CN115064454A - 一种功率芯片的互联方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及芯片封装技术领域,具体公开了一种功率芯片的互联方法,包括如下步骤:S1、根据芯片通过电流大小,计算植球密度,根据计算出的植球密度,在芯片上植金球;S2、将固化胶涂抹于芯片表面,使固化胶的高度与金球上表面相平;S3、将需要连接的基板通过夹具,施加预设压力与步骤S2中的芯片挤压在一起,在室温下放置12‑18小时;S4、将夹具保持真空5分钟,再恢复至大气压,然后加热到80度,并恒温保持2小时,再升温到150度,恒温保持2小时;S5、在室温下进行冷却,再打开夹具,取出连接后的芯片和基板。采用本发明的技术方案能够减小低温失效风险,减小寄生参数,以及提高芯片的工作寿命。

Description

一种功率芯片的互联方法
技术领域
本发明涉及芯片封装技术领域,特别涉及一种功率芯片的互联方法。
背景技术
现有双面散热封装多采用压接DBC、钼片、焊料、芯片和DBC的三明治结构,上下表面均与铜基板相连,保证其散热,封装采用焊接的方式,需要进行加压烧结,还需要缓冲结构,成本较高,并且结构复杂,由于焊料焊接时的熔点与实际温度温差较大,还容易发生低温失效。
现有单面散热封装多采用单面DBC和铜基板,芯片和芯片之间多采用键合方式进行互联,而键合的可靠性相较于焊接较差,键合互联方式无法充分发挥器件的性能,键合互联方式的寄生参数较大,在开关频率提高的过程中,易发生振荡。
而近年来,随着第三代半导体材料碳化硅以及氮化镓的出现,功率器件的功率等级大幅度上升,更高的功率等级带来的是更大的开关损耗以及导通损耗,原有针对硅基功率芯片的单面散热封装结构已经不能完全发挥第三代功率芯片的性能,因此需要新的封装技术。
发明内容
本发明提供了一种功率芯片的互联方法,能够减小低温失效风险,减小寄生参数,以及提高芯片的工作寿命。
为了解决上述技术问题,本申请提供如下技术方案:
一种功率芯片的互联方法,包括如下步骤:
S1、根据芯片通过电流大小,计算植球密度,根据计算出的植球密度,在芯片上植金球;
S2、将固化胶涂抹于芯片表面,使固化胶的高度与金球上表面相平;
S3、将需要连接的基板通过夹具,施加预设压力与步骤S2中的芯片挤压在一起,在室温下放置12-18小时;
S4、将夹具保持真空4-8分钟,再恢复至大气压,然后加热到80-100度,并恒温保持2-3小时,再升温到150-160度,恒温保持2-4小时;
S5、在室温下进行冷却,再打开夹具,取出连接后的芯片和基板。
基础方案原理及有益效果如下:
本方案采用在芯片表面植球然后用固化胶的连接方式,固化胶固化之前为液体,分子之间间隙较大,固化由液体转化为固体,分子间距急速减小,宏观上表现为体积收缩,同时因为胶体两端与芯片和基板粘连,固化胶带动芯片和基板彼此互相靠近,从而形成一个向内的挤压力,其大小可以达到每平方米30兆帕以上,这种连接强度已经大于一些普通焊接的强度,也就是因为固化胶固化收缩形成的向内的压力保证了芯片和基板的连接。并且芯片工作时会发热,让连接层温度会保持在70摄氏度以上,长时间这种工作环境,金球会发生金相扩散,在芯片表面和基板表面互相融合,在界面处形成金铜合金以及金铝合金,进一步加强连接强度。同时相较于焊膏,固化胶的热膨胀系数和芯片的更加相近,在同样温度的情况下,固化胶的膨胀尺寸更小,所以芯片受膨胀带来的应力的就会越小。长期工作的累积的应力也会减小,芯片的工作寿命也会得到提高。
相较于焊接,由于焊膏的熔点较高,所以当工作环境温度较低时,易发生低温失效而且,本方案固化温度接近于常温,从而减小低温失效风险,在真空下加压固化,可以进一步增加粘合强度。相较于键合,本方案的连接方式构成回路更短,寄生参数更小。本方案对于芯片表面兼容性较高,一般的金、铝表面都可连接。
进一步,还包括步骤S6、将芯片和基板构成的整个模块进行灌封。
灌封后可以保证模块的可靠性。
进一步,所述步骤S1中,根据芯片通过电流大小,按照一平方微米金线电流密度为0.1A,计算植球密度。
本优选方案中,采用的金球颗粒直径大小和数量与通过电流有关,电流越大,金球直径越大,数量越多。
进一步,所述步骤S2中,选取满足预设要求的固化胶,预设要求为粘度大小为300CPS 至500CPS之间,固化后耐热不低于280度,固化后的收缩率为5%-10%。
进一步,所述步骤S2中,预设压力为每平方厘米1000N-1500N。
附图说明
图1为实施例一种功率芯片的互联方法的流程图;
图2为实施例一种功率芯片施压压力的示意图。
具体实施方式
下面通过具体实施方式进一步详细说明:
说明书附图中的标记包括:基板1、固化胶2、金球3、芯片4。
实施例
本实施例的一种功率芯片的互联方法,如图1所示,包括如下步骤:
S1、根据芯片4通过电流大小,按照一平方微米金线电流密度为0.1A,计算植球密度,根据计算出的植球密度,使用植球机在芯片4上植金球3;
S2、选取流动性和固化后耐热满足预设要求的固化胶2,涂抹于芯片4表面,使固化胶2的高度与金球3上表面相平;固化胶2的预设要求为粘度大小为300CPS至500CPS之间,固化后耐热不低于280度,固化后的收缩率为5%至10%。
S3、如图2所示,将需要连接的基板1通过夹具,施加预设压力与步骤S2中的芯片4挤压在一起,在室温下放置12-18小时。预设压力为每平方厘米最小为1000N,最大不超过1500N。
S4、将夹具放进真空烤箱,抽真空4到8分钟,再放气至大气压,加热到80到100度,并恒温保持2小时到3小时。再升温到150度到160度,恒温保持2小时到4小时。本实施例中,将夹具放进真空烤箱,抽真空5分钟,再放气至大气压,加热到80度,并恒温保持2小时。再升温到150度,恒温保持2小时。
S5、取出夹具,室温下进行冷却,再打开夹具,取出。因为固化胶2固化收缩形成的向内的压力保证了芯片4和基板1的连接。
S6、将芯片4和基板1构成的整个模块进行灌封,保证模块的可靠性。
金球3通过压缩,一端与芯片4相连,一端与基板1相连,电流通过金球3,在基板1和芯片4之间进行传输,因此金球3起到电气连接的作用。固化胶2固化之前为液体,分子之间间隙较大,固化由液体转化为固体,分子间距急速减小,宏观上表现为体积收缩。同时因为胶体两端与芯片4和基板1粘连,固化胶2带动芯片4和基板1彼此互相靠近,从而形成一个向内的挤压力,其大小可以达到每平方米30兆帕以上,这种连接强度已经大于一些普通焊接的强度。并且芯片4工作时会发热,让连接层温度会保持在70摄氏度以上,长时间这种工作环境,金球3会发生金相扩散,在芯片4表面和基板1表面互相融合,在界面处形成金铜合金以及金铝合金,进一步加强连接强度。同时相较于焊膏,固化胶2的热膨胀系数和芯片4的更加相近,在同样温度的情况下,固化胶2的膨胀尺寸更小,所以芯片4受膨胀带来的应力的就会越小。长期工作的累积的应力也会减小,芯片4的工作寿命也会得到提高。
以上的仅是本发明的实施例,该发明不限于此实施案例涉及的领域,方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述,所属领域普通技术人员知晓申请日或者优先权日之前发明所属技术领域所有的普通技术知识,能够获知该领域中所有的现有技术,并且具有应用该日期之前常规实验手段的能力,所属领域普通技术人员可以在本申请给出的启示下,结合自身能力完善并实施本方案,一些典型的公知结构或者公知方法不应当成为所属领域普通技术人员实施本申请的障碍。应当指出,对于本领域的技术人员来说,在不脱离本发明结构的前提下,还可以作出若干变形和改进,这些也应该视为本发明的保护范围,这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准,说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。

