率，降低OLED显示面板的显示亮度和对比度，且为保证OLED显示面板的出光率，需要增加OLED显示面板的功耗。

发明内容

本申请实施例的目的在于提供一种显示面板、显示面板的制作方法及显示装置，以提高显示面板的出光率，提高显示面板的显示亮度和对比度，降低显示面板的功耗。具体技术方案如下：

本申请第一方面的实施例提供了一种显示面板，显示面板包括：

衬底基板及位于所述衬底基板上的矩阵分布的多个像素单元；

封装层，所述封装层设于所述多个像素单元远离所述衬底基板的一侧且覆盖所述多个像素单元；

第一触控层，所述第一触控层设于所述封装层远离所述衬底基板的一侧；

黑矩阵层，所述黑矩阵层设于所述封装层远离所述衬底基板的一侧，所述黑矩阵层包括间隔设置的多个第一开口；

彩膜层，所述彩膜层设于所述封装层远离所述衬底基板的一侧，所述彩膜层包括与所述多个像素单元对应设置的多个色阻块，所述多个色阻块填充所述多个第一开口；

第二触控层，所述第二触控层包括触控部分及多个反射部分，所述触控部分设于所述黑矩阵层远离所述封装层的一侧，所述黑矩阵层上设有第一过孔，所述触控部分通过所述第一过孔与所述第一触控层连接，反射部分设于第一开口的侧壁与色阻块之间，所述反射部分配置为对入射至所述反射部分的光线进行反射，以使反射后的部分光线入射至所述多个色阻块内。

一些实施例中，所述显示面板还包括设于所述封装层及所述第一触控层之间的第一OC层。

一些实施例中，所述显示面板还包括盖板及第二OC层，所述第二OC层设置于所述第二触控层远离所述封装层的一侧，所述盖板设置于所述第二OC层远离所述第二触控层的一侧。

一些实施例中，所述第一OC层的折射率为1.6至1.9，所述第二OC层的折射率为1.6至1.9。

一些实施例中，所述第一触控层为桥接层，所述第二触控层为触控图案层；或所述第一触控层为触控图案层，所述第二触控层为桥接层。

一些实施例中，每一反射部分包括倾斜设置的多个反射面，且所述多个反射面沿朝向所述衬底基板的方向上逐渐靠近。

一些实施例中，像素单元包括晶体管和与所述晶体管电连接的发光单元，所述多个像素单元包括的多个发光单元与所述多个色阻块对应设置；

所述发光单元包括沿远离所述衬底基板的一侧依次设置的阳极层、有机发光层和阴极层；

所述晶体管包括位于所述衬底基板一侧的有源层、第一栅极绝缘层、栅极金属层及源漏金属层，所述栅极金属层包括栅极，所述源漏金属层包括源极和漏极，所述阳极层通过过孔与所述漏极电连接，所述源极和所述漏极通过过孔与所述有源层连接。

本申请第二方面的实施例提供了一种显示面板的制作方法，制作方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成矩阵分布的多个像素单元；

在所述多个像素单元上形成封装层，所述封装层覆盖所述多个像素单元；

在所述封装层上形成第一触控层；

在所述封装层上形成黑矩阵层；

通过第一掩膜版对所述黑矩阵层进行图案化处理，形成间隔设置的多个第一开口及第一过孔；

在所述黑矩阵层上形成第二触控层；

通过第二掩膜版对所述第二触控层进行图案化处理，形成触控部分及多个反射部分，所述触控部分通过所述第一过孔与所述第一触控层连接，所述反射部分设于所述第一开口的内壁；

在所述封装层上形成彩膜层，所述彩膜层包括与所述多个像素单元对应设置的多个色阻块，所述多个色阻块填充所述多个第一开口，所述反射部分配置为对入射至所述反射部分的光线进行反射，以使反射后的部分光线入射至所述多个色阻块内。

