CN115061322B - 显示屏、显示屏制作方法及电子设备 - Google Patents
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- CN115061322B CN115061322B CN202210683317.4A CN202210683317A CN115061322B CN 115061322 B CN115061322 B CN 115061322B CN 202210683317 A CN202210683317 A CN 202210683317A CN 115061322 B CN115061322 B CN 115061322B
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 176
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 101
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 7
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 6
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 claims description 3
- FHCPAXDKURNIOZ-UHFFFAOYSA-N tetrathiafulvalene Chemical compound S1C=CSC1=C1SC=CS1 FHCPAXDKURNIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 13
- 238000013461 design Methods 0.000 abstract description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 16
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
- G02F1/1524—Transition metal compounds
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
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Abstract
本申请实施例提供一种显示屏、显示屏制作方法及电子设备,涉及显示技术领域。在副屏区设置一光学膜层,光学膜层在发光器件层发光时会因光在光学膜层内部漫反射而成雾状膜层,在漫反射过程中,垂直于光学膜层方向的出光率被削弱,非垂直于光学膜层方向的出光率会被增强。如此设计,可以使得主屏区和副屏区同时显示画面时,减缓副屏区在非垂直于光学膜层方向上的亮度衰减,使得在较大观测视角下,副屏区和主屏区的亮度衰减基本相同或趋于相同,以确保在该观测视角下副屏区和主屏区的显示均一性,提高产品的市场竞争力。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种显示屏、显示屏制作方法及电子设备。
背景技术
全面屏是目前消费类显示屏的主流发展方向,将诸如摄像头之类的光学器件设置在屏下成为主流厂商实现全面屏的主要解决方案,如此需要将显示屏的显示区域划分主屏区和用于设置屏下光学器件的副屏区,该副屏区可以在光学器件工作时不显示画面,而在光学器件不工作时用于显示画面。然而相关技术中的显示屏存在一定的缺陷。
发明内容
为了克服上述技术背景中所提及的技术问题,本申请实施例提供一种显示屏、显示屏制作方法及电子设备。
本申请的第一方面,提供一种显示屏,所述显示屏具有主屏区及副屏区,所述主屏区至少部分围绕所述副屏区;
在所述副屏区,所述显示屏包括发光器件层及光学膜层;
所述发光器件层包括层叠设置的第一电极层、发光材料层及第二电极层,其中,所述第二电极层位于所述发光材料层的出光侧;
所述光学膜层位于所述发光材料层的出光侧;
所述光学膜层在所述发光材料层发光时由所述发光材料层中产生的光在所述光学膜层内部漫反射形成雾状膜层,以增大所述光学膜层在非垂直于所述光学膜层方向的出光率。
在上述结构中,在副屏区设置一光学膜层,光学膜层在发光器件层发光时会因光在光学膜层内部漫反射而成雾状膜层,在漫反射过程中,垂直于光学膜层方向的出光率被削弱,非垂直于光学膜层方向的出光率会被增强。如此设计,可以使得主屏区和副屏区同时显示画面时,减缓副屏区在非垂直于光学膜层方向的亮度衰减,使得在较大观测视角下,副屏区和主屏区的亮度衰减基本相同,以确保在该观测视角下副屏区和主屏区的显示均一性,提高产品的市场竞争力。