Claims (5)

1.一种功率芯片的互联方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、根据芯片通过电流大小,计算植球密度,根据计算出的植球密度,在芯片上植金球;
S2、将固化胶涂抹于芯片表面,使固化胶的高度与金球上表面相平;
S3、将需要连接的基板通过夹具,施加预设压力与步骤S2中的芯片挤压在一起,在室温下放置12-18小时;
S4、将夹具保持真空4-8分钟,再恢复至大气压,然后加热到80-100度,并恒温保持2-3小时,再升温到150-160度,恒温保持2-4小时;
S5、在室温下进行冷却,再打开夹具,取出连接后的芯片和基板。
2.根据权利要求1所述的功率芯片的互联方法,其特征在于:还包括步骤S6、将芯片和基板构成的整个模块进行灌封。
3.根据权利要求1所述的功率芯片的互联方法,其特征在于:所述步骤S1中,根据芯片通过电流大小,按照一平方微米金线电流密度为0.1A,计算植球密度。
4.根据权利要求1所述的功率芯片的互联方法,其特征在于:所述步骤S2中,选取满足预设要求的固化胶,预设要求为粘度大小为300CPS至500CPS之间,固化后耐热不低于280度,固化后的收缩率为5%-10%。
5.根据权利要求1所述的功率芯片的互联方法,其特征在于:所述步骤S2中,预设压力为每平方厘米1000N-1500N。
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