一些实施例中，在所述封装层上形成黑矩阵层之前，所述制作方法还包括：在所述封装层上涂覆第一OC层；

在所述封装层上形成彩膜层之后，所述制作方法还包括：在所述黑矩阵层及所述彩膜层上涂覆第二OC层。

本申请第三方面的实施例提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述任一项所述的显示面板。

本申请实施例有益效果：

本申请实施例提供的显示面板中，第二触控层包括触控部分及多个反射部分，触控部分设置于黑矩阵层上，反射部分设置于第一开口的侧壁及置于该第一开口内的色阻块之间。反射部分覆盖第一开口的至少部分侧壁，当由多个像素单元出射的光线传输至第一开口的侧壁时，反射部分可以对光线进行反射，使得反射后的光线传输至色阻块内，然后经由色阻块传输至显示面板外。反射部分能够降低光线经由第一开口的侧壁传输至黑矩阵层的概率，降低黑矩阵层对光线的吸收率，提高显示面板的出光率，提高显示面板的显示亮度和对比度，降低显示面板的功耗。此外，黑矩阵层上设有多个第一过孔，第二触控层的触控部分可以通过第一过孔与第一触控层电连接，黑矩阵层可以用作第一触控层及第二触控层间的绝缘层，无需在第一触控层及第二触控层间设置绝缘层，可以降低显示面板的厚度及工艺复杂度。

当然，实施本申请的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的实施例。

图1为本申请一些实施例中一种显示面板的一种结构示意图；

图2为沿图1中A-A方向的一种剖视图；

图3为沿图1中A-A方向的另一种剖视图；

图4为本申请一些实施例中一种显示面板的制作方法的一种方法流程图；

图5为本申请一些实施例中一种显示面板的制作方法的一种工艺流程图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员基于本申请所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应理解的是，文中使用的术语仅出于描述特定示例实施方式的目的，而无意于进行限制。除非上下文另外明确地指出，否则如文中使用的单数形式“一”、“一个”以及“所述”也可以表示包括复数形式。术语“包括”、“包含”、“含有”以及“具有”是包含性的，并且因此指明所陈述的特征、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但并不排除存在或者添加一个或多个其它特征、步骤、操作、元件、部件、和/或它们的组合。文中描述的方法步骤、过程、以及操作不解释为必须要求它们以所描述或说明的特定顺序执行，除非明确指出执行顺序。还应当理解，可以使用另外或者替代的步骤。

尽管可以在文中使用术语第一、第二、第三等来描述多个元件、部件、区域、层和/或部段，但是，这些元件、部件、区域、层和/或部段不应被这些术语所限制。这些术语可以仅用来将一个元件、部件、区域、层或部段与另一区域、层或部段区分开。除非上下文明确地指出，否则诸如“第一”、“第二”之类的术语以及其它数字术语在文中使用时并不暗示顺序或者次序。因此，以下讨论的第一元件、部件、区域、层或部段在不脱离示例实施方式的教导的情况下可以被称作第二元件、部件、区域、层或部段。

为了便于描述，可以在文中使用空间相对关系术语来描述如图中示出的一个元件或者特征相对于另一元件或者特征的关系，这些相对关系术语例如为“内部”、“外部”、“内侧”、“外侧”、“下面”、“下方”、“上面”、“上方”等。这种空间相对关系术语意于包括除图中描绘的方位之外的在使用或者操作中装置的不同方位。例如，如果在图中的装置翻转，那么描述为“在其它元件或者特征下面”或者“在其它元件或者特征下方”的元件将随后定向为“在其它元件或者特征上面”或者“在其它元件或者特征上方”。因此，示例术语“在……下方”可以包括在上和在下的方位。装置可以另外定向，例如旋转90度或者在其它方向，并且文中使用的空间相对关系描述符相应地进行解释。

需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。

相关技术中，黑矩阵层包括多个开口，彩膜层包括多个色阻块，且多个色阻块一一对应的设置于多个开口内。由于黑矩阵层为不透光层，当显示面板内部的光线传输至黑矩阵层时，黑矩阵层会对光线进行遮挡，影响显示面板的透过率，降低显示面板的显示亮度和对比度，若需要提高显示面板的出光率，需要增加显示面板内部的光线强度，需要增加显示面板的功耗。相关技术中，为提高显示面板的出光率，在开口的侧壁与色阻块之间设置一层反射层，通过反射层对光线进行反射使得光线更多地通过色阻块出射，增加OLED显示面板的光线出光率。但设置反射层可能会导致显示面板的工艺复杂度及工艺难度增加。