在本申请的一种可能实施例中,所述发光材料层在所述第二电极层上的正投影位于所述光学膜层在所述第二电极层上的正投影内。
如此设计,可以使得发光材料层所发的光均需经由光学膜层后出射,确保出光的均一性。
在本申请的一种可能实施例中,所述光学膜层位于所述第二电极层靠近所述发光材料层的一侧,且为与所述发光材料层一一对应的多个间隔膜层;
优选的,所述发光器件层还包括像素限定层,所述像素限定层限定出多个像素开口;所述光学膜层与所述发光材料层均位于所述像素开口中。
上述结构,可以使得光学膜层位于第一电极层和第二电极层之间,在发光材料层工作时,通过第一电极层与第二电极层之间的电场改变光学膜层的光学特性,使得入射到光学膜层中的光可以在光学膜层中漫反射后出射,如此设计可以使副屏区中的自发光能在非垂直于光学膜层方向被增强。
在本申请的一种可能实施例中,所述光学膜层位于所述第二电极层靠近所述发光材料层的一侧;
所述光学膜层通过蒸镀的方式制作在所述发光材料层的出光侧;
优选的,所述光学膜层采用通用金属掩膜版蒸镀制作在所述发光材料层的出光侧。
采用通用金属掩膜版蒸镀形成光学膜层,可以节省制作成本。
在本申请的一种可能实施例中,所述显示屏还包括第三电极层,所述第三电极层位于所述第二电极层远离所述发光材料层的一侧;
所述光学膜层位于所述第二电极层与所述第三电极层之间。
在该结构中,光学膜层设置在整个发光器件层的出光侧,无需对发光器件层的制程进行调整。
在本申请的一种可能实施例中,所述光学膜层包括电致变色材料;
优选的,所述电致变色材料包括三氧化钨、聚噻吩类及其衍生物、紫罗精类、四硫富瓦烯及金属酞菁类化合物中的任意一种。
上述电致变色材料制作的光学膜层可以在受到电场作用后,改变光学膜层的光学特性,使得射入该光学膜层的光可以在膜层内部漫反射,从而削弱垂直于光学膜层方向的出光率,并增强非垂直于光学膜层方向的出光率。
本申请的第二方面,提供一种显示屏制作方法,所述显示屏具有主屏区及副屏区,所述主屏区至少部分围绕所述副屏区,所述方法包括:
制作第一电极层;
在所述第一电极层上制作发光材料层;
在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作第二电极层;
在所述副屏区,在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作光学膜层,其中,所述光学膜层在所述发光材料层发光时由所述发光材料层中产生的光在所述光学膜层内部漫反射形成雾状膜层,以增大所述光学膜层在非垂直于所述光学膜层方向的出光率。
在上述制作方法中,在副屏区的发光材料层远离第一电极层的一侧制作光学膜层,光学膜层在发光器件层发光时会因光在光学膜层内部漫反射而成雾状膜层,在漫反射过程中,垂直于光学膜层方向的出光率被削弱,非垂直于光学膜层方向的出光率会被增强。如此使得通过上述方法制作的显示屏,在主屏区和副屏区同时显示画面时,具有较好的显示均一性。
在本申请的一种可能实施例中,所述在所述副屏区,在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作光学膜层的步骤,包括:
采用通用金属掩膜版在所述副屏区的发光材料层远离所述第一电极层的一侧蒸镀所述光学膜层,其中,所述发光材料层在所述第二电极层上的正投影位于所述光学膜层在所述第二电极层上的正投影内。
在本申请的一种可能实施例中,所述在所述副屏区,在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作光学膜层的步骤,包括:
在所述副屏区,在所述第二电极层远离所述发光材料层的一侧制作光学膜层,其中,所述发光材料层在所述第二电极层上的正投影位于图案化处理后的所述光学膜层在所述第二电极层上的正投影内;
所述显示屏制作方法还包括:
在所述第二电极层远离所述发光材料层的一侧制作一位于所述主屏区和所述副屏区的光学膜层;
对所述光学膜层进行图案化处理,将位于所述主屏区的光学膜层去除。
本申请的第三方面,提供一种电子设备,该电子设备包括第一方面所述的显示屏或第二方面制作得到的显示屏。
相对于现有技术,本申请实施例提供一种显示屏、显示屏制作方法及电子设备,在副屏区设置一光学膜层,光学膜层在发光器件层发光时会因光在光学膜层内部漫反射而成雾状膜层,在漫反射过程中,垂直于光学膜层方向的出光率被削弱,非垂直于光学膜层方向的出光率会被增强。如此设计,可以使得主屏区和副屏区同时显示画面时,减缓副屏区在非垂直于光学膜层方向上的亮度衰减,使得在较大观测视角下,副屏区和主屏区的亮度衰减基本相同或趋于相同,以确保在该观测视角下副屏区和主屏区的显示均一性,提高产品的市场竞争力。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为主屏区和副屏区在不同观测视角下的亮度衰减对比示意图;
