CN115145107A - 基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布及制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布及制备方法，投影幕布包括：PDMS柔性基底；微米级凹形反射镜阵列，形成于PDMS柔性基底的下层，包括多个间隔设置的凹形反射镜；多个纳米级沟槽疏水结构，形成于PDMS柔性基底的上层，每个纳米级沟槽疏水结构均对应于相邻的两个凹形反射镜之间，并且分别包括相间隔设置的多个沟槽和多个凸起。制备方法包括采用激光直写3D光刻技术将投影幕布结构制备到光刻胶上；基于光刻胶的结构制备PDMS模具；将PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上；在柔性基底表面磁控溅射镀银投影幕布。本发明利用微形凹反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构，使投影幕布具有153.7°水滴接触角、2.1°水滴滚动角、增益倍数达到了2.32。

Description

基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布及制备 方法

技术领域

本发明属于投影幕布制备技术领域，具体涉及基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布以及该基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布的制备方法。

背景技术

投影幕布是一款广泛使用并且具备巨大商业价值的产品，在家庭影院、巨幕影院、光束整形、增强现实、虚拟现实邻域应用潜力巨大。在不同应用领域中，幕布会面临各种户外环境的考验，如幕布在户外受到环境光影响会导致投影幕布增益效果较低，从而成像效果变差；传统投影幕布需要刚性支撑，导致其使用受限制；此外，投影幕布一旦暴露在潮湿的室外环境中，水蒸气和水滴就会附着在其表面，严重干扰其成像性能。

受昆虫复眼和荷叶表面的启发，投影幕布在投影幕布表面设置有光学增益层和疏水结构层的多层微纳结构，从而提高其光学增益和疏水性能，使其在户外环境下仍有良好的成像性能，能够免受水滴干扰，并且从幕布表面离开的水滴将其表面的灰尘带走，从而达到了自清洁的功能。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足之处，提供一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布以及该基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布的制备方法，利用微形凹反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构设计并制备出柔性投影幕布，使投影幕布具有柔性弯曲、不易凝结水滴、自清洁灰尘等优点，提高了投影幕布增益效果及亮度，扩展了投影幕布的使用场景。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：

一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，包括：

PDMS柔性基底；

微米级凹形反射镜阵列，形成于所述PDMS柔性基底的下层，包括多个间隔设置的凹形反射镜；

多个纳米级沟槽疏水结构，形成于所述PDMS柔性基底的上层，并且每个所述纳米级沟槽疏水结构均对应于相邻的两个所述凹形反射镜之间，每个所述纳米级沟槽疏水结构分别包括相间隔设置的多个沟槽和多个凸起。

较佳地，所述多个沟槽和所述多个凸起之间为一一间隔设置。

较佳地，位于内部的所述凹形反射镜与其相邻的所述凹形反射镜之间的间隔为5um-10um；和/或，所述凹形反射镜的尺寸参数满足：口径为75um-85um，深度为10um-14um。

较佳地，每个所述纳米级沟槽疏水结构分别包括多个沟槽和多个凸起。

较佳地，所述纳米级沟槽疏水结构的总宽度为15um-25um，并且单个所述沟槽或所述凸起的参数满足：宽度不大于500nm，高度为1-2um。

较佳地，相邻的所述凹形反射镜和纳米级沟槽疏水结构的尺寸参数满足：总宽度不大于100um，总高度不大于16um。

一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布制备方法，用于制备上述任意方案所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，所述制备方法包括以下步骤：

采用激光直写3D光刻技术将与投影幕布结构特征一致的微米级凹形反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构制备到光刻胶层上，得到光刻胶复制件；

基于所述光刻胶复制件制备得到PDMS模具；

将所述PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上，得到超疏水自清洁柔性微米级凹形透镜阵列；

对转印后的PDMS柔性基底表面进行磁控溅射镀银处理，从而制备得到基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。

较佳地，所述采用激光直写3D光刻技术将与投影幕布结构特征一致的微米级凹形反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构制备到光刻胶层上，得到光刻胶复制件的步骤包括：