为提高显示面板的出光率，提高显示面板的显示亮度和对比度，降低显示面板的功耗，本申请实施例提供了一种显示面板、显示面板的制作方法及显示装置。下面将结合附图对本申请实施例提供的显示面板、显示面板的制作方法及显示装置进行详细说明。其中，显示面板可以为具有触控功能的触控显示面板，如具有FMLOC结构的显示面板等。此外，显示面板包括但不限于LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示面板)、OLED(OrganicLight-Emitting Diode，有机电致发光显示面板)、QLED(Quantum Dot Light EmittingDiodes，量子点电致发光显示面板)或量子点光致发光显示面板等。

本申请第一方面的实施例提供了一种显示面板，如图1至图3所示，显示面板100包括衬底基板1、位于衬底基板上的矩阵分布的多个像素单元2、封装层3、第一触控层4、黑矩阵层5、彩膜层6及第二触控层7。其中，封装层3设于多个像素单元2远离衬底基板1的一侧且覆盖多个像素单元2；第一触控层4设于封装层3远离衬底基板1的一侧；黑矩阵层5设于封装层3远离衬底基板1的一侧，黑矩阵层5包括间隔设置的多个第一开口51；彩膜层6设于封装层3远离衬底基板1的一侧，彩膜层6包括与多个像素单元2对应设置的多个色阻块61，多个色阻块61填充多个第一开口51；第二触控层7包括触控部分71及多个反射部分72，触控部分71设于黑矩阵层5远离封装层3的一侧，黑矩阵层5上设有第一过孔52，触控部分72通过第一过孔52与第一触控层4连接，反射部分72设于第一开口51的侧壁与色阻块21之间，反射部分72配置为对入射至反射部分72的光线进行反射，以使反射后的部分光线入射至多个色阻块61内。

本申请实施例中，封装层3覆盖在多个像素单元2上，用于对多个像素单元2进行封装，降低因水汽等杂质进入多个像素单元2而导致多个像素单元2损坏的概率。可选的，如图3所示，封装层3可以为多层结构，沿远离衬底基板1的方向上，封装层3可以依次包括第一无机封装层31、有机封装层32及第二无机封装层33，封装层3为多层结构能够增加封装层3的严密性，增加封装层3的封装效果。可选的，第一无机封装层31和第二无机封装层33的材料包括氧化硅、氮氧化硅或氮化硅等，有机封装层32的材料包括纤维材料、树脂材料或积层多层板用材料等，可根据实际需求设置，本申请对此不作限定。

黑矩阵层5除多个第一开口51外的其他区域为不透光结构。可选的，黑矩阵层5上除多个第一开口51外的其他区域可以涂覆有不透光的黑色遮光染料。黑矩阵层5用于在环境光进入显示面板100内部被显示面板100内晶体管等结构反射时，对环境光的部分反射光进行遮挡，降低显示面板100的反射率。彩膜层6包括多个色阻块61，第一开口51用于容纳色阻块61，具体的，每一色阻块61置于一个第一开口51内。每一色阻块61与一个像素单元2对应设置，即每一色阻块61在衬底基板1上的正投影覆盖与其对应的像素单元2在衬底基板1上的正投影，色阻块61与像素单元2对应设置能够使得由像素单元2出射的光线能够更多地透过色阻块61，提高显示面板100的透过率，进而提高显示效果。此外，色阻块61还用于滤光。具体的，色阻块61可以为红色色阻块、绿色色阻块及蓝色色阻块，不同颜色的色阻块能够吸收与自身的颜色不同的光线，使得与色阻块同色的光线出射。

可选的，衬底基板1可以为刚性衬底基板，如玻璃衬底基板等。衬底基板1也可以为柔性衬底基板，如聚酰亚胺衬底基板等，本申请对此不作限定。

可选的，第一触控层4的材料可以为金属，第一触控层4的材料还可以为金属氧化物或透明金属氧化物。第二触控层7的材料可以为金属。第二触控层7包括触控部分71和多个反射部分72。触控部分71与第一触控层4过孔连接，两者形成电容型触控结构。每个反射部分72对入射至反射部分72的光线进行反射，使得更多的光线向紧邻的色阻块61传输并透过色阻块61出射。每个反射部分72均与触控部分71不连接。可选的，反射部分72可以置于部分第一开口51内，且每一第一开口51内设有一个反射部分72。可选的，反射部分72的数量可以与第一开口51的数量相等，即每一第一开口51内均设置有一个反射部分72。

