CN115148848A - 链式吸杂用磷源及其制备方法和应用 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种链式吸杂用磷源,其各组分的质量百分含量为:磷源前驱体2%~10%,聚乙二醇1%~20%,柠檬酸1%~5%,有机溶剂1%~10%,余量为水。本发明还提供上述链式吸杂用磷源的制备方法和应用。本发明的磷源能很好的匹配现有链式扩散吸杂设备,可避免或改善现有磷源链式高温扩散吸杂产生偏磷酸、焦磷酸残留的问题。本发明通过调整磷源配方,优化链式扩磷吸杂的温度、时间、氛围等参数,使扩磷的扩散均匀性、结深等性质较常规磷酸混合液有所提升。采用本发明制备的磷源,结合链式设备进行快速磷扩散,可在较短的时间内达到与传统管式扩散一样的扩散水平,使链式扩散的工业化应用得以实现,解决了目前管式扩散设备及自动化昂贵的问题。

Description

链式吸杂用磷源及其制备方法和应用
技术领域
本发明涉及光伏领域,具体涉及一种链式吸杂用磷源及其制备方法和应用。
背景技术
晶体硅中杂质的P吸除是一种众所周知的常规方法,通过P捕获杂质来延长整体少数载流子的寿命从而改善电池性能。重掺P杂质层可提供大量吸杂机制:分凝机制、应力吸杂机制等。目前常规PERC和TOPCon电池制备过程中,就是利用磷扩散制备的pn结良好的吸杂效果。
在太阳能电池领域,磷扩散主要以POCl3为前驱体管式高温扩散为主,扩散设备及自动化昂贵,前驱体POCl3剧毒且有强腐蚀性。在应用于吸杂过程中,为实现更好的双面吸杂效果,产能损失较大,且随着薄片化需求的不断发展,管式吸杂高碎片风险的问题逐渐突出,因而链式吸杂应运而生。
链式吸杂与链式扩散类似,目前研究的磷源主要以简单的磷酸混合溶液以及Filmtronics、Honeywell等公司研发的进口磷源为主。单纯的磷酸混合溶液,在高温过程中不可避免的会生成难以去除的偏磷酸、焦磷酸等物质,扩散不均匀,表面死层较厚,制备的PN结质量较差,结深较浅,使吸杂性能无法提高,且为获得Filmtronics、Honeywell等公司研发的磷源价格十分昂贵,制约了其工业化的研究与应用。
有鉴于此,制备一种价格低廉的适用于链式吸杂的磷源,使其在链式设备上应用能达到优于管式吸杂的水平至关重要。
发明内容
为了解决现有技术的缺陷,本发明提供一种链式吸杂用磷源,其各组分的质量百分含量为:磷源前驱体2%~10%,聚乙二醇1%~20%,柠檬酸1%~5%,有机溶剂1%~10%,余量为水。
优选的,所述磷源前驱体选自磷酸、P2O5、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、多聚磷酸、磷酸酯中的一种或几种。
优选的,所述磷酸酯选自焦磷酸酯、聚磷酸酯、磷酸多酯、亚磷酸酯、连二磷酸酯、磷酸三乙酯、2-乙基己基磷酸酯、次磷酸酯中的一种或几种。
优选的,所述有机溶剂选自酯类有机溶剂、醇类有机溶剂、酰胺类有机溶剂中的一种或几种。
优选的,所述酯类有机溶剂选自甲酸酯类有机溶剂、乙酸酯类有机溶剂、甘油酯类有机溶剂、磷酸酯类有机溶剂、磷酯类有机溶剂、硅酸酯类有机溶剂中的一种或几种。
优选的,所述醇类有机溶剂选自甲醇、乙醇、异丙醇中的一种或几种。
本发明还提供上述链式吸杂用磷源的制备方法,包括如下步骤:将质量百分含量为2%~10%的磷源前驱体、1%~20%的聚乙二醇、1%~5%的柠檬酸、1%~10%有机溶剂以及余量的水投入反应器中,于25~150℃反应2~48h,过滤得到磷源。
本发明还提供一种链式吸杂方法,在链式扩散设备中对表面沉积上述磷源的硅片进行扩磷吸杂(磷源扩散和磷吸杂)。
优选的,采用旋涂、喷涂或滚涂方式沉积磷源。
优选的,磷源的沉积厚度为1~2μm;扩磷吸杂的工艺条件:温度为200~900℃,时间为10~200s,氛围为氮气或者氧气。
本发明的优点和有益效果在于:
本发明的磷源能很好的匹配现有的链式扩散吸杂设备,本发明的磷源可避免或改善现有磷源(磷酸混合液)链式高温扩散吸杂产生偏磷酸、焦磷酸残留的问题。
现有磷源主要成分为磷酸,磷酸在200℃左右脱水形成焦磷酸,在300℃形成偏磷酸,继续升温,偏磷酸脱水形成五氧化二磷起到扩散的效果。现有以磷酸为主要成分的磷源(主要应用与链式扩散领域),为获得较好的扩散或吸杂效果,需要较高浓度的磷酸,10%以上,在高温过程中磷酸脱水,形成大量的偏磷酸固体,在炉口聚集,较难通过简单的清洗手段去除,影响设备外观及使用。
本发明摈弃传统的磷酸为主要成分的磷源,以P2O5、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、多聚磷酸、磷酸酯等混合形成复合磷源,极大的减少溶液中磷酸的含量,减轻偏磷酸、焦磷酸等物质的残留,对改善炉口偏磷酸固体沉淀问题改善明显。