1)在玻璃基本上匀涂光刻胶，离心速度为500rpm，离心时间30s，并静止20min；

2)将光刻胶放置在90℃热板上，放置30min；

3)将前烘后的光刻胶放置在3D激光直写光刻机中，并对其进行图案化曝光；

4)将曝光后的光刻胶进行显影，并进行烘烤，烘烤时间35s，即得到所述光刻胶复制件。

较佳地，所述基于所述光刻胶复制件制备得到PDMS模具的步骤包括：

1)计算出所需的PDMS液体质量；

2)将PDMS主剂与固化剂按10：1的比例混合并搅拌20分钟，使其充分混合；

3)将混合后的液体放入真空塔内，抽取气泡；

4)在图案化的光刻上旋涂PDMS，烘烤温度70℃，时间3h；

5)揭膜，制备得到所述PDMS模具。

较佳地，所述将所述PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上，得到投影幕布中间件的步骤包括：

1)用等离子清洗机对PDMS模具进行等离子清洗，功率为200w，时间为30s；

2)将等离子清洗后的PDMS模具和氟硅烷一同放入真空塔内，氟硅烷为80ul；

3)抽真空并静置，时间15min；

4)在PDMS模具上旋涂PDMS，烘烤温度70℃，时间3h；

5)揭膜，制备得到所述超疏水自清洁柔性微米级凹形透镜阵列。

较佳地，所述对转印后的PDMS柔性基底表面进行磁控溅射镀银处理的步骤包括：

1)将超疏水自清洁柔性微米级凹形透镜阵列、靶材银放入磁控溅射仪规定位置；

2)通电后缓慢升温至银蒸发，镀膜过程持续时间为60s；

3)取出样品后静置3h，即制备得到基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。

与现有技术相比，本发明的有益效果为：本发明的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，由柔性材料作为基底并在其上面成功地制备了所需的微纳米结构，具体是在PDMS柔性基底上构建了多层微纳米结构，即下层的微米级凹形反射镜阵列和上层的纳米级沟槽超疏水结构，利用了微米级凹形反射镜阵列优异的光学性能和纳米级沟槽结构的超疏水性能，使投影幕布具有柔性弯曲、不易凝结水滴、自清洁灰尘等优点，克服了现有的一般投影幕布存在的增益倍数低、不能柔性弯曲、易凝结水滴、易被灰尘污染等缺陷，提高了投影幕布增益效果及亮度，扩展了投影幕布的使用场景。

另外，本发明的疏水自清洁高增益柔性投影幕布制备方法，首先采用激光直写3D光刻技术只通过一次光刻曝光即可将疏水自清洁高增益柔性投影幕布的结构特征制备到光刻胶上，并且在光刻过程中，通过计算光刻的光学成像反演模型得到的曝光参数可将结构特征的误差控制较小范围内；然后，在光刻胶结构上涂抹PDMS材料，经过高温固化、揭膜即可制备得到PDMS模具；进一步，对PDMS模具采取等离子清洗、硅烷化表面处理后涂抹PDMS柔性基底材料，经过高温固化、揭膜即可将结构特征从PDMS模具转印到PDMS柔性基底上；最后，使用磁控溅射仪在PDMS柔性基底表面镀预定厚度的银膜，从而制备出基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。

附图说明

图1是本发明的实施例中基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布的主视图。

图2是图1的侧视图。

图3是本发明的实施例中基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布局部结构的主视图。

图4是图3的侧视图。

图5是本发明的实施例中基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布制备方法的流程图。

其中，10—PDMS柔性基底20—微米级凹形反射镜阵列30—纳米级沟槽疏水结构21—凹形反射镜31—沟槽32—凸起

具体实施方式

下面结合附图所示的实施例对本发明作进一步说明。

如附图1至图4所示，本实施例公开了一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，包括：PDMS柔性基底10、微米级凹形反射镜阵列20以及多个纳米级沟槽疏水结构30。

在本实施例中，PDMS是一种能直接制备或转印微纳米结构的柔性材料，以便于在其上形成微米级凹形反射镜阵列20以及多个纳米级沟槽疏水结构30。具体地，可按照实际需求或实验条件设计PDMS柔性基底的大小或尺寸。

如图1和图2所示，微米级凹形反射镜阵列20形成于PDMS柔性基底10的下层内，包括多个间隔设置的凹形反射镜21。这里，凹形反射镜21同样为微米级结构，而且所有的凹形反射镜21的结构与尺寸均相同设置。

多个纳米级沟槽疏水结构30形成于PDMS柔性基底10的上层内，并且每个纳米级沟槽疏水结构30均对应于相邻的两个凹形反射镜21之间的位置上。具体地，如图3和图4所示，每个纳米级沟槽疏水结构30分别由相间隔设置的多个沟槽31和多个凸起32构成。

值得注意的是，本实施例的方案中，可以根据实际需求，将所有的纳米级沟槽疏水结构30中所包括的沟槽31和凸起32的数量和规格尺寸可以设置为相同或不相同；而且，同一个纳米级沟槽疏水结构30中，所有的沟槽31和凸起32为间隔设置，具体的间隔方式可以根据实际需求设置。