反射部分72位于第一开口51的内部，且设置于第一开口51的侧壁与位于该第一开口51内的色阻块61之间。反射部分72可以部分覆盖第一开口51的侧壁，也可以全部覆盖第一开口51的侧壁，当反射部分72全部覆盖第一开口51的侧壁时可以增加反射部分72的覆盖范围，使得更多的光线经由反射部分72反射后进入色阻块61。本申请实施例中，反射部分72及触控部分71为制作第二触控层7时一次制作形成。

在本申请实施例提供的显示面板100中，第二触控层7包括触控部分71及多个反射部分72，触控部分71设置于黑矩阵层5上，反射部分72设置于第一开口51的侧壁及置于该第一开口51内的色阻块61之间。反射部分72覆盖第一开口51的至少部分侧壁，当由多个像素单元2出射的光线传输至第一开口51的侧壁时，反射部分72可以对光线进行反射，使得反射后的光线传输至色阻块61内，然后经由色阻块61传输至显示面板100外。反射部分72能够降低光线经由第一开口51的侧壁传输至黑矩阵层5的概率，降低黑矩阵层5对光线的吸收率，提高显示面板100的出光率，提高显示面板100的显示亮度和对比度，降低显示面板100的功耗。此外，黑矩阵层5上设有多个第一过孔52，第二触控层7的触控部分71可以通过第一过孔52与第二触控层4电连接，黑矩阵层5可以用作第一触控层4及第二触控层7间的绝缘层，无需在第一触控层4及第二触控层间7设置绝缘层，可以降低显示面板100的厚度及工艺复杂度。

此外，相较于相关技术中在黑矩阵层的开口内壁上单独设置反射层，本申请实施例中反射部分72及触控部分71可以在制作第二触控层7时一次制作出来，无需增加额外的掩膜版及工艺步骤，能够进一步降低显示面板100的工艺复杂程度及繁琐程度。

一些实施例中，第一触控层4为桥接层，第二触控层7为触控金属层。将触控金属层更加远离多个像素单元2设置，能够降低触控金属层与多个像素单元2中晶体管等结构发生干涉的概率。

可选的，如图1所示，触控图案层为金属网状结构，金属网状结构包括多个与像素单元2对应设置的多边形金属框，多边形金属框的形状可以与像素单元2的形状相同。且多个色阻块61在衬底基板1上的正投影位于多个不规则的多边形金属框的正投影内。

可选的，如图1所示，第二触控层7为触控图案层时，第二触控层7的触控部分71包括沿第一方向延伸且沿第二方向排列的多个第一触控电极711，和沿第二方向延伸且沿第一方向排列的多个第二触控电极712。其中，如图3所示，第一方向X可以垂直于第二方向Y。其中，第一触控电极711可以为感应电极，第二触控电极712可以为驱动电极；或第二触控电极712为感应电极，第一触控电极711为驱动电极。其中，多个第一触控电极711可以直接电连接，多个第二触控电极712可以通过第一触控层4实现电连接。或者多个第二触控电极712可以直接与电连接，多个第一触控电极711可以通过第一触控层4实现电连接。其中，第一方向X可以为显示面板100的长边方向或宽边方向。

一些实施例中，第一触控层4为触控金属层，第二触控层7为桥接层。由于桥接层的面积较小，因此当第二触控层7为桥接层时，位于黑矩阵层5上的触控部分71的面积较小，能够降低环境光入射至显示面板100内时，位于上方的第二触控层7的反射面积，从而降低显示面板100的反射率，进一步提高显示面板100的显示效果。

一些实施例中，显示面板100还包括设于封装层3及第一触控层4之间的第一OC层8。

本申请实施例中，第一OC层8可以用作封装层3及第一触控层4之间的绝缘层，无需为第一触控层4单独设置绝缘层，能够进一步降低显示面板100的厚度。第一OC层8的材料可以为树脂等。第一OC层8具有较高的折射率，第一OC层8能够对由多个像素单元2出射的光线进行折射，改变光线的传输路径，使得折射后的光线更多的进入色阻块61内，降低光线进入黑矩阵层5的概率，进一步提升显示面板100的出光率。如图2所示，光线进入第一OC层8后，第一OC层8能够对光线进行折射，增加角度G的出射光，使得光线更多的进入色阻块61内。此外，第一OC层8具有较好的柔性，采用第一OC层8充当第一触控层4与封装层3间的绝缘层，能够增加显示面板100的柔性。