图2为本申请实施例提供的显示屏的显示区域示意图;
图3为本申请实施例提供的显示屏的副屏区的一种膜层结构示意图;
图4为本申请实施例提供的显示屏的副屏区的另一种膜层结构示意图;
图5为本申请实施例提供的显示屏制作方法的可能流程示意图;
图6为本申请实施例提供的显示屏制作方法对应的一种工艺制程图;
图7为本申请实施例提供的显示屏制作方法对应的另一种工艺制程图。
主要标号
10-显示屏;10A-主屏区;10B-副屏区;110-发光器件层;1101-第一电极层;1102-发光材料层;1103-第二电极层;120-光学膜层;130-第三电极层;140-驱动阵列层。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围,而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本申请的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请的实施例中的不同特征之间可以相互结合。
发明人经过长期研究发现,当显示屏的主屏区和副屏区同时显示时,随着用户的观测视角增大(比如,在观测视角大于20°时),主屏区的亮度衰减和副屏区的亮度衰减会不同,可参照图1,具体地,主屏区的亮度衰减要比副屏区的亮度衰减慢,这会导致在该观测视角下看到的主屏区的亮度与副屏区的亮度存在差异,影响产品的市场竞争力。
为了解决上述提及的技术问题,本申请实施例创新性地在副屏区的发光材料层的出光侧设置一光学膜层,光学膜层可以在发光器件层发光时通过使发光材料层中产生的光在光学膜层内部漫反射而增强非垂直于该光学膜层方向上的出光率,减缓副屏区在非垂直于光学膜层方向上的亮度衰减,从而达到在较大观测视角下副屏区亮度衰减和主屏区的亮度衰减基本相同或趋于相同的目的。下面将结合附图对本申请的具体实现方案进行详细说明。
为了更好的描述本申请实施例提供的技术方案,请参照图2及图3,图2示出了本申请实施例提供的显示屏的显示区域示意图,图3示出了本申请实施例提供的显示屏的副屏区的一种膜层结构示意图。
在本实施例中,显示屏10具有主屏区10A及副屏区10B,其中,主屏区10A可以至少部分围绕副屏区10B。副屏区10B下方可以设置光学器件,比如摄像头,副屏区10B可以在光学器件工作时不显示画面,而在光学器件不工作时显示画面。副屏区10B的形状可以根据光学器件的需求或者设计需求进行相应设计,示例性的,副屏区10B的形状可以是圆形、方形及水滴形等。
在副屏区10B中,显示屏10可以包括层叠设置的阵列驱动层140、发光器件层110及光学膜层120,其中,发光器件层110可以包括层叠设置的第一电极层1101、发光材料层1102、第二电极层1103及像素限定层1104,其中,第二电极层1103位于发光材料层1102的出光侧。
在本实施例中,第一电极层1101可以为阳极层,第二电极层1103可以为阴极层。第一电极层1101可以包括多个间隔设置的像素阳极,像素阳极可以与阵列驱动层140中的驱动晶体管连接,像素限定层1104在对应的像素阳极上限定出像素开口,每个像素开口内设置有一发光材料层1102。
光学膜层120可以位于发光材料层1102的出光侧,其中,光学膜层120的膜层厚度可以为3um~6um。在本实施例中,光学膜层120在发光器件层110不发光时为透明膜层,显示屏10下方设置的光学器件可以通过该光学膜层120透射的环境光获取外部光信号,比如,屏下摄像头可以通过该光学膜层120透射的环境光拍摄图像。光学膜层120在发光器件层110发光时为雾状膜层,具体地,在发光器件层110发光时,可以通过改变光学膜层120的光学特性,使得发光材料层1102产生的光在经由光学膜层120内部时发生漫反射,使得光学膜层120成雾状膜层,漫反射会削弱垂直于光学膜层120方向上的出光率,增大非垂直于光学膜层120方向上的出光率,示例性地,可以将出光角度小于预设角度(比如,5°)的光视为垂直于光学膜层120方向的光,将出光角度大于或等于该预设角度的光视为非垂直于光学膜层120方向的光,其中,出光角度是指出射光与垂直光学膜层120方向的法线之间的夹角。发明人测试发现,相对于光学膜层120为透明膜层时,漫反射削弱垂直于光学膜层120方向上的出光率的百分比可以达到40%~60%,增强非垂直于光学膜层120方向上的出光率的百分比可以达到45%~55%。为此,光学膜层120为雾状膜层时在非垂直于光学膜层120方向的出光率高于光学膜层120为透明膜层时在非垂直于光学膜层120方向的出光率。