例如，图1中所示，位于边缘的纳米级沟槽疏水结构30中沟槽31和凸起32的数量为十个；而位于内部区域的纳米级沟槽疏水结构30的沟槽31和凸起32的数量为二十个。而且，将沟槽31和凸起32设置为具有相同的宽度尺寸。另外，在同一个纳米级沟槽疏水结构30中，将多个沟槽31和多个凸起32设置为一一间隔设置，即一个沟槽31与一个凸起32相配合间隔设置，使纳米级沟槽疏水结构30达到最佳疏水性能。

基于上述结构，本实施例的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，由柔性材料作为基底并在其上面成功地制备了所需的微纳米结构，具体是在PDMS柔性基底上构建了多层微纳米结构，即下层的微米级凹形反射镜阵列和上层的纳米级沟槽超疏水结构，利用了微米级凹形反射镜阵列优异的光学性能和纳米级沟槽结构的超疏水性能，使投影幕布具有柔性弯曲、不易凝结水滴、自清洁灰尘等优点，提高了投影幕布增益效果及亮度，扩展了投影幕布的使用场景。

在另一实施例中，作为一具体实施方式，构成微米级凹形反射镜阵列20的多个凹形反射镜21之间，位于内部的凹形反射镜21与其相邻的凹形反射镜21之间的间隔可以设置为5um-10um，也就是说，每个凹形反射镜21与其上下左右四个方向的凹形反射镜21之间的间隔可以设置为5um-10um。另外，单个凹形反射镜21的尺寸参数可以设置为满足如下范围值，即凹形反射镜21的口径为75um-85um，且其深度为10um-14um。

在另一实施例中，作为一具体实施方式，单个纳米级沟槽疏水结构30的总宽度可以设置为15um-25um，并且其中的单个沟槽31或凸起32的尺寸参数满足如下设置，即单个沟槽31或凸起32宽度不大于500nm，且其高度为1-2um，这里的最小宽度可以根据加工条件和成本进行选择。

在另一实施例中，作为一具体实施方式，相邻的凹形反射镜21和纳米级沟槽疏水结构30的整体尺寸参数还可以满足如下设置即可，即二者的总宽度不大于100um，且总高度不大于16um。

基于上述凹形反射镜21和纳米级沟槽疏水结构30的尺寸参数的设置范围，最优地，可以将相邻两个凹形反射镜21之间的间隔设置为10um，单个凹形反射镜21的口径为80um、深度为12um。另外，纳米级沟槽疏水结构30的整体的宽度为10um、高度为1um，并且，其由十个宽度为500nm的沟槽和十个宽度为500nm的凸起组成。投影幕布在另一实施例中，如图5所示，还提供了一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布制备方法，用于制备上述方案的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。具体的制备方法包括以下步骤：

步骤S1：采用激光直写3D光刻技术将与投影幕布结构特征一致的微米级凹形反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构制备到光刻胶层上，得到光刻胶复制件。该步骤的具体制备过程包括：

1)在玻璃基本上匀涂光刻胶，离心速度为500rpm，离心时间30s，并静止20min；

2)将光刻胶放置在90℃热板上，放置30min；

3)将前烘后的光刻胶放置在3D激光直写光刻机中，并对其进行图案化曝光；

4)将曝光后的光刻胶进行显影，并进行烘烤，烘烤时间35s，即得到光刻胶复制件。

在光刻胶复制件的制备过程中，由激光直写3D光刻技术只通过一次光刻曝光就可形成微米级凹形反射镜阵列、纳米级沟槽疏水结构组成的多层微纳米结构。并且，通过计算光刻的光学成像反演模型得到的曝光参数可将结构特征误差控制在0.56nm以内，通过有限次的实验，计算光刻的光学成像反演模型可得到与结构特征一一对应的曝光剂量，并且根据微米级凹形反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构的具体结构实时匹配控制光刻机的频率，从而对结构特征进行精确地控制。而不需再加上其它微纳加工方法来实现多层微纳米结构，大大提高了制备效率的同时降低了加工成本。

然后，进行步骤S2：基于光刻胶复制件制备得到PDMS模具。该步骤的具体制备过程包括：

1)计算出所需的PDMS液体质量；

2)将PDMS主剂与固化剂按10：1的比例混合并搅拌20分钟，使其充分混合；

3)将混合后的液体放入真空塔内，抽取气泡；

4)在图案化的光刻上旋涂PDMS，烘烤温度70℃，时间3h；

5)揭膜，制备得到PDMS模具。

然后，进行步骤S3：将PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上，得到超疏水自清洁柔性微米级凹形透镜阵列。该步骤的具体制备过程包括：