可选的，第一OC层8的折射率为1.6至1.9。

可选的，第一OC层8的厚度为2μm至4μm。

一些实施例中，显示面板100还包括盖板9及第二OC层10，第二OC层10设置于第二触控层7远离封装层3的一侧，盖板9设置于第二OC层10远离第二触控层7的一侧。

本申请实施例中，第二OC层10可以用作第二触控层7及盖板9之间的绝缘层。第二OC层10的材料可以为树脂等。第二OC层10具有较高的折射率，第二OC层10能够更多的对经由多个色阻块61出射的光线进行折射，改变光线的传输路径，使得折射后的光线更加聚集，提高显示面板的正向出光率。如图2所示，光线进入第二OC层10后，第二OC层10能够对光线进行折射，增加角度F的出射光，增加显示面板100的正向出光率。此外，第二OC层10具有较好的柔性，采用第二OC层10充当第二触控层7与盖板9间的绝缘层，能够进一步增加显示面板100的柔性。

可选的，第二OC层10的折射率为1.6至1.9。

可选的，第二OC层10的厚度为2μm至4μm。

一些实施例中，如图2所示，每一反射部分72包括倾斜设置的多个反射面721，且多个反射面721沿朝向衬底基板1的方向上逐渐靠近。

本申请实施例中，如图2所示，多个反射面721倾斜放置，且多个反射面721沿朝向衬底基板1的方向上组件靠近，即多个反射面721所在的平面与封装层3上表面所在的平面呈钝角设置。像素单元2出射的光线向四周发散，多个折射面721倾斜设置，能够使光线更多的入射至折射面721上。且多个折射面721的上端外扩，能够使折射后的光线的折射角度增加，从而使得光线更多的进入色阻块61内，进一步提升显示面板100的出光率。可选的，多个折射面721可以为一体结构。

一些实施例中，像素单元2包括晶体管21和与晶体管21电连接的发光单元22，多个像素单元2包括的多个发光单元22与多个色阻块61对应设置。发光单元22包括沿远离衬底基板1的一侧依次设置的阳极层221、有机发光层222和阴极层223。晶体管21包括位于衬底基板1一侧的有源层211、第一栅极绝缘层212、栅极金属层213及源漏金属层214，栅极金属层213包括栅极2131，源漏金属层214包括源极2141和漏极2142，阳极层221通过过孔与漏极2142电连接，源极2141和漏极2142通过过孔与有源层211连接。

本申请实施例中，阳极层221可以与像素电极电连接或用作像素电极，阴极层223可以与公共电极电连接或用作公共电极。阳极层221及阴极层223的材料可以包括透明金属氧化物，如氧化铟锌(IZO)、氧化铟锡(ITO)等，阳极层221及阴极层223的材料还可以包括铜、铝、银等金属材料或包含上述金属材料的合金材料等，可根据实际需求设置，本申请对此不作限定。可选的，部分或全部发光单元22的阴极层223可以连接为一体以具有等电势。晶体管21用于向与其对应的发光单元22施加电压，以使发光单元22内的发光层222复合发光。

栅极金属层212及源漏金属层214的材料可以包括铜、铝、银等金属材料或包含上述金属材料的合金材料。第一栅极绝缘层212的材料可以包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等无机绝缘材料，或者可以包括聚酰亚胺、聚酞亚胺、聚酞胺、丙烯酸树脂、苯并环丁烯或酚醛树脂等有机绝缘材料。可选的，栅极金属层212可以为具有铜层及钼铌层的层叠结构，钼铌层用于对铜层进行保护。此外，源漏金属层214也均可以包括铜层和用于保护铜层的钼铌层，类似地，钼铌层对铜层具有保护作用，可以降低铜层被腐蚀的概率。可选的，晶体管21可以为顶栅结构或底栅结构，晶体管21也可以为双栅结构，本申请对此不作限定。