上述设计,可以使得主屏区10A和副屏区10B同时显示画面时,减缓副屏区10B在非垂直于光学膜层120方向上的亮度衰减,使得用户在较大观测视角下,副屏区10B和主屏区10A的亮度衰减基本相同或趋于相同,以确保在该观测视角下副屏区10B和主屏区10A的显示均一性,提高产品的市场竞争力,同时还不会影响光学器件工作时环境光的透射率。
进一步地,在本实施例中,为了使副屏区10B整体在非垂直于光学膜层120方向上的出光率被统一提高。在副屏区10B,发光材料层1102在第二电极层1103上的正投影位于光学膜层120在第二电极层1103上的正投影内,如此可以使得副屏区10B中每个像素开口内的发光材料层1102所发的光均能在光学膜层120内部漫反射后出射,从而提高副屏区10B整体在非垂直于光学膜层120方向上的出光率。示例性地,光学膜层120可以为制作在副屏区10B的整面膜层,也可以为同层制作且与发光材料层1102对应的多个间隔膜层。
在本申请实施例中,可以通过对光学膜层120施加电压信号的方式使得光学膜层120在透明膜层和雾状膜层之间转变。
示例性地,在本申请实施例的一种可能实施方式中,请再次参照图3,光学膜层120可以位于第二电极层1103靠近发光材料层1102的一侧,其中,光学膜层120可以通过蒸镀的方式制作在发光材料层1102的出光侧,比如,光学膜层120可以是采用通用金属掩膜版(Common Metal Mask,CMM)蒸镀制作在发光材料层1102的出光侧的整面膜层;又比如,光学膜层120也可以是采用精细金属掩膜版(Fine Metal Mask,FMM)蒸镀制作在发光材料层1102的出光侧的多个间隔膜层;具体的,当光学膜层120为多个间隔膜层时,可以位于每个像素开口中。由于通用金属掩膜版相对于精细金属掩膜版的制作成本更低且制作光学膜层120的工艺更简单,优选光学膜层120为采用通用金属掩膜版蒸镀制作在发光材料层1102的出光侧的整面膜层。在该实施方式中,光学膜层120可以在副屏区10B显示时,基于第一电极层1101与第二电极层1103之间的电压信号改变光学膜层120的光学特征,使发光材料层1102产生的光在光学膜层120中发生漫反射,从而将光学膜层120由透明膜层转变为雾状膜层。
示例性地,在本申请实施例的另一种可能实施方式中,请参照图4,图4示例了本申请实施例提供的显示屏的副屏区的另一种膜层结构示意图。显示屏10还可以包括第三电极层130,第三电极层130可以位于第二电极层1103远离发光材料层1102的一侧,光学膜层120位于第二电极层1103与第三电极层130之间。在该种实施方式中,在副屏区10B不显示时,第三电极层130不施加电信号,第三电极层130与第二电极层1103之间无电压信号,光学膜层120为透明膜层。在副屏区10B显示时,第三电极层130施加电信号,第三电极层130与第二电极层1103之间存在电压信号,光学膜层120的光学特征被改变,使发光材料层1102产生的光在光学膜层120中发生漫反射,从而将光学膜层120由透明膜层转变为雾状膜层。可以理解的是,在该种实施方式中,第二电极层1103与第三电极层130之间除了光学膜层120之外还可以包括其他膜层(比如,封装膜层)。
进一步地,在本申请实施例中,光学膜层120可以包括电致变色材料,电致变色材料是指材料的光学特征在外加电场的作用下发生稳定的、可逆的变化,比如,本实施例中光学膜层120的漫反射特性在外加电场的作用下增强,使得入射到光学膜层120的光在膜层中漫反射后出射。电致变色材料可以包括无机电致变色材料(比如,三氧化钨)和有机电致变色材料(比如,聚噻吩类及其衍生物、紫罗精类、四硫富瓦烯、金属酞菁类化合物等)。
在上述内容的基础上,本申请实施例还提供一种显示屏制作方法,请参照图5、图6及图7,图5示例了本申请实施例提供的显示屏制作方法的可能流程示意图,图6示例了本申请实施提供的显示屏制作方法对应的一种工艺制程图,图7示例了本申请实施提供的显示屏制作方法对应的另一种工艺制程图。下面结合图5、图6及图7对本实施例提供的显示屏制作方法进行详细说明。
步骤S210,制作第一电极层1101。
在本实施例中,在步骤S210之前,可以先制作驱动阵列层140以及平坦化层等显示屏的其它必要的层结构,其中,该步骤制作的第一电极层1101可以由多个间隔分布的像素阳极组成。像素阳极可以通过平坦化层中的通孔与驱动阵列层中的驱动晶体管连接。
步骤S220,在第一电极层1101上制作发光材料层1102。
在本实施例中,在制作发光材料层1102之前,可以先在第一电极层1101上制作像素限定层1104,像素限定层1104在对应的像素阳极上限定出像素开口,发光材料层1102制作在像素开口内对应的像素阳极上。
步骤S230,在发光材料层1102远离第一电极层1101的一侧制作第二电极层1103。