1)用等离子清洗机对PDMS模具进行等离子清洗，功率为200w，时间为30s；

2)将等离子清洗后的PDMS模具和氟硅烷一同放入真空塔内，氟硅烷为80ul；

3)抽真空并静置，时间15min；

4)在PDMS模具上旋涂PDMS，烘烤温度70℃，时间3h；

5)揭膜，制备得到超疏水自清洁柔性微米级凹形透镜阵列。

这里，值得注意的是，在进行步骤S3之前，还需要提前制备完成PDMS柔性基底，柔性基底由PDMS主剂、固化剂按一定比例混合均匀后涂抹到模具上加热固化制备得到，具体的制备过程包括：

1)按设计计算所需PDMS主剂与固化剂总质量；

2)将PDMS主剂与固化剂按10：1的比例混合并搅拌20分钟使其充分混合；

3)将混合后的液体放入真空塔9内，抽取气泡；

4)将抽取气泡后的液体放入26℃冰箱内保存，得到PDMS柔性基底，以便在进行步骤S3的转印过程使用。

然后，进行步骤S4：对转印后的PDMS柔性基底表面进行磁控溅射镀银处理，从而制备得到基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。该步骤的具体制备过程包括：

1)将超疏水自清洁柔性微米级凹形透镜阵列、靶材银放入磁控溅射仪规定位置；

2)通电后缓慢升温至银蒸发，镀膜过程持续时间为60s；

3)取出样品后静置3h，即制备得到基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。

在该基底表面磁控溅射镀银的制备过程中，上述三个步骤是对柔性基底10的表面镀银膜的具体处理过程，可以作为采用电镀机器在柔性基底表秒磁控溅射镀银的一种具体实施过程，具体可以在执行完步骤S3之后的PDMS柔性基底10的表面镀50nm厚度的银膜，从而得到基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。

本实施例的疏水自清洁高增益柔性投影幕布制备方法，首先采用激光直写3D光刻技术只通过一次光刻曝光即可将疏水自清洁高增益柔性投影幕布的结构特征制备到光刻胶上，并且在光刻过程中，通过计算光刻的光学成像反演模型得到的曝光参数可将结构特征的误差控制较小范围内，可达0.56nm以内；然后，在光刻胶结构上涂抹PDMS材料，经过高温固化、揭膜即可制备得到PDMS模具；进一步，对PDMS模具采取等离子清洗、硅烷化表面处理后涂抹PDMS柔性基底材料，经过高温固化、揭膜即可将结构特征从PDMS模具转印到PDMS柔性基底上；最后，使用磁控溅射仪在PDMS柔性基底表面镀预定厚度的银膜，如50nm厚度的银膜，从而制备出基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。

基于上述结构的柔性投影幕布，分别进行疏水性能试验以及光学性能试验来验证效果，具体如下：

1.疏水性能实验

在制备好的柔性投影幕布表面上滴2ul水滴，并迅速放置在冷冻电镜样品台上开始拍摄，对拍摄到的水滴和超疏水投影幕布表面接触情况进行图像分析，发现在微纳结构表面，空气与水滴占比为9.49：0.51，说明空气把水滴很好地支撑起来了。

另外，在制备好的柔性投影幕布表面上滴2ul水滴，并迅速放置在KRUSS-DSA100L液滴形状分析仪样品台上开始拍摄，在仪器软件内选择座滴法进行分析，得到水滴接触角为153.7°(三次取平均值)；对样品台进行匀速缓慢倾斜，高速摄像机实时拍摄，得到液滴滑落前后瞬间的画面，分析得到其水滴滚动角为2.1°(三次取平均值)。

2.光学性能实验：

将制备好的柔性投影幕布竖立放置在平整的白墙上，左右两侧45°放置LabshpereKI-120的准直光源，正前方放置Photo-Research公司PR-705辐射分光光度计进行测量，得到其光反射率为119％，采用CIE标准算得增益倍数为2.32。