本申请第二方面的实施例提供了一种显示面板的制作方法，如图4和图5所示，制作方法包括以下步骤。

步骤S401，提供一衬底基板。

步骤S402，在衬底基板上形成矩阵分布的多个像素单元。

步骤S403，在多个像素单元上形成封装层，封装层覆盖多个像素单元。

步骤S404，在封装层上形成第一触控层。

步骤S405，在封装层上形成黑矩阵层。

步骤S406，通过第一掩膜版对黑矩阵层进行图案化处理，形成间隔设置的多个第一开口及第一过孔。

步骤S407，在黑矩阵层上形成第二触控层。

步骤S408，通过第二掩膜版对第二触控层进行图案化处理，形成触控部分及多个反射部分，触控部分通过第一过孔与第一触控层连接，反射部分设于第一开口的内壁。

步骤S409，在封装层上形成彩膜层，彩膜层包括与多个像素单元对应设置的多个色阻块，多个色阻块填充多个第一开口，反射部分配置为对入射至反射部分的光线进行反射，以使反射后的部分光线入射至多个色阻块内。

通过本申请实施例提供的制作方法制作而成的显示面板100中，第二触控层7包括触控部分71及多个反射部分72，触控部分71设置于黑矩阵层5上，反射部分72设置于第一开口51的侧壁及置于该第一开口51内的色阻块61之间。反射部分72覆盖第一开口51的至少部分侧壁，当由多个像素单元2出射的光线传输至第一开口51的侧壁时，反射部分72可以对光线进行反射，使得反射后的光线传输至色阻块61内，然后经由色阻块61传输至显示面板外。反射部分72能够降低光线经由第一开口51的侧壁传输至黑矩阵层5的概率，降低黑矩阵层5对光线的吸收率，提高显示面板100的出光率，提高显示面板100的显示亮度和对比度，降低显示面板100的功耗。此外，黑矩阵层5上设有多个第一过孔52，第二触控层7的触控部分72可以通过第一过孔52与第二触控层4电连接，黑矩阵层5可以用作第一触控层4及第二触控层7间的绝缘层，无需在第一触控层4及第二触控层间7设置绝缘层，可以降低显示面板100的厚度及工艺复杂度。此外，反射部分72及触控部分71可以在制作第二触控层7时一次制作出来，无需增加额外的掩膜版及工艺步骤，能够进一步降低显示面板100的工艺复杂程度及繁琐程度。

一些实施例中，如图5所示，在步骤S405之前，制作方法还包括:

S410，在封装层3上涂覆第一OC层8。

在步骤S409，制作方法还包括：

S411，在黑矩阵层5及彩膜层6上涂覆第二OC层9。

S412，在第二OC层9上覆盖盖板10。

本申请实施例中，第一OC层8可以用作封装层3及第一触控层4之间的绝缘层，无需为第一触控层4单独设置绝缘层，能够进一步降低显示面板100的厚度。第一OC层8的材料可以为树脂等。第一OC层8具有较高的折射率，第一OC层8能够更多的对由多个像素单元2出射的光线进行折射，改变光线的传输路径，使得折射后的光线更多的进入色阻块61内，降低光线进入黑矩阵层5的概率，进一步提升显示面板100的出光率。第二OC层10可以用作第二触控层7及盖板9之间的绝缘层。第二OC层10的材料可以为树脂等。第二OC层10具有较高的折射率，第二OC层10能够更多的对经由多个色阻块61出射的光线进行折射，改变光线的传输路径，使得折射后的光线向四周发散，使得显示面板100的出光更加均匀。此外，第二OC层10具有较好的柔性，采用第二OC层10充当第二触控层7与盖板9间的绝缘层，能够进一步增加显示面板100的柔性。

本申请第三方面的实施例提供了一种显示装置，显示装置包括上述任一实施例中的显示面板100。其中，显示装置包括但不限于手机、平板电脑、显示器、电视机、画屏、广告屏、电子纸等。由于显示装置包括上述显示面板100，因此显示装置具有上述显示面板100所具有的全部优点。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本申请的权利要求和说明书的范围当中。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本申请并不局限于文中申请的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (10)