在本实施例中,第二电极层1103可以为整面制作的电极膜层。
步骤S240,在副屏区10B,在发光材料层1102远离第一电极层1101的一侧制作光学膜层120。
其中制作的光学膜层120在发光材料层1102不发光时为透明膜层,光学膜层120在发光材料层1102发光时由发光材料层1102中产生的光在光学膜层120内部的漫反射形成雾状膜层,光学膜层120为雾状膜层时在非垂直于光学膜层120方向上的出光率高于光学膜层120为透明膜层时在非垂直于光学膜层120方向的出光率。
在本实施例中,步骤S230和步骤S240的顺序可以交换。
示例性地,在本实施例的一种实施方式中,请参照图6,步骤S240可以位于步骤S230之前,在该种实施方式下,步骤S240可以通过以下方式实现。
在副屏区10B的发光材料层1102远离第一电极层1101的一侧蒸镀一光学膜层120,其中,发光材料层1102被光学膜层120覆盖,即发光材料层1102在第二电极层1103上的正投影位于光学膜层120在第二电极层1103上的正投影内。示例性地,光学膜层120可以是采用通用金属掩膜(Common Metal Mask,CMM)蒸镀制作在发光材料层1102的出光侧的整面膜层;或者,光学膜层120也可以是采用精细金属掩膜版(Fine Metal Mask,FMM)蒸镀制作在发光材料层1102的出光侧的多个间隔膜层。由于通用金属掩膜相对于精细金属掩膜版的制作成本更低且制作光学膜层120的工艺更简单,优选光学膜层120为采用通用金属掩膜蒸镀制作在发光材料层1102的出光侧的整面膜层。
示例性地,在本实施例的另一种实施方式中,请参照图7,步骤S240可以位于步骤S230之后,在该种实施方式下,步骤S240可以通过以下方式实现。
在副屏区10B,在第二电极层1103远离发光材料层1102的一侧制作一光学膜层120,其中,发光材料层1102在第二电极层1103上的正投影位于图案化处理后的所述光学膜层120在所述第二电极层1103上的正投影内。详细地,制作光学膜层120的方式可以如下:首先,在第二电极层1103远离发光材料层1102的一侧制作一位于主屏区10A及副屏区10B的光学膜层120(比如,可以采用诸如溅射之类的方式制作)。接着,对光学膜层120进行图案化处理,将位于主屏区10A的光学膜层120去除。
在该种实施方式中,本申请实施例提供的显示屏制作方法还可以包括在副屏区10B,在光学膜层120远离第二电极层1103的一侧制作第三电极层130。
本申请实施例还提供一种电子设备,该电子设备可以包括前面描述的显示屏10,显示屏10的副屏区10B和主屏区10A在非垂直发光材料层1102方向的亮度衰减基本相同,以确保在该观测视角下副屏区10B和主屏区10A的显示均一性,提高电子设备的市场竞争力。
综上所述,本申请实施例提供一种显示屏、显示屏制作方法及电子设备,在副屏区设置一光学膜层,光学膜层在发光器件层发光时会因光在光学膜层内部漫反射而成雾状膜层,在漫反射过程中,垂直于光学膜层方向的出光率被削弱,非垂直于光学膜层方向的出光率会被增强。如此设计,可以使得主屏区和副屏区同时显示画面时,减缓副屏区在非垂直于光学膜层方向上的亮度衰减,使得在较大观测视角下,副屏区和主屏区的亮度衰减基本相同或趋于相同,以确保在该观测视角下副屏区和主屏区的显示均一性,提高产品的市场竞争力。
以上所述仅为本申请的优选实施例而已,并不用于限制本申请,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (13)
1.一种显示屏,其特征在于,所述显示屏包括主屏区及副屏区,所述主屏区至少部分围绕所述副屏区;
在所述副屏区,所述显示屏包括发光器件层及光学膜层;
所述发光器件层包括层叠设置的第一电极层、发光材料层及第二电极层,其中,所述第二电极层位于所述发光材料层的出光侧;
所述光学膜层位于所述发光材料层的出光侧;
在所述主屏区和所述副屏区同时显示画面时,位于所述副屏区的所述光学膜层在所述发光材料层发光时由所述发光材料层中产生的光在所述光学膜层内部漫反射形成雾状膜层,以增大所述光学膜层在非垂直于所述光学膜层方向的出光率。
2.如权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述发光材料层在所述第二电极层上的正投影位于所述光学膜层在所述第二电极层上的正投影内。
3.如权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述光学膜层位于所述第二电极层靠近所述发光材料层的一侧,且为与所述发光材料层一一对应的多个间隔膜层。
4.如权利要求3所述的显示屏,其特征在于,所述发光器件层还包括像素限定层,所述像素限定层限定出多个像素开口;所述光学膜层与所述发光材料层均位于所述像素开口中。