通过以上试验数据可知，本发明的柔性投影幕布，以柔性基底为基础，使投影幕布具有柔性弯曲的优点，柔性弯曲率可达75°。而且，通过在柔性基底的下层形成微米级凹形反射镜阵列，并且对反射镜的尺寸和间隔进行必要设置，提高了增益效果及亮度，从而扩展其使用场景。另外，通过在柔性基底的上层并且对应于相邻的两个反射镜之间的区域分别形成纳米级沟槽疏水结构，并且纳米级沟槽疏水结构由间隔设置的沟槽和凸起构成，通过沟槽和凸起形成的疏水结构，当投影幕布表面附着水滴时，能够使空气将水滴友好支撑起来，从而使投影幕布具有不易凝结水滴、自清洁灰尘的优点。

本发明的保护范围不限于上述的实施例，显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变形而不脱离本发明的范围和精神。倘若这些改动和变形属于本发明权利要求及其等同技术的范围，则本发明的意图也包含这些改动和变形在内。

Claims (10)

1.一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，其特征在于，包括：

PDMS柔性基底；

微米级凹形反射镜阵列，形成于所述PDMS柔性基底的下层，包括多个间隔设置的凹形反射镜；

多个纳米级沟槽疏水结构，形成于所述PDMS柔性基底的上层，并且每个所述纳米级沟槽疏水结构均对应于相邻的两个所述凹形反射镜之间，每个所述纳米级沟槽疏水结构分别包括相间隔设置的多个沟槽和多个凸起。

2.根据权利要求1所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，其特征在于：

所述多个沟槽和所述多个凸起之间为一一间隔设置。

3.根据权利要求1或2所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，其特征在于：

位于内部的所述凹形反射镜与其相邻的所述凹形反射镜之间的间隔为5um-10um；和/或，所述凹形反射镜的尺寸参数满足：口径为75um-85um，深度为10um-14um。

4.根据权利要求1或2所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，其特征在于：

所述纳米级沟槽疏水结构的总宽度为15um-25um，并且单个所述沟槽或所述凸起的参数满足：宽度不大于500nm，高度为1-2um。

5.根据权利要求1或2所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，其特征在于：

相邻的所述凹形反射镜和纳米级沟槽疏水结构的尺寸参数满足：总宽度不大于100um，总高度不大于16um。

6.一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布制备方法，用于制备权利要求1至5任一项所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

采用激光直写3D光刻技术将与投影幕布结构特征一致的微米级凹形反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构制备到光刻胶层上，得到光刻胶复制件；

基于所述光刻胶复制件制备得到PDMS模具；

将所述PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上，得到超疏水自清洁柔性微米级凹形透镜阵列；

对转印后的PDMS柔性基底表面进行磁控溅射镀银处理，从而制备得到基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。

7.根据权利要求6所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布制备方法，其特征在于，所述采用激光直写3D光刻技术将与投影幕布结构特征一致的微米级凹形反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构制备到光刻胶层上，得到光刻胶复制件的步骤包括：

1)在玻璃基本上匀涂光刻胶，离心速度为500rpm，离心时间30s，并静止20min；

2)将光刻胶放置在90℃热板上，放置30min；

3)将前烘后的光刻胶放置在3D激光直写光刻机中，并对其进行图案化曝光；

4)将曝光后的光刻胶进行显影，并进行烘烤，烘烤时间35s，即得到所述光刻胶复制件。

8.根据权利要求6所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布制备方法，其特征在于，所述基于所述光刻胶复制件制备得到PDMS模具的步骤包括：

1)计算出所需的PDMS液体质量；

2)将PDMS主剂与固化剂按10：1的比例混合并搅拌20分钟，使其充分混合；

3)将混合后的液体放入真空塔内，抽取气泡；

4)在图案化的光刻上旋涂PDMS，烘烤温度70℃，时间3h；

5)揭膜，制备得到所述PDMS模具。

9.根据权利要求6所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布制备方法，其特征在于，所述将所述PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上，得到投影幕布中间件的步骤包括：

1)用等离子清洗机对PDMS模具进行等离子清洗，功率为200w，时间为30s；

2)将等离子清洗后的PDMS模具和氟硅烷一同放入真空塔内，氟硅烷为80ul；

3)抽真空并静置，时间15min；

4)在PDMS模具上旋涂PDMS，烘烤温度70℃，时间3h；

5)揭膜，制备得到所述超疏水自清洁柔性微米级凹形透镜阵列。

10.根据权利要求6所述的基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布制备方法，其特征在于，所述对转印后的PDMS柔性基底表面进行磁控溅射镀银处理的步骤包括：

1)将超疏水自清洁柔性微米级凹形透镜阵列、靶材银放入磁控溅射仪规定位置；

2)通电后缓慢升温至银蒸发，镀膜过程持续时间为60s；

3)取出样品后静置3h，即制备得到基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布。

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