1.一种显示面板(100)，其特征在于，包括：

衬底基板(1)及位于所述衬底基板(1)上的矩阵分布的多个像素单元(2)；

封装层(3)，所述封装层(3)设于所述多个像素单元(2)远离所述衬底基板(1)的一侧且覆盖所述多个像素单元(2)；

第一触控层(4)，所述第一触控层(4)设于所述封装层(3)远离所述衬底基板(1)的一侧；

黑矩阵层(5)，所述黑矩阵层(5)设于所述封装层(3)远离所述衬底基板(1)的一侧，所述黑矩阵层(5)包括间隔设置的多个第一开口(51)；

彩膜层(6)，所述彩膜层(6)设于所述封装层(3)远离所述衬底基板(1)的一侧，所述彩膜层(6)包括与所述多个像素单元(2)对应设置的多个色阻块(61)，所述多个色阻块(61)填充所述多个第一开口(51)；

第二触控层(7)，所述第二触控层包(7)括触控部分(71)及多个反射部分(72)，所述触控部分(71)设于所述黑矩阵层(5)远离所述封装层(3)的一侧，所述黑矩阵层(5)上设有第一过孔(52)，所述触控部分(71)通过所述第一过孔(52)与所述第一触控层(4)连接，反射部分(72)设于第一开口(51)的侧壁与色阻块(61)之间，所述反射部分(72)配置为对入射至所述反射部分(72)的光线进行反射，以使反射后的部分光线入射至所述多个色阻块(61)内。

2.根据权利要求1所述的显示面板(100)，其特征在于，所述显示面板(100)还包括设于所述封装层(3)及所述第一触控层(4)之间的第一OC层(8)。

3.根据权利要求2所述的显示面板(100)，其特征在于，所述显示面板(100)还包括盖板(9)及第二OC层(10)，所述第二OC层(10)设置于所述第二触控层(7)远离所述封装层(3)的一侧，所述盖板(9)设置于所述第二OC层(10)远离所述第二触控层(7)的一侧。

4.根据权利要求3所述的显示面板(100)，其特征在于，所述第一OC层(8)的折射率为1.6至1.9，所述第二OC层(10)的折射率为1.6至1.9。

5.根据权利要求1所述的显示面板(100)，其特征在于，所述第一触控层(4)为桥接层，所述第二触控层(7)为触控图案层；或所述第一触控层(4)为触控图案层，所述第二触控层(7)为桥接层。

6.根据权利要求1所述的显示面板(100)，其特征在于，每一反射部分(72)包括倾斜设置的多个反射面(721)，且所述多个反射面(721)沿朝向所述衬底基板(1)的方向上逐渐靠近。

7.根据权利要求1所述的显示面板(100)，其特征在于，像素单元(2)包括晶体管(21)和与所述晶体管(21)电连接的发光单元(22)，所述多个像素单元(2)包括的多个发光单元(22)与所述多个色阻块(61)对应设置；

所述发光单元(22)包括沿远离所述衬底基板的一侧依次设置的阳极层(221)、有机发光层(222)和阴极层(223)；

所述晶体管(21)包括位于所述衬底基板(1)一侧的有源层(211)、第一栅极绝缘层(212)、栅极金属层(213)及源漏金属层(214)，所述栅极金属层(213)包括栅极(2131)，所述源漏金属层(214)包括源极(2141)和漏极(2142)，所述阳极层(221)通过过孔与所述漏极(2142)电连接，所述源极(2141)和所述漏极(2142)通过过孔与所述有源层(211)连接。

8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成矩阵分布的多个像素单元；

在所述多个像素单元上形成封装层，所述封装层覆盖所述多个像素单元；

在所述封装层上形成第一触控层；

在所述封装层上形成黑矩阵层；

通过第一掩膜版对所述黑矩阵层进行图案化处理，形成间隔设置的多个第一开口及第一过孔；

在所述黑矩阵层上形成第二触控层；

通过第二掩膜版对所述第二触控层进行图案化处理，形成触控部分及多个反射部分，所述触控部分通过所述第一过孔与所述第一触控层连接，反射部分设于第一开口的内壁；

在所述封装层上形成彩膜层，所述彩膜层包括与所述多个像素单元对应设置的多个色阻块，所述多个色阻块填充所述多个第一开口，所述反射部分配置为对入射至所述反射部分的光线进行反射，以使反射后的部分光线入射至所述多个色阻块内。

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在所述封装层上形成黑矩阵层之前，所述制作方法还包括：

在所述封装层上涂覆第一OC层；

在所述封装层上形成彩膜层之后，所述制作方法还包括：

在所述黑矩阵层及所述彩膜层上涂覆第二OC层。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1至7任一项所述的显示面板。

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