5.如权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述光学膜层位于所述第二电极层靠近所述发光材料层的一侧;
所述光学膜层通过蒸镀的方式制作在所述发光材料层的出光侧。
6.如权利要求5所述的显示屏,其特征在于,
所述光学膜层采用通用金属掩膜版蒸镀制作在所述发光材料层的出光侧。
7.如权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述显示屏还包括第三电极层,所述第三电极层位于所述第二电极层远离所述发光材料层的一侧;
所述光学膜层位于所述第二电极层与所述第三电极层之间。
8.如权利要求5或7所述的显示屏,其特征在于,
所述光学膜层包括电致变色材料。
9.如权利要求8所述的显示屏,其特征在于,
所述电致变色材料包括三氧化钨、聚噻吩类及其衍生物、紫罗精类、四硫富瓦烯及金属酞菁类化合物中的任意一种。
10.一种显示屏制作方法,其特征在于,所述显示屏包括主屏区及副屏区,所述主屏区至少部分围绕所述副屏区,所述方法包括:
制作第一电极层;
在所述第一电极层上制作发光材料层;
在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作第二电极层;
在所述副屏区,在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作光学膜层,其中,在所述主屏区和所述副屏区同时显示画面时,位于所述副屏区的所述光学膜层在所述发光材料层发光时由所述发光材料层中产生的光在所述光学膜层内部漫反射形成雾状膜层,以增大所述光学膜层在非垂直于所述光学膜层方向的出光率。
11.如权利要求10所述的显示屏制作方法,其特征在于,所述在所述副屏区,在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作光学膜层的步骤,包括:
采用通用金属掩膜版在所述副屏区的发光材料层远离所述第一电极层的一侧蒸镀所述光学膜层,其中,所述发光材料层在所述第二电极层上的正投影位于所述光学膜层在所述第二电极层上的正投影内。
12.如权利要求10所述的显示屏制作方法,其特征在于,所述在所述副屏区,在所述发光材料层远离所述第一电极层的一侧制作光学膜层的步骤,包括:
在所述副屏区,在所述第二电极层靠近所述发光材料层的一侧制作光学膜层,其中,所述发光材料层在所述第二电极层上的正投影位于图案化处理后的所述光学膜层在所述第二电极层上的正投影内;
所述显示屏制作方法还包括:
在所述第二电极层远离所述发光材料层的一侧制作一位于所述主屏区和所述副屏区的光学膜层;
对所述光学膜层进行图案化处理,将位于所述主屏区的光学膜层去除。
13.一种电子设备,其特征在于,包括如权利要求1-9任一项所述的显示屏或如权利要求10-12任一项所述的显示屏制作方法制备得到的显示屏。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210683317.4A CN115061322B (zh) | 2022-06-17 | 2022-06-17 | 显示屏、显示屏制作方法及电子设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210683317.4A CN115061322B (zh) | 2022-06-17 | 2022-06-17 | 显示屏、显示屏制作方法及电子设备 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115061322A CN115061322A (zh) | 2022-09-16 |
CN115061322B true CN115061322B (zh) | 2023-10-24 |
Family
ID=83202546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210683317.4A Active CN115061322B (zh) | 2022-06-17 | 2022-06-17 | 显示屏、显示屏制作方法及电子设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN115061322B (zh) |
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PB01 | Publication | ||
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