本发明通过调整磷源配方,优化链式扩磷吸杂的温度、时间、氛围等参数,使扩磷的扩散均匀性、结深等性质较常规磷酸混合液有所提升,且能达到与管式扩散一致的水平。
磷源中添加柠檬酸组分,可以减轻活性组分与载体之间的相互作用,进而改善活性磷原子在硅片表面的分散状态,使磷在硅片表面分散更加均匀,获得更好的扩散均匀性。
采用复合磷源,磷源中增加磷酸二氢铵、磷酸氢二铵等组分,溶液中的产生的大量铵根离子,扩散过程中在硅片体内形成大量空穴,空穴辅助磷源扩散,使活性磷原子获得更深的扩散深度。
本发明的磷源低毒,且原料易获得,价格低廉。
采用本发明制备的磷源,结合链式设备进行快速磷扩散,可在较短的时间内达到与传统管式扩散一样的扩散水平,使链式扩散的工业化应用得以实现,解决了目前管式扩散设备及自动化昂贵的问题。
具体实施方式
下面结合实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。
本发明提供一种链式吸杂方法,包括如下步骤:
1)制备链式吸杂用磷源:将质量百分含量为2%~10%的磷源前驱体、1%~20%的聚乙二醇、1%~5%的柠檬酸、1%~10%有机溶剂以及余量的水投入反应器中,于25~150℃反应2~48h,过滤得到磷源;其中:
所述磷源前驱体选自磷酸、P2O5、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、多聚磷酸、磷酸酯中的一种或几种;
具体的,所述磷酸酯选自焦磷酸酯、聚磷酸酯、磷酸多酯、亚磷酸酯、连二磷酸酯、磷酸三乙酯、2-乙基己基磷酸酯、次磷酸酯中的一种或几种;
所述有机溶剂选自酯类有机溶剂、醇类有机溶剂、酰胺类有机溶剂中的一种或几种;
具体的,所述酯类有机溶剂选自甲酸酯类有机溶剂、乙酸酯类有机溶剂、甘油酯类有机溶剂、磷酸酯类有机溶剂、磷酯类有机溶剂、硅酸酯类有机溶剂中的一种或几种;
具体的,所述醇类有机溶剂选自甲醇、乙醇、异丙醇中的一种或几种;
2)在链式扩散设备中对表面沉积上述磷源的硅片进行扩磷吸杂(即磷源扩散和磷吸杂);具体的:
采用旋涂、喷涂或滚涂方式在硅片表面沉积磷源,磷源的沉积厚度为1~2μm;
链式扩散设备中扩磷吸杂的工艺条件:温度为200~900℃,时间为10~200s,氛围为氮气或者氧气。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.链式吸杂用磷源,其特征在于,其各组分的质量百分含量为:磷源前驱体2%~10%,聚乙二醇1%~20%,柠檬酸1%~5%,有机溶剂1%~10%,余量为水。
2.根据权利要求1所述的链式吸杂用磷源,其特征在于,所述磷源前驱体选自磷酸、P2O5、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、多聚磷酸、磷酸酯中的一种或几种。
3.根据权利要求2所述的链式吸杂用磷源,其特征在于,所述磷酸酯选自焦磷酸酯、聚磷酸酯、磷酸多酯、亚磷酸酯、连二磷酸酯、磷酸三乙酯、2-乙基己基磷酸酯、次磷酸酯中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的链式吸杂用磷源,其特征在于,所述有机溶剂选自酯类有机溶剂、醇类有机溶剂、酰胺类有机溶剂中的一种或几种。
5.根据权利要求4所述的链式吸杂用磷源,其特征在于,所述酯类有机溶剂选自甲酸酯类有机溶剂、乙酸酯类有机溶剂、甘油酯类有机溶剂、磷酸酯类有机溶剂、磷酯类有机溶剂、硅酸酯类有机溶剂中的一种或几种。
6.根据权利要求4所述的链式吸杂用磷源,其特征在于,所述醇类有机溶剂选自甲醇、乙醇、异丙醇中的一种或几种。
7.权利要求1至6中任一项所述的链式吸杂用磷源的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:将质量百分含量为2%~10%的磷源前驱体、1%~20%的聚乙二醇、1%~5%的柠檬酸、1%~10%有机溶剂以及余量的水投入反应器中,于25~150℃反应2~48h,过滤得到磷源。
8.链式吸杂方法,其特征在于,在链式设备中对表面沉积磷源的硅片进行扩磷吸杂,且磷源采用权利要求1至7中任一项所述的磷源。
9.权利要求8所述的链式吸杂方法,其特征在于,采用旋涂、喷涂或滚涂方式沉积磷源。
10.权利要求8所述的链式吸杂方法,其特征在于,磷源的沉积厚度为1~2μm;扩磷吸杂的工艺条件:温度为200~900℃,时间为10~200s,氛围为氮气或者氧